JPS5966340A - 流れ分配装置 - Google Patents

流れ分配装置

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JPS5966340A
JPS5966340A JP58155172A JP15517283A JPS5966340A JP S5966340 A JPS5966340 A JP S5966340A JP 58155172 A JP58155172 A JP 58155172A JP 15517283 A JP15517283 A JP 15517283A JP S5966340 A JPS5966340 A JP S5966340A
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/1818Feeding of the fluidising gas
    • B01J8/1827Feeding of the fluidising gas the fluidising gas being a reactant
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/20Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles with liquid as a fluidising medium
    • B01J8/22Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles with liquid as a fluidising medium gas being introduced into the liquid

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  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は供給流体流および再循環流体流を反応器のブレ
ナムおよび沸騰触媒床に均一に導入するための流体流れ
分配装置および流れ分配システムに関するものである。 特に本発明は石油および石炭−油スラリの流れとガス流
と?沸騰触媒床内にほぼ均一なり16れ分布が得られる
ように取扱うためのかかる流れ分配システムに関】−る
ものである。 エンチーオイル(H−Oi、1. )■プロセスおよび
エッチーコー/I/(H−Coal )m フOセス’
T: 使用すn ルパイロットプラントおよび商業的反
応Zgを運転した除の経験から、反応器のブレナムにお
ける入口の流n分配の不IΔ当なり6士によって運転上
の困難、例えばブレナムにおけるコークス形成、触媒床
における流れ分配の不良、局部的な触媒床の沈下、触媒
床におけるコークス形成が起ることがあることが分って
いる。これらの問題は触媒の利用を減少させ、この結果
反応器の運転停止がしばじは起り、運転期間が短くなる
。 従来技術は明らかに流動床触媒反応器におけるかかる流
れ分配の問題に対する適当な解決を与えjl。 ていない。fりuえは、米国特許第8197288号は
流入させる供給液体および再循環液体を反応器のブレナ
ム・チャンバー内に導入するための間車な導管を用いる
触媒反応器構造f:開示しており、米国特許第8202
603号は反応器の下端部(こおいて二重スパージャ−
を使用することを開示している。また、米国特許第、3
540995号は沸騰触媒床反応器を団用して供給液体
および再循環液体の流れを流n分配グリッド手段の下方
の反応器下端のブレナム内に導入する石炭水素化方法の
操作を開示している。しかし、かかるガスおよび1?I
1体の流れを反応器のブレナム内に高速で導入するには
、これらの流れが適当な混合および均一な流れ分布を達
成できるような比校的特殊な配置が必要になる。このた
めに、本発明においては、反、j6器のブレナム内に望
ましい殉−な流れパターンが生じるように改善された流
0分配装置aの股8tを開発(7た〇 本発明は炭化水素液体またはスラリおよびガスを反応器
のブレナム・チャンバーおよび沸騰触媒1.。 床内に均一に供給するための流体Z4しれ分配装置aお
よび流れ分配システムを提供する〇 本発明は分配グリッドと前記分配グリッドの下方の反応
器の下端壁および下部壁とから形成される前記反j心器
のプ
【/ナム内に配置されCい−C%ii1.。 記反応器の沸騰床内に液体とガスとの混合物の流れを分
配Tるための流れ分配装置である。本発明の流れ分配装
置は前記ブレナム内に人っている導管の内側端Gこ設置
さnていて少くとも部分的に前記沸騰床内の反応から得
られた炭化水素液体を再、。 循環さ籍るためのそらせ板付きノズルを具え、前記そら
せ板付きノズぶは元コ離間し漬)も前記導、管の内側端
に強固に取付けられている少く左も2個のそらせ板を具
え、最内側のそらせ板は開口を有してしたい板からなり
、少くとも1個の他のそらへせ板、ユや央開。8有昌、
う□記題qe肴占いヶいそらせ板お上流に配置されてい
て、前記導管を通って前記プレナム内に供給されるガス
および液体物質が前記そらせ板付きノズル己よつi合さ
第1るようにし、′前記そらせ板付きノズルを前記分1
、。 配グリッドと組み合わせて配置して前記液抹坪ガの流れ
λ(前記沸騰床^に上高きこほ ぼ均一に分配されるようLしたことを特徴とする。 また、本発明&=i、′流体−一の流れを反応−の沸騰
床内に均一に分配するための流れ益配シスチムニお、、
。 いて、 (a)前記反応器の下部に設けられていて、前記反応器
の下端壁および下部側壁と前記反応器内あ一騰床の下方
に配置されている分配グリッドとにより形成されたプレ
ナムと、(b)前記プレナム内に突出2.。 していて流動性流体物質を前記プI/す4内に搬送1す
るための導管と、(C)前記′4管の内側端に強固に、
・ □     ・□   、昌 、′、、  ・磐付
けやれたそらせ捩角きノズルとを具え、前記′    
       1自        □      。 そらせ板付きノズルは互に離間する少くとも2個′□ 
  1 ・、  ′ ・□  ■・のそらせ板を具え5
最内側のそらせ板は開口を有・11 していない板からなり、少くとも1個の他のそら1  
  □1 せ板は中央開口を有しカJつ前記開口を有していないそ
らも板の□上蒜に配置されてC・て、”’ jIIit
導管を通って前記プレナム内に供給されるガ艮および液
□     、□5. :  1 ゛ 、11体物質が
前記そらせ板付きノズルによって混合さ!・11   
       : 11  □1111nるようにし、
前記そらせ板付きノズルを+if前記分配グリッドと組
み合わせて配置して前記液体とガ1         
    1      1             
            1スとの混合物の流れが前記
沸騰床内にほぼ均一に1       1      
1 11分配されるようにしたことを特徴とする。 、、±空明(チ石油3よび石g :A 9 !J (7
) 、j:う、な竺化水・・素供給流を水素ガスと一緒
に沸騰触媒床反応器内・   、  1   ″・: 
   。 に均一に分配されるように取扱うのに特に有用で1  
び  。 ある。従って、ここに、「ガスと液体との混合物」とは
微細固す粒子を含!するガスと、一体スラリとの混合物
を包!する艷のとする0 本発明においては、石炭から得た液体スラリと水素との
混合物のような流体の流れは導管および円板−ドーナツ
型そらせ板付きノズル分配装置を。 通って反応Z3の下端に配置されているプレナム内に入
る。普通この分配装置は導管の内側端の中心線に対して
45〜900の角をなすように配置されたほぼ平行に離
間Tる一連のそらせ板を具え、プレナム内で横方向すな
わち半径方向に外方に向うように流れをそらせる。また
、そらせ板付きノズル分配装置の中心軸線はプレナムお
よび反応器・の・中心線゛と0〜60°の角をなすよう
に配置する0ガス−液体式d体粒子流動床反応器の反応
器プレナム用のそらせ板付き人口流れ分配装置はプレナ
ム・チャンバー内に供給された流れる流体の運動エネル
ギーご分散させるための汚れるここのない分配装置を提
供Tる。本発明の分配装置は再循環液体およびガス流が
プレナ・八内に「噴射(jett工rig)Jされるの
を防止し、液体の流れをプレナム内に均一に分散させる
。 反応器の運転条件およびプレナム内の利用できる空間・
に応じて、流し分配装装置を種々の構造叫することがで
きる。本発明の、液体流れ分配装、、、:、、;ま、再
循、環液体導管の出口に配置さ、れた少くとも2個、9
好ましくは円′形のそら:せ板から’41成することが
、できる。:中央に開口を、有する。立てノズル?ブレ
ナムー1内Gご配置・する場合には、と、れうのそらせ
板を互に等距離離間させるの、が普通である。分配装置
の頂板は開口な有しておらず、流入する流むを、僅々、
、向□ に偏向させて液体がグリツ、ド板の底面に直接衝、英し
ないよ・う、にする。分配装置や他のそらせ板、すなわ
ち分故板は液体流、れの部分をさえき゛りか、つ横方向
、すなわち半径方向に外方にブレナム内恍偏向させる大
きさの中央開口を有する0これらの横方向の流れの流路
はプレナムの酸欠掃過して、停)帯区域をなく17かつ
ガ不と液体(また鱒ガスと置体スラリ)との良好な混合
そ生しかつ流れ分配グリッドの開口″を上向きに通って
沸騰床に入るほぼ均一な流れを・生じるように向けられ
るO 各そらせ板の間の間隙から半径方向Gこ外方番こ流nる
全物質の割合は、分配装置の寸法を選定することにより
変えることができるが、普通流れの比較的大きな割合が
最も低い間隙から放出される。 代表的なそらゼ板装置の設訂では、流入Tる液体流の4
0〜45CI)を第1板番こより偏向させ、25〜35
%を中間板をこより偏向させ、残部の流れを頂板Qこよ
り半径方向に外方に偏向させる。一方の1細面からブレ
ナム内に流入するノズル構造の場合(こは、濱通そらぜ
板を隣りのそらせ板と約0°〜約10(Jの角をな下方
向に回りでブレナム内で再11(l環ガス、/液体流を
均一に分散させる〇内径が約152.41Cm (5フ
イート)より小さい小rM径反応器の場合には、普通供
給液体およびガス流を反応4’Nダf部の反応器19へ
の再循環液体と混合し2、シかる後Gここの一緒にした
混合物を後述する第1図の分配装置を使用して反応器の
ブレナム内に均一に分配するのか一層好都合である。約
182.9 Cm ((3フイート)より大きい直径を
有する反応器の場合には、好適供給液体および気体混合
物を別個の分配装置から反応器のブレナム内に導入する
のが望まし、い。例えば、寄通円形有孔ス六−/ヤーリ
ングをブレナム上部に配置し、これを使用てガス−液体
供給混合物を反応器のブレナムを横切って均一に分配す
ることができる。小気泡および液体供給物質の均一な流
れは、スパー7ヤーによる圧力低下を提供しかつスパー
ジャ−からの混会ガスー液体流?下向きにして液体にお
ける流れの運動エネルギーをほぼ消失させることにより
生成する。この運動エネルギーはブレナム内の液体の逆
混合の強さを増大するのに使用される。 スバ〜ジャーリングの開口による圧力低下は代表的な重
質原油の改質プロセスおよび石灰液化プロセスの場合に
は普通0.07〜1.05kg /c肩(1〜15ps
i )である。 本発明の他の例では、反応器の再循環液体用下降i#を
分配装置の中心部に通すことかでき、この分配装置は3
個のそらせ板力)ら構成するのが好ましい。丹循狽され
た反応器のHi体は液体下降管と入口ノズルとの間の環
状区域を曲って反応器のブレナム内に入る。第111M
および中tflj板の中央HitJ口は、液体の流れが
反応器のブレナムを横切って横方向Gとかつ均一に半径
方向に外方に分散し、かつブレナムの賎が掃過されて停
滞区域がなくなるような大きさとする。開口を有してい
ない頂板は液体がグリッドに直接衝失するのを防止する
。 入口流れのそらせ板付きノズル分配装置は反応ts分配
グリッドの−J二流でこのグリッドと併用されて沸)僅
触媒床反応器用の優れた流れ分配システムを提供するO
定格流量におけるそらせ板付ノズル分配装置1によるI
E力低下は普通分配装置および分配グリッドの両者によ
る全圧力低下の約5〜25裂である。分配グリッドは有
孔板から構成することができるが、分配グリッドが多数
の管を具え、それぞれの管(こはその上端上にキャンプ
を設けるのが灯ましい。この分配システムは反応器のブ
レナム内に優れたガスと液体との接触およびガス混合を
提供I7、液体流と分配グリッドとの直接的価夫が起ら
ないようにし、ブレナムおよび触媒床におけるコークス
の形成を最小にする。 次に本発明を図面を参Jat して例Gこついて説明す
るO 第1図(こ示すようGこ、人口管10をツク元:1iI
4のブレナムチャンバー12内に挿入する0このブレナ
ム・チャンバ12は耐火絶縁物15でライニングするこ
とかできる。この人[]管10はそらせ板付きノズルま
たは円板−ドーナツ型分配装置16を有し、この分配装
fEiはほぼ」―向き−ご、液体とガスとの混合物をブ
レナム内に供給(7、次いで流n分配グリッド18のI
iH口1口金9て均一に上向きに沸騰触媒床20内Gこ
供給する。反応器の液体は触媒床の上刃)ら取出さtt
5 中央尋什24を通って丹循壊ポンプ(図示せず)ま
で下降する。このポンプからの液体は新鮮な液体および
ガスの供給物質と一緒に人口管10を通って′bjrJ
n分配装置ij# 16に円循項される。ブレナム12
は人口管IOの内径の5〜10倍に等しい高さをイ4−
Tるのがメナましく、分配グリッド]8は人[]管10
の同所の4〜】2倍Gこ等し7い直径を有するのが好ま
しい。 第2図に詳細に示TようOこ、流rt分配装f616は
少くとも1個の環状板80を具え、この環状板は中心間
[コ81を有し、この開口は開1]を有していない円板
82の、J:、流に設けられている。こでしらのTべて
は周囲方向に等間隔層間した構造の8個の俸88によっ
て一体に保持されている。棒38はそらせ板の外側端縁
に配MTるのが好ましい。 普通、1個の追加の環状板a4を板80と板δ2との中
間に配置して入口管10からの流れをさらに半径方向に
分布させるのに好適な分配装置構造とする。環状板84
は次第に小さくなる中央開孔85を有する。流れの一層
大きな割合を最も低い間隙力)ら放出させるのが好まし
い。この理由はプレナム12内で分配グリッド18に到
達するまでの流体の移動距離が一層長くなるからである
。8個の板を有Tる好ましい流れ分配装置の場合には、
板の寸法を、流体の流れの約40〜45容量%がmlそ
らせ板80により半径方向に外方にそれ、約25〜85
引0が第2そらせ板84により外方にそれ、流−れの残
部が開口を有していない頂部板82により半径方向にそ
れるように選定するのが吋ましい。 互に離間する8個のそらせ板は入口管10の内側端の中
心線と40〜90°の角をなすように配置Tる。また、
そらせ板付ぎノズルの軸線はプレナム12およq反応器
14の中心線と0〜6o0の角αごなTよ、うに配置■
る。さらに、所鼠に応じて、各そらせ板をI4りのそ、
らせ板ξa、、4o0の角をな・T方向に向けてプレナ
ム12内のガスと液体との混合物を均一(こ分散させる
ことができる。 第8図は本発明の流体流れ分配システムの使の例を示す
。この例では、流れ分配装置16を分配グリッド18の
下のプレナム・チ、ヤンバー12の底の中央に配置し1
.プレナム9紙の上方において入口管10の内径ρ1,
0 :2.51fiGこ専しい牟離だけ延在させる。流
れ分配グリッド18は多数の立て管26を具え、この立
て管は内径が19.(15,〜88.1調(0,75〜
1.5インチ)、で、この管の内径の4〜10倍に等1
い距離だけグリッド18の下方に延在させるのが好まし
い。Wf 26はグリシ1j“18の上方にこの管の内
径の1.5 NI41Hi等しい距離だけ延在Tる。、
各w26の上端の上方。こ、円筒!レキャップ28を設
け、このキャップを皆26から離間させ、適当な構造部
材(図示せず)により管26から強固に支持Tる。キャ
ップ28は、運転状態が乱調である開缶たけプロセス停
止時に起ることのあるような、管を連名上向きの流体流
れが存在しない場合にはいつでも、触媒固体粒子22が
沸騰床20力)ら管26中に流入するのを防止するよう
な方向に向けられている。日影スパージャーリング40
を流れ分装置装置1′6の上方に設け、このリング40
の下側面に均一に*’mする開口41をあけておいて、
プレナム)チャンバーの上部12aにおいてガスおよび
液体の流れを均一に分配させる。スパージャ」4□□0
は乍降W′24を取囲んでおり、内径が約24 ’4 
cam”(約8フイート〕より゛大き:い反応器のよう
な大直径反応器の場合に特に有用である。開口41は圧
力低下が均一になるよ□うな大きさとし、流れが下向□
きになってその運動エネルギーがほとんど消滅しかうプ
レナムにおけるガスと液体との逆混合作用力讐増□大す
るように配置する。 第4図に示す本発明のさらに他め例では、下降管44は
そらせ板付き流れ分配装置46の中心を貫通する。分配
装置46は導管4.4から支持されてい:る8個の、環
状板からなり、流体の流れは環、状導管4bによって分
配装置46に供給される。開口を有していない上部板4
7を導管44に例えは溶接□により強固に取付け、導管
44にほぼ垂直に配置Tる。中間板48は環状間0.4
9を有し、この板48を等距離離間する3個の俸58を
こより板47に取付ける・:0下部板5oは中間板48
の開口49よりやや大1い環状ffg口51を有する。 従って、流れ分配装置・置4’6は°分配装置16・の
場合と同様に作動し、かくして全上向き流体流れの一部
は前記板と板との間の間隙を経て半径方向Qこ外方に通
る。この場合にも円形スバーン・ヤー60をプレナム・
チャンバー12内に設け、第8図(こ示す例の場合と同
様に流れ分配装置46の上方の中心に配置する。スパー
7ヤー60は開口61を・有する。 本発明の入口流れ分配装置の構造を使mTることにより
達成される効果□を次の実施例について説明する。 、実施例 石炭’?x液化するためのエッチ−コール ・プロセス
を使用し、内径1.52 cm (5フイート)の沸騰
床触媒反応器(200)ン/日のキャットレットブルグ
(Catlettburg)エッチ−コールeパイロッ
ト。 反応器)を具えた石炭水累化プラントにおいて、供給石
炭スラリおよびガスと、沸騰床からの再循3M液体流と
ご反応器の外部で混合した0次いで親−wc=シv=流
れの全体を・、第1図(こ示す本発明の1例に示すよう
Gこ、3個の傾斜そらせ板が装着されている側面流入ノ
ズルを経て分配し、た。ブレナム内に分配、ノズルを取
付けた結果、反応器の沸騰触媒床における流れ分布の不
良に起因するコーキングは実質的に消失しまた〇 内?’t’t385ca+(11フイート)の商業的エ
ッチ−コール(1,8,000)ン/日)プラントの反
応器設、aにおいて、出循環液体スラリ流を分散させる
ためQこ8個の傾斜そらせ板を装着した側面流入ノズル
ど、供給液体スラリおよびガスを分配するための円形ス
パージャ−とを、ブレナム(こ取付は)■−9内径30
5ci(toフィート)の商業的エッチ−オイル@l(
5,Ii 62 kl(85,000bb/り/日)プ
ラントの反応器vljtにおいて、沸騰床からの閂循壌
液体流を分散さぜる1こめの3個の水平板を装着した立
てノズルと、供給流の液体およびガスを分配Tるための
スパージャ−リングとから、反1+j;器のブレナム内
の入口流し分配システムF W成した0
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を使用する沸騰原反J心器の下部上・の
1例の垂直断面図、 第2図は本発明に使用するそらせ板付きノズルである流
れ分配装置の1例の垂直断面図、第3図は供給流および
S)*環流を別個の流れ装置から導入する本発明の他の
例の垂直断面図、第4図は第3図と同様な本発明のさら
に他の例の垂直断面図である。 10・・・入[」骨(導管) 12・・・ブレナム・チャンバー(ブレナム)12a・
・・ブレナム・チャンバーの上Nl!14・・・反応器
       15・・・耐火絶縁物116・・・分配
装置18・・・分配グリッド19・・・開口     
   20・・・沸騰触媒床22・・・触媒固体粒子 24・・・中央導管(下降管)26・・・立て管28・
・・キャップ 80・・・環状板(第1そらせ板〕 81・・・中央間「】 82・・・開1」を有していない円板(頂板)88・・
・俸 84・・・環状板(第2そらせ板) 85・・中央開口 40・・・スパージャ−(スパージャ−リング)41・
・・開口        44・・・導管(下降管)4
5・・・猿状導管      46・・・分配装置47
・・・開口を有していない上部板 48・・・中間板       49・・・開口50・
・・下部板      51・・・開口53・・・$ 
         60・・・スパージャ−61・・・
開口。 第1図 ζ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L 分配グリッドと前記分配グリッドの下方の反応器の
    下端壁および下部壁とから形成されるriU記反応器の
    ブレナム内に配置されていて、MiJ記反応器の沸騰床
    内に液体とガスとの混合物の流れを分配するための流れ
    分配装置において、 O1I記プレナム内に人っている導管の内側端に設訂さ
    イ1ていて少くとも部分的に前記沸騰床内の反応から得
    られた炭化水素流体を再循環させるためのそらせ板付き
    ノズルを具え、前記そらせ板付きノズルは互に離間しか
    つ前記専管の内側端に強固に取付けられている少くとも
    2個のそらせ板を具え、最内側のそらせ板は開口分有し
    ていない板からなり、少くとも1個の他のそらせ板は中
    央開口を有しかつ前記開口を有していないそらせ板の上
    流に配置されていて、前記導′冴を通ってnfJ記プレ
    lナム内に供給されるガスおよび液体物質がr4iJ記
    そらせ板伺きノズルによって混合されるようにし、hi
    t記そらせ板句きノズルを前記分配グリッドと組み合わ
    せて配置してF3f前記液体とガスとの混合物の流しが
    lj’7 #a n 、’b’j床内にF向きにほぼ均
    一に分配されるようにしたことを特徴とする流れ分配装
    置。 2 前記離間しているそらせ板は前記?D管の内側端の
    中心線と45〜900の角をなす方向番こ、・向いてい
    る特許請求の範囲第1項記載の装置。 & 前記そらせ板付きノズル装f&の軸線は前記ブレナ
    ムおよび前記反応器の中心線と0〜60゜の角をなすよ
    うに配置されている特許請求の範囲第1項記載の装置。 43個の円形そらせ板からなり、下部の第1板は中央開
    孔ご有し、中間の第2板は前記下部の第1板の中央開口
    より小さい中央面1−」と有し、上部の第3板は開[コ
    を有していない特許請求の範囲第1項記載の装置。 五 前記下部の第1板の中央開口は前記導管の内径の0
    .6〜0.71i倍の直径を有し、前記中間の第2.板
    の中、央p4 Dは前記導管のつ径の 。 0.4〜0.5倍の直径ご有Tる特許請求の範囲□′@
    4項記載の装置。 a 前記そらせ板は前記導管の内径の0.8〜0.5倍
    に等しい距離離間している特許請求の範囲第1項記載の
    装置。 ?、 各そらせ板は隣りのそらせ板と0〜10゜の角を
    なT方向に向いている特許請求の範囲第1唄記載の装置
    。 a、  iiJ記分配装置による流体圧力低下、が前記
    分配装置および前記分配グリッドによる全流体圧力低下
    の5〜25%である特許請求の範囲第1項記載の装置◇ 0、 流体物質の流れ全反応器の沸騰床内に均一に分配
    するためめ流れ分配システムにおいて、(a)  前記
    反応器の下部に設iられていて前記反応器の下端壁およ
    び下部側壁と前記反応器内の沸騰床の下方に配置されて
    いる分配、1゜グリッドとにより形成されたプレナムと
    、・Φ)前記プレナム内に突出していて流動性流、俸物
    質を前記プレナム内に搬送するための:、1− 導管と、 (?)□前記導管□の丙、細端に強鼎、、、、+5 M
     門’ Qれた・。 :1 そらせ板付きノズルとを具え、 前記そらせ板付きノズルは互に離間する少くとも2個の
    そらせ板を具え、最内側のそらせ板は開口を有していな
    い板がらなり1.少くとも1個の他のそらせ板は中央q
    口を有し、がっ1,1前記間口を有°していないそらせ
    板の上流に配置されていて、前記導管を通・っで前記プ
    レナム内に供給されるガズおよび″液体□物質が曲紀そ
    らせ板付きノズルによって混合さi’ 、Q ようにし
    、前記そらせ板付□きノズルを前記分配グIj。 リッドと組み合わせて配置してftU記一体オガスとの
    混合物の流れが前記沸騰床内にほぼ均一に分配されるよ
    うにしたことを特徴とTる流れ分配システム。    
      。 10、  前記離間しているそらせ板は前記導・箸の内
    −,1側端の軸線と45〜90°の角をなす方向に向い
    ている特許請求の範囲第9項記載のシステム0 11  前記そらせ板付きノズルの軸線は前記プレナム
    および前記反応器の中心線とO〜60°の。 角をな丁ように配置されている特許請求の範囲第9JA
    記載のシステム。 1象 前記ノズルは8個の円形そらせ板からなり、下部
    の第1板は中央開孔を有し、中間の第2板は前記下部の
    第1板の中央開口より小さい中央開口を有し、上部の第
    8板は開口を有していない特許請求の範囲第9項記載の
    システム0 1& 前記下部の第1板の中央開口は前記導管の内径の
    0.6〜0.75倍の直径を有し、前記中ff1jの第
    2板の中央開口は前記導管の内径の  10.4〜0.
    5倍の直径を有する特許請求の範囲第9項記載のシステ
    ム。     □ 1表  前記そらせ板は前記導管の内径の0.8〜0.
    5倍に等しい距離離間している特許請求の範囲第9項記
    載のシステム。   □ l翫項状スパージャーがhi記プレナム内の前記分配グ
    リッドの下方および前記そらせ板付きノズルの上方に設
    けらnている赫解請求あ範囲第9項記載のシステ云。 
      □ 1& 前記そらせ板付きノズルは前m1反応器めプレナ
    ムの底の上方に前記導管の内径の1.0〜2、i倍に等
    しい距離築山して九くる特許請求の範囲第9項d己載の
    システム。□ 1?、  前記プレナムは前記導管の内径の5〜10倍
    に等しい高さを有Tる特許請求の範囲第9貢記載勿シス
    テム。     :″        □18、  前
    記分配グリッドは前)記璋管お内径の4〜.2お9゜、
    Lい、i□エアロi9□i5第9項記載めシステ□ム。  □  ″   □[9,流体物質の流れを反応器のr
    h +fmk内に均一に分配する起めの流れ分配システ
    ム□において、(a>  前記反応器の下部にeけられ
    てしくて前□記反応器の下端壁および′下部側壁とi′
    U紀□紀元反応の沸騰床の下方に配置されてυ)る分配
    グリッドとにより形成されたブレナムと、(b)  前
    記分配グリッドおよび前記ブレナムをたて方向に貫通し
    ていて流体を前記沸騰床から前記ブレナムに再循環させ
    るための下降管と、 (C’)  前記ブレナム内に突出していて流動性流体
    物質を前記ブレナム内に搬送するための導管と、 (d)  前記導管の内側端に強固に取付けられたそら
    せ板付きノズルとを具え、 前記そらせ板付きノズルは互に離間する少くとも2個の
    そらせ板を臭え、最内側のそらせ板は開口を有していな
    い板からなり、少くとも1個の他のそらせ板は中央開口
    i有しかつ111ノ記開口を有していないそらせ板の上
    流に配置uされていて、前記4管を通って前記ブレナム
    内に供給されるガスおよび液体物質が前記そらせ板付き
    ノズルによって混合されるようにし、前記そらせ板付き
    ノズルを前記分配グリッドと組み合わせて配置して前記
    液体とガスとの混合物の流れが前記沸騰床内にほぼ均一
    に分配さnるようにしたことを特徴とする流れ分配シス
    テム。 20、  前記下降管は前記ブレナム内の中心部に配置
    されていて、前記分配グリッドおよび前記ブレナムをた
    て方向に貝通し、前記そらせ板付きノズルは下降管の外
    方にこnと同心に配置されている特許請求の範囲第19
    項記載のシステム。
JP58155172A 1982-09-09 1983-08-26 流れ分配装置 Granted JPS5966340A (ja)

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GB (1) GB2126495B (ja)
IT (1) IT1170468B (ja)
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SE8304855D0 (sv) 1983-09-09
FI833189A (fi) 1984-03-10
FR2540402A1 (fr) 1984-08-10
FI73606C (fi) 1987-11-09
IT1170468B (it) 1987-06-03
FI833189A0 (fi) 1983-09-07
JPH0420654B2 (ja) 1992-04-06
GB2126495A (en) 1984-03-28
AU1793883A (en) 1984-03-15
DE3329683A1 (de) 1984-07-12
IT8348932A0 (it) 1983-09-06
CA1229058A (en) 1987-11-10
FI73606B (fi) 1987-07-31
MX157751A (es) 1988-12-13
FR2540402B1 (fr) 1992-07-31
GB8321690D0 (en) 1983-09-14
AU565712B2 (en) 1987-09-24
ZA835908B (en) 1984-05-30
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