JPS5941444B2 - Photopolymerizable composition - Google Patents

Photopolymerizable composition

Info

Publication number
JPS5941444B2
JPS5941444B2 JP8926077A JP8926077A JPS5941444B2 JP S5941444 B2 JPS5941444 B2 JP S5941444B2 JP 8926077 A JP8926077 A JP 8926077A JP 8926077 A JP8926077 A JP 8926077A JP S5941444 B2 JPS5941444 B2 JP S5941444B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
photopolymerizable composition
parts
composition
relief
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP8926077A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5424987A (en
Inventor
道雄 山浦
通介 大江
恒夫 萩原
博志 仲松
喜代己 中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP8926077A priority Critical patent/JPS5941444B2/en
Publication of JPS5424987A publication Critical patent/JPS5424987A/en
Publication of JPS5941444B2 publication Critical patent/JPS5941444B2/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は特定の光重合開始剤とモノチオール誘導体とを
添加することにより、光感度、レリーフの安定なシヨル
ダー形状の成形性及びそれら特性に関する貯蔵安定性の
改良された光重合性組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION By adding a specific photopolymerization initiator and a monothiol derivative, the present invention provides improved photosensitivity, moldability into a stable shoulder shape of relief, and storage stability related to these properties. The present invention relates to a photopolymerizable composition.

一般に、不飽和ポリエステルの如き樹脂とエチレン性二
重結合を有する付加重合性化合物とからなる樹脂組成物
に、光重合開始剤の存在下活性光線を照射することによ
り、該組成物が光重合し、重合架橋した硬化物を形成せ
しめうる事が知られており、かかる硬化物は感光性樹脂
版として印刷分野等に応用されている。
Generally, a resin composition consisting of a resin such as an unsaturated polyester and an addition polymerizable compound having an ethylenic double bond is photopolymerized by irradiating the composition with actinic light in the presence of a photopolymerization initiator. It is known that a cured product can be formed by polymerization and crosslinking, and such a cured product is applied in the printing field as a photosensitive resin plate.

光重合性組成物としては、光感度が高く、成形された樹
脂版のレリーフのシヨルダーが非常に安定していること
が要求され、更にかかる特性が貯蔵中に減退しないこと
、即ち経時による感度及び安定なシヨルダー形状の成形
性の低下のないものが望まれている。
The photopolymerizable composition is required to have high photosensitivity and a very stable shoulder of the relief of the molded resin plate, and also that such properties do not deteriorate during storage, i.e., sensitivity and stability over time. A stable shoulder shape without deterioration in formability is desired.

かかる要件を満足すべく種々の研究が行われ又提案がな
されているが、これら三種の要件を同時に満足する現実
的手段は未だ提案されていない。
Although various studies have been conducted and proposals have been made to satisfy these requirements, no practical means for simultaneously satisfying these three requirements has yet been proposed.

例えば感度を高くすることにより、安定したシヨルダー
形状を与えたとしても、感度の経時的劣下が著るしかつ
たり、組成物の保存安定性が悪くゲル化しやすかつたり
する。又、感度の経時的低下を抑えることは甚だ困難で
あり、その為には常に不活性気体中に保存するか、ガス
バリヤー性のプラスチック製、ガラス製又は金属製の容
器に密閉しなければならず、実用的でない。光重合性組
成物のかかる欠点を改良しようとするものとして特開昭
50−117502号が、本発明者らは更にそれを改良
すべく鋭意研究した結果本発明に到達したものである。
For example, even if a stable shoulder shape is provided by increasing the sensitivity, the sensitivity deteriorates markedly over time, and the storage stability of the composition is poor and it tends to gel. In addition, it is extremely difficult to suppress the decrease in sensitivity over time, and for this purpose, it is necessary to always store it in an inert gas or seal it in a gas-barrier plastic, glass, or metal container. It's not practical. JP-A-50-117502 is an attempt to improve such drawbacks of photopolymerizable compositions, and the present inventors have arrived at the present invention as a result of intensive research to further improve the problem.

即ち本発明は a)光重合開始剤としての下記一般式(I)式
八〔但し式中、H,Cl,Cl〜C5のアルキル基、C
1〜C5のアルコキシ基を、Aは6員の芳香族基を、R
はC1〜C,Oのアルキル基、C7〜C,のアラルキル
基、又は−(−CnH2nO+RIlRl基を示す。
That is, the present invention provides a) the following general formula (I) as a photopolymerization initiator:
8 [However, in the formula, H, Cl, Cl to C5 alkyl group, C
1 to C5 alkoxy group, A is a 6-membered aromatic group, R is
represents a C1 to C, O alkyl group, a C7 to C, aralkyl group, or a -(-CnH2nO+RIlRl group).

ここにnは2〜5の整数、mは1〜5の整数、R1はC
1〜C5のアルキル基を示す。〕で表わされる化合物と
、b)複素環状モノチオール誘導体及び/又は芳香族モ
ノチオール誘導体とを含有する事を特徴とするエチレン
性二重結合を有する付加重合性化合物及び可溶性ポリマ
ーとから主としてなる光重合性組成物である。
Here, n is an integer of 2 to 5, m is an integer of 1 to 5, and R1 is C
Indicates a 1-C5 alkyl group. ] and b) an addition polymerizable compound and a soluble polymer having an ethylenic double bond, characterized by containing a heterocyclic monothiol derivative and/or an aromatic monothiol derivative. It is a polymerizable composition.

本発明における前記一般式(1)で表わされる化合物と
しては、例えば下記式で表わされるベンジル(Benz
il)の一個のカルボニル基がケタールに転化したもの
に相当する化合物(必ずしも、この製造方法によらなく
てもよい。
Examples of the compound represented by the general formula (1) in the present invention include benzyl (Benzyl) represented by the following formula.
Compounds corresponding to il) in which one carbonyl group is converted to a ketal (not necessarily produced by this method).

)が挙げられ、例えば下記式で表わされるベンジルジメ
チルケタールの他に、ベンジルージ(β−フエニルール
エチノレ)ケタール、ベンジルジエチルケタール、ベン
ジルジプロピルケタール、ベンジルージ(2−メトキシ
エチル)ケタール、ベンジルージ(2−エトキシメチル
)ケタール、ベンジルージ(2−メトキシエトキシエチ
ル)ケタール、ベンジルージ(2−エトキシエトキシエ
チノ(ハ)ケタール、4,4′−ジメチルベンジル−ジ
メチルケタール、2,21−ジメトキシベンジル−ジエ
チルケタール、4,4′−ジクロロベンジルジメチルケ
タール等があげられる。
), for example, in addition to benzyl dimethyl ketal represented by the following formula, benzyl di(β-phenyrule ethinole) ketal, benzyl diethyl ketal, benzyl dipropyl ketal, benzyl di(2-methoxyethyl) ketal, benzyl di( 2-ethoxymethyl)ketal, benzyludi(2-methoxyethoxyethyl)ketal, benzyludi(2-ethoxyethoxyethino(ha)ketal, 4,4'-dimethylbenzyl-dimethylketal, 2,21-dimethoxybenzyl-diethyl ketal, Examples include 4,4'-dichlorobenzyl dimethyl ketal.

これらの内で好ましいものは、一般式(1)のRが+C
nH2。O−)−.で示される化合物であり、特にベン
ジルージ(2−メトキシエチル)ケタールである。これ
ら光重合開始剤は単一又は二種以上混合してもよい。又
従来公知の光重合開始剤をa)と共に用いてもよい。か
かる光重合開始剤としては、ベンゾインメチルエーテル
、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピル
エーテル、ベンゾインイソブチルエーテルの如きベンゾ
イン誘導体、アンスラキノン、エチルアンスラキノンの
如きアンスラキノン類、ベンゾフエノン類、エオシン、
フルオレツセンの如き色素類があげられる。これら光重
合開始剤は通常光重合性組成物100重量部に対して0
.01〜10.0重量部の割合で用いられる。
Among these, preferable ones are those in which R in general formula (1) is +C
nH2. O-)-. It is a compound represented by, especially benzyludi(2-methoxyethyl)ketal. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Further, a conventionally known photopolymerization initiator may be used together with a). Such photopolymerization initiators include benzoin derivatives such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether, anthraquinones such as anthraquinone and ethyl anthraquinone, benzophenones, eosin,
Examples include pigments such as fluorescein. These photopolymerization initiators are usually used at 0% per 100 parts by weight of the photopolymerizable composition.
.. It is used in a proportion of 0.01 to 10.0 parts by weight.

次に第2の構成成分としてのb)の例としては先づ複素
環状モノチオール誘導体として、2−メルカプトベンゾ
チアゾール、それ自身又はメチル基、エチル基、イソプ
ロピル基等のアルキル基やニトロ基、ハロゲン原子等で
核置換された2−メルカプトベンゾチアゾールの誘導体
;2−メルカプトペンゾオキサゾールそれ自身又はメチ
ル基、エチル基、イソプロピル基等のアルキル基やニト
ロ基、ハロゲ7原子等で核置換された20,メルカプト
ベンゾオキサゾールの誘導体:2−メルカプトベンゾイ
ミダゾール、及びN−メチル−2−メルカプトベンゾイ
ミダゾール、N−エチル−2−メルカプトベンゾイミダ
ゾール、N−イソプロピル−2−メルカプトベンゾイミ
ダゾール、N−フエニル一2−メルカプトベンゾイミダ
ゾール等の2−メルカプトベンゾイミダゾールのN置換
誘導体;更にメチル基、エチル基、イソプロピル基等の
アルキル基やニトロ基、ハロゲン原子等による核置換さ
れた2−メルカプトベンゾイミダゾールの誘導体;2−
メルカプトチアゾール、2−メルカプトイミダゾール及
びN−アルキル、アリル置換誘導体;更に上記複素環状
モノチオール誘導体のナトリウム、カリウム、カルシウ
ム、亜鉛等の金属塩誘導体があげられる。
Next, as an example of b) as the second component, first, as a heterocyclic monothiol derivative, 2-mercaptobenzothiazole itself or an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a nitro group, a halogen Derivatives of 2-mercaptobenzothiazole whose nucleus is substituted with an atom, etc.; 2-mercaptobenzoxazole itself or whose nucleus is substituted with an alkyl group such as a methyl group, ethyl group, isopropyl group, a nitro group, a halogen 7 atom, etc. , derivatives of mercaptobenzoxazole: 2-mercaptobenzimidazole, and N-methyl-2-mercaptobenzimidazole, N-ethyl-2-mercaptobenzimidazole, N-isopropyl-2-mercaptobenzimidazole, N-phenyl-2- N-substituted derivatives of 2-mercaptobenzimidazole such as mercaptobenzimidazole; Derivatives of 2-mercaptobenzimidazole further substituted with a nucleus such as an alkyl group such as a methyl group, ethyl group, or isopropyl group, a nitro group, or a halogen atom; 2-
Examples include mercaptothiazole, 2-mercaptoimidazole, and N-alkyl and allyl substituted derivatives; and metal salt derivatives of the above-mentioned heterocyclic monothiol derivatives, such as sodium, potassium, calcium, and zinc.

就中特に好ましい化合物としては2−メルカプトベンゾ
チアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−
メルカプトベンゾイミダゾール及びこれらの金属塩、核
置換体をあげる事が出来る。又芳香族モノチオール誘導
体としてはチオフエノール、2−ニトロチオフエノール
、チオナフトール、チオサリチル酸、チオサリチル酸の
脂肪族、芳香族エステル、メルカプト安息香酸、メルカ
プト安息香酸の脂肪族、芳香族エステル、金属塩誘導体
等をあげる事が出来る。これらに単独でも或いは二種以
上混合して使用してもよい。
Particularly preferred compounds include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, and 2-mercaptobenzothiazole.
Examples include mercaptobenzimidazole, metal salts thereof, and nuclear substituted products. Examples of aromatic monothiol derivatives include thiophenol, 2-nitrothiophenol, thionaphthol, thiosalicylic acid, aliphatic and aromatic esters of thiosalicylic acid, mercaptobenzoic acid, aliphatic and aromatic esters of mercaptobenzoic acid, and metal salts. Derivatives etc. can be listed. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明においては、上記の如きモノチオール誘導体を使
用することに特徴があり、これを、トリレン一24−ジ
チオールやラウリルメルカプタンの如き、多価チオール
類とすると、光重合性組成物の貯蔵安定性が悪くなり、
ゲル化しやすくなる。
The present invention is characterized by the use of monothiol derivatives as described above, and when polyvalent thiols such as tolylene-24-dithiol and lauryl mercaptan are used, the storage stability of the photopolymerizable composition is improved. becomes worse,
It becomes easier to gel.

以上の如きモノチオール誘導体の使用量は光重合性組成
物100重量部に対して0.001〜5重量部である。
The amount of the above monothiol derivative used is 0.001 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the photopolymerizable composition.

勿論組成物の使用目的に応じて適宜その使用量を決めれ
ばよいわけであるが使用量が0.001重量部より少い
場合は感度の向上、レリーフシヨルダ一形状の安定化に
対する効果が少く、5重量部より多い場合は組成物との
相溶性が充分でなくなる等の理由で好ましくない。次に
本発明において使用されるエチレン性二重結合を有する
附加重合性化合物は常温常圧で液体状乃至固体状を呈し
、光重合開始剤の存在下活性光線の照射により重合反応
する事の出来る化合物である。
Of course, the amount to be used can be determined as appropriate depending on the intended use of the composition, but if the amount used is less than 0.001 parts by weight, the effect on improving sensitivity and stabilizing the shape of the relief shoulder will be small. If the amount is more than 5 parts by weight, it is not preferable because the compatibility with the composition becomes insufficient. Next, the addition polymerizable compound having an ethylenic double bond used in the present invention exhibits a liquid or solid state at room temperature and normal pressure, and can undergo a polymerization reaction by irradiation with actinic light in the presence of a photopolymerization initiator. It is a compound.

かかる付加重合性化合物は通常単独で用いられる事は少
く、各種の可溶性ポリマーと共存する状態で用いられる
Such addition-polymerizable compounds are rarely used alone, but are used in the coexistence of various soluble polymers.

可溶性ポリマーとは付加重合性化合物と相溶性のある高
分子結合剤であり、常温で液状であつても固体状であつ
てもよい。従つて可溶性ポリマーの性状及び使用量如何
によつて組成物全体が常温で液体状を示したり、固体状
を示したりするが、本発明においてはこれにこだわらず
いづれも本発明の効果が期特出来る。更に使用される可
溶性ポリマーにも付加重合性化合物の官能基(エチレン
性二重結合)と光重合開始剤の存在下で活性光線の照射
により反応する官能基とがあれば好ましい。ここにエチ
レン性二重結合を有する付加重合性化合物としては、ア
クリル酸、メチルアクリレート、エチルアクリレート、
ラウリルアクリレート、フエニールアクリレート等のア
クリル酸のモノエステル類、エチレングリコールジアタ
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、プ
ロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレング
リコールジアクリレート等のグリコールのジアクリル酸
エステル、グリセリントリアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート特のトリオールのトリアク
リル酸エステル、更にポリオールのポリアクリル酸エス
テル、及びこれらに対応するメタアタリレート類であり
、更にアクリルアミド、メタアクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、
N,Nメリレンビスアクリルアミド、N−ブトキシメチ
ルアクリルアミド等のアクリルアミド誘導体、酢酸ビニ
ール、スチレン、ビニールトルエン、ジアリルフタレー
ト、ジアリルイソフタレート、トリアリルシアヌレート
等をあげる事が出来る。
The soluble polymer is a polymeric binder that is compatible with the addition polymerizable compound, and may be liquid or solid at room temperature. Therefore, depending on the properties of the soluble polymer and the amount used, the composition as a whole may exhibit a liquid state or a solid state at room temperature, but the present invention is not limited to this, and the effects of the present invention can be expected in any case. I can do it. Furthermore, it is preferable that the soluble polymer used also has a functional group that reacts with the functional group (ethylenic double bond) of the addition polymerizable compound by irradiation with actinic rays in the presence of a photopolymerization initiator. Examples of addition polymerizable compounds having an ethylenic double bond include acrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate,
Acrylic acid monoesters such as lauryl acrylate and phenyl acrylate, glycol diacrylate esters such as ethylene glycol diarylate, polyethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, and polypropylene glycol diacrylate, glycerin triacrylate, and trimethylol propane. Triacrylates, particularly triacrylic esters of triols, polyacrylic esters of polyols, and meta-acrylates corresponding to these, as well as acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, diacetone acrylamide,
Examples include acrylamide derivatives such as N,N marylene bisacrylamide and N-butoxymethylacrylamide, vinyl acetate, styrene, vinyl toluene, diallyl phthalate, diallyl isophthalate, and triallyl cyanurate.

これらのエチレン性二重結合を有する付加重合性化合物
は単独で又は二種以上混合して使用する事が可能である
。可溶性ポリマーとしては、前述の如く附加重合性化合
物と相溶性のよいものを選ぶ必要があるが、附加重合性
化合物の種類に応じて、ポリアミド樹脂、ポリエステル
樹脂、エポキシ樹脂、ポリメチルメタアクリレート樹脂
、酢酸セルローズ、ポリビニールアルコール及びこれら
の誘導体又は共重合体を使用することが出来る。
These addition polymerizable compounds having an ethylenic double bond can be used alone or in combination of two or more. As the soluble polymer, it is necessary to select one that has good compatibility with the addition polymerizable compound as described above, but depending on the type of addition polymerizable compound, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, polymethyl methacrylate resin, Cellulose acetate, polyvinyl alcohol and derivatives or copolymers thereof can be used.

更に上記可溶性ポリマーの中でもエチレン性二重結合を
有する高分子化合物、例えば不飽和ポリエステル樹脂、
不飽和ポリアミド樹脂、不飽和ポリウレタン樹脂、ポリ
ブタジエン樹脂及びこれらとスチレン、アクリルニトリ
ル等との共重合体等が好ましい。又、硬化後の物性向上
の為に本発明の光重合性組成物に充填剤を加えたり、可
撓性付与のために可塑剤等を加える事も出来る。
Furthermore, among the above-mentioned soluble polymers, polymer compounds having ethylenic double bonds, such as unsaturated polyester resins,
Preferred are unsaturated polyamide resins, unsaturated polyurethane resins, polybutadiene resins, and copolymers of these with styrene, acrylonitrile, and the like. Further, a filler may be added to the photopolymerizable composition of the present invention to improve the physical properties after curing, and a plasticizer or the like may be added to the photopolymerizable composition to impart flexibility.

本発明においては組成物の保存性を更に向上させるため
に公知の重合禁止剤を使用する事が出来る。
In the present invention, known polymerization inhibitors can be used to further improve the storage stability of the composition.

例えば、フエノール類、ハイドロキノン類、キノン類、
アミン類及びN−ニトロソアミン類をあげる事が出来る
。特にニトロンアミン類が好ましい。これらの保存安定
剤は光硬化反応速度に影響を与える事が少く、単に保存
時の熱による反応を抑制、防止することに必要なだけ添
加され、その量は光重合性組成物100重量部に対して
0.001〜1.0重量部の範囲である。本発明の光重
合性組成物は前述した各成分を充分に混合することによ
つて得られる。
For example, phenols, hydroquinones, quinones,
Mention may be made of amines and N-nitrosamines. Particularly preferred are nitrone amines. These storage stabilizers have little effect on the photocuring reaction rate, and are added in the amount necessary to simply suppress or prevent reactions caused by heat during storage, and the amount is 100 parts by weight of the photopolymerizable composition. It is in the range of 0.001 to 1.0 parts by weight. The photopolymerizable composition of the present invention can be obtained by thoroughly mixing the above-mentioned components.

該組成物が固体の場合には、溶媒に溶解してからシート
状に成形する方法、熱ロールや圧延によつてシート状に
成形する方法等により実施しうる。いづれもアルミ、鉄
板等の金属板、ポリエチレンテレフタレート等のプラス
チツタシート等の支持体にこれらを塗布し感光性を有す
る素材として用いる事が出来る。又組成物が液体の場合
も同様に支持体に塗布して使用する事が出来る。
When the composition is solid, the composition can be formed by dissolving it in a solvent and then forming it into a sheet, or by forming it into a sheet by hot rolls or rolling. They can be used as photosensitive materials by coating them on a support such as a metal plate such as aluminum or iron plate, or a plastic sheet made of polyethylene terephthalate or the like. Furthermore, even when the composition is a liquid, it can be used by coating it on a support in the same manner.

本発明の光重合性組成物を印刷原版の製造用に使用する
には鉄、鋼板、アルミニユーム等の金属板、天然ゴム、
合成ゴム等のゴムシート、ポリエチレンテレフタレート
等のプラスチツクシートを支持体として、その上に光重
合性組成物を0.2〜数ミリメートルの厚さの層に形成
するのが好都合である。
In order to use the photopolymerizable composition of the present invention for producing printing plates, iron, steel plates, metal plates such as aluminum, natural rubber,
It is convenient to use a rubber sheet such as synthetic rubber or a plastic sheet such as polyethylene terephthalate as a support and form the photopolymerizable composition thereon in a layer having a thickness of 0.2 to several millimeters.

該層は必要ならば接着層を介して支持体と接着させても
よい。次いで画線部を有するネガフイルム、又はポジフ
イルムを通して活性光線を照射し光重合性組成物を硬化
させる。この光硬化させるに必要な時間、即ち露光時間
は通常数分〜十数分であるが、本発明の光重合性組成物
を用いると感度が高いためにその時間が大幅に短縮され
、且つレリーフのシヨルダ一形状が、裾ひろがりの台形
即ち富士山形をしており、充分位刷に耐えうるレリーフ
を形成する事が出来る。露光のための光源には光重合性
組成物の性質に応じタングステン電球、キセノンランプ
、水銀灯、化学用蛍光灯等を使用出来るが200〜70
0mμの紫外線に富む活性光線を放出するものが好まし
い。
The layer may be adhered to the support via an adhesive layer if necessary. Next, the photopolymerizable composition is cured by irradiating actinic rays through a negative film or a positive film having an image area. The time required for this photocuring, that is, the exposure time, is usually from several minutes to more than ten minutes, but when the photopolymerizable composition of the present invention is used, this time is significantly shortened due to its high sensitivity. The shape of the shoulder is a trapezoid with a wide base, that is, the shape of Mt. Fuji, and it is possible to form a relief that can withstand sufficient printing. Depending on the properties of the photopolymerizable composition, a tungsten bulb, xenon lamp, mercury lamp, chemical fluorescent lamp, etc. can be used as a light source for exposure;
Those that emit actinic rays rich in ultraviolet rays of 0 mμ are preferable.

未露光の非画線部は希アルカリ水溶液(例えば炭酸ソー
ダ、苛性ソーダ水溶液)、有機溶剤等で洗滌除去される
The unexposed non-image area is removed by washing with a dilute alkaline aqueous solution (eg, soda carbonate, caustic soda aqueous solution), organic solvent, or the like.

次いで乾燥する事により強靭なレリーフを有する印刷原
版が得られる。本発明の光重合性組成物を使用して印刷
用原版を作製する場合、従来の光重合性組成物に比し感
度が高いので露光時間が大幅に短縮されるので、印刷用
原版を得る工程の時間短縮となり生産性が大きく向上す
る。
Then, by drying, a printing original plate having a strong relief can be obtained. When producing a printing original plate using the photopolymerizable composition of the present invention, the sensitivity is higher than that of conventional photopolymerizable compositions, so the exposure time is significantly shortened. This reduces time and greatly improves productivity.

その上光重合性組成物の感度及びレリーフの安定なシヨ
ルダ一形状形成性の経時変化も、後記実施例の如く従来
のものより少くなつており、実用的面から見て、極めて
有用である。更に光重合゛囲組成物より得られた光硬化
レリーフのシヨルダ一形状が極めて安定であり、即ちレ
リーフ頭頂部面積に比し、そのレリーフ基部の支持体と
の接着面積が極めて大きく、印刷時、レリーフにかかる
印刷ローラによる外力に対し充分な抵抗性を示し、レリ
ーフの脱落、折れ等即ちレリーフ欠損がなくなる。本発
明の光重合性組成物を活性光線の照射によつて硬化せし
めると、硬化されたレリーフは引張強度100kg/〜
以上、シヨア硬度(Dスケール)50度以上を有し、寸
法安定性が優れている上に、アルコール、アセトン、ベ
ンゼン等の如き有機溶剤に対する耐膨潤性も良好である
ので、繊細な画線を忠実に再現する事が出来精密印刷、
カラー印刷用原版として有用である。
Moreover, the sensitivity of the photopolymerizable composition and the ability to form a stable shoulder shape with relief over time change less than those of conventional compositions, as shown in the Examples described later, and are extremely useful from a practical standpoint. Furthermore, the shape of the shoulder of the photocured relief obtained from the photopolymerized surrounding composition is extremely stable, that is, the area of the base of the relief adhering to the support is extremely large compared to the area of the top of the relief. It exhibits sufficient resistance to the external force exerted on the relief by the printing roller, and there is no possibility of relief falling off, folding, etc., that is, relief loss. When the photopolymerizable composition of the present invention is cured by irradiation with actinic rays, the cured relief has a tensile strength of 100 kg/~
As mentioned above, it has a Shore hardness (D scale) of 50 degrees or more, has excellent dimensional stability, and has good swelling resistance against organic solvents such as alcohol, acetone, benzene, etc., so it can print delicate lines. Precision printing allows for faithful reproduction,
It is useful as an original plate for color printing.

本発明の光重合性組成物は印刷用原版、フレキングラフ
版等の印刷関係以外にも、例えば塗料、接着剤、ディス
プレ一、レンズ、フオトレジスト等広範囲の用途に使用
出来る。
The photopolymerizable composition of the present invention can be used in a wide range of applications, such as paints, adhesives, displays, lenses, and photoresists, in addition to printing materials such as printing original plates and flexible graph plates.

以下本発明を実施例により詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below with reference to Examples.

なお実施例中の「部」は[重量部]を意味し、酸価は組
成物1グラムを中和するに要する水酸化カリウムのミリ
グラム数である。実施例 1 フマール酸226部、無水トリメリツト酸58部、アジ
ピン酸110部及びジエチレングリコール286部を窒
素雰囲気下100〜120℃で0.5時間次いで200
℃で4時間反応させて酸価120の不飽和ポリエステル
を合成した。
Note that "part" in the examples means [part by weight], and the acid value is the number of milligrams of potassium hydroxide required to neutralize 1 gram of the composition. Example 1 226 parts of fumaric acid, 58 parts of trimellitic anhydride, 110 parts of adipic acid and 286 parts of diethylene glycol were heated at 100 to 120° C. for 0.5 hours under a nitrogen atmosphere, and then heated to 200
The reaction was carried out at ℃ for 4 hours to synthesize an unsaturated polyester having an acid value of 120.

この不飽和ポリエステル65部、メタアクリルアミド1
0部、トリエチレングリコールジメタアクリレート25
部、ベンジルメチルケタール1部、2一メルカプトベン
ゾイミダゾール0.045部及びNニトロソジフエニー
ルアミン0.02部を混合して光重合性組成物を得た。
得られた光重合性組成物及びこれを30℃定温乾燥機中
で開放系容器に入れて後記第一表に示す時間放置した物
を次の方法により光重合のための露光処理、未露光部の
洗滌除去及び乾燥を行つて凸版印刷用原版を得た。
65 parts of this unsaturated polyester, 1 part of methacrylamide
0 parts, triethylene glycol dimethacrylate 25
1 part of benzyl methyl ketal, 0.045 part of 2-mercaptobenzimidazole, and 0.02 part of N-nitrosodiphenylamine were mixed to obtain a photopolymerizable composition.
The obtained photopolymerizable composition and the product that was placed in an open container in a constant temperature dryer at 30°C and left for the time shown in Table 1 below were exposed to light for photopolymerization and the unexposed areas were subjected to the following method. A letterpress printing original plate was obtained by washing and drying.

即ち水平に設置したガラス板上にネガフイルムを置き、
その上に厚さ12ミクロンのポリエチレンテレフタレー
トフイルムを密着して重ね、更にその上に前記組成物を
0.7mmの厚さに塗布した。
In other words, place the negative film on a glass plate set horizontally,
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 microns was laminated thereon, and the composition was further coated thereon to a thickness of 0.7 mm.

次にこの組成物の上にハレーシヨン防止層及び接着層を
有する0.3mmの鋼板を重ね、ガラス面より60W紫
外線蛍光灯3本を組合せた光源を用いて、ネガフイルム
の光の透過率4%の網点が接着するに要する時間だけ露
光した。次に未露光部を希アルカリ水溶液で洗滌除去し
た後乾燥し強籾なレリーフを有する樹脂版を得た。光重
合性組成物の感度及び、光硬化により得られた成型板の
直径180μの独立点レリーフのシヨルダ一形状及び、
経時変化せしめた光重合性組成物の上記各特性を第一表
に示す。
Next, a 0.3 mm steel plate with an anti-halation layer and an adhesive layer was placed on top of this composition, and a light source of three 60W ultraviolet fluorescent lamps was used from the glass surface to expose the negative film to a light transmittance of 4%. It was exposed for only the time required for the halftone dots to adhere. Next, the unexposed areas were removed by washing with a dilute alkaline aqueous solution and then dried to obtain a resin plate with tough relief. The sensitivity of the photopolymerizable composition, the shoulder shape of the isolated point relief with a diameter of 180μ of the molded plate obtained by photocuring, and
Table 1 shows the above characteristics of the photopolymerizable composition that was changed over time.

ここでは感度として、ネガフイルムの光の透過率4%の
網点が接着するに要する時間の逆数(1/分)を用いた
Here, the reciprocal number (1/min) of the time required for the halftone dots of the negative film having a light transmittance of 4% to adhere is used as the sensitivity.

又、シヨルダ一形状は、レリーフ頭頂部の面積(ネガの
独立点の大きさに対応する)Stとし、レリーフ基部の
支持体との接着面積Sbとして、V?百/Stで表わし
た。!百?/Stの値が大であることは、レリーフのシ
ヨルダ一形状が安定していることを表わす。比較例1と
して、ベンジルジメチルケタールの代りにベンゾインエ
チルエーテルを用いて、実施例1と同様に行つた。第一
表より実施例1は比較例1に比べて感度が高く、レリー
フのシヨルダ一形状が大であり、且つ感度、シヨルダ一
形状の経時変化も少く良好である事がわかる。
In addition, the shape of the shoulder is defined by the area of the top of the relief head (corresponding to the size of the independent point of the negative) St, and the adhesive area Sb of the base of the relief with the support body, V? Expressed in 100/St. ! hundred? A large value of /St indicates that the shoulder shape of the relief is stable. Comparative Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1, using benzoin ethyl ether instead of benzyl dimethyl ketal. From Table 1, it can be seen that Example 1 has higher sensitivity than Comparative Example 1, the shape of the shoulder of the relief is larger, and the change in sensitivity and shape of the shoulder over time is small and good.

実施例 2 実施例1において合成した不飽和ポリエステル60部、
メタアクリルアミド10部、テトラエチレングリコール
15部、ポリエチレングリコール400部、ジメタアク
リレート15部、ベンジルジメチルケタール0.7部、
N−ニトロンフエニールナフチルアミン0.018部及
び第2表に示す如きモノチオール誘導体を用いて光重合
組成物を得た。
Example 2 60 parts of unsaturated polyester synthesized in Example 1,
10 parts of methacrylamide, 15 parts of tetraethylene glycol, 400 parts of polyethylene glycol, 15 parts of dimethacrylate, 0.7 parts of benzyl dimethyl ketal,
A photopolymerizable composition was prepared using 0.018 part of N-nitron phenylnaphthylamine and monothiol derivatives as shown in Table 2.

次に実施例1と同様の方法で樹脂版を作成し、得られた
結果を第2表に示す。比較例としてモノチオール誘導体
を使用しないでN−ニトロンフエニールナフチルアミン
0.006部を使用して得られた結果を同じく第2表に
示す。第2表よりいづれもモノチオール誘導体を用いた
場合は、これを用いない比較例2に比し、感度が高く、
レリーフのシヨルダ一形状が大であり、且つ感度の経時
変化も少く良好である事がわかる。
Next, a resin plate was prepared in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2. As a comparative example, the results obtained using 0.006 part of N-nitron phenylnaphthylamine without using the monothiol derivative are also shown in Table 2. From Table 2, when monothiol derivatives are used, the sensitivity is higher than in Comparative Example 2, which does not use monothiol derivatives.
It can be seen that the shape of the shoulder of the relief is large, and that the change in sensitivity over time is small and good.

実施例 3実施例1で合成した不飽和ポリエステル63
部、アクリルアミド8部、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、ポリエチレングリコール600、ジメ
タアクリレート7部、ジアクリルフタレート12部、下
表のベンジルケタール誘導体1部、2−メルカプトベン
ザオキサゾール0.03部及びN−ニトロソジフエニー
ルアミン0.015部を用いて光重合゛註組成物を得た
Example 3 Unsaturated polyester 63 synthesized in Example 1
parts, acrylamide 8 parts, tetraethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol 600, dimethacrylate 7 parts, diacrylphthalate 12 parts, benzyl ketal derivatives shown in the table below 1 part, 2-mercaptobenzaoxazole 0.03 part and N-nitroso A photopolymerizable composition was obtained using 0.015 parts of diphenylamine.

これを実施例1と同様の方法で樹脂版を作成し、得られ
た結果を第3表に示す。比較例としてベンジルケタール
誘導体を用いない結果を同じく第3表に示す。第3表に
よれば、ベンジルケタール誘導体を用いずモノチオール
誘導体だけの場合、全く光硬化しないが両者を共に用い
た場合は感度が高く、ヨルダ一形状が大であり良好な結
果を示す。
A resin plate was prepared from this in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 3. Table 3 also shows the results obtained without using the benzyl ketal derivative as a comparative example. According to Table 3, when only the monothiol derivative is used without using the benzyl ketal derivative, there is no photocuring at all, but when both are used together, the sensitivity is high and the Yorda monomorphism is large, showing good results.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 a)光重合開始剤としての下記一般式(1)▲数式
、化学式、表等があります▼・・・(1)〔但し式中、
XはH、cl、C_1〜C_5のアルキル基、C_1〜
C_5のアルコキシ基を示し、Aは6員の芳香族基を示
し、RはC_1〜C_1_0のアルキル基、C_7〜C
_9のアラルキル基、又は▲数式、化学式、表等があり
ます▼基を示す。 ここにnは2〜5の整数mは1〜5の整数、R^1はC
_1〜C_5のアラルキル基を示す。 〕で表わされる化合物と、 b)複素環状モノチオール誘導体及び/又は芳香族モノ
チオール誘導体とを含有することを特徴とするエチレン
性二重結合を有する附加重合性化合物及び可溶性ポリマ
ーとから主としてなる光重合性組成物。
[Claims] 1 a) The following general formula (1) as a photopolymerization initiator ▲ There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼... (1) [However, in the formula,
X is H, cl, alkyl group of C_1 to C_5, C_1 to
C_5 represents an alkoxy group, A represents a 6-membered aromatic group, R represents a C_1 to C_1_0 alkyl group, C_7 to C
Indicates the aralkyl group of _9 or the ▼ group with mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. Here, n is an integer from 2 to 5, m is an integer from 1 to 5, and R^1 is C
Indicates an aralkyl group of _1 to C_5. ] and b) an addition-polymerizable compound having an ethylenic double bond and a soluble polymer characterized by containing a heterocyclic monothiol derivative and/or an aromatic monothiol derivative. Polymerizable composition.
JP8926077A 1977-07-27 1977-07-27 Photopolymerizable composition Expired JPS5941444B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8926077A JPS5941444B2 (en) 1977-07-27 1977-07-27 Photopolymerizable composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8926077A JPS5941444B2 (en) 1977-07-27 1977-07-27 Photopolymerizable composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5424987A JPS5424987A (en) 1979-02-24
JPS5941444B2 true JPS5941444B2 (en) 1984-10-06

Family

ID=13965777

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8926077A Expired JPS5941444B2 (en) 1977-07-27 1977-07-27 Photopolymerizable composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5941444B2 (en)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5892411A (en) * 1981-11-30 1983-06-01 Asahi Medical Kk Semi-permeable membrane and module using same
JPS59193102A (en) * 1983-04-16 1984-11-01 Asahi Medical Kk Selectively permeable hollow yarn
JPS60252602A (en) * 1984-05-29 1985-12-13 Mitsui Petrochem Ind Ltd Photosetting composition
US4777190A (en) * 1985-05-13 1988-10-11 Mitsubishi Rayon Company Limited Photopolymerizable composition based on a vinyl compound, a sulfur-containing compound and an α-diketone
KR910000199B1 (en) * 1986-04-15 1991-01-23 시바-가이기 코오포레이숀 Liquid blend of photoinitiator
US5288917A (en) * 1986-04-15 1994-02-22 Ciba-Geigy Corporation Liquid photoinitiator mixtures
US5202025A (en) * 1989-04-12 1993-04-13 Terumo Kabushiki Kaisha Porous membrane and method for preparing the same
CA2015894A1 (en) * 1989-05-30 1990-11-30 Mohammad Z. Ali High sensitivity photopolymerizable compositions containing hydrogen donating mercaptans
JPH0714944B2 (en) * 1992-09-22 1995-02-22 塩野義製薬株式会社 Concentration method of β-lactam compound solution

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5424987A (en) 1979-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2757375B2 (en) Photopolymerizable composition
US4410621A (en) Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan
US4459349A (en) Photosensitive resin composition
CA1317501C (en) Liquid photoinitiator mixtures
FI87226B (en) POLYMER ANALOGUE MODIFIED POLYMER.
JPS5823616B2 (en) photosensitive polymer composition
JP2758179B2 (en) Photopolymerizable mixtures and photopolymerizable recording materials
JPH0273813A (en) Photopolymerizable mixture and photopolymerizable recording medium
AU611721B2 (en) Improved composition
JPS5941444B2 (en) Photopolymerizable composition
US3832188A (en) Photosensitive polyamide compositions
US4168981A (en) Bis(substituted amino)sulfides as reversible inhibitor sources for photopolymerization
JPS5810737A (en) Photosensitive resin composition
JPS5965090A (en) 10-phenyl-1,3,9-triazaanthracene and photopolymerizable mix-ture
US3890150A (en) Photosensitive compositions including aromatic bis-acrylic derivatives
JPS5911096B2 (en) Photosensitive composition for resin letterpress
JPS6031322B2 (en) Highly sensitive photocurable composition
JPS604502A (en) Photopolymerization initiator
JPS60166306A (en) Photo-polymerization initiator
JPH04204438A (en) High molecular photosensitizer
JPH04184344A (en) Photopolymerizable composition
JPS62950A (en) Material for photosensitive resin plate
JPH08297367A (en) Photopolymerizable composition
JPH0588244B2 (en)
JPS6052420B2 (en) Support plate for liquid photosensitive resin plate