JPS5943035A - 電磁シ−ルド性の優れたプラスチツク成形品の製造法 - Google Patents
電磁シ−ルド性の優れたプラスチツク成形品の製造法Info
- Publication number
- JPS5943035A JPS5943035A JP15376482A JP15376482A JPS5943035A JP S5943035 A JPS5943035 A JP S5943035A JP 15376482 A JP15376482 A JP 15376482A JP 15376482 A JP15376482 A JP 15376482A JP S5943035 A JPS5943035 A JP S5943035A
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- JP
- Japan
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- plating
- plastic molding
- soln
- paint
- electroless
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電磁シールド性の優れたプラスチック成形品の
@造に関する。
@造に関する。
プラスチックの電磁シールド性を改良する方法としては
、−電性塗料により塗装量る万□法J金属粉等をプラス
チック自体に練り込む方法、プラスチック表面に金属溶
射する方−一プラスチックの表面をメシギする力法赴ど
示知られている。
、−電性塗料により塗装量る万□法J金属粉等をプラス
チック自体に練り込む方法、プラスチック表面に金属溶
射する方−一プラスチックの表面をメシギする力法赴ど
示知られている。
導電性塗料で塗装する方法は塗料自体が高価であるばか
りでなく、シールド性を十分に付与するためには100
ミクロン近い喫厚2要するケースもあり、難点が多い□
また金属粉等をプラスチック自体に練り込む方法では表
面′M観を□損うばかりでなく、プラスチック自体に練
り込□み得る金属粉の量に自ら制限がある□ので十分な
、−7゜ド性、8得6ゎ。、くいよ。:う難点力、あ、
。
りでなく、シールド性を十分に付与するためには100
ミクロン近い喫厚2要するケースもあり、難点が多い□
また金属粉等をプラスチック自体に練り込む方法では表
面′M観を□損うばかりでなく、プラスチック自体に練
り込□み得る金属粉の量に自ら制限がある□ので十分な
、−7゜ド性、8得6ゎ。、くいよ。:う難点力、あ、
。
ブラスチレク表面(こ金属溶射する′方法は表面外観を
損うば力ζっで2<、密着性が悪ム□と□いう1点があ
る。プラスチック表面をメツ+′讐る方法は比較的難点
が少ないが、通常プラスチック表面を化学エツチングし
たのち無電解メッキを施し、しかる後電気メッキを行う
ため工程が繁雑であるばかりでなく、メッキ俟の保護□
及宕装飾の目的でプラスチックメッキ表面に更に塗装す
るという工程をとることが多く、その場合メッキ表面と
保護塗装膜との密着性が得られにくい。この点を改良す
る方法としてプラスチック成形品の外面を予めエッチン
グ液に侵されにくい塗料で塗装したのち成形品の内面の
みをメツキすや部分メ゛ごキ方法力jあるが、工程が、
更に繁、、、、、、、、、。
損うば力ζっで2<、密着性が悪ム□と□いう1点があ
る。プラスチック表面をメツ+′讐る方法は比較的難点
が少ないが、通常プラスチック表面を化学エツチングし
たのち無電解メッキを施し、しかる後電気メッキを行う
ため工程が繁雑であるばかりでなく、メッキ俟の保護□
及宕装飾の目的でプラスチックメッキ表面に更に塗装す
るという工程をとることが多く、その場合メッキ表面と
保護塗装膜との密着性が得られにくい。この点を改良す
る方法としてプラスチック成形品の外面を予めエッチン
グ液に侵されにくい塗料で塗装したのち成形品の内面の
みをメツキすや部分メ゛ごキ方法力jあるが、工程が、
更に繁、、、、、、、、、。
雑にη「るばかりでなく、電気メッキの際、メッキ用ラ
ツ々ゐ接点部分□及び低電流4楢度都昇−:の無″胃電
解メ゛イキ侯が俯解し、タリす、ヤことに起因する 。
ツ々ゐ接点部分□及び低電流4楢度都昇−:の無″胃電
解メ゛イキ侯が俯解し、タリす、ヤことに起因する 。
メッキ未着現象のために十分な電磁シールド性・。
が得られにくい。
本発明者はこの様な状況に鑑み十分な電磁シール下柱を
付与し、且つメッキ膜と保護塗膜との密層性を改良する
こと及びメッキ未着現象の:1 、 ′。
付与し、且つメッキ膜と保護塗膜との密層性を改良する
こと及びメッキ未着現象の:1 、 ′。
発生を防ぐ上とを目的として脱揮検討した結果本発明に
判御した。 、、。
判御した。 、、。
本発明+4ブラスチッ、り成、11品の表面を化学エツ
チングし、次いで一層或いは多層の無電解メッキを施し
たのち、塗料を用毀て塗装仕上げすることを特徴とする
電磁シールド性の優れたプラスチック成形品の製造法で
ある。
チングし、次いで一層或いは多層の無電解メッキを施し
たのち、塗料を用毀て塗装仕上げすることを特徴とする
電磁シールド性の優れたプラスチック成形品の製造法で
ある。
本発明において無電解メッキのみで、電気メッキを行う
ことなく、その上に直接仕上げの塗装を行うことにより
プラスチック成形品を製造すると最終塗装の保護塗膜と
メッキ嗅との密着、 性が著しく向上し、且つ電磁シー
ルド効果をも・ 、□′、・■: : 十分に得ることが出来る。更に前述の部分メッキ□・方
□法、:の場谷でも電気メッキの際に発生するよ、7+
11. Qツキ未着現、卆、も発生ぜずN映写さえ十
分で瀉れば十分な電磁シールド効果が得られる。
ことなく、その上に直接仕上げの塗装を行うことにより
プラスチック成形品を製造すると最終塗装の保護塗膜と
メッキ嗅との密着、 性が著しく向上し、且つ電磁シー
ルド効果をも・ 、□′、・■: : 十分に得ることが出来る。更に前述の部分メッキ□・方
□法、:の場谷でも電気メッキの際に発生するよ、7+
11. Qツキ未着現、卆、も発生ぜずN映写さえ十
分で瀉れば十分な電磁シールド効果が得られる。
□、−更に無電解銅及び無1!解−:ツケル、′なζヲ
組ミ合わせて多層電解メッキ層を形成することにより耐
食性及び電磁シールド性のより優れたプラスチック成形
品を製造烹るこ、とが出来る。。
組ミ合わせて多層電解メッキ層を形成することにより耐
食性及び電磁シールド性のより優れたプラスチック成形
品を製造烹るこ、とが出来る。。
本発明に用いられるプラス皐ツク基何としてはABS樹
脂・ポリプロピレン樹脂、ASI脂、lリアミ ド樹脂
1..ホン1エチレ、ンテレフタ、レート樹脂、変性ボ
リフェ巴しどオ、キサイド樹脂、ポリアセタール樹脂、
ポリ、、カーボネー□トブレンドABS1i!llr脂
などがあげられるが、成形性、メッキの密着性などの点
からABS樹脂の使用が望ましい。
脂・ポリプロピレン樹脂、ASI脂、lリアミ ド樹脂
1..ホン1エチレ、ンテレフタ、レート樹脂、変性ボ
リフェ巴しどオ、キサイド樹脂、ポリアセタール樹脂、
ポリ、、カーボネー□トブレンドABS1i!llr脂
などがあげられるが、成形性、メッキの密着性などの点
からABS樹脂の使用が望ましい。
また本発明に用いられる無1!解メツキ液としてはニッ
ケル、銅、銀、コバルトの他、種々の無電解合金メッキ
液などがあげられるが、実用性、コスト、などの点から
ニッケル及び銅が望ましい。
ケル、銅、銀、コバルトの他、種々の無電解合金メッキ
液などがあげられるが、実用性、コスト、などの点から
ニッケル及び銅が望ましい。
実施例1
たて100mm、よこ100mm、厚さ3mmのABS
成形板を無電解メッキするためにまず中性洗剤60g/
lの水溶液中に60℃で5分間浸漬して脱脂を行なった
のち、無水クロム酸400g、硫酸(98%)200c
cに水を加え、1000ccとしたエツチング液に60
℃で10分間浸漬してエツチングした。
成形板を無電解メッキするためにまず中性洗剤60g/
lの水溶液中に60℃で5分間浸漬して脱脂を行なった
のち、無水クロム酸400g、硫酸(98%)200c
cに水を加え、1000ccとしたエツチング液に60
℃で10分間浸漬してエツチングした。
次いで塩酸(35%)100cc/lの水溶液中に20
℃で1分間浸漬して残存クロムを除去したのち、塩化パ
ラジウム、塩化第一錫等を含む市販のキャタリスト原液
(、奥方−、園、工業株:式会、些製、キ、す、1.7
.)A、−、? °、〕′容・ 塩@(3に%)、 /
彎・水、S容から成る触媒液にλ、OCで2分間浸漬
した。
℃で1分間浸漬して残存クロムを除去したのち、塩化パ
ラジウム、塩化第一錫等を含む市販のキャタリスト原液
(、奥方−、園、工業株:式会、些製、キ、す、1.7
.)A、−、? °、〕′容・ 塩@(3に%)、 /
彎・水、S容から成る触媒液にλ、OCで2分間浸漬
した。
次いで硫酸(qg%) / O,θcc/、lの水溶液
中に1IOCで3分間浸漬して活、柱体したのち、硫′
1:・ ・ □ ・
′:(j) 酸銀、ホルムア:、ルデヒド1.ロッセル、塩等を含む
市販の無電解銅液(奥野製薬工業株式会社製無電解銅A
/ 00 )のA液l容、B液l容1.水グ寮からな
る液に一〇、、C4’/S分間浸漬早て無電解銅メッキ
を施した。
中に1IOCで3分間浸漬して活、柱体したのち、硫′
1:・ ・ □ ・
′:(j) 酸銀、ホルムア:、ルデヒド1.ロッセル、塩等を含む
市販の無電解銅液(奥野製薬工業株式会社製無電解銅A
/ 00 )のA液l容、B液l容1.水グ寮からな
る液に一〇、、C4’/S分間浸漬早て無電解銅メッキ
を施した。
しかるのち、エアースプレ二で表面の水、滴を除去し、
toccv±アーぞ−:/ンで79分間乾燥したのち、
室温迄冷却し、アクリル系塗、料で塗装置に0 、リ
・ 。
toccv±アーぞ−:/ンで79分間乾燥したのち、
室温迄冷却し、アクリル系塗、料で塗装置に0 、リ
・ 。
)11
こ?盛形板の、電磁シールド性を測定枠たところ/ 0
0MHz N10N10O0の周塘数r測定。
0MHz N10N10O0の周塘数r測定。
限界域(60〜g、、 O,d、 13 )の電磁r−
)−ド効果が得られた。、、、、、・□ 又保*msとメッキ@件の密着性を、TIS規格I)7
;7(7−〇、、、コニ、、(イー角、イOe、儒)に
基づいてテストしたところ、堡設塗、膜0.)剥離は4
<、 h、 =11 1 明 □ □ 好な密!′シ、1ら9シ、、、、。
)−ド効果が得られた。、、、、、・□ 又保*msとメッキ@件の密着性を、TIS規格I)7
;7(7−〇、、、コニ、、(イー角、イOe、儒)に
基づいてテストしたところ、堡設塗、膜0.)剥離は4
<、 h、 =11 1 明 □ □ 好な密!′シ、1ら9シ、、、、。
なお1.、、、、実施例に、おける電磁シールドの測定
は図面に示すような方法で行なった。
は図面に示すような方法で行なった。
、、、、、、′:
(6〕
実施例コ
たて700m*sよこ100關、厚さ31のABS成形
板に無電解メッキするために実施例1と同様の操作を行
ない、しかるのち硫酸ニッケル、次亜リン酸ソーダ等を
含む市販の無電解ニッケルメッキ液(奥野製薬工業株式
会社製TMP )のA液/容、B液l容、水グ容から成
る無電解ニッケルメッキ液にJSCで5分間浸漬して無
%解ニッケルメッキを行なった。
板に無電解メッキするために実施例1と同様の操作を行
ない、しかるのち硫酸ニッケル、次亜リン酸ソーダ等を
含む市販の無電解ニッケルメッキ液(奥野製薬工業株式
会社製TMP )のA液/容、B液l容、水グ容から成
る無電解ニッケルメッキ液にJSCで5分間浸漬して無
%解ニッケルメッキを行なった。
次いでエアースプレーで表面の水滴を除去し、AOCの
エアーオーブンで10分間乾燥したのち、室温迄冷却し
ウレタン二液型塗料で塗装した。
エアーオーブンで10分間乾燥したのち、室温迄冷却し
ウレタン二液型塗料で塗装した。
この成形板の電磁シールド性を測定したところ、/θO
MHz Ni0N10O0の周波数でtIO−!0eL
Bの電磁シールド効果が得られた。
MHz Ni0N10O0の周波数でtIO−!0eL
Bの電磁シールド効果が得られた。
更に保護塗膜とメッキ膜との密着性を実施例/と同様の
試験方法でテストしたところ、保護塗膜の剥離はなく、
良好な密着性が得らnた。
試験方法でテストしたところ、保護塗膜の剥離はなく、
良好な密着性が得らnた。
(7)
比較例7′ ・
たて10100tよこ/ 00 m+、厚さ′3uのA
BS成形板に実施例1と同様の操作を行なったのち、電
気メツキ工程で電気銅メッキ(/、!itクロン)を行
ない、その上に涌1気ニッケルメッキ(70ミクロン)
を行ない、更にその上に電気クロムメッキ(02ミクロ
ン)を行なった。
BS成形板に実施例1と同様の操作を行なったのち、電
気メツキ工程で電気銅メッキ(/、!itクロン)を行
ない、その上に涌1気ニッケルメッキ(70ミクロン)
を行ない、更にその上に電気クロムメッキ(02ミクロ
ン)を行なった。
次いでエアーを吠きつけて表面の水滴を除去し、60C
のエアーオーブンで70分間乾燥したのち、室温迄冷却
し、アグリル系塗料史塗装した。
のエアーオーブンで70分間乾燥したのち、室温迄冷却
し、アグリル系塗料史塗装した。
この成形板の電磁シールド性は十分な結果が得られたが
、保護塗膜とメッキ膜との密着性について実施例/と同
様の方法でテストしたところSO%〜100%保護塗膜
が剥離した6
、保護塗膜とメッキ膜との密着性について実施例/と同
様の方法でテストしたところSO%〜100%保護塗膜
が剥離した6
図面は電磁シールド性の測定法を説明する略図である□
特許出願人 三菱レイヨン株式会社
手続補正書
1、事件の表示
特願昭Sクー/!;39&を号・
2、発明の名称
′電磁シールド性に優れたプラスチック成形品の製造法
3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都中央区京橋二丁1]3番19号 (603)三菱レイヨン株式会社 :取締役社長
金 澤 脩 三 4、代理人 東京都中央区京橋二丁目3番19号 ・・1
三菱レイヨン株式会社内 (6949)弁理士吉沢敏夫 5、補正命令の口付
1自 発 6、補正の対象 明 細 書 7、補正の内容 明細掛ダ頁ワ行における「多Ill 電解」を1多層無
電解」に訂正する□ 。 ′ (以 上〕
3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都中央区京橋二丁1]3番19号 (603)三菱レイヨン株式会社 :取締役社長
金 澤 脩 三 4、代理人 東京都中央区京橋二丁目3番19号 ・・1
三菱レイヨン株式会社内 (6949)弁理士吉沢敏夫 5、補正命令の口付
1自 発 6、補正の対象 明 細 書 7、補正の内容 明細掛ダ頁ワ行における「多Ill 電解」を1多層無
電解」に訂正する□ 。 ′ (以 上〕
Claims (1)
- プラスチック成形品の表面を化学エツチングし、次いで
無電解メッキを施したのちJ塗料を□用いて塗装仕上げ
することを特徴とする電磁シールド性の優れたプラスチ
ック成形品の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15376482A JPS5943035A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | 電磁シ−ルド性の優れたプラスチツク成形品の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15376482A JPS5943035A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | 電磁シ−ルド性の優れたプラスチツク成形品の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5943035A true JPS5943035A (ja) | 1984-03-09 |
Family
ID=15569616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15376482A Pending JPS5943035A (ja) | 1982-09-03 | 1982-09-03 | 電磁シ−ルド性の優れたプラスチツク成形品の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5943035A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59160390A (ja) * | 1984-02-17 | 1984-09-11 | Hitachi Ltd | カラ−固体撮像装置 |
US5694165A (en) * | 1993-10-22 | 1997-12-02 | Canon Kabushiki Kaisha | High definition image taking apparatus having plural image sensors |
-
1982
- 1982-09-03 JP JP15376482A patent/JPS5943035A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59160390A (ja) * | 1984-02-17 | 1984-09-11 | Hitachi Ltd | カラ−固体撮像装置 |
US5694165A (en) * | 1993-10-22 | 1997-12-02 | Canon Kabushiki Kaisha | High definition image taking apparatus having plural image sensors |
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