JPS5939807B2 - magnetic memory - Google Patents

magnetic memory

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JPS5939807B2
JPS5939807B2 JP262577A JP262577A JPS5939807B2 JP S5939807 B2 JPS5939807 B2 JP S5939807B2 JP 262577 A JP262577 A JP 262577A JP 262577 A JP262577 A JP 262577A JP S5939807 B2 JPS5939807 B2 JP S5939807B2
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magnetic
disk
head
magnetic memory
functional group
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雅廣 柳澤
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Nippon Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気的記憶装置(磁気ディスクの装置および磁
気ドラム装置等)に用いられる磁気記憶体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a magnetic storage body used in magnetic storage devices (magnetic disk devices, magnetic drum devices, etc.).

一般に、記録再生磁気ヘッド(以下ヘッドと呼ぶ)と磁
気記憶体とを構成部とする磁気記憶装置の記録再生方法
には大別して次のような二種類の方法がある。
In general, there are two types of recording/reproducing methods for a magnetic storage device including a recording/reproducing magnetic head (hereinafter referred to as a head) and a magnetic storage body, as follows.

第一の方法は、操作開始時にヘッドと磁気記憶体面とを
接触状態でセットした後、前記磁気記憶体に所要の回転
を与えることにより前記ヘッドと前記磁気記憶体面との
間に空気層分の空間を作り、この状態で記録再生をする
方法である。この方法では、操作終了時に磁気記憶体の
回転が止まり、この時ヘッドと磁気記憶体面は操作開始
時と同様に接触摩擦状態にある。第二の方法は、磁気記
憶体に予め所要の回転を与えておき、急激にヘッドを磁
気記憶体面上に押しつけることにより前記ヘッドと前、
己磁気記憶体面との間に空気層分の空間をつくり、この
状態で記録再生する方法である。このように、第一の方
法では、操作開始時および終了時にヘッドと磁気記憶体
面は接触摩擦状態にあり、第二の方法では、ヘッドを磁
気記憶体面に押しつける際に接触摩擦状態にある。これ
らの接触摩擦状態におけるヘッドと磁気記憶体の間に生
じる摩擦力は、ヘッドおよび磁気記憶体を摩耗させ、つ
いにはヘッドおよび金属磁性薄膜媒体に傷を生じせしめ
ることがある。また、前記接触摩擦状態において、ヘッ
ドのわずかな姿勢の変化がヘッドにかゝる荷重を不均一
にさせヘッドおよび磁気記憶体表面に傷を作ることもあ
る。また更に、記録再生中に突発的にヘッドが磁気記憶
体に接触し、ヘッドと磁気記憶体間に大きな摩擦力が働
き、ヘッドおよび磁気記憶体が破壊されることがしばし
ば起こる。この様なヘッドと磁気記憶体との接触摩擦、
接触摩耗および接触破壊からヘツドおよび磁気記憶体を
保護するために磁気記憶体の表面に保護被膜を被覆する
ことが必要である。従来から保護被膜として金属めつき
膜(例えば、Cr.Rll.Ni−P等)を被覆する方
法あるいは金属磁性薄膜媒体の表面を酸化して酸化物を
形成させて保護膜とする力法などがあるがいずれも上記
の接触摩擦現象に対して有力な手段とはならない。本発
明者はすでにこれらの欠点をなくしたポリ珪酸からなる
保護膜を提案している(特願昭50−81201)。こ
のポリ珪酸からなる保護被膜はヘツドと磁気記憶体の接
触摩擦に十分耐え、また、ヘツドの突発的な磁気記憶体
への接触に+分耐え、さらにまた、高温高湿状態におい
ても前記金属磁性薄膜を十分保護し、磁気記憶体を含む
下地金属体の磁気特性を損なわないなど保護被膜として
は十分な性態を有している。ところが、ヘツドによつて
はヘツドと磁気記憶体の間にごみを引き込み易く、その
ごみが摩磨剤の働きをしてヘツドおよび磁気記憶体を摩
耗し、その摩耗によつて生じた摩耗粉がさらにヘツドお
よび磁気記憶体を摩耗させるものがある。
The first method is to set the head and the magnetic storage surface in contact at the start of operation, and then apply a required rotation to the magnetic storage to create an air layer between the head and the magnetic storage surface. This is a method of creating a space and recording and playing in this state. In this method, the rotation of the magnetic storage body stops at the end of the operation, and at this time the head and the surface of the magnetic storage body are in the same frictional state as at the start of the operation. The second method is to apply a required rotation to the magnetic storage body in advance, and then suddenly press the head onto the surface of the magnetic storage body.
This method creates a space equivalent to an air layer between itself and the magnetic storage surface, and records and plays in this state. Thus, in the first method, the head and the magnetic storage surface are in a frictional contact state at the start and end of the operation, and in the second method, the head and the magnetic storage surface are in a frictional contact state when the head is pressed against the magnetic storage surface. The frictional force generated between the head and the magnetic storage body in these contact friction states causes wear on the head and the magnetic storage body, and may eventually cause scratches on the head and the metal magnetic thin film medium. Further, in the contact friction state, a slight change in the posture of the head may cause the load applied to the head to become uneven, causing scratches on the surface of the head and the magnetic storage body. Furthermore, it often happens that the head suddenly comes into contact with the magnetic storage body during recording and reproduction, and a large frictional force acts between the head and the magnetic storage body, causing the head and the magnetic storage body to be destroyed. Such contact friction between the head and the magnetic storage body,
To protect the head and magnetic storage from contact wear and damage, it is necessary to coat the surface of the magnetic storage with a protective coating. Conventionally, there has been a method of coating a metal plating film (for example, Cr.Rll.Ni-P, etc.) as a protective film, or a force method of oxidizing the surface of a metal magnetic thin film medium to form an oxide to form a protective film. However, none of these methods is effective against the above-mentioned contact friction phenomenon. The present inventor has already proposed a protective film made of polysilicic acid that eliminates these drawbacks (Japanese Patent Application No. 81201/1982). This protective coating made of polysilicate can sufficiently withstand the contact friction between the head and the magnetic memory, and can also withstand sudden contact of the head with the magnetic memory for more than 30 minutes. It has sufficient properties as a protective film, such as sufficiently protecting the thin film and not impairing the magnetic properties of the underlying metal body including the magnetic storage body. However, some heads tend to draw dust between the head and the magnetic memory, and this dust acts as an abrasive and wears down the head and the magnetic memory, and the abrasion powder generated by that abrasion is Additionally, there are some that cause wear to the head and magnetic storage.

このような現象は前部にテーパのついたヘツドにおいて
著しい。本発明の目的は上述のごみを引き込み易いヘツ
ドによつても十分に金属磁肚薄5膜媒体を保護する保護
被膜を有する磁気記憶体を提供することにある。
This phenomenon is more pronounced in heads with a tapered front. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a magnetic storage body having a protective coating that sufficiently protects the metal magnetic thin film medium even from the above-mentioned heads that tend to attract dust.

本発明の磁気記憶体は、鏡面研磨した非磁性円盤状基体
上に金属磁性薄膜媒体を被覆し、この金属磁性薄膜媒体
に官能基をもつ鎖状高分子化合物を含有するポリ珪酸被
膜を被覆して構成される。
The magnetic memory of the present invention includes a mirror-polished nonmagnetic disk-shaped substrate coated with a metal magnetic thin film medium, and a polysilicate film containing a chain polymer compound having a functional group coated on the metal magnetic thin film medium. It consists of

さらに、本発明の磁気記憶体は鏡面研磨した非磁性円盤
状基体上に金属磁性薄膜媒体を被覆し、この金属磁性薄
膜媒体上にシランカツプリング剤を含有するポリ珪酸被
膜を被覆して構成される。次に図面を参照して本発明を
詳細に説明する。図面は本発明の磁気記憶体の一実施例
を示す断面図である。図面において、本発明の磁気記憶
体5は合金円盤1とその上に被覆された非磁性合金層2
とで構成される非磁性円盤状基体と、前記非磁性合金層
2の研磨面上に被覆された金属磁性薄膜媒体3と、この
金属磁性薄膜媒体3上に官能基をもつ鎖状高分子化合物
を含有するポリ珪酸からなる保護被膜4とから構成され
ている。さらに、本発明の磁気記憶体の保護被膜4は官
能基をもつ鎖状高分子化合物の代りにシランカツプリン
グ剤を含有するポリ珪酸被膜からなつている。
Furthermore, the magnetic memory of the present invention is constructed by coating a metal magnetic thin film medium on a mirror-polished non-magnetic disk-shaped substrate, and coating the metal magnetic thin film medium with a polysilicate film containing a silane coupling agent. Ru. Next, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings. The drawing is a sectional view showing an embodiment of the magnetic storage body of the present invention. In the drawings, a magnetic storage body 5 of the present invention includes an alloy disk 1 and a non-magnetic alloy layer 2 coated thereon.
a non-magnetic disk-shaped substrate composed of a metal magnetic thin film medium 3 coated on the polished surface of the non-magnetic alloy layer 2, and a chain polymer compound having a functional group on the metal magnetic thin film medium 3. A protective coating 4 made of polysilicic acid containing . Further, the protective coating 4 of the magnetic memory of the present invention is made of a polysilicate coating containing a silane coupling agent instead of a chain polymer compound having a functional group.

合金円盤1は十分小さなうねりを持つた面に仕上げられ
ていなければならない(円周力向で50μm以下および
半径力向で100ttm以下)。
The alloy disk 1 must be finished with a surface having sufficiently small waviness (50 μm or less in the circumferential force direction and 100 ttm or less in the radial force direction).

これはうねりが大きいと、記録および再生時に磁気記憶
体上に浮揚しているヘツドが磁気記憶体面の上下の動き
に追従できずにヘツドと磁気記憶体間の距離が変化し、
記録再生特性が変化するからである。この合金円盤1の
上にめつきにより破壊された非磁性合金属は、機械的研
磨により表面粗さ0.04μm以下に鏡再仕上げされて
いる。なお、合金円盤1に鏡面研磨が可能な金属を用い
れば、非磁性合金層2は不要となる。非磁l合金層2の
上に高密度記録用の金属磁性薄膜媒体3がめつきにより
被覆されている。この金属磁性薄膜媒体3をヘツドの接
触または湿気や温度による変化から十分に保護する保護
被膜4は、官能基をもつ鎖状高分子化合物またはシラン
カツプリング剤を含むポリ珪酸から成つている。上記の
官能基とはポリ珪酸中のシラノール基SiOHと反応し
てポリ珪酸と強固に結びつく作用のあるもので、ここで
いう官能基をもつ鎖状高分子化合物とは、たとえば、シ
リコーン中間体、N−メトキシメチル変性ナイロンメチ
ルセルロース、エチルセルロースあるいはそれらの組合
わせを指す。シリコーン中間体は平均分子量500〜2
000程度のSiとOの鎖からなる高分子化合物でSl
OHまたはSiOCH3などの官能基を有する。また、
N−メトキシメチル変性ナイロンは官能基としてメトキ
シメチル基−CH2OCH3を持つたナイロン樹脂であ
る。またメチルセルロース、エチルセルロースはそれぞ
れメトキシ基−0CH3、エトキシ基−0C2H3を持
つた繊維素系樹脂である。一方、シランカツプリング剤
とは下記の一般式で示されるシラン化合物の一種である
。RcSi(Xa)n(Xb)3、:nは0〜3の整数
であり、また、式中において、XaおよびXbはCl又
はBrなどのハロゲン原子または0Rdまたは0C0R
d(Rdは、例えば、CH3、C2H5?:゛設孟GX
?=?367”CH3OOCCH2CH2NH(CH2
)2NH(CH2),の如き官能基をもつ有機物からな
る部分を表わす。
This is because if the waviness is large, the head floating above the magnetic storage medium cannot follow the vertical movement of the magnetic storage surface during recording and playback, and the distance between the head and the magnetic storage medium changes.
This is because the recording/reproducing characteristics change. The non-magnetic alloy metal destroyed by plating on this alloy disk 1 is mirror-refinished to a surface roughness of 0.04 μm or less by mechanical polishing. Note that if the alloy disk 1 is made of a metal that can be mirror-polished, the non-magnetic alloy layer 2 is not necessary. A metal magnetic thin film medium 3 for high-density recording is coated on the non-magnetic l alloy layer 2 by plating. The protective coating 4, which sufficiently protects the metal magnetic thin film medium 3 from head contact or changes due to moisture or temperature, is made of a linear polymeric compound having a functional group or polysilicic acid containing a silane coupling agent. The above-mentioned functional group is one that reacts with the silanol group SiOH in polysilicic acid and has the effect of strongly bonding with polysilicic acid. Refers to N-methoxymethyl-modified nylon methylcellulose, ethylcellulose, or a combination thereof. Silicone intermediate has an average molecular weight of 500-2
A polymer compound consisting of approximately 000 Si and O chains.
It has a functional group such as OH or SiOCH3. Also,
N-methoxymethyl modified nylon is a nylon resin having a methoxymethyl group -CH2OCH3 as a functional group. Methyl cellulose and ethyl cellulose are cellulose resins having a methoxy group -0CH3 and an ethoxy group -0C2H3, respectively. On the other hand, a silane coupling agent is a type of silane compound represented by the following general formula. RcSi(Xa)n(Xb)3, :n is an integer of 0 to 3, and in the formula, Xa and Xb are halogen atoms such as Cl or Br, or 0Rd or 0C0R
d (Rd is, for example, CH3, C2H5?:
? =? 367”CH3OOCCH2CH2NH(CH2
)2NH(CH2), represents a part consisting of an organic substance having a functional group such as.

Xa,Xbは加水分解によつてシラノール基Si−0H
を生ずる。このようなシランカツプリング剤の例として
は次のものがあげられる。
Xa and Xb are silanol groups Si-0H by hydrolysis
will occur. Examples of such silane coupling agents include:

また、この他に二 な化学式は明らかでないが、RCの
部分に+÷− −N−+の単位をくり返し1級,2級,
3級の各1ミ歩基を持つ有機基が複雑に枝分れして次の
様なマトリツクスを形成しているポリアミノシランも含
まれる。
In addition, although the chemical formula is not clear, the units +÷- -N-+ are repeated in the RC part to form 1st class, 2nd class,
Also included are polyaminosilanes in which tertiary organic groups each having one step are complexly branched to form the following matrix.

次に本発明を実施例及び比較例を挙げて詳細に説明する
Next, the present invention will be explained in detail by giving Examples and Comparative Examples.

実施例 1 合金円盤1としては施盤加工および熱矯正によつて十分
小さなうねり(円問力向および半径方向でそれぞれ50
μmおよび100μm以下)をもつた面に仕上げられた
デイスク状アルミニウム合金基盤上に非磁性合金層2と
してニツケル一燐(Ni−P)合金を約50μmの厚さ
にめつきし、このニツケル一燐めつき膜を機械的研磨に
より表面粗さ0.04μm以下厚さ約30μmまで鏡面
仕上げしたのち、その上に金属磁性薄膜媒体3としてコ
バルトーニツケル一燐(CO−Ni−P)合金を約0.
05μmの厚さにめつきした。
Example 1 The alloy disk 1 was made with sufficiently small waviness (50% in the circular force direction and in the radial direction) by lathe machining and thermal straightening.
A nickel-phosphorus (Ni-P) alloy is plated to a thickness of approximately 50 μm as a non-magnetic alloy layer 2 on a disk-shaped aluminum alloy substrate whose surface has been finished with a surface of 10 μm or less. After the plating film is mechanically polished to a mirror finish with a surface roughness of 0.04 μm or less and a thickness of about 30 μm, a cobalt-nickel-phosphorus (CO-Ni-P) alloy is coated on top of it as a metal magnetic thin film medium 3. ..
It was plated to a thickness of 0.05 μm.

さらに、このコバルトーニツケル一燐(CO−Ni−P
)合金膜の上に、下に示した組成の溶液を十分に混合し
た後、回転塗布法(回転数200rpm)により500
Aの膜厚に塗布したデイスク状円盤を200℃の温度で
3時間電気炉中で焼成したものを磁気デイスクとした。
゜実施例 2 実施例1と同様な力法で、但し下に示した組成の溶液を
用いて塗布したデイスク状円盤を実施例1と同様な条件
で焼成したものを磁気デイスクとした。
Furthermore, this cobalt nickel monophosphorus (CO-Ni-P
) After thoroughly mixing a solution with the composition shown below on the alloy film, 500
A magnetic disk was obtained by baking a disk-shaped disk coated to the thickness of A in an electric furnace at a temperature of 200° C. for 3 hours.
゜Example 2 A magnetic disk was obtained by firing a disc-shaped disc coated using the same force method as in Example 1, but using a solution having the composition shown below, under the same conditions as in Example 1.

実施例 3 実施例1と同様な力法で、但し下に示した組成の溶液を
用いて塗布したデイスク状円盤を実施例1と同様な条件
で焼成したものを磁気デイスクとした。
Example 3 A magnetic disk was prepared by firing a disk-shaped disk coated using the same force method as in Example 1, but using a solution having the composition shown below, under the same conditions as in Example 1.

実施例 4 実施例1と同様な刀法で但し下に示した組成の溶液を用
いて塗布したデイスク状円盤を実施例1と同様な条件で
焼成したものを磁気デイスクとした。
Example 4 A magnetic disk was obtained by coating a disk-shaped disk using the same method as in Example 1, but using a solution having the composition shown below, and firing it under the same conditions as in Example 1.

実施例 5 実施例1と同様な力法で、但し下に示した組成の溶液を
用いて塗布したデイスク状円盤を実施ψu1と同様な方
法で焼成したものを磁気デイスクとした。
Example 5 A magnetic disk was prepared by firing a disk-shaped disk coated using the same force method as in Example 1, but using a solution having the composition shown below, in the same manner as in Example ψu1.

実施例 6 実施例1と同様な方法で、但し下に示した組成の溶液を
用いて塗布したデイスク状円盤を実施例1と同様な条件
で焼成したものを磁気デイスクとした。
Example 6 A magnetic disk was prepared by baking a disk-shaped disk coated in the same manner as in Example 1 using a solution having the composition shown below under the same conditions as in Example 1.

実施例 7 実施例3と同様な力法でまた同様な組成の溶液を用いて
塗布したデイスク状円盤を150℃で5時間焼成したも
のを磁気デイスクとした。
Example 7 A disk-shaped disk coated using the same force method as in Example 3 using a solution having the same composition was baked at 150° C. for 5 hours to obtain a magnetic disk.

実施例 8 実施例1と同様な方法で但し下に示した組成の溶液を用
いて塗布したデイスク状円盤を実施例1と同様な条件で
焼成したものを磁気デイスクとした。
Example 8 A magnetic disk was obtained by coating a disk-shaped disk in the same manner as in Example 1, but using a solution having the composition shown below, and firing it under the same conditions as in Example 1.

実施例 9 実施例1と同様な力法で但し下に示した組成の溶液を用
いて塗布したデイスク状円盤を実施例1と同様な条件で
焼成したものを磁気デイスクとした。
Example 9 A disk-shaped disk was coated using the same force method as in Example 1, but using a solution having the composition shown below, and fired under the same conditions as in Example 1 to obtain a magnetic disk.

比較例 実施例1と同様な方法で、但し下に示した組成の溶液を
用いて塗布したデイスク状円盤を実施例1と同様な条件
で焼成したものを磁気デイスクとした。
Comparative Example A magnetic disk was prepared by baking a disk-shaped disk coated in the same manner as in Example 1 using a solution having the composition shown below and under the same conditions as in Example 1.

比較例および実施例1〜9に示した各磁気デイスクを用
いて、ヘツドと磁気デイスク面とが操作開始時および操
作終了時に常に接触状態にある記録再生力法において、
この操作開始と操作終了の繰り返し操作試験を前部にテ
ーパのついたゴミを引込み易いヘツドを用いて5000
回繰り返し行なつたところ、比較例の磁気デイスクでは
ヘツドの摩擦跡の約5%が剥離したが、実施例1〜9の
各磁気デイスクでは剥離は皆無であつた。
Using each of the magnetic disks shown in Comparative Example and Examples 1 to 9, in a recording/reproducing force method in which the head and the magnetic disk surface are always in contact at the start and end of operation,
This operation start and end operation test was repeated for 5,000 times using a head with a tapered front part to easily pull in dirt.
When the test was repeated several times, about 5% of the friction marks on the head of the magnetic disk of Comparative Example were peeled off, but no peeling was observed for each of the magnetic disks of Examples 1 to 9.

また、実施例5,6については10,000回の繰り返
しにおいても剥離は皆無であつた。また実施例4,7,
8,9については15,000回の繰り返しにおいても
剥離は皆無であつた。以上比較例および実施例1〜9で
示された様に、官能基をもつ鎖状高分子化合物またはシ
ランカツプリング剤を含むポリ珪酸からなる保護被膜を
有する磁気デイスクはポリ珪酸単体の保護被膜を有する
磁気デイスクに比べてヘツドに対する耐摩耗性が向上し
ていることが分る。
Furthermore, in Examples 5 and 6, there was no peeling even after 10,000 repetitions. In addition, Examples 4, 7,
No. 8 and 9 showed no peeling even after 15,000 repetitions. As shown in the comparative examples and Examples 1 to 9 above, magnetic disks with a protective coating made of polysilicic acid containing a chain polymer compound having a functional group or a silane coupling agent have a protective coating made of polysilicic acid alone. It can be seen that the wear resistance of the head is improved compared to that of the magnetic disk.

また、シランカツプリング剤の中でも特に分子量の大き
いまたはRcの大きいシランカツプリング剤を含むポリ
珪酸からなる保護被膜を有する磁気デイスクは耐摩耗性
が著るしく向上していることが分る。本発明の磁気デイ
スタの保護被膜中に含まれているシランカツプリング剤
または官能基をもつ鎖状高分子化合物の効果は次に示す
理由によるものと考えられる。
Furthermore, it is found that the wear resistance of magnetic disks having a protective coating made of polysilicic acid containing a silane coupling agent having a particularly large molecular weight or a large Rc among silane coupling agents has significantly improved wear resistance. The effects of the silane coupling agent or the chain polymer compound having a functional group contained in the protective coating of the magnetic data star of the present invention are considered to be due to the following reasons.

すなわち、保護被膜の成分の1つであるポリ珪酸は、テ
トラヒドロキシシラ7の縮合重合により形成させるSi
−0結合の繰り返しからなる三次元網状重合物であり、
このポリ珪酸からなる被膜は溶媒の蒸発あるいは重合に
よる体積の減少あるいは下地体との熱膨張率の差により
内部応力が生じ、それによる歪みがポリ珪酸本来の強度
を弱めている。
That is, polysilicic acid, which is one of the components of the protective coating, is formed by condensation polymerization of tetrahydroxysilane 7.
It is a three-dimensional network polymer consisting of repeating -0 bonds,
Internal stress is generated in this polysilicic acid film due to volume reduction due to solvent evaporation or polymerization, or due to a difference in thermal expansion coefficient with the underlying body, and the resulting distortion weakens the original strength of the polysilicic acid.

このポリ珪酸中にシランカツプリング剤を加えると、シ
ランカツプリンク濱1仲に含まれる官能基をもつ部分R
cとXa,Xbの加水解によつて生じるシラノール基が
ポリ珪酸と強固に結合したうえRcの部分が、前記内部
応力を緩和して、ポリ珪酸の強度を強め、その結果、こ
のようなシランカツプリング剤を含むポリ珪酸からなる
保護被膜のヘツドに対する耐接触摩耗性を向上させる。
これは分子量100以上の柔軟性のある有機物からなる
Rcをもつシランカツプリング剤を含み応力緩和能のよ
り大きなポリ珪酸からなる保護被膜を有する磁気デイス
クがヘツドに対する耐摩耗性がさらに向上していること
から分る。
When a silane coupling agent is added to this polysilicic acid, the portion R containing a functional group contained in the silane coupling layer 1 is
The silanol group generated by hydrolysis of c, Xa, and To improve the contact wear resistance of a protective coating made of polysilicic acid containing a coupling agent to the head.
This magnetic disk contains a silane coupling agent with Rc made of a flexible organic substance with a molecular weight of 100 or more, and has a protective coating made of polysilicic acid with greater stress relaxation ability.The magnetic disk has further improved wear resistance against the head. I understand from this.

また、ポリ珪酸中に官能基を有する鎖伏高分子化合物を
加えると、ポリ珪酸のシラノール基(Si−0H)と官
能基が反応して最終的にポリ珪酸の網状構造と共有結合
し、この高分子化合物の柔軟性のある鎖状部分がポリ珪
酸の収縮時の応力を緩和してポリ珪酸の強度を強め、し
たがつて、この高分子化合物を含むポリ珪酸からなる保
護被膜のヘツドに対する耐接触摩耗性を向上させる。な
お、本発明による官能基を含む鎖状高分子化合物または
シランカプリング剤を含むポリ珪酸からなる保護被膜を
有する磁気記憶体はポリ珪酸だけからなる保護被膜を有
する磁気記憶体に比べ耐摩耗性が向上したが、その他の
磁気記憶体としての性能すなわち耐ヘツドクラツシユ性
、潤滑性、耐環境性および下地金属体の磁気特性などは
全く変らない。
Furthermore, when a chain-linked polymer compound having a functional group is added to polysilicic acid, the silanol group (Si-0H) of the polysilicic acid reacts with the functional group, and finally forms a covalent bond with the network structure of the polysilicic acid. The flexible chain parts of the polymer compound alleviate the stress caused by the shrinkage of the polysilicic acid and increase the strength of the polysilicic acid. Improves contact wear resistance. It should be noted that the magnetic memory having a protective coating made of a linear polymer compound containing a functional group or polysilicic acid containing a silane coupling agent according to the present invention has higher wear resistance than a magnetic memory having a protective coating made only of polysilicic acid. Although improved, other performances as a magnetic memory material, such as head crush resistance, lubricity, environmental resistance, and magnetic properties of the underlying metal body, remain unchanged.

なお、本発明本発明に示した以外の高分子化合物であつ
てもポリ珪酸膜の応力を緩和する働きのあるものであれ
ば用いることができることは明らかである。
Note that it is clear that polymer compounds other than those shown in the present invention can be used as long as they have the function of relieving stress in the polysilicate film.

また、実施例においては、溶媒にn−ブチルアルコール
を用いたが、テトラヒドロキシシランおよび官能基をも
つ鎖状高分子化合物またはシランカツプリング剤の両方
を溶解する溶媒であれば他の溶媒でもよく、それにより
アルコールに溶けない他の官能基をもつ鎖状高分子化合
物またはシランカツプリング剤でも応力緩和物として用
いることができることは明らかである。
Further, in the examples, n-butyl alcohol was used as the solvent, but other solvents may be used as long as they dissolve both tetrahydroxysilane and the chain polymer compound having a functional group or the silane coupling agent. Therefore, it is clear that linear polymeric compounds or silane coupling agents having other functional groups that are not soluble in alcohol can also be used as stress relievers.

また、本発明の比較例、実施例においては非磁性円盤状
基体として金属を用いたが、例えばプラスチツクなども
使用可能であり基体の種類を問わないことは明らかであ
る。
Further, in the comparative examples and examples of the present invention, metal was used as the non-magnetic disc-shaped substrate, but it is clear that plastic or the like can also be used, and the type of the substrate is not limited.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図は本発明の磁気記憶体の断面図である。 The figure is a sectional view of the magnetic storage body of the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 鏡面研磨した非磁性円盤状基体上に金属磁性薄膜媒
体を被覆し、この金属磁性薄膜媒体上に官能基をもつ鎖
状高分子化合物を含有するポリ珪酸被膜を被覆してなる
磁気記憶体。 2 官能基をもつ鎖状高分子化合物がシリコーン中間体
である特許請求の範囲第1項記載の磁気記憶体。 3 官能基をもつ鎖状高分子化合物がN−メトキシメチ
ル変性ナイロンである特許請求の範囲第1項記載の磁気
記憶体。 4 官能基をもつ鎖状高分子化合物がメチルセルロース
またはエチルセルロースまたはそれらの混合物である特
許請求の範囲第1項記載の磁気記憶体。 5 鏡面研磨した非磁性円盤状基体上に金属磁性薄膜媒
体を被覆し、この金属磁性薄膜媒体上にシランカップリ
ング剤を含有するポリ珪酸被膜を被覆してなる磁気記憶
体。 6 シランカップリング剤は分子量100以上の有機物
を含む特許請求の範囲第5項記載の磁気記憶体。 7 シランカップリング剤がポリアミノシランまたはN
−ベーター(アミノエチル)−ガンマ−アミノプロピル
トリメトキシシランである特許請求の範囲第5項記載の
磁気記憶体。
[Claims] 1. A metal magnetic thin film medium is coated on a mirror-polished non-magnetic disk-shaped substrate, and a polysilicate film containing a chain polymer compound having a functional group is coated on the metal magnetic thin film medium. A magnetic memory. 2. The magnetic memory according to claim 1, wherein the chain polymer compound having a functional group is a silicone intermediate. 3. The magnetic memory according to claim 1, wherein the chain polymer compound having a functional group is N-methoxymethyl-modified nylon. 4. The magnetic memory according to claim 1, wherein the chain polymer compound having a functional group is methylcellulose, ethylcellulose, or a mixture thereof. 5. A magnetic memory comprising a mirror-polished non-magnetic disk-shaped substrate coated with a metal magnetic thin film medium, and a polysilicate film containing a silane coupling agent coated on the metal magnetic thin film medium. 6. The magnetic memory according to claim 5, wherein the silane coupling agent contains an organic substance having a molecular weight of 100 or more. 7 The silane coupling agent is polyaminosilane or N
-Beta(aminoethyl)-gamma-aminopropyltrimethoxysilane. The magnetic memory according to claim 5.
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