JPS5941170B2 - thin film light switch - Google Patents

thin film light switch

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JPS5941170B2
JPS5941170B2 JP301376A JP301376A JPS5941170B2 JP S5941170 B2 JPS5941170 B2 JP S5941170B2 JP 301376 A JP301376 A JP 301376A JP 301376 A JP301376 A JP 301376A JP S5941170 B2 JPS5941170 B2 JP S5941170B2
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JP
Japan
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thin film
light
azobenzene
substrate
refractive index
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JP301376A
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盛男 小林
嘉則 加藤
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光通信システムや光情報処理システムに用いら
れる薄膜光スイッチに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a thin film optical switch used in optical communication systems and optical information processing systems.

15従来薄膜スイッチとして第1図及び第2図に示す如
く、電界をかけることによつて屈折率が変化する性質を
有する基板1上に光を伝播せしめ得る例えばガラス、酸
化亜鉛等の薄膜2が附され、而してこの薄膜2内にプリ
ズム3を介して光Lを入20射せしめてこの光を薄膜2
内に、これと基板1とのなす境面及びこの薄膜2とこの
上面側の媒質とのなす境面間で反射せしめ乍ら伝播せし
め、次でプリズム4を介して外部に出射せしめ、その出
射光υをスリット5を通じて外部光回路6に到達せ25
しめる様になされ、一方基板1の相対向する面上に夫々
電極T及び8が附され而して両者間にりード9及び10
を介して電源(図示せず)より所要の電圧を印加せしめ
て基板1に電界をかけ、これによりこの基板1の屈折率
を変化せしめる様にな30された構成のものが提案され
ている。
15 As shown in FIGS. 1 and 2, a conventional thin film switch includes a thin film 2 made of, for example, glass or zinc oxide that can propagate light on a substrate 1 whose refractive index changes when an electric field is applied. The light L is applied to the thin film 2 through the prism 3, and this light is transmitted to the thin film 2.
The light is reflected and propagated between the interface between this and the substrate 1 and the interface between the thin film 2 and the medium on the upper surface side, and then is emitted to the outside via the prism 4. Let the emitted light υ reach the external optical circuit 6 through the slit 5 25
On the other hand, electrodes T and 8 are respectively attached on the opposite surfaces of the substrate 1, and leads 9 and 10 are formed between them.
A configuration has been proposed in which a required voltage is applied from a power source (not shown) via a power source to apply an electric field to the substrate 1, thereby changing the refractive index of the substrate 1.

斯る構成によれば、基板1に電界がかけられるかかけら
れないかに応じて又は電界がかけるとしてその電界の強
さが変化せしめられるに応じて基板1の屈折率が変化す
ることにより、薄膜2内で35光が反射して伝播するそ
の光fの反射角θが変化し、これによりスリット5を光
が通過するか否かの状態が得られ、斯くて外部光回路6
側より薄膜2側をみて光スイツチ機能が得られるもので
あるが、上述せる所より明らかな如く基板1に電極7及
び8を附し又これ等電極7及び8にリード9及び10を
夫々連結する面倒な作業を要する欠点を有していた。
According to such a configuration, the refractive index of the substrate 1 changes depending on whether an electric field is applied to the substrate 1 or not, or as the strength of the electric field changes when an electric field is applied. The reflection angle θ of the light f reflected and propagated within the slit 2 changes, thereby obtaining the state of whether or not the light passes through the slit 5. Thus, the external optical circuit 6
Looking at the thin film 2 side from the side, the optical switch function is obtained.As is clear from the above, electrodes 7 and 8 are attached to the substrate 1, and leads 9 and 10 are connected to these electrodes 7 and 8, respectively. It has the disadvantage that it requires troublesome work.

而してこのことは全体を小型化せんとすれば尚更であつ
た。又基板1に電界をかける為の電源を要すると共に基
板1の屈折率を大きく変化せしめて効率の良いスイツチ
機能を得んとする場合基板1に電界をかけるための電源
として大なる容量を有するものを要するか又は電極7及
び8間の間隔を小とするを要し、そして斯く電極7及び
8を小とすれば之に応じて基板1の形状従つてこの基板
1上に附される薄膜2の形状が制限されることとなる等
の欠点も有していた。依つて本発明は上述せる欠点のな
い新規な薄膜スイツチを提案せんとするもので、以下図
面について本発明の実施例を詳述する所より明らかとな
るであろう。
However, this was even more so if we tried to downsize the entire device. In addition, a power source is required to apply an electric field to the substrate 1, and if the refractive index of the substrate 1 is to be greatly changed to obtain an efficient switch function, a power source having a large capacity for applying an electric field to the substrate 1 is required. or the spacing between the electrodes 7 and 8 may be small, and if the electrodes 7 and 8 are made small, the shape of the substrate 1 and the thin film 2 applied on this substrate 1 will change accordingly. It also had drawbacks, such as the shape of the material being limited. The present invention therefore seeks to propose a novel thin film switch which does not have the above-mentioned drawbacks, as will become clearer from the following detailed description of embodiments of the invention with reference to the drawings.

第3図は本発明の第1の実施例を示し、第1図及び第2
図との対応部分には同一符号を附して示すも、ガラスの
如き光吸収をなさな(・材質より選ばれた基板11上に
、アゾベンゼン(C6H5N:NC6H5)を含有する
ポリスチレン薄膜の如きアゾベンゼンを含有する光を伝
播し得る薄膜12が附され、而してこの薄膜12内に第
1図及び第2C図にて上述せる場合と同様にプリズム3
を介して伝播せられるべき光Lを入射せしめてこの光を
薄膜12内に、これと基板11とのなす境面及びこの薄
膜12とこの上面側の媒質とのなす境面間で反射せしめ
乍ら伝播せしめ、次でプリズム4を介3して外部に出射
せしめ、その出射光L5をスリツト5を通じて外部光回
路6に到達せしめる様になされ、一方薄膜12が光照射
装置13よりの光Mにて照射される様になされた構成を
有する。
FIG. 3 shows a first embodiment of the present invention, and FIG.
Although parts corresponding to those in the figure are shown with the same reference numerals, they do not absorb light like glass. A thin film 12 capable of propagating light containing .
The light L to be propagated through the thin film 12 is made incident, and this light is reflected between the interface between this and the substrate 11 and the interface between this thin film 12 and the medium on the upper surface side. The light L5 is transmitted through the prism 4 to the outside, and the emitted light L5 is made to reach the external optical circuit 6 through the slit 5, while the thin film 12 allows the light M from the light irradiation device 13 to be transmitted to the outside. It has a structure that allows it to be irradiated with light.

以上が本発明の第1の実施例であるが、斯る構3成によ
れば、薄膜12がアゾベンゼンを含有して居り、而して
アゾベンゼンは、それが320mμ近傍の波長を有する
光で照射されればシスストラクチヤ一の構成に異性化し
、又440mμ近傍の波長を有する光で照射されればト
ランスストラグ ψチヤ一の構成に異性化し、そして斯
る両異性化が可逆であることにより、光照射装置13よ
りの光Mを例えば320mμ近傍の波長を有する光とし
て得るか440mμ近傍の波長を有する光としてノ得る
かに応じて薄膜12の屈折率が変化することとなるもの
である。
The above is the first embodiment of the present invention. According to this configuration, the thin film 12 contains azobenzene, and the azobenzene is irradiated with light having a wavelength of around 320 mμ. If it is irradiated with light having a wavelength of around 440 mμ, it isomerizes to a structure with a cis structure, and if it is irradiated with light having a wavelength around 440 mμ, it isomerizes into a structure with a trans structure. The refractive index of the thin film 12 changes depending on whether the light M from the light irradiation device 13 is obtained, for example, as light having a wavelength of around 320 mμ or as light having a wavelength of around 440 mμ.

因みに斯る薄膜12の屈折率の変化が得られることは、
薄膜12の厚さD(mμ)に対する薄膜12内で光が反
射して伝播するその光ビの反射角θとの関係を測定した
結果、薄膜12が330mμ近傍の波長の光で照射され
ることによりこの薄膜12に含有するアゾベンゼンがシ
スストラクチヤ一の構成に異性化している場合第4図に
て曲線Sで示される如く膜厚Dが大なるに応じて反射角
θが大となる関係を以つて、又薄膜12が440mμ近
傍の波長の光で照射されることによりこの薄膜12に含
有するアゾベンゼンがトランスストラクチヤ一の構成に
異性化している場合第4図にて曲線Tで示される如く同
様に膜厚Dが大なるに応じて反射角θが大となる関係で
但し前者の場合とは異つた値を以つて得られた所よりし
ても明らかである。
Incidentally, the fact that such a change in the refractive index of the thin film 12 can be obtained is as follows.
As a result of measuring the relationship between the thickness D (mμ) of the thin film 12 and the reflection angle θ of the light reflected and propagated within the thin film 12, it was found that the thin film 12 is irradiated with light having a wavelength of around 330 mμ. Therefore, when the azobenzene contained in the thin film 12 is isomerized to a cis-structure structure, the reflection angle θ increases as the film thickness D increases, as shown by the curve S in FIG. 4. Therefore, when the thin film 12 is irradiated with light having a wavelength of around 440 mμ, and the azobenzene contained in the thin film 12 is isomerized into a trans-structure structure, as shown by the curve T in FIG. Similarly, as the film thickness D increases, the reflection angle θ increases, but this is also clear from the results obtained with values different from those in the former case.

但しこの第4図に示されている測定結果は、基板11の
屈折率が1.580、薄膜12に伝播される光の波長が
6328λ、モードがTEOである場合であり、又この
場合薄膜12の屈折率がその薄膜12に含有するアゾベ
ンゼンがシスストラクチャ一の構成に異性化している場
合に於て1.588、トランスストラクチヤ一の構成に
異性化している場合に於て1.590を呈していたもの
である。従つて本発明の第1の実施例によれぱ、基板1
1及び薄膜12をその屈折率をして上述せる第4図の測
定結果を得た基板及び薄膜とし、又薄膜に伝播される光
をその波長及びモードをして上述せる第4図の測定結果
を得た波長及びモードとするとき、薄膜12の厚さDを
例えば1.4μmとすれば、薄膜12内で光が反射して
伝播するその光じの反射角θが84.69射より84.
99のに又はその逆に変化し、これによりスリツト5を
光が通過するか否かの状態が得られ、斯くて外部光回路
6側より薄膜2側をみて光スイツチ機能が得られること
となるものである。
However, the measurement results shown in FIG. 4 are for the case where the refractive index of the substrate 11 is 1.580, the wavelength of the light propagated to the thin film 12 is 6328λ, and the mode is TEO. The refractive index is 1.588 when the azobenzene contained in the thin film 12 is isomerized into a cis structure, and 1.590 when it is isomerized into a trans structure. This is what I used to do. Therefore, according to the first embodiment of the present invention, the substrate 1
1 and thin film 12 are used as the substrate and thin film whose refractive index was determined to obtain the measurement results shown in FIG. If the thickness D of the thin film 12 is, for example, 1.4 μm, the reflection angle θ of the light beam reflected and propagated within the thin film 12 is 84.69 from 84.69. ..
99 or vice versa, thereby obtaining the state of whether or not light passes through the slit 5, thus providing an optical switch function when looking at the thin film 2 side from the external optical circuit 6 side. It is something.

斯く上述せる本発明の実施例によれば、薄膜12への所
定の波長を有する光照射に応じて薄膜12の屈折率を変
化せしめることにより光スィツチ機能が得られるもので
ある。
According to the embodiment of the present invention described above, an optical switch function can be obtained by changing the refractive index of the thin film 12 in response to the irradiation of the thin film 12 with light having a predetermined wavelength.

而してこの場合第1図及び第2図の場合の如く基板に電
極を附したり、又この電極にリードを連結したりする必
要はなく、更に基板の屈折率を変化せしめる為の電源を
要することもないので、第1図及び第2図にて上述せる
欠点を何等伴うことがないものである。又斯る光スイツ
チ機能が薄膜12への光照射に応じてなされ、従つて光
スイツチ機能が電気的制御を伴うことなしになされるの
で、その光スイツチ機能が全体として簡便に得られるこ
ととなる等の大なる特徴を有するものである。次に第5
図につき本発明の第2の実施例を述べるに、本例に於て
第3図との対応部分には同一符号を附して示すも、第3
図の場合と同様の基板11上にガラス、酸化亜鉛の如き
光を伝播せしめ得る薄膜14が附され、一方この薄膜1
4上に第3図の場合と同様のアゾベンゼンを含有する薄
膜12が附され、而して薄膜14内にプリズム3を介し
て伝播せられるべき光Lを入射せしめてこの光を薄膜1
4内に、これと基板11とのなす境面及びこの薄膜14
と薄膜12とのなす境面間で反射せしめ乍ら伝播せしめ
、次でプリズム4を介して外部に出射せしめ、その出射
光L″をスリツト5を通じて外部光回路6に到達せしめ
る様になされ、一方薄膜12が第3図の場合と同様に光
照射装置13よりの光Mにて照射される様になされた構
成を有する。
In this case, there is no need to attach electrodes to the substrate or connect leads to these electrodes as in the case of Figs. Since it is not necessary, it does not have any of the drawbacks described above in FIGS. 1 and 2. Further, the light switch function is performed in response to light irradiation to the thin film 12, and therefore, the light switch function is performed without electrical control, so that the light switch function can be easily obtained as a whole. It has the following great characteristics. Next, the fifth
Embodiment 2 of the present invention will be described with reference to the drawings. In this example, corresponding parts to those in FIG.
A thin film 14 capable of transmitting light, such as glass or zinc oxide, is attached to a substrate 11 similar to that shown in the figure;
A thin film 12 containing azobenzene similar to that shown in FIG.
4, the interface between this and the substrate 11 and this thin film 14
The light L'' is reflected and propagated between the interface formed by the and thin film 12, and is then emitted to the outside through the prism 4, and the emitted light L'' is made to reach the external optical circuit 6 through the slit 5. The structure is such that the thin film 12 is irradiated with light M from a light irradiation device 13 as in the case of FIG.

以上が本発明の第2の実施例であるが、斯る構成に依れ
ば、第3図の本発明の第1の実施例につき述べた所より
明らかとなるので、詳細説明はこれを省略するも、アゾ
ベンゼンを含有する薄膜12への所定の波長を有する光
照射により薄膜12の屈折率が変化することとなるので
、薄膜14内を反射して伝播する光fのその反射角θが
変化し、これによりスリツト5を光が通過するか否かの
状態が得られ、斯くて光スイツチ機能が得られることと
なり、そしてこの場合も第3図の場合と同様の優れた特
徴が得られるものである。
The above is the second embodiment of the present invention, but since this configuration is clear from the description of the first embodiment of the present invention shown in FIG. 3, detailed explanation thereof will be omitted. However, since the refractive index of the thin film 12 changes by irradiating the thin film 12 containing azobenzene with light having a predetermined wavelength, the reflection angle θ of the light f that is reflected and propagated within the thin film 14 changes. However, as a result, the state of whether or not light passes through the slit 5 can be obtained, and thus the optical switch function can be obtained, and in this case, the same excellent characteristics as in the case of Fig. 3 can be obtained. It is.

次に第6図につき本発明の第3の実施例につき述べるに
本例に於て第3図との対応部分には同一符号を附し詳細
説明はこれを省略するも、第3図にて上述せる構成に於
て光照射装置13よりの光Mが第7図Aに示す如く平面
でみて例えば三角形な所謂プリズム形又は第7図Bに示
す如く所謂レンズ形で得られるべく、例えばこの光照射
装置13内に点線図示のマスク15が設けられ、而して
斯るパターンを有する光Mにて薄膜12が局部フ的に照
射される様になされたことを除いては第3図の場合と同
様の構成を有する。
Next, referring to FIG. 6, a third embodiment of the present invention will be described. In this example, parts corresponding to those in FIG. In the above-described configuration, the light M from the light irradiation device 13 can be obtained, for example, in a triangular prism shape as shown in FIG. 7A or in a so-called lens shape as shown in FIG. 7B. The case of FIG. 3 is the same except that a mask 15 shown by dotted lines is provided in the irradiation device 13 so that the thin film 12 is locally irradiated with the light M having such a pattern. It has a similar configuration.

以上が本発明の第3の実施例であるが斯る構成によれば
、本例の場合も第3図の本発明の第1の実施例につき述
べた所より明らかとなるので、詳細説明はこれを省略す
るも、アゾベンゼンを含有する薄膜12が光照射装置1
3よりの光Mにて局部的に照射されることにより、薄膜
12の斯く照射される位置16の屈折率が他の位置のそ
れとは異なつて得られ、従つて光Mのパターンが第7図
Aに示す如くプリズム形である場合光Mの照射される位
置16で所謂薄膜プリズムが又第7図Bに示す如くレン
ズ形である場合位置16で所謂薄膜レンズが構成されて
いることとなつているものである。
The above is the third embodiment of the present invention. According to this configuration, this embodiment will also be clear from the description of the first embodiment of the present invention in FIG. 3, so detailed explanation will be omitted. Although this is omitted, the thin film 12 containing azobenzene is
By being locally irradiated with light M from 3, the refractive index of the thus irradiated position 16 of the thin film 12 is obtained to be different from that of the other positions, so that the pattern of the light M is as shown in FIG. When the prism shape is shown in A, the so-called thin film prism is formed at the position 16 where the light M is irradiated, and when it is lens shaped as shown in FIG. 7B, the so-called thin film lens is formed at the position 16. It is something that exists.

従つて本発明の第3の実施例によれば光が斯る薄膜プリ
ズム又は薄膜レンズにて屈折されて伝播することとなつ
て第3図の場合と同様のスイツチ機能が得られることと
なるものである。次に本発明の他の実施例を述べるに、
上述せる第1〜第3の実施例の場合薄膜12の厚さDを
第4図の曲線S及びTが得られている範囲内に於ける厚
さに選定した場合につき述べたものであるが、第4図に
於て曲線T及びSが夫々厚さDの値でみて互に異なるa
及びb以下には延長して示されていない所よりしても明
らかな如く、薄膜12の厚さが一定値以下であれば、薄
膜12内に伝播する光が有効な出射光としては得られな
くなるものである。従つて図示はせざるも、第1〜第3
実施例の構成に於てそのスリツト5を省略し、然し乍ら
薄膜12の厚さDを、基板11及び薄膜12、及び光L
が上述せる第1〜第3の実施例の場合と同様である場合
、第4図のa及びb間の中間値Cに選定することを除い
ては第1〜第3の実施例と同様とすれば、光照明装置1
3よりの光Mをして上述せる320mμ近傍の波長を有
する光とすれば薄膜12よりの出射光υは得られず、然
し乍ら上述せる440mμ近傍の波長を有する光とすれ
ば薄膜12より出射光Cが得られ、依つて外部光回路6
側より薄膜12側をみて光スイツチ機能が得られること
となり、そしてこの場合上述せる第1〜第3の実施例に
て述べた特徴に加えてスリツト5を設ける必要がないと
いう大なる特徴を有するものである。尚上述に於ては本
発明の僅かな実施例を示したに留まり、詳細説明はこれ
を省略するも第8図に示す如く基板11上に第5図にて
上述せる薄膜14と同様の薄膜の複数n個14−1,1
4−2,・・・・・・・・・14−nと、光を通過せし
め得ない薄膜の複数(n−1)個15−1,15−2,
・・・・・・・・・15−(n−1)とを順次14−1
,15−1,14−2,15−1,・・・・・・・・・
15−(n−1)及び14−nの順を以つて積層して配
し、而して薄膜14−1,14−2,・・・・・・・・
・14−nの何れか1つ又は複数と連接せる関係で薄膜
12と同様の薄膜の1つ又は複数を積層して配した構成
(図に於ては最土の薄膜12−n)上に12−nとして
配されている)を得て、複チヤンネルの光通路中の1つ
又は複数にて光スイツチ機能を得る様になすことも出来
、その他種々の変型変更をなし得るものである。
Therefore, according to the third embodiment of the present invention, the light is refracted and propagated by such a thin film prism or thin film lens, and the same switch function as in the case of FIG. 3 is obtained. It is. Next, other embodiments of the present invention will be described.
In the first to third embodiments described above, the thickness D of the thin film 12 is selected to be within the range where curves S and T in FIG. 4 are obtained. , in Fig. 4, the curves T and S differ from each other in terms of the value of the thickness D.
As is clear from the parts not shown extending below and b, if the thickness of the thin film 12 is below a certain value, the light propagating within the thin film 12 cannot be obtained as effective emitted light. It is something that will disappear. Therefore, although not shown, the first to third
In the configuration of the embodiment, the slit 5 is omitted, but the thickness D of the thin film 12 is reduced by the thickness of the substrate 11, the thin film 12, and the light L.
is the same as in the first to third embodiments described above, the same as in the first to third embodiments except that the intermediate value C between a and b in FIG. 4 is selected. Then, the light illumination device 1
If the light M from 3 has a wavelength near 320 mμ as described above, the light emitted from the thin film 12 cannot be obtained. C is obtained, and therefore the external optical circuit 6
When looking at the thin film 12 side from the side, an optical switch function is obtained, and in this case, in addition to the features described in the first to third embodiments, there is a great feature that there is no need to provide the slit 5. It is something. In the above description, only a few embodiments of the present invention have been shown, and a detailed explanation thereof will be omitted. However, as shown in FIG. 8, a thin film similar to the thin film 14 shown in FIG. A plurality of n pieces of 14-1,1
4-2, ......14-n, and a plurality (n-1) of thin films that cannot pass light 15-1, 15-2,
・・・・・・・・・15-(n-1) and 14-1 sequentially
,15-1,14-2,15-1,...
15-(n-1) and 14-n are stacked and arranged in the order of thin films 14-1, 14-2, .
・A structure in which one or more of the same thin films as the thin film 12 are stacked and arranged in connection with one or more of the thin films 14-n (in the figure, the lowest thin film 12-n) 12-n), one or more of the multi-channel optical paths can provide an optical switch function, and various other modifications can be made.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図及び第2図は夫々従来の薄膜光スイツチを示す路
線的斜視図及び側面図、第3図は本発明に依る薄膜スイ
ツチの第1の実施例を示す路線的側面図、第4図は薄膜
の厚さに対する薄膜内での光の反射角を示す曲線図、第
5図及び第6図は夫夫本発明の第2及び第3の実施例を
示す路線的側面図、第7図ぱ第3の実施例で適用される
光のパターンの一例を示す図、第8図は本発明の更に他
の実施例を示す路線的側面図である。 図中1及び11は基板、2,12及び14は薄膜、3及
び4はプリズム、5はスリツト、6は外部光回路、7及
び8は電極、L,L′及びぴは光を夫々示す。
1 and 2 are a schematic perspective view and a side view showing a conventional thin film optical switch, respectively, FIG. 3 is a schematic side view showing a first embodiment of a thin film switch according to the present invention, and FIG. is a curve diagram showing the reflection angle of light within the thin film with respect to the thickness of the thin film, FIGS. 5 and 6 are line side views showing the second and third embodiments of the present invention, and FIG. FIG. 8 is a schematic side view showing still another embodiment of the present invention. In the figure, 1 and 11 are substrates, 2, 12 and 14 are thin films, 3 and 4 are prisms, 5 is a slit, 6 is an external optical circuit, 7 and 8 are electrodes, and L, L' and Pi are lights, respectively.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 アゾベンゼンを含有する薄膜又はアゾベンゼンを含
有する薄膜及びこれと隣接せる薄膜を少くとも有して当
該アゾベンゼンを含有する薄膜又はこれと隣接せる薄膜
に光を伝播せしめる様になされ、上記アゾベンゼンを含
有する薄膜への所定の波長を有する光照射に応じて当該
アゾベンゼンを含有する薄膜の屈折率を変化せしめるこ
とにより光スイッチ機能が得られる様になされた事を特
徴とする薄膜光スイッチ。 2 アゾベンゼンを含有する薄膜又はアゾベンゼンを含
有する薄膜及びこれと隣接せる薄膜を少くとも有して当
該アゾベンゼンを含有する薄膜又はこれと隣接せる薄膜
に光を伝播せしめる様になされ、上記アゾベンゼンを含
有する薄膜への所定の波長を有する光照射に応じて当該
アゾベンゼンを含有する薄膜の屈折率を変化せしめて上
記アゾベンゼンを含有する薄膜又はこれと隣接せる薄膜
に伝播する光の光路を変化せしめることにより光スイッ
チ機能が得られる様になされた事を特徴とする薄膜光ス
イッチ。 3 アゾベンゼンを含有する薄膜又はアゾベンゼンを含
有する薄膜及びこれと隣接せる薄膜を少くとも有して当
該アゾベンゼンを含有する薄膜又はこれと隣接せる薄膜
に光を伝播せしめる様になされ、上記アゾベンゼンを含
有する薄膜が所定膜厚に選定された状態で当該アゾベン
ゼンを含有する薄膜への所定の波長を有する光照射に応
じて当該アゾベンゼンを含有する薄膜の屈折率を変化せ
しめて光スイッチ機能が得られる様になされた事を特徴
とする薄膜光スイッチ。
[Claims] 1. A thin film containing azobenzene, or at least a thin film containing azobenzene and a thin film adjacent thereto, so as to allow light to propagate to the thin film containing azobenzene or the thin film adjacent thereto. , a thin film light characterized in that an optical switch function is obtained by changing the refractive index of the azobenzene-containing thin film in response to irradiation of the azobenzene-containing thin film with light having a predetermined wavelength; switch. 2 A thin film containing azobenzene, or a thin film containing azobenzene, and a thin film adjacent thereto, so as to allow light to propagate to the thin film containing said azobenzene or a thin film adjacent thereto, and containing said azobenzene. By changing the refractive index of the azobenzene-containing thin film in response to irradiation of the thin film with light having a predetermined wavelength, the optical path of the light propagating to the azobenzene-containing thin film or a thin film adjacent thereto is changed. A thin film optical switch characterized by being designed to provide a switching function. 3 A thin film containing azobenzene, or a thin film containing azobenzene and a thin film adjacent thereto, which are configured to allow light to propagate to the thin film containing said azobenzene or a thin film adjacent thereto, and containing said azobenzene. With the thin film selected to have a predetermined thickness, the refractive index of the azobenzene-containing thin film is changed in response to irradiation of the azobenzene-containing thin film with light having a predetermined wavelength, so that an optical switch function can be obtained. A thin film optical switch characterized by the following.
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