JPS5979606A - マルチビ−ムアンテナ - Google Patents

マルチビ−ムアンテナ

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Publication number
JPS5979606A
JPS5979606A JP18964282A JP18964282A JPS5979606A JP S5979606 A JPS5979606 A JP S5979606A JP 18964282 A JP18964282 A JP 18964282A JP 18964282 A JP18964282 A JP 18964282A JP S5979606 A JPS5979606 A JP S5979606A
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JP
Japan
Prior art keywords
plane
point
reflecting mirror
sub
multibeam
Prior art date
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Granted
Application number
JP18964282A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH045287B2 (ja
Inventor
Shuji Urasaki
修治 浦崎
Yoshihiro Honma
本間 嘉弘
Shigeru Makino
滋 牧野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP18964282A priority Critical patent/JPS5979606A/ja
Publication of JPS5979606A publication Critical patent/JPS5979606A/ja
Publication of JPH045287B2 publication Critical patent/JPH045287B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01QANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
    • H01Q25/00Antennas or antenna systems providing at least two radiating patterns
    • H01Q25/007Antennas or antenna systems providing at least two radiating patterns using two or more primary active elements in the focal region of a focusing device

Landscapes

  • Aerials With Secondary Devices (AREA)
  • Variable-Direction Aerials And Aerial Arrays (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は複数個の一次放射器、副反射鏡及び主反射鏡
からなる複反射鏡形マルチビームアンテナの改良に関す
るものである。このマルチと一ムの存在範囲は0例えは
日本の国内通信衛星の場合。
第1図に示すように衛星から見て楕円状になることがあ
る。この場合、楕円の短径方向において大きなビーム偏
向が必要でなく、長径方向では必要とされる。
従来のこの種アンテナは第2図に示すように。
複数個の給電ホーン(1)、及び回転対称形の副反射鏡
(21,主反射鏡(3)で構成されていた。ここで、鏡
面は鏡軸(4)に関して回転対称としている。回転対称
であるため、鏡面設計は2次元である。副反射鏡(2)
及び主反射鏡(3)の鏡面は次に述べるrayLatt
ice meth、od (以下、RLMと略称する。
)で求めている。
まず1点Fは一次放射器(1a)の位相中心2点P1は
副反射鏡の頂点、αはビーム偏向角である。これらのパ
ラメータとαだけ傾いた平面までの全党路長を初期条件
として矢の過程にもとづいて鏡面を設計する。
(1)点Fから点P1に光線を入射させる。副反射鏡(
21は鏡面(4)に関して対称とすると1点P1での反
射光線の方向が定まる。捷だ、αだけ傾いた平面までの
全党路長一定の条件から、主反射鏡(3)上の点 Ql
が求まる。
(11)主反射鏡(3)も回転対称であるから9点Q1
の対称な点Q2が定まる。このQ2にαだけ傾いた光線
を入射させる。点Q2における銃面の法線方向は既知で
あるから、  Q2での反射方向が定まる。したがって
、全党路長一定の条件から点P2が求まる。
曲)点P2の対称な点P3が定まる。このF3に点Fか
ら光線を入射させて、αだけ傾いた平面までの全党路長
一定の条件から点。3を求める。
(Vl’AQsの対称な点Q4を定め、所要の開口径に
なるまで、 (+++、曲)の過程を練り返す。
このようにして設計された主反射鏡(3)、副反射鏡(
21は鏡軸(4)に関して対称であるから、AFの対称
な点F′に一次放射器(1b)の位相中心が一致した場
合、−αだけ傾いたビームが得られる。したがって9点
F、F’  近傍に一次放射器(1c、 1d、 +e
)を配置すれは利得低下の小さいマルチビームが得られ
る。しかしながら、ビーム偏向角αが大きくなると、設
計が回転対称のため9 ビーム偏向面に直交する面では
波面の乱れが大きく、すなわち非点収差が発生して利得
低下、サイドロープレベルの上昇といった性能劣化をも
たらす。マルチビームの存在範囲が第1図に示[7たよ
うな楕円状でなく円形であれば第2図で示した回転対称
形のRLMで設計されたアンテナも一つの答えとなる。
しかし、楕円状であるならば、オフセット形複反射鋭を
検討する必侠がある。また、オフセット形式は副反射鏡
によるブロッキングが無いことも有利な点である。
本発明はマルチビームの存在範囲を楕円状とした場合、
この範囲内において性能劣化の小さいマルチビームを形
成するもので、以下1図面を用いて詳細に説明する。
第3図はこの発明の一実施例を示している。(5)はオ
フセット形副反射鏡、 +61はオフセット形主反射鏡
である。これらの鏡面はダブルカーブ曲線で構成されて
いる。まず、垂直面内(zx面)の中心断面曲線MCL
 SOは双焦点?、、 F2を得るようにRLMで設計
する。この設計は2次元である。
次に、水平面内(yz面)のビーム偏向に対、して。
双焦点F3. F4を得るように、中心断面曲線に直交
する9代表的な鏡面曲線8m5m/ 、 s8Sθ′も
RLMで設計する。この場合は3次元の設計と々る。
したがって0点F1. F2に一次放射器の位相中心を
一致させた場合、ビーム偏向の分の収差を差引いた主反
射鏡(6)の開口面上における残留収差は第4図(a)
のようになシ、また9点F3. F4の場合。
残留収差は第4図(b)のようにすべて零となる。(a
lの場合、垂直面では零であるか、それ以外では収差が
発生している。しかし、楕円状のマルチビームの存在範
囲であるならば、短径方向を垂面面内に、長径方向を水
平面内に対応させればこの範囲で利得低下の小さいマル
チビームアンテナを形成できる利点がある。
第5図は垂直面内のRLMを説明する図である。
−次放射器(1a、 tb)の位相中心を双焦点F1.
 F2に対応させている。(7)は基準軸であり1点F
1の場合は基準軸(7)からθaだけのビーム偏向1点
F2の場合は−θaだけのビーム偏向を得るように、R
LMで中心断面曲#MO# soを次のように求める。
MQ、 SQの周辺M1*S1及びFlの座標を初期条
件として与える。また1点F2は入力パラメータで、こ
れによって求まる鏡面が変化する。点M1にθaだけ傾
いた光線が入射した場合1点M1での反射の法則および
点F2までの全党路長一定の条件から点S2の座標を求
めることができる。ここで1点 Mlにおける法線ベク
トルは上記の初期条件から既知であ、b、 −tた点F
2 までの全光路長は入力パラメータである。次に点F
1から82に光線を入射させて、s2での反射の法則及
び−θaだけ傾いた開口面までの全党路長一定の条件か
ら点M2の座標を求めることができる。ここで、s2に
おける法線ベクトルは光線追跡法M1→S2→F2 に
よって既知であシ、またこの場合の全光路長は1M51
″F11である。以下、M2にθaたけ傾いた光線を入
射させて順次s3. M3. s4. M4を求めるこ
とができる。したがって、AFlからの光線はSQ上の
8184.MQ上のMjM4を用いて−θa方向の平面
波に、一方9点F2からの光線はSQ上の8285.M
Q上のMIM4を用いてθa力方向平面波にすることが
できる。以上はMQの範囲が固定であるが9上記のRL
Mの111番を逆。
すなわちFi、 s4. M4 を初期値、F2がら8
4に光線を入射させて、 SQを固定にできる。
第6図は中心断面曲線に直交する鏡面曲線を求めるRL
Mを説明する図である。原理的には第2図と同じであり
、第6図の場合は3次元的である。
各パラメータの対応はFs −+ F、 Soi −+
 I’+、 S11→P2IS21→p3. MO1→
Q11′M11−+Q21M21→Q5. M51→Q
4及びθ8→αである。
なお1以上は第5図に示すように副反射鏡を凸面形状と
したが1本発明は凹面形状に使用してもよい。
以上のように本発明によれば、楕円状のマルチビームの
存在範囲に対して、オフセット形のRTJMを行ったこ
とによシ、オ■得低下の小さなマルチビームを得る利点
がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の詳細な説明する図、第2図は従来のマ
ルチビームアンテナの概略構成図、第3図は本発明の一
実施例を説明する図、第4図、第5図、第6図は本発明
の一実施例を説明する図であ91図中、(1)は−次放
射器、(21は回転対称形副反射N、 +31は回転対
称形主反射鏡、(4)は鏡軸、(5)はオフセット形副
反射鏡、 +61はオフセット形主反射鏡、(7)は基
準軸である。 なお図中同一あるいは相当部分には同一符号を付して示
しである。 代理人葛野信− 第1図 第2図 第3図 第4図 雪 (a)    (b) 第5図 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ftlyz面を水平面、21面を垂直面とし、この垂直
    面における主反射鏡の鏡面曲線Mo、副反射鏡の鏡面曲
    線SOはy@まわシにyz面をθa。 −θa たけ回転させた方向からの平面波を上記垂直面
    の点F1. F2に集束させる曲線とし、上記鏡面曲線
    MO上の点MO1,Mn2.−、 Mgiにx軸まわυ
    にzX面を θSだけ回転させた方向からの平面波を入
    射させ、7Z面である水平面内の点F3に集束させる副
    反射鏡の点S01.S02.・・−1S01を求め1次
    に、副反射鏡のgX面の対称性を用いて。 対応する点stt、 812.・・・811を定め9点
    F3からこれら”11+ ”12*・・・、S11に入
    射させ、上記、θS方向の平面波となるように、主反射
    鏡の点Mtl、 M12.・・・9M11を求め、矢に
    、主反射鏡の21面の対称性から対応する点M21. 
    M22*・・・。 M21を定め、以下、同様の過福をsb返す、いわゆる
    ray 1atticθmθthodによって、主反射
    鏡と副反射鏡の鏡面を形成し* AII′l* ’L 
    ’5  及び73の21面に関する対称な点F4の近傍
    Km数個の一次放射器を配置してマルチビームを形成す
    ることを特徴とするマルチビームアンテナ。 (21点F3から上記so上の点SQl、 S[12m
     ”’+SO1に入射させ、上記θ8方向に平面波を得
    るように、主反射鏡上の点MOI、 Mn2.0.−、
     MOlを求め、以下上記のray Lattice 
    methodを用いて主反射鏡、副反射鏡の鏡面を設計
    した特許請求の範囲第0)項記載のマルチビームアンテ
    ナ。
JP18964282A 1982-10-28 1982-10-28 マルチビ−ムアンテナ Granted JPS5979606A (ja)

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JP18964282A JPS5979606A (ja) 1982-10-28 1982-10-28 マルチビ−ムアンテナ

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JPS5979606A true JPS5979606A (ja) 1984-05-08
JPH045287B2 JPH045287B2 (ja) 1992-01-31

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013187619A (ja) * 2012-03-06 2013-09-19 Mitsubishi Electric Corp 反射鏡アンテナ、反射鏡アンテナにおける光線放射方法

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