JPS5970470A - Pulse arc welding machine - Google Patents

Pulse arc welding machine

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Publication number
JPS5970470A
JPS5970470A JP17906282A JP17906282A JPS5970470A JP S5970470 A JPS5970470 A JP S5970470A JP 17906282 A JP17906282 A JP 17906282A JP 17906282 A JP17906282 A JP 17906282A JP S5970470 A JPS5970470 A JP S5970470A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
current
base
smoothing reactor
transistor
peak
Prior art date
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Pending
Application number
JP17906282A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsuneo Mita
常夫 三田
Chikara Yoshinaga
吉永 主税
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Via Mechanics Ltd
Original Assignee
Hitachi Seiko Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS5970470A publication Critical patent/JPS5970470A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K9/00Arc welding or cutting
    • B23K9/09Arrangements or circuits for arc welding with pulsed current or voltage
    • B23K9/091Arrangements or circuits for arc welding with pulsed current or voltage characterised by the circuits

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Arc Welding Control (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a titled welding machine that stabilizes arc condition and equalizes droplet transfer by magnetically connecting a smoothing reactor for total current and a smoothing reactor for base current and changing the base current according to behavior of peak current. CONSTITUTION:In a pulse arc welding machine that welds a base metal 12 supplying a welding current from a rectifier 1, controlling a peak current iP by the transistor 2 of a switching element, and controlling a base current iB by the transistor 3 of a switching element and feeding a welding wire 10 by a wire feeding device 11, a smoothing reactor 4 for total current ia of combined iP and iB and a smoothing reactor 5 for iB are wound around the same iron core to generate induced electromotive force in the same direction. Consequently, iB decreases suddenly in the leading edge of iP, and transition of ia is carried out smoothly. In the trailing edge, iB increases once and then decreases, and transition to base section is carried out smoothly.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、消耗電極式パルスアーク溶接機に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to a consumable electrode type pulse arc welding machine.

比較的低い入熱で溶滴なスプレー移行させる消耗電極式
パルスアーク溶接は第1図に示すような電流波形で行々
われる。Aは溶接ワイヤが加熱溶融され溶滴となって成
長するピーク電流iアの立上り区間、Bは溶滴がピンチ
力を受けるピーク区間、Cは溶接ワイヤから溶滴が離脱
し母材へ移行するピーク電流1pの立下り区間、Dは溶
接ワイヤがベース電流IBにより予熱されるベース区間
である。
Consumable electrode type pulsed arc welding, which transfers a droplet spray with relatively low heat input, is performed with a current waveform as shown in FIG. A is the rising section of the peak current iA where the welding wire is heated and melted and grows as a droplet, B is the peak section where the droplet is subjected to pinching force, and C is the section where the droplet detaches from the welding wire and transfers to the base metal. A falling section D of the peak current 1p is a base section where the welding wire is preheated by the base current IB.

従来、このような溶接に用いられる溶接機は第2図に示
すように構成されていた。
Conventionally, a welding machine used for such welding has been constructed as shown in FIG.

1は整流器、2はピーク電流1pを制御するだめのスイ
ッチング素子であるトランジスタ、6はベース電流IB
を制御するだめのスイッチング素子であるトランジスタ
、4はiPと+Bを合せた全電流iaの平滑リアクタ、
5はベース電流IBの平滑リアクタ、6はトランジスタ
2のオフ時に平滑リアクタ4の誘導起電力によるフライ
ホイール電流’Dpを流すダイオード、7はトランジス
タ6のオフ時に平滑リアクタ5の誘導起電力によるフラ
イホイール電流’DBを流・すダイオード、8は出力電
流検出器、9はベース電流検出器、10は溶接ワイヤ、
11はワイヤ送給ローラ、12は母材、16はワイヤ送
給ローラ11を駆動するワイヤ送給制御回路である。
1 is a rectifier, 2 is a transistor which is a switching element for controlling the peak current 1p, and 6 is a base current IB.
4 is a smoothing reactor with a total current ia, which is the sum of iP and +B.
5 is a smoothing reactor for the base current IB, 6 is a diode that flows a flywheel current 'Dp due to the induced electromotive force of the smoothing reactor 4 when the transistor 2 is off, and 7 is a flywheel that is caused by the induced electromotive force of the smoothing reactor 5 when the transistor 6 is off. A diode that allows current 'DB to flow, 8 is an output current detector, 9 is a base current detector, 10 is a welding wire,
11 is a wire feeding roller, 12 is a base material, and 16 is a wire feeding control circuit that drives the wire feeding roller 11.

14は溶接機の出力電流制御回路であり、15〜24の
要素により構成されている。
14 is an output current control circuit of the welding machine, which is composed of elements 15 to 24.

出力電流検出回路18は出力電流検出器8からの全電流
iaの検出信号を増幅し、ピーク信号発生回路゛20は
出力電流検出回路18からの信号と出力電流設定器15
からの信号を比較し、全電流ia  の検出値が設定値
と一致するようにトランジスタ2をオンオフさせる信号
(ピーク信号)をピーク・ベース切換スイッチ22を経
てピーク電流制御用トランジスタ駆動回路26へ送る。
The output current detection circuit 18 amplifies the detection signal of the total current ia from the output current detector 8, and the peak signal generation circuit 20 amplifies the signal from the output current detection circuit 18 and the output current setter 15.
A signal (peak signal) for turning on and off the transistor 2 so that the detected value of the total current ia matches the set value is sent to the peak current control transistor drive circuit 26 via the peak/base changeover switch 22. .

ピーク・ベース切換スイッチ22はパルス周波数設定器
16で設定されたピーク時間(tP)、ベース時間(t
B)〔第6図参照〕に応じてtP待時間みオンとなるス
イッチである。
The peak/base changeover switch 22 selects the peak time (tP) and base time (tP) set by the pulse frequency setter 16.
B) It is a switch that is turned on only for the tP waiting time in response to [see FIG. 6].

ベース電流検1(j 1111路19はベース電流検出
器9からのベース電流IBの検出信号を増幅し、ベース
信号発生回路21はベース電流検出回路19からの信号
とベース電流設定器17からの信号を比較し、ベース電
流iBの検出値が設定値と一致するようにトランジスタ
6をオンオフさせる信号(ベース信号)をtP、tT]
画期開期間じてベース電流制御用トランジスタ駆動回路
24へ送る。
Base current detection 1 (j 1111 path 19 amplifies the base current IB detection signal from the base current detector 9, and the base signal generation circuit 21 amplifies the signal from the base current detection circuit 19 and the signal from the base current setter 17. tP, tT]
It is sent to the base current control transistor drive circuit 24 during the breakthrough period.

ピーク電流1Pは、卯、4図に示すように1a〈■ユ+
αの時はトランジスタ2をオン状態に保ち、’a”Ia
+αでトランジスタ2をターンオフさせ、i、)I、−
αの時はトランジスタ2をオフ状態に保ち、1a==I
、−αでトランジスタ2をターンオンさせるといったサ
イクルを繰り返すようにトランジスタ2をオンオフ制御
して得られる。ベース電流IBについても同様にIB−
丁お±βの範囲でトランジスタ6をオンオフ制御して得
られる。
The peak current 1P is 1a〈■yu+ as shown in Figure 4.
When α, keep transistor 2 on and 'a''Ia
+α turns off transistor 2, i,)I,−
When α, transistor 2 is kept off and 1a==I
, -α is obtained by controlling the transistor 2 to turn on and off so that the cycle of turning on the transistor 2 is repeated. Similarly, regarding the base current IB, IB-
This can be obtained by controlling the transistor 6 on and off within the range of ±β.

■、は全電流Iaの設定値、■おはベース電流1Bの設
定値、α、βは回路構成によって決まる定数である。
(2) is the set value of the total current Ia, (2) is the set value of the base current 1B, and α and β are constants determined by the circuit configuration.

・ 6 ・ 第2図の溶接機を用いて消耗電極式パルスアーク溶接を
行なった場合の全電流la、ベース電流IBおよび出力
電圧■。の波形例を示すと第4図または第5図のように
々る。
・ 6 ・ Total current la, base current IB, and output voltage ■ when consumable electrode type pulse arc welding is performed using the welding machine shown in Figure 2. An example of the waveform is shown in FIG. 4 or 5.

すなわち、ピーク電流jpが流れるtP期間にもベース
電流IBは流れており、ゼロにはならない。
That is, the base current IB flows even during the tP period when the peak current jp flows, and does not become zero.

また、その値もベース区間(a−b)からiPの立上り
区間(b −c、 )に移行するタイミング(移行する
時のiBO値)によって変化し、たとえば第4図のよう
にIPの立上り区間(b−c)へ移行する時に1.B−
■□−αでトランジスタ3がオンになっておれば、lp
の立上りと共にIBの値は比較的緩やかに減少していく
が、第5図のように立上り区間(b−c)への移行時に
tn (IB+αでトランジスタ3がオフになっている
と、 lpが立上った瞬間にjBの値は急激に低下する
。これは、トランジスタ2がオンになった時にピーク電
流回路の出力電圧によりベース電流lBが抑え込まれる
ためで、同様の理由によシピーク区間(c−d)では、
トランジスタ2のオフ時にiBの値が増加・ 4 ・ し、トランジスタ2のオン時にIBの値が減少する。
In addition, its value also changes depending on the timing of transition from the base interval (a-b) to the rising interval of IP (b-c, ) (iBO value at the time of transition). When transitioning to (b-c) 1. B-
If transistor 3 is on at □-α, lp
The value of IB decreases relatively slowly with the rise of The value of jB drops rapidly at the moment it rises.This is because the base current lB is suppressed by the output voltage of the peak current circuit when transistor 2 is turned on. In (c-d),
When transistor 2 is off, the value of iB increases, and when transistor 2 is on, the value of IB decreases.

第4図および第5図」:す、ピーク区間(C−d)では
、ピーク電流1Pとベース電流■ゎの和である全電流1
は■。±αの所定範囲に々るようにトランジスタ20オ
ンオフによって制御されるが、jpの立上り区間(+)
−C)ではiaがIBの値によって変化することがわか
る。iaの変化に伴い平滑リアクタ4に発生する電圧v
LPも変化する。
Figures 4 and 5: In the peak section (C-d), the total current 1 is the sum of the peak current 1P and the base current ■ゎ.
■. It is controlled by turning on and off the transistor 20 so that it falls within a predetermined range of ±α, but the rise period (+) of jp
-C) shows that ia changes depending on the value of IB. Voltage v generated in smoothing reactor 4 as ia changes
LP also changes.

vLPと出力電圧vaの和はほぼ一定であるから、vL
Pが変化するとvaも変化することになる。また、ダイ
オード乙に流れるフライホイール電流IDPはvLPの
値によって決まるため、vLPが変化すると’DPも変
化する。その結果、iaの立上り波形およびトランジス
タ2のオンオフ周期がiBO値によって変化することに
なり、tP期間中の電流(全電流)Iaが均一でたくな
る。
Since the sum of vLP and output voltage va is almost constant, vL
When P changes, va also changes. Further, since the flywheel current IDP flowing through the diode B is determined by the value of vLP, when vLP changes, 'DP also changes. As a result, the rising waveform of ia and the on/off period of transistor 2 change depending on the iBO value, and it is desirable that the current (total current) Ia during the tP period be uniform.

tP期間中の出力電流iaは溶滴の成長、移行を制御し
、パルスアーク溶接における最も重要な因子の一つであ
り、溶滴の移行やアークの安定性に大きな影響を与える
。すなわち、tP期間中の出力電流iaが常に均一でな
ければ溶滴移行の均一性が欠け、アークの安定性も悪く
なり、溶接結果に悪影響を及ぼす。
The output current ia during the tP period controls droplet growth and migration, is one of the most important factors in pulsed arc welding, and has a great influence on droplet migration and arc stability. That is, if the output current ia during the tP period is not always uniform, the droplet transfer will lack uniformity, the arc stability will deteriorate, and the welding result will be adversely affected.

次にlpの立下り区間(d−e)に注目すると、第:4
図、第5図のいずれにおいてもIBの値はベース区間よ
り大きくなっている。ipの立下υ区間ではトランジス
タ2かオフと々す、ワイヤ10と母材12の間にはダイ
オード乙によるフライホイール電流’DPが流れる。一
方、トランジスタ3はベース電流検出器9に流れる電流
1が18±βになるように制御されているが、トランジ
スタ2のオフ時にはダ□イオード6がオンとなり、ダイ
オード6を介してベース電流回路が短絡されたと同様々
状態となるため、ベース電流lBがオーバシーート気味
となって制御の上限値をこえる電流が流れ、ベース区間
よりもiBの平均値が大きくなる。その結果、立下り区
間(d−e)における皿□の波形は第4図1たは第5図
に示したようになる。
Next, paying attention to the falling section (d-e) of lp, the 4th
In both FIG. 5 and FIG. 5, the value of IB is larger than the base interval. During the falling edge υ of ip, the transistor 2 turns off, and a flywheel current 'DP flows between the wire 10 and the base material 12 due to the diode A. On the other hand, the transistor 3 is controlled so that the current 1 flowing through the base current detector 9 is 18±β, but when the transistor 2 is off, the diode 6 is on, and the base current circuit is connected via the diode 6. Since the condition is the same as in the case of a short circuit, the base current IB tends to over-sheet, a current exceeding the control upper limit flows, and the average value of iB becomes larger than in the base section. As a result, the waveform of the plate □ in the falling section (de) becomes as shown in FIG. 41 or FIG. 5.

立下り時のIa波形をさらに詳しく観察すると、トラン
ジスタ3がオフに々るごとにiaの減少率i が変化し、−1が小さく力っている。これは、トi ランジスタ乙のオフ時にダイオード7に流れるフライホ
イール電流’DBがダイオード乙によるフライホイール
電流Ir)Pに加わり、その影響でトランジスタ6がオ
フになるごとに1波形の立下りの傾斜がゆるく々るもの
ど渚えられる。その結果、立下り時のIBの値がゼロで
ある場合に比べ、溶滴離脱後のアーク人熱量が大きくな
り、これが繰り返される間に溶滴が犬きく成長しすぎて
ピーク電流により離脱でき々く々る事態が生じ、tP期
間中の出力電流laが均一でないことと相まって溶滴移
行の均一性が阻害される。
If we observe the Ia waveform at the time of falling in more detail, the reduction rate i of ia changes each time the transistor 3 is turned off, and -1 becomes a small force. This is because the flywheel current 'DB flowing through the diode 7 when the transistor B is turned off is added to the flywheel current Ir)P caused by the diode B, and as a result, the slope of the fall of one waveform increases every time the transistor 6 is turned off. Those who are loose are being washed away. As a result, compared to the case where the IB value at the time of falling is zero, the amount of arc heat after the droplet detaches becomes larger, and while this is repeated, the droplet grows too fast and cannot be detached due to the peak current. Coupled with the fact that the output current la during the tP period is not uniform, the uniformity of the droplet transfer is inhibited.

壕だ、出力電圧vaの波形に注目すると、第4図および
第5図に示すように出力電流Iaの立下りの遅れにより
、ipの立下り区間からベース区間(e−’f)へ移行
する時の出力電圧vaは著しく低下しているため、この
移行時点でアークが不安定とカリ、溶接性を悪くするこ
とがある。
Well, if you pay attention to the waveform of the output voltage va, as shown in Figures 4 and 5, due to the delay in the fall of the output current Ia, the falling interval of ip transitions to the base interval (e-'f). Since the output voltage va at this time has significantly decreased, the arc may become unstable at this transition point, causing potency and weldability to deteriorate.

・ 7 ・ 本発明は上記した従来技術の問題点を解消し、溶滴移行
の均□−性およびアークの安定性を改善した消耗室・極
式パルスアーク溶接機を提供することを目的とする。
・ 7 ・ It is an object of the present invention to solve the problems of the prior art described above and to provide a consumable chamber/polar pulse arc welding machine that improves the uniformity of droplet transfer and the stability of the arc. .

前述し庭ように従来技術の問題点は、ベース区間からピ
ーク電流立上り区間へ移行するタイミングによりピーク
電流立上り区間中のベース電流IBの値が変化して全電
流iaの立上り波形に影響を及tttし、壕だピーク電
流立下り区間ではベース電流IBの影響により全電流1
aの立下りが遅れることに基因している。そこで本発明
では、全電流またはピーク電流用平滑リアクタとベース
電流用平滑リアクタをそ□れぞれの誘導起電力が同−向
きになるように磁気結合させ、ピーク電流IPの立上り
時および立下1時にベース電流用平滑リアクタに誘導さ
れる起電力によりベース電流IBを制御して、ピーク電
流立上り時のIBの値の変化およびピーク電流立下り時
の全電流it、の立下りの遅れを少り<シようとするも
のである。
As mentioned above, the problem with the conventional technology is that the value of the base current IB during the peak current rise period changes depending on the timing of transition from the base period to the peak current rise period, which affects the rise waveform of the total current ia. However, in the peak current falling section, the total current is 1 due to the influence of the base current IB.
This is due to the delay in the fall of a. Therefore, in the present invention, the smoothing reactor for the total current or peak current and the smoothing reactor for the base current are magnetically coupled so that their respective induced electromotive forces are in the same direction, and the peak current IP is At 1:00, the base current IB is controlled by the electromotive force induced in the base current smoothing reactor to reduce the change in the value of IB when the peak current rises and the delay in the fall of the total current it when the peak current falls. It is something that we are trying to do.

以下、本発明の実施例を図面により説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

・ 8 ・ 第6図は本発明の一実施例図である。図中、第2図と同
一符号は対応する部分を示し、その説、明を省略する。
・ 8 ・ FIG. 6 is a diagram showing an embodiment of the present invention. In the figure, the same reference numerals as in FIG. 2 indicate corresponding parts, and the explanation thereof will be omitted.

ただし、全電流用平滑リアクタ4とベース電流用平滑リ
アクタ5は同一鉄心25に巻かれ、黒丸印で極性を示し
たように同−向きに誘導起部゛、力を発生する。26は
ピーク電流1Pの立上り時にベース電流用平滑IJアク
タ5に誘導される逆起電力によってトランジスタ6が破
壊されるのを防止するため、トランジスタ6に並列に接
続されたバイパスダイオードである。
However, the smoothing reactor 4 for the full current and the smoothing reactor 5 for the base current are wound around the same iron core 25, and generate induced forces in the same direction as the polarities are indicated by black circles. A bypass diode 26 is connected in parallel to the transistor 6 in order to prevent the transistor 6 from being destroyed by the back electromotive force induced in the base current smoothing IJ actor 5 when the peak current 1P rises.

第7図は第6図中の出力電流検出器8に流れる全電流■
。とベース電流検出器9に流れるベース電流iBおよび
出力電圧vaの波形を示す。
Figure 7 shows the total current flowing through the output current detector 8 in Figure 6.
. The waveforms of the base current iB flowing through the base current detector 9 and the output voltage va are shown.

第7図において、ベース区間(a−bおよびe−f)で
は1a=i Bである。ピーク電流1pの立・上り区間
(b−c)では、IPの増加に伴う磁束変化によってベ
ース電流用平滑リアクタ5に誘導される逆起電力がベー
ス電流IBを抑制する働きをし、その作用はIPが増加
している限りは続き、IBが逆方向(負の値)になって
も続く。このため、図示のようにベース区間(a−b)
からlpの立上り区間(b−c)へ移行する時にIB=
■ヨーβでトランジスタ6がオンに々っていても、lp
の立上りに伴51Bの減少は第4図のIB波形よりも急
になり、移行時点すにおけるIEの値によってピーク電
流立上り区間中のiBの値が変化することが少なくなる
。したがって、全電流iaの立上り波形がIBの値によ
り影響を受けることも少ない。第7図(b’−c)間は
、逆方向電流IBがダイオード6を通って流れ、これに
よる磁束はlpによる磁束を打ち消す方向に生ずるため
、ipの立上りはより急速になる。
In FIG. 7, 1a=iB in the base section (ab and ef). In the rising and rising sections (b-c) of the peak current 1p, the back electromotive force induced in the base current smoothing reactor 5 by the magnetic flux change accompanying the increase in IP acts to suppress the base current IB, and its effect is as follows. It continues as long as IP is increasing, and continues even if IB goes in the opposite direction (negative value). Therefore, as shown in the figure, the base interval (a-b)
When transitioning from lp to the rising section (b-c), IB=
■Even if transistor 6 is turned on in yaw β, lp
With the rise of 51B, the decrease in 51B becomes steeper than in the IB waveform of FIG. 4, and the value of iB during the peak current rise section changes less depending on the value of IE at the transition point. Therefore, the rising waveform of the total current ia is less likely to be affected by the value of IB. During the period (b'-c) in FIG. 7, the reverse current IB flows through the diode 6, and the resulting magnetic flux is produced in a direction that cancels the magnetic flux due to lp, so that ip rises more rapidly.

ピーク電流ipの立下り区間(d−e)では、立上勺区
間とは逆にipの減少に伴う磁束変化によってベース電
流用平滑リアクタ5に誘導される起電力がベース電流I
Bを増加させるように働く。
In the falling period (d-e) of the peak current ip, contrary to the rising period, the electromotive force induced in the base current smoothing reactor 5 due to the magnetic flux change accompanying the decrease in ip increases the base current I.
It works to increase B.

このとき、トランジスタ2はオフとなっており、ダイオ
ード6に流れるフライホイール電流’DPがピーク電流
iPとなる。一方、1Bの値が制御の上限値をこえると
トランジスタ6もオフとなり、ダイオード7に流れるフ
ライホイール電流’DBがベース電流IBとなる。ピー
ク電流立下り区間の途中のd′点までは1Fの減少と共
にIBは増加するが、それ以降はIBも減少し、I E
 ”” I B−βとカつた時にトランジスタ3がター
ンオンしてベース区間(e−f)へ移行する。(1′点
におけるip、1Bの値は平滑リアクタ4と平滑リアク
タ5の相互インダクタンスによって決まる。
At this time, the transistor 2 is off, and the flywheel current 'DP flowing through the diode 6 becomes the peak current iP. On the other hand, when the value of 1B exceeds the control upper limit value, the transistor 6 is also turned off, and the flywheel current 'DB flowing through the diode 7 becomes the base current IB. IB increases as 1F decreases until point d' in the middle of the peak current falling section, but after that IB also decreases and IE
When ``I B-β'' is crossed, the transistor 3 is turned on and the transition is made to the base interval (e-f). (The value of ip and 1B at point 1' is determined by the mutual inductance of smoothing reactor 4 and smoothing reactor 5.

トランジスタ2をオンオフし、Ipの値をIa=I、±
αになるように制御するピーク区間(c−d)では、ト
ランジスタ2がオンの時は(b−〇)区間と同様に、ト
ランジスタ2がオフの時は(d−e)区間と同様にin
の値が増減する。
Turn on and off transistor 2 and set the value of Ip to Ia=I, ±
In the peak section (c-d) where transistor 2 is on, as in the (b-〇) section, and when transistor 2 is off, as in the (d-e) section, the in
The value of increases or decreases.

すなわち、第6図のような構成とすることにより、ベー
ス電流IBはピーク電流IPの挙動に応じて変化し、そ
の結果、IP期間中のIBの値が常に均一化され、した
がって全電流Iaの値もほぼ均一になる。fた、ピーク
電流立下り区間におけるべ1ス電流IEはピーク電流の
減少に伴いベース電流用平滑リアクタ5に誘導される起
電力によっ・11 ・ て流れるので、第4図、第5図のようなベース電流鴨に
よるia立下り波形の遅れがなくなり、第7図のva波
形に見られるように出力電圧vtLが下りすぎることも
なく、ピーク電流立下り区間からベース区間への移行が
スムーズに行々われる。このため、第2図の溶接機によ
る場合に比べてアーク状態はより安定となり、溶滴移行
も均一となり、溶接性が向上する。
That is, by adopting the configuration shown in FIG. 6, the base current IB changes according to the behavior of the peak current IP, and as a result, the value of IB during the IP period is always equalized, and therefore the total current Ia is The values are also almost uniform. In addition, the base current IE in the falling period of the peak current flows due to the electromotive force induced in the base current smoothing reactor 5 as the peak current decreases. The delay in the ia falling waveform caused by the base current drop is eliminated, the output voltage VtL does not fall too much as seen in the va waveform in Figure 7, and the transition from the peak current falling section to the base section is smooth. It is carried out. Therefore, compared to the case using the welding machine shown in FIG. 2, the arc condition becomes more stable, droplet transfer becomes uniform, and weldability is improved.

第8図は本発明の他の実施例図で、全電流用平滑リアク
タ4とベース電流用平滑リアクタ5の磁気結合の態様は
第6図と同じであるが、ピーク電流立上り時にベース電
流用平滑リアクタ5に誘導される逆起電力からトランジ
スタ6を保護するため、トランジスタ6と直列に逆電流
防止ダイオード27を接続したものである。
FIG. 8 is a diagram showing another embodiment of the present invention, in which the mode of magnetic coupling between the smoothing reactor 4 for full current and the smoothing reactor 5 for base current is the same as in FIG. 6, but when the peak current rises, smoothing for base current In order to protect the transistor 6 from the back electromotive force induced in the reactor 5, a reverse current prevention diode 27 is connected in series with the transistor 6.

第8図のような構成とした場合の全電流ia、ベース電
流IBおよび出力電圧V&の波形を第9図に示す。本実
施例では逆電流防止ダイオード27により iBの負の
値がカントされ、(b’ −c)間はIBがゼロとなる
。それ以外の区間のiB波形・12・ は第7図と同様である。第6図の例では、前述したよう
に(b’−c)間でIBが負の値になることからIPの
立上りが速くなり急激な電流変化を示すため、IPの立
上り区間(b−c)からIp一定区間(c−d)への移
行時にアーク状態を乱すことがあるが、第8図の例では
、Ipの立上り開始時の立上り速度は速いが、1B=0
になるとlpの立上り速度は遅くなるので、IPの立上
り区間からIp一定区間への移行もスムーズに行表われ
、アーク状態を乱すことがない。
FIG. 9 shows the waveforms of the total current ia, base current IB, and output voltage V& when the configuration shown in FIG. 8 is adopted. In this embodiment, the negative value of iB is canted by the reverse current prevention diode 27, and IB becomes zero between (b' and c). The iB waveform 12 in other sections is the same as that in FIG. In the example of FIG. 6, as mentioned above, since IB takes a negative value between (b' and c), the rise of IP becomes faster and shows a rapid current change. ) to the constant Ip interval (c-d), the arc state may be disturbed, but in the example of Fig. 8, the rising speed at the start of the rise of Ip is fast, but 1B = 0
At this point, the rising speed of lp becomes slow, so the transition from the IP rising section to the constant Ip section occurs smoothly, without disturbing the arc state.

第6図、第8図の実施例では平滑リアクタ4にピーク電
流、ベース電流共に流れるような構成としたが、平滑リ
アクタ4と平滑リアクタ5の結合に注意すれば、4はピ
ーク電流のみの平滑リアクタ、5はベース電流のみの平
滑リアクタと力るような構成としてもほぼ同様な効果が
得られる。また、ベース電流制御用スイッチング素子が
平滑リアクタ5の誘導起電力に対して充分な逆耐圧を有
するものであれば保護ダイオード26.27は不要であ
り、保護ダイオード26.27を用いることは必須要件
ではない。
In the embodiments shown in FIGS. 6 and 8, the structure is such that both the peak current and the base current flow through the smoothing reactor 4, but if you pay attention to the coupling between the smoothing reactor 4 and the smoothing reactor 5, the smoothing reactor 4 can be configured so that only the peak current flows. Almost the same effect can be obtained even if the reactor 5 is configured as a smoothing reactor with only a base current. Furthermore, if the base current control switching element has sufficient reverse withstand voltage against the induced electromotive force of the smoothing reactor 5, the protection diodes 26 and 27 are not necessary, and the use of the protection diodes 26 and 27 is an essential requirement. isn't it.

本発明の効果を要約すれば次の通りである。The effects of the present invention can be summarized as follows.

(1)ベース区間からピーク電流立上り区間への移行お
よびピーク電流立下り区間からベース区間への移行がよ
りスムーズに行なわれ、後者の移行時に出力電圧が下り
すぎることもなくなる。
(1) The transition from the base section to the peak current rising section and the transition from the peak current falling section to the base section are performed more smoothly, and the output voltage does not drop too much during the latter transition.

(2)  ピーク電流期間中のベース電流の値が常に均
一化されるため、ピーク電流の立上り時あるいは立下り
時にベース電流の値によって出力電流(全電流)の立上
り速度、立下り速度が変化することを防止でき、出力電
流の均一性を改善できる。
(2) Since the base current value during the peak current period is always equalized, the rise and fall speeds of the output current (total current) change depending on the value of the base current when the peak current rises or falls. This can be prevented and the uniformity of output current can be improved.

したかつて本発明によれば、全電流またはピーク電流用
平滑リアクタとベース電流用平滑リアクタを磁気的に結
合し、必要に応じ保護ダイオードを挿入するのみで溶接
機の回路構成を複雑化することなく、消耗電極式パルス
アーク溶接における溶滴移行の均一性およびアークの安
定性を良くシ。
According to the present invention, the smoothing reactor for full current or peak current and the smoothing reactor for base current are magnetically coupled, and protection diodes are inserted as necessary, without complicating the circuit configuration of the welding machine. , improves droplet transfer uniformity and arc stability in consumable electrode pulsed arc welding.

溶接性を向上させることができる。Weldability can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はパルスアーク溶接の電流波形説明図、第2図は
従来のパルスアーク溶接機の回路構成図、第6図はピー
ク時間tP、ベース時間tBの説明図、第4図および第
5図は従来のパルスアーク溶接機における全電流la、
ベース電流1B、出力電圧vaの波形図、第6図は本発
明の一実施例を示す回路構成図、第7図は第6図の実施
例におけるia、1、vaの波形図、第8図は本発明の
他の実施例を示す回路構成図、第9図は第8図の実施例
におけるia、  iB、vaの波形図である。 1・・・整流器 2・・・パルス電流制御用トランジスタ(第1スイツチ
ング素子) 6・・・ベース電流制御用l・ランジスタ(第2スイツ
チング素子) 4・・・全電流用第1平滑リアクタ 5・・・ベース電流用第2平滑リアクタ6.7・・・フ
ライホイールダイオード8・・・出力電流検出器  9
・・・ベース電流検出器10・・・溶接ワイヤ    
11・・・ワイヤ送給ローラ12・・・母材     
  16・・・ワイヤ送給制御回路・15・ 14・・・溶接機出力電流制御回路 25・・・平滑リアクタ4.5を磁気結合する鉄心26
・・・バイパスダイオード 27・・・逆電流防止ダイオード 代理人弁理士 中村純之助 ・16・ 第1 図 IP3因 オフ図 1=8図 才9図
Figure 1 is an explanatory diagram of current waveforms in pulsed arc welding, Figure 2 is a circuit configuration diagram of a conventional pulsed arc welding machine, Figure 6 is an explanatory diagram of peak time tP and base time tB, and Figures 4 and 5. is the total current la in the conventional pulse arc welding machine,
A waveform diagram of base current 1B and output voltage va, FIG. 6 is a circuit configuration diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 7 is a waveform diagram of ia, 1, and va in the embodiment of FIG. 6, and FIG. 9 is a circuit configuration diagram showing another embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a waveform diagram of ia, iB, and va in the embodiment of FIG. 1... Rectifier 2... Transistor for pulse current control (first switching element) 6... L transistor for base current control (second switching element) 4... First smoothing reactor for full current 5. ... Second smoothing reactor for base current 6.7 ... Flywheel diode 8 ... Output current detector 9
... Base current detector 10 ... Welding wire
11...Wire feeding roller 12...Base material
16... Wire feeding control circuit 15 14... Welding machine output current control circuit 25... Iron core 26 that magnetically couples the smoothing reactor 4.5
... Bypass diode 27 ... Reverse current prevention diode Patent attorney Junnosuke Nakamura 16. Fig. 1 IP 3 causes off Fig. 1 = 8 Fig. 9 Fig.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] ピーク電流制御用の第1スイツチング素子と、ベース電
流制御用の第2スイツチング素子と、ピーク雷1流とベ
ース電流を合せた全電流が所定範囲になるように第1ス
イツチング素子をオンオフ動作させる制御手段と、ベー
ス電流が所定範囲になるように第2スイツチング素子を
オンオフ動作させる制御手段と、全電流またはピーク電
流用の第1平滑リアクタと、ベース電流用の第2平滑リ
アクタを有し、ピーク電流により溶接ワイヤから母材へ
溶滴を移行させるようにしたパルスアーク溶接機におい
て、第1平滑リアクタと第2平滑リアクタをそれぞれの
誘導起電力が同−向きになるように磁気結合させたこと
を特徴とするパルスアーク溶接機。
A first switching element for peak current control, a second switching element for base current control, and control for turning on and off the first switching element so that the total current including the first peak lightning current and the base current is within a predetermined range. a control means for turning on and off the second switching element so that the base current falls within a predetermined range; a first smoothing reactor for the total current or the peak current; and a second smoothing reactor for the base current; In a pulsed arc welding machine that transfers droplets from a welding wire to a base metal using an electric current, a first smoothing reactor and a second smoothing reactor are magnetically coupled so that their respective induced electromotive forces are in the same direction. A pulse arc welding machine featuring
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004034073A (en) * 2002-07-02 2004-02-05 Daihen Corp Pulse arc welding control method
JP2019214060A (en) * 2018-06-12 2019-12-19 パナソニックIpマネジメント株式会社 Welding power supply device

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52116753A (en) * 1976-03-26 1977-09-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Apparatus for arc welding

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