JPS5976560U - ドライエツチング装置 - Google Patents

ドライエツチング装置

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JPS5976560U
JPS5976560U JP17399582U JP17399582U JPS5976560U JP S5976560 U JPS5976560 U JP S5976560U JP 17399582 U JP17399582 U JP 17399582U JP 17399582 U JP17399582 U JP 17399582U JP S5976560 U JPS5976560 U JP S5976560U
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JP
Japan
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dry etching
etching equipment
quartz window
reaction chamber
coated
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JP17399582U
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JPS6113555Y2 (ja
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竹内　透
弘 矢野
守孝 中村
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富士通株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来のドライエツチング装置の模式的断面図、
第２図は本考案の一実施例によるドライエツチング装置
のマイクロ波導入用窓部の多層被膜石英基板の断面図、
第３図は同様に他の実施例の平面図を示す。 図において、１は反応室、４はマイクロ波、２及び２１
は石英基板、２２は金属アルミニウム薄膜、２３はアル
ミナ層を示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. マイクロ波導入用石英窓を有するドライエツチング装置
    において、該石英窓が反応室側に少くとも二層からなる
    エツチング保護膜を被覆した構造を有してなることを特
    徴とするドライエツチング装置。
JP17399582U 1982-11-16 1982-11-16 ドライエツチング装置 Granted JPS5976560U (ja)

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JP17399582U JPS5976560U (ja) 1982-11-16 1982-11-16 ドライエツチング装置

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JP17399582U JPS5976560U (ja) 1982-11-16 1982-11-16 ドライエツチング装置

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Publication Number Publication Date
JPS5976560U true JPS5976560U (ja) 1984-05-24
JPS6113555Y2 JPS6113555Y2 (ja) 1986-04-26

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ID=30378903

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JP17399582U Granted JPS5976560U (ja) 1982-11-16 1982-11-16 ドライエツチング装置

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JPS6113555Y2 (ja) 1986-04-26

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