JPS5945656B2 - クロロトリフルオロメチルベンゼンの製造法 - Google Patents

クロロトリフルオロメチルベンゼンの製造法

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JPS5945656B2
JPS5945656B2 JP13944281A JP13944281A JPS5945656B2 JP S5945656 B2 JPS5945656 B2 JP S5945656B2 JP 13944281 A JP13944281 A JP 13944281A JP 13944281 A JP13944281 A JP 13944281A JP S5945656 B2 JPS5945656 B2 JP S5945656B2
Authority
JP
Japan
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reaction
chlorotoluene
hydrogen fluoride
chlorotrifluoromethylbenzene
temperature
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Expired
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JP13944281A
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JPS5839631A (ja
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洋之助 逢坂
平橘 園山
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Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Kogyo Co Ltd
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Publication date
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Priority to DE8282108018T priority patent/DE3268413D1/de
Publication of JPS5839631A publication Critical patent/JPS5839631A/ja
Publication of JPS5945656B2 publication Critical patent/JPS5945656B2/ja
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、クロロト11フルオロメチルベンゼンの製造
法、さらに詳しくはクロロトルエン、フッ化水素および
塩素をα−フッ化アルミニウムの存在下に反応させてク
ロロト11フルオロメチルベンゼンを製造する方法に関
する。
クロロトリフルオロメチルベンゼンは、医薬中間体、染
料中間体、農薬中間体等として有用である、。
従来、クロロトリフルオロメチルベンゼンの製造法とし
ては、パラ化合物については、p−クロロトリクロロメ
チルベンゼンをフッ化アルミニウムの存在下でフッ化水
素と反応させる方法(特開昭54−13052)、p−
クロロトルエンを塩素およびフッ化水素と加熱条件下に
気相で接触させる方法(特開昭53−82728)など
がある。
前者の出発物質であるp−クロロトリクロロメチルベン
ゼンはp−クロロトルエンの塩素化により製造されるの
で、この点から後者の方法が優れている。しかしながら
、この後者の方法は、反応温度が高く、あるいは選択率
が低い等の欠点を有していた。本発明者らは、前者の欠
点を改善すべく、p−クロロトルエンを出発物質として
、これとフッ化水素および塩素との反応に関して各種の
触媒について検討を行なつた結果、α−フッ化アルミニ
ウムを触媒として用いることにより、温度が低く、接触
時間が短かく、かつ収率の高い反応が達成され、また、
他の形の例えはメタ化合物については収率がやゝ低いが
同様に反応を行ないうることを見出し本発明を完成する
に至つた。
すなわち、本発明はα−フッ化アルミニウムの存在下に
クロロトルエン、フッ化水素および塩素を気相状態で反
応させてクロロト11フルオロメチルベンゼンを生成せ
しめることを特徴とするクロロト11フルオロメチルベ
ンゼンの製造法を提供するものである。
本発明方法によれば、α−フッ化アルミニウムが触媒と
して選択されたため、反応における接触時間が短縮され
、温度を低下させることが可能となるとともに選択率が
向上し、従来法における欠点を解消することができた。
本発明方法にて用いられるα−フッ化アルミニウムは公
知であり(例えば特公昭42−2252)、例えば活性
アルミナを比較的低温下、通常200、〜350℃にて
、フッ化水素で処理してえられるフッ化アルミニウム(
無水、水和物を問わず、β−、γ一、δ一ε−、無定形
フッ化アルミニウムの何れでもよい)を500℃以上の
温度で充分加熱することにより製造でき、例えば600
℃で5・ 〜7時間処理することにより得られる。
また、加熱は、窒素、フッ化水素気流中で行なうのが好
ましい。1クー 本発明における出発原料物質であるクロロトルエンとフ
ツ化水素との割合は、特に制限はないが、最小限置換さ
れるべき水素原子の数に相当するフツ化水素、またはや
や過剰のフツ化水素を供給することが必要であり、通常
クロロトルエンに対してフツ化水素をモル比で3〜30
、好ましくは4〜20供給するのがよい。
また塩素の供給量は、クロロトルエンに対してモル比で
3〜20、好ましくは4〜15である。
塩素供給量が前記下限より少ないと反応は進行しがたく
、一方上限より多い場合は特に利点がなく反応空間の損
失が大きくなる。本発明方法における反応温度は、25
0〜450℃である。
250℃より低いと反応速度が小さく工業的に不利であ
り、一方450℃より高いと目的物の選択率が低下する
好ましくは350〜450℃である。反応圧力について
特に制限はなく、減圧でも加圧でも操作可能であるが、
通常は0。
5〜10絶対気圧、好ましくは1〜3絶対気圧にて行な
われる。
空間速度は反応温度、α−フツ化アルミニウムの触媒活
性等に依存して適宜に定められてよい。例えば400℃
付近の反応温度で、実施例に示すごときフツ化アルミニ
ウムを550〜600℃で加熱して製造したα−フツ化
アルミニウムでは200〜4000hr−1の空間速度
とするのがよい。特に200〜2000hr−1力S好
ましい。空間速度を前記下限より小さくすると副生成物
が増加し、一方上限より大きくすると反応率が低下する
。゛なお、長期間の使用により触媒の活性が低下したど
き・は”、400〜500℃の温度において酸素(空気
でもよい)で処理することにより活性を回復させること
ができる。
また、本発明方法においては、特に稀釈剤を必要としな
いが使用はさしつかえない。
反応管等の装置に用いられる材質は、高温下においてフ
ツ化水素、塩化水素、塩素などの腐蝕性ガスに抵抗性を
有するものが使用され、ステンレス鋼、ニツケル、ニツ
ケル合金(たとえばインコネル、ハステロィ)などが好
適である。
本発明方法を実施するに当つては、クロロトルエン、フ
ツ化水素および塩素を加熱接触反応管内に導入し、加熱
下に所定の反応を行なう。
反応は固定触媒層のほか流動層等を用いることも可能で
ある。通常これらの原料物質は、予め予備加熱器を通す
ことにより加熱、蒸気化させてから、前記の反応管に供
するのが望ましい。反応後、反応管より出て来る反応生
成物は、蒸留塔に移されて蒸留され、塔頂より塩化水素
、フツ化水素、塩素などのガス状物質を分離し、塔底よ
り目的化合物を液状物質として取得する。なお、本明細
書中、収率とあるは、仕込んだ原料クロロトルエンに対
する生成したクロロトlフルオロメチルベンゼンのモル
比を意味し、従つて転化率と選択率との積である。
次に参考例および実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明する。
参考例 粒径4〜61!IRの活性アルミナ50gを直径3/4
インチのハステロイC管中に充填し、窒素気流中で20
0℃に加熱した。
次いで、フツ化水素を200m1/iの流速で導入し、
35時間後ホツトスポツトの移動が終つてから、同じく
フツ化水素の導入を続けながら、350℃に昇温して3
時間その温度に保持した。さらに、フツ化水素の導入を
続けながら600℃に昇温し、7時間同温に保持した。
放冷後、活性アルミナは、X線分析により大部分α−A
lF3に転化していることが判明した。実施例 1 参考例で得た粒状α−フツ化アルミニウム509を触媒
として直径3/4インチのハステロイC管に充填し、3
80℃に保持して、フツ化水素、塩素およびp−クロロ
トルエンの混合ガス(モル比10:10:l)を大気圧
下にSV(空間速度)274hr−1で通した。
p−クロロトルエンの流速は0.39Ziであつた。排
出物を氷で冷却したコンデンサーに導びき、生成した塩
化水素および過剰のフツ化水素と高沸点生成物に分離し
た。酸性部質を含む高沸点生成物(液体)は水洗の後、
無水硫酸ナトリウム上で乾燥した。4時間の反応後、総
量1059の粗製p−クロロトリフルオロメチルベンゼ
ンを得た。
ガスクロマトグラフイ一により分析した結果を第1表に
示す。実施例 2 出発物質として実施例1のp−クロロトルエンの代わり
にm−クロロトルエンを用いて、実施例lと同様にして
m−クロロトリフルオロメチルベンゼンを製造した。
4皓間反応後、総量1039の粗製m−クロロトリフル
オロメチルベンゼンを得た。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 α−フッ化アルミニウムの存在下にクロロトルエン
    、フッ化水素および塩素を気相状態で反応させてクロロ
    トリフルオロメチルベンゼンを生成せしめることを特徴
    とするクロロトリフルオロメチルベンゼンの製造法。
JP13944281A 1981-09-03 1981-09-03 クロロトリフルオロメチルベンゼンの製造法 Expired JPS5945656B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13944281A JPS5945656B2 (ja) 1981-09-03 1981-09-03 クロロトリフルオロメチルベンゼンの製造法
EP82108018A EP0074069B1 (en) 1981-09-03 1982-09-01 Process for preparing chlorotrifluoromethylbenzene
DE8282108018T DE3268413D1 (en) 1981-09-03 1982-09-01 Process for preparing chlorotrifluoromethylbenzene
US07/206,664 US4825014A (en) 1981-09-03 1988-06-15 Process for preparing chlorotrifluoromethylbenzene

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13944281A JPS5945656B2 (ja) 1981-09-03 1981-09-03 クロロトリフルオロメチルベンゼンの製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5839631A JPS5839631A (ja) 1983-03-08
JPS5945656B2 true JPS5945656B2 (ja) 1984-11-07

Family

ID=15245289

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13944281A Expired JPS5945656B2 (ja) 1981-09-03 1981-09-03 クロロトリフルオロメチルベンゼンの製造法

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JP (1) JPS5945656B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS638976A (ja) * 1986-06-30 1988-01-14 Nippon Board Computer Kk 画像取込み記録装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS638976A (ja) * 1986-06-30 1988-01-14 Nippon Board Computer Kk 画像取込み記録装置

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JPS5839631A (ja) 1983-03-08

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