JPS593943B2 - Temperature control method during glass production using MCVD method - Google Patents

Temperature control method during glass production using MCVD method

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JPS593943B2
JPS593943B2 JP8535381A JP8535381A JPS593943B2 JP S593943 B2 JPS593943 B2 JP S593943B2 JP 8535381 A JP8535381 A JP 8535381A JP 8535381 A JP8535381 A JP 8535381A JP S593943 B2 JPS593943 B2 JP S593943B2
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Japan
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burner
glass tube
temperature
heating
heat storage
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JP8535381A
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Japanese (ja)
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JPS57200235A (en
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和憲 千田
博光 佐藤
正俊 杉原
秀俊 遊佐
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Furukawa Electric Co Ltd
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C03B37/01815Reactant deposition burners or deposition heating means

Description

【発明の詳細な説明】 10本発明はMCVD法によるガラス生成時の温度制御
方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION 10 The present invention relates to a temperature control method during glass production by MCVD method.

光通信部品としての光ファイバ、光学系部品としてのロ
ッドレンズなど、この種製品の母材となるガラス棒をM
CVD法により製造することは15すでに実施されてい
る。
Glass rods are the base material for these types of products, such as optical fibers as optical communication parts and rod lenses as optical system parts.
Manufacturing by the CVD method has already been carried out.

このMCVD法は第1図のごとく、石英系のガラス管1
を1対の回転自在なチャック2A、2Bにより両端支持
した状態において同ガラス管1をモータ3により回転さ
せると共に該ガラス管1内20には原料ガス供給系4か
らその排気系5へ向けて原料ガス(気相のガラス成分、
ドープ剤、キャリアガス)を供給し、そして上記ガラス
管1の長手方向に沿つて移動するバーナ6からの酸水素
火Tにより原料ガスを化学的に反応させてその酸化25
物粉末をガラス管1の内周面に堆積させ、同時に該粉末
を高温の熱でガラス化するようにしている。
As shown in Figure 1, this MCVD method uses a quartz-based glass tube 1.
The glass tube 1 is rotated by the motor 3 while the glass tube 1 is supported at both ends by a pair of rotatable chucks 2A and 2B. Gas (glass component in gas phase,
dopant, carrier gas), and chemically reacts the raw material gas with the oxyhydrogen flame T from the burner 6 moving along the longitudinal direction of the glass tube 1 to oxidize it.
The powder is deposited on the inner peripheral surface of the glass tube 1, and at the same time, the powder is vitrified with high temperature heat.

以下は上記の工程を繰り返すことによりガラス管1の内
周面に所定厚のガラス層を堆積させ、その後ガラス管1
内の軸心部に残置されている中空勿 部を高温の熱処理
工程(コラプス工程)により消去して当該ガラス管1を
ガラス棒へと加工するようにしている。こうしてMCV
D法を実施するとき、バーナ6はトラバース機構を介し
てガラス管1の長手方向35へ往復動される。
Below, by repeating the above steps, a glass layer of a predetermined thickness is deposited on the inner peripheral surface of the glass tube 1, and then
The hollow portion left at the axial center of the glass tube 1 is removed by a high-temperature heat treatment process (collapse process), and the glass tube 1 is processed into a glass rod. Thus MCV
When carrying out method D, the burner 6 is reciprocated in the longitudinal direction 35 of the glass tube 1 via a traverse mechanism.

つまりトラバース機構は、スクリューネジを有する導り
軸8と、該送り軸8の一端に連結された、、り正逆回転
自在なモータ9と、該送り軸8に螺合されたトラバース
ユニツト10とよりなり、上記バーナ6は光電管等から
なる温度検出器11と共にトラバースユニツト10へ装
着され、送り軸8およびモータ9を介した当該トラバー
スユニツト10の往復動にともなつてガラス管1の外周
方向へ往復動される。
In other words, the traverse mechanism includes a guide shaft 8 having a screw thread, a motor 9 connected to one end of the feed shaft 8 and capable of rotating forward and backward, and a traverse unit 10 screwed onto the feed shaft 8. The burner 6 is attached to the traverse unit 10 together with a temperature detector 11 made of a phototube or the like, and as the traverse unit 10 reciprocates via the feed shaft 8 and motor 9, the burner 6 moves toward the outer circumference of the glass tube 1. It moves back and forth.

通常、上記トラバース機構を介したバーナ6の移動範囲
は、第1図のF点、B点に配置された位置検出器12,
13により定まり、また、F点からB点へと低速移動す
る往動時においてバーナ6はガラス管1を加熱するため
強火にされるが、B点からF点へと高速移動する復動時
、該バーナ6は弱火にされ、そして前述したガラス層の
堆積形成時、当該バーナ6は100回程度、F点〜B点
間を往復動させられる。
Normally, the movement range of the burner 6 via the traverse mechanism is determined by the position detector 12 located at point F and point B in FIG.
13, and during the forward motion when moving at a low speed from point F to point B, the burner 6 is set to high flame to heat the glass tube 1, but during the backward motion when moving from point B to point F at high speed, The burner 6 is set to a low flame, and during the formation of the glass layer described above, the burner 6 is moved back and forth between point F and point B about 100 times.

上記のMCVD法では、バーナ6がF点からB点へと低
速で移動する往動時、ガラス管1側の温度を検出してい
る温度検出器11を介してバーナ6の火力(酸水素量お
よびその混合比)が調整され、一方、弱火の状態となる
バーナ6の復動時、ガラス管1は自然冷却される状態と
なり、バーナ6の温度制御は行なわれない。
In the above MCVD method, when the burner 6 moves slowly from point F to point B, the thermal power of the burner 6 (the amount of oxyhydrogen On the other hand, when the burner 6 returns to a low flame state, the glass tube 1 is in a state where it is naturally cooled, and the temperature of the burner 6 is not controlled.

さらにバーナ6がF点からB点へと往動する加熱時、バ
ーナ6による加熱温度はPID方式により制御される。
Further, during heating when the burner 6 moves from point F to point B, the heating temperature by the burner 6 is controlled by the PID method.

以上のようにしてMCVD法を実施するとき、バーナ往
動時の繰り返し加熱によりガラス管1の貯熱温度が漸次
上昇し、この値がバイアスとなつて加熱温度制御時のオ
ーバシユート量が増化傾向をとるようになる。
When performing the MCVD method as described above, the heat storage temperature of the glass tube 1 gradually rises due to repeated heating during forward movement of the burner, and this value becomes a bias, and the amount of overshoot during heating temperature control tends to increase. You will begin to take .

つまり第2図のLが所定の制御温度であるとき、L,,
L2,L,,L4,L5・・・・・・のように加熱が繰
り返えされるごとオーバシユート量は多くなり、安定し
た温度制御が行なえなくなる。
In other words, when L in Fig. 2 is a predetermined control temperature, L, ,
As heating is repeated like L2, L, L4, L5, etc., the overshoot amount increases, making it impossible to perform stable temperature control.

もちろん、このような温度制御不安定が起きると、ガラ
ス生成時の屈折率分布にバラツキが生じ、所要屈折率分
布のガラス棒を製造する際の歩留まりが悪くなる。
Of course, if such temperature control instability occurs, the refractive index distribution during glass production will vary, and the yield will deteriorate when manufacturing glass rods with a desired refractive index distribution.

本発明は上記の問題点に鑑み、MCVD法における安定
した温度制御方法を提供せんとするもので、以下その具
体的方法を図示の実施例により説明する。
In view of the above-mentioned problems, the present invention aims to provide a stable temperature control method in the MCVD method, and a specific method thereof will be explained below with reference to illustrated embodiments.

第3図に示す本発明の実施例において、ガラス管1内に
は第1図で説明したと同様の方法でガラスが堆積形成さ
れることになる。
In the embodiment of the invention shown in FIG. 3, glass is deposited in the glass tube 1 in a manner similar to that described in FIG.

したがつてトラバース機構を介してバーナ6がF−+B
方向へ往動する強火状態のとき、ガラス管1は加熱され
、かつ、バーナ6が強火状態から弱火状態に切り換えら
れるB−+F方向への復動時、ガラス管1は自然冷却さ
れる。
Therefore, the burner 6 becomes F-+B via the traverse mechanism.
The glass tube 1 is heated when moving forward in the high flame state, and is naturally cooled when moving back in the B-+F direction when the burner 6 is switched from the high flame state to the low flame state.

また、トラバース機構によりバーナ6と共に移動する温
度検出器11はガラス管1の表面温度を検出して該バー
ナ6を制御し、これにより所定の温度制御を行なわしめ
る。
Further, a temperature detector 11 that moves together with the burner 6 by a traverse mechanism detects the surface temperature of the glass tube 1 and controls the burner 6, thereby performing predetermined temperature control.

以下この温度制御について説明すると、はじめバーナ6
によるガラス管1の加熱温度は温度設定器15を介して
PID調整器14の出力を調整することにより1750
℃(精度土5℃)に設定される。
To explain this temperature control below, first burner 6
The heating temperature of the glass tube 1 can be set to 1750 by adjusting the output of the PID regulator 14 via the temperature setting device 15.
℃ (accuracy: 5℃).

バーナ6がF点に位置しているとき、該F点側にある常
開のリミツトスイツチFSが閉成状態となるため、サー
ボユニツト16の界磁コイルCが励磁され、スイツチL
OKlは自己保持により閉成される。
When the burner 6 is located at point F, the normally open limit switch FS on the F point side is closed, so the field coil C of the servo unit 16 is excited and the switch L is turned on.
OKl is closed by self-retention.

こうしてスイツチLOKlが閉成されると、常閉のスイ
ツチLOK2は開となり、常開のスイツチLOK3は閉
の状態となる。
When the switch LOKl is closed in this manner, the normally closed switch LOK2 is opened and the normally open switch LOK3 is closed.

こうした状態においてバーナ6がF点からB点へと往動
する第1回目のとき、温度検出器11はガラス管1の表
面温度を検出し、その検出信号(検出値)をPID調整
器14へ入力させる。
When the burner 6 moves from point F to point B for the first time under these conditions, the temperature detector 11 detects the surface temperature of the glass tube 1 and sends the detection signal (detection value) to the PID regulator 14. Let them input.

このPID調整器14は上記検出値と設定温度とを比較
演算し、かつ、その偏差出力に基く信号をサーボユニツ
口6の可変抵抗(デバイド抵抗)VRlへゲイン調整入
力として入力させる。上記可変抵抗VRlからの信号は
スイツチLOK3、増巾器(プリアンプ)AMPlを経
て可変抵抗VROに入り、さらに可変抵抗VROからの
信号が酸素供給系17および水素供給系18の各流量調
整器19,20に入り、これにより両系17,18の酸
水素供給量が例えば5(酸素):1(水素)程度に制御
されてバーナ火力すなわちガラス管1の加熱温度が設定
温度に保持される。さらにバーナ6がF点からB点に達
したとき、モータ9が位置検出器12からの信号により
逆回転するため、該バーナ6はB点からF点へと復動す
るようになり、このときそのバーナ火力も既知のごとく
弱火に切り換えられるが、当該バーナ6がB点に達した
ときには常閉のリミツトスイツチBSが開成される。
The PID regulator 14 compares and calculates the detected value with the set temperature, and inputs a signal based on the deviation output to the variable resistor (divided resistor) VRl of the servo unit port 6 as a gain adjustment input. The signal from the variable resistor VRl passes through the switch LOK3 and the amplifier (preamplifier) AMPL, and then enters the variable resistor VRO, and furthermore, the signal from the variable resistor VRO enters the flow rate regulators 19 and 19 of the oxygen supply system 17 and the hydrogen supply system 18, respectively. 20, thereby controlling the amount of oxyhydrogen supplied to both systems 17 and 18 to, for example, about 5 (oxygen):1 (hydrogen) and maintaining the burner thermal power, that is, the heating temperature of the glass tube 1 at the set temperature. Furthermore, when the burner 6 reaches the point B from the point F, the motor 9 rotates in the opposite direction due to the signal from the position detector 12, so the burner 6 moves back from the point B to the point F. The burner power is also switched to low heat as is known, but when the burner 6 reaches point B, the normally closed limit switch BS is opened.

このリミツトスイツチBSが開成されると、スイツチL
OK2が閉成されると共にスイツチLOK3は開成状態
となり、温度検出器11による検出信号はスイツチLO
K2側を通つてサーボユニツト16の増巾器AMP2へ
入力される。
When this limit switch BS is opened, switch L
When OK2 is closed, switch LOK3 is opened, and the detection signal from temperature sensor 11 is output to switch LO.
The signal is input to the amplifier AMP2 of the servo unit 16 through the K2 side.

第1回目の加熱後においてバーナ6がB点からF点へ復
帰したとき、ガラス管1の貯熱温度は250℃程度とな
つており、したがつて温度検出器11はこの温度を検出
してこれを増巾器AMP2へ入力させることになる。
When the burner 6 returns from point B to point F after the first heating, the heat storage temperature of the glass tube 1 is about 250°C, so the temperature detector 11 detects this temperature. This will be input to the amplifier AMP2.

一方、この検出信号を受けた増巾器AMP2は該検出信
号に基きポリユームVR2を変化させながらサーボモー
タMsを所定値だけ回転させ、これにより可変抵抗VR
lを上記貯熱温度に比例して変化させる。
On the other hand, upon receiving this detection signal, the amplifier AMP2 rotates the servo motor Ms by a predetermined value while changing the polyurethane VR2 based on the detection signal.
l is changed in proportion to the heat storage temperature.

つまり、バーナ6がB点からF点へ復動した時点で温度
検出器11がガラス管1の貯熱温度(第1回目約250
℃)を検出したとき、サーボユニツト16はこれに基い
てその貯熱温度分を減じるべく可変抵抗R,を変化させ
るから、第1回目の加熱温度(設定温度1750℃と近
似)をT1第1回目の貯熱温度をt1とすると、第2回
目の加熱時には(T−t1)の状態において設定温度を
保持すべくPID出力が調整されることになる。
In other words, when the burner 6 moves back from point B to point F, the temperature detector 11 detects the heat storage temperature of the glass tube 1 (approximately 250
℃), the servo unit 16 changes the variable resistor R to reduce the heat storage temperature based on this, so the first heating temperature (approximately the set temperature 1750℃) is set to T1 Assuming that the heat storage temperature for the second time is t1, the PID output is adjusted to maintain the set temperature in the state of (T-t1) during the second heating.

また、バーナ6がF点へ復動して上記可変抵VRlが調
整されたとき、常開のメモリースイツチLOK4が閉成
され、サーボユニツト16の動作を止めるべくサーボモ
ータMs等の電源が切られることになる。上記において
パーナ6がF点から第2回目の往動を開始し、B点へ達
するまでの間、前述したPID調整器14、可変抵抗V
R,、スイツチLOK3、増巾器AMP,、可変抵抗R
Oなどの系により酸素供給系17および水素供給系18
の各流量調整器19,20が調整されて設定温度に保持
されると共に該バーナ6がB点に達したとき、リミツト
スイツチBSが閉成され、その後同バーナ6がF点に復
帰したとき、リミツトスイツチFSが開成されることと
なるが、これらリミツトスイツチBS,FSが作動した
ときの動作は前記と同じである。
Furthermore, when the burner 6 moves back to point F and the variable resistor VRl is adjusted, the normally open memory switch LOK4 is closed and the power to the servo motor Ms etc. is turned off to stop the operation of the servo unit 16. It turns out. In the above, the PID regulator 14, the variable resistor V
R, Switch LOK3, Amplifier AMP, Variable resistor R
Oxygen supply system 17 and hydrogen supply system 18 by O system etc.
When the burner 6 reaches point B, the limit switch BS is closed, and when the burner 6 returns to point F, the limit switch is closed. FS will be opened, but the operations when these limit switches BS and FS are activated are the same as described above.

このようにバーナ6が第2回目の加熱を終えてF点まで
戻つたとき、先と同じくサーボユニツト16が作動し、
温度検出に基く可変抵抗VRlの調整が行なわれるが、
第2回目のガラス管貯熱温度T2は第1回目の貯熱温度
t1よりも高くなつているから、第2回目の加熱時には
、(T−T2)の状態において設定温度を保持すべくP
ID出力が調整される。
In this way, when the burner 6 finishes the second heating and returns to point F, the servo unit 16 operates as before,
The variable resistor VRl is adjusted based on temperature detection, but
Since the second glass tube heat storage temperature T2 is higher than the first heat storage temperature t1, during the second heating, P
ID output is adjusted.

以下、第4回目の加熱も上記と同じであり、該4回目の
加熱時には第3回目の貯熱温度T3を検出してPID出
力の調整が行なわれ、さらに第5回目の加熱後では貯熱
温度が飽和点(400℃)に達するから、それ以降の加
熱(第6回目〜第100回目)ではPID出力を略一定
としながら上記の温度制御が行なわれる。
Hereinafter, the fourth heating is the same as above, and during the fourth heating, the third heat storage temperature T3 is detected and the PID output is adjusted, and after the fifth heating, the heat storage temperature T3 is detected and the PID output is adjusted. Since the temperature reaches the saturation point (400° C.), the above temperature control is performed while keeping the PID output substantially constant in subsequent heating (6th to 100th times).

上記においてガラス管1を繰り返し加熱するとき、該ガ
ラス管1の貯熱温度を無視して加熱すると、その貯熱温
度による士昇傾向により温度制御時のオーバシユート量
が多くなるが、前述したように貯熱温度分だけ減じて当
該加熱時の温度制御を行なえば、第4図のごとく制御温
度は安定し、これに起因した不良品の発生が阻止できる
When heating the glass tube 1 repeatedly in the above, if the heat storage temperature of the glass tube 1 is ignored, the amount of overshoot during temperature control will increase due to the tendency of the heat storage temperature to increase. If the temperature during heating is controlled by reducing the heat storage temperature, the controlled temperature becomes stable as shown in FIG. 4, and the occurrence of defective products due to this can be prevented.

つぎに本発明の第2実施例を第5図、第6図により説明
する。前述でも少し述べたが、ガラス管1を繰り返し加
熱したときの貯熱温度Tl,t2.t3・・・・・・は
第5図のようになる。
Next, a second embodiment of the present invention will be explained with reference to FIGS. 5 and 6. As mentioned above, the heat storage temperatures Tl, t2 . when the glass tube 1 is repeatedly heated. t3... is as shown in FIG.

つまり第1回目(t1入第2回目(T2)、第3回目(
T3)・・・・・・のように回を経るにしたがい高くな
り、第5回目(T5)で飽和点に達する。
In other words, the first time (T1 entered the second time (T2), the third time (T2),
T3) It increases as the number of times passes, and reaches the saturation point at the fifth time (T5).

また、各回ごとの貯熱温度は、ガラス管1の寸法、バー
ナ6の加熱温度、ガラス管1の冷却状況等によつて定ま
り、これらの設定条件が一定であるならば各回ごとの貯
熱温度も一定となる。したがつてある種の条件を定め、
各回ごとの貯熱温度を測定すれば、その測定値に基いて
自動加熱制御時のプログラミングが実現できる。第6図
の実施例ではこうした背景に立つて先と同様の温度制御
が行なわれる。
In addition, the heat storage temperature for each time is determined by the dimensions of the glass tube 1, the heating temperature of the burner 6, the cooling status of the glass tube 1, etc., and if these setting conditions are constant, the heat storage temperature for each time is is also constant. Therefore, certain conditions are established,
By measuring the heat storage temperature each time, programming during automatic heating control can be realized based on the measured value. In the embodiment shown in FIG. 6, temperature control similar to that described above is performed based on this background.

以下この点を説明すると、第6図の実施例ではサーボユ
ニツト16のステツピング回路21により可変抵抗VR
l,VR2,VR3・・・・・VR6が切り換わるよう
になる。
To explain this point below, in the embodiment shown in FIG.
l, VR2, VR3...VR6 will be switched.

つまりF点から往動し、B点で復動するバーナ6がその
F点に位置すると、ステツピング回路21のスイツチS
は閉成されるようになり、これにより第1回目のバーナ
加熱時には可変抵抗VR,のスイツチS,が閉成され、
第2回目のバーナ加熱時には可変抵抗R2が閉成され、
さらに第3回目のバーナ加熱時には可変抵抗VR3のス
イツチS3・・・・・・といつたように1願次各スイツ
チSlS2S3・・・・・・S6が閉成されるようにな
る。
In other words, when the burner 6, which moves forward from point F and moves back at point B, is located at point F, the switch S of the stepping circuit 21
As a result, during the first burner heating, the switch S of the variable resistor VR is closed.
During the second burner heating, variable resistor R2 is closed,
Further, during the third burner heating, the switches S1S2S3...S6 of the variable resistor VR3 are closed in the same way as the switch S3...S6 of the variable resistor VR3.

上記における第1回目の加熱時、可変抵抗VRlのスイ
ツチS1が閉成されるが、この加熱時にはガラス管1に
貯熱温度がなく、したがつてこの状況に対応して設定さ
れている可変抵抗VRlは、貯熱温度のない状態におい
てガラス管1を設定温度に保持すべく温度検出器11、
PID調整器14からの信号を増巾器AMP,、可変抵
抗VROl流量調整器19,20へと送り、これにより
バーナ6の火力を調整するようになる。つぎに第2回目
の加熱時、可変抵抗R2のスイツチS2が閉成されるが
、このときには第1回目の貯熱温度t1がガラス管1に
あり、したがつて第1回目の貯熱温度t1に対応して設
定されている可変抵抗VR2は、その貯熱温度分を減じ
た状態において温度検出器11、PID調整器14から
の信号を上記の系へ送り、これより先と同様のバーナ火
力調整を行なう。
During the first heating described above, the switch S1 of the variable resistor VRl is closed, but at the time of this heating, there is no heat storage temperature in the glass tube 1, and therefore the variable resistor is set corresponding to this situation. VRl includes a temperature detector 11 to maintain the glass tube 1 at a set temperature in a state where there is no heat storage temperature;
The signal from the PID regulator 14 is sent to the amplifier AMP and the variable resistance VROL flow regulators 19 and 20, thereby adjusting the thermal power of the burner 6. Next, during the second heating, the switch S2 of the variable resistor R2 is closed, but at this time the first heat storage temperature t1 is in the glass tube 1, so the first heat storage temperature t1 The variable resistor VR2, which is set corresponding to Make adjustments.

以下、第3回目、第4回目・・・・・・の加熱時にも各
回ごとの貯熱温度T3,t4・・・・・・に応じたバー
ナ調整が自動的に行なわれ、第5回目の貯熱温度T5は
飽和点に達する。
Thereafter, during the third, fourth, etc. heating, the burner adjustment is automatically performed according to the heat storage temperature T3, t4, etc. for each heating. The heat storage temperature T5 reaches a saturation point.

貯熱温度が飽和点に達した後、すなわち第5回目のバー
ナ加熱を終えた後は、スイツチSにより可変抵抗R6の
スイツチS6のみが繰り返し閉成されるようになり、し
たがつて第6回目以降最終回(第100回目程度)まで
のバーナ加熱時には、飽和点に達した貯熱温度分を減じ
た状態において設定温度を保持すべきバーナ制御が行な
われる。
After the heat storage temperature reaches the saturation point, that is, after the fifth burner heating is completed, only the switch S6 of the variable resistor R6 is repeatedly closed by the switch S. Thereafter, during burner heating up to the final round (approximately the 100th round), burner control is performed to maintain the set temperature in a state in which the heat storage temperature that has reached the saturation point is subtracted.

もちろん、この第6図の実施例においても貯熱温度によ
る影響を補正しながらガラス管1を加熱することになる
ので、前記実施例と同様の効果が得られる。以上説明し
た通り、本発明方法によるときはMCVD法を介してガ
ラス管内にガラス層を堆積させるとき、ガラス管に生じ
た貯熱温度との相関関係でバーナによるガラス管加熱温
度を制御するようにしているので、当該加熱温度制御時
のオーバシユート量が上記貯熱温度に影響されて増加す
るといつたことはなくなり、したがつてこの種のガラス
生成時、温度制御不安定による屈折率分布のバラツキは
なくなり、所要屈折率分布のガラス棒を製造する際の歩
留まりが向上するようになる。
Of course, in the embodiment shown in FIG. 6 as well, the glass tube 1 is heated while correcting the influence of the heat storage temperature, so that the same effects as in the previous embodiment can be obtained. As explained above, when using the method of the present invention, when depositing a glass layer inside a glass tube through the MCVD method, the temperature at which the glass tube is heated by the burner is controlled in correlation with the heat storage temperature generated in the glass tube. Therefore, the amount of overshoot during the heating temperature control will no longer increase due to the influence of the heat storage temperature, and therefore, when this type of glass is produced, variations in the refractive index distribution due to unstable temperature control will not occur. This improves the yield when producing glass rods with the desired refractive index distribution.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の前提となるMCVD法の略示説明図、
第2図は従来の加熱温度制御特性を示す説明図、第3図
は本発明方法の1実施例を示す要部説明図、第4図は本
発明の加熱温度制御特性を示す説明図、第5図はガラス
管の貯熱温度を示す説明図、第6図は本発明方法の他実
施例を示す説明図である。 1・・・・・・カラス管、4・・・・・・原料供給系、
6・・・・・・バーナ、10・・・・・・バーナのトラ
バースユニツト、11・・・・・・温度検出器、14・
・・・・・PID調整器、16・・・・・・バーナを制
御するためのサーボユニツト、19,20・・・・・・
バーナの流量調整器。
FIG. 1 is a schematic explanatory diagram of the MCVD method which is the premise of the present invention,
FIG. 2 is an explanatory diagram showing conventional heating temperature control characteristics, FIG. 3 is an explanatory diagram of main parts showing one embodiment of the method of the present invention, and FIG. 4 is an explanatory diagram showing heating temperature control characteristics of the present invention. FIG. 5 is an explanatory diagram showing the heat storage temperature of the glass tube, and FIG. 6 is an explanatory diagram showing another embodiment of the method of the present invention. 1... Glass tube, 4... Raw material supply system,
6... Burner, 10... Burner traverse unit, 11... Temperature detector, 14...
... PID regulator, 16 ... Servo unit for controlling the burner, 19, 20 ...
Burner flow regulator.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ガラス管の外周長手方向に沿つて往復動するバーナ
は、その往動時にガラス管を加熱するように設定してあ
り、該ガラス管内への原料ガス供給と上記バーナ加熱と
を行ないながら前記原料ガスを反応生成させてガラス管
内周にガラス層を繰り返し堆積させるMCVD法におい
て、上記加熱により生じたガラス管の貯熱温度分をバー
ナ調整により減じて当該ガラス管を設定温度に加熱する
ことを特徴としたMCVD法によるガラス生成時の温度
制御方法。 2 バーナの復動時にガラス管の貯熱温度を検出してお
き、該復動後のバーナ往動による加熱時、その検出した
貯熱温度に応じてバーナ火力を減じる特許請求の範囲第
1項記載のMCVD法によるガラス生成時の温度制御方
法。 3 ガラス管の貯熱温度が飽和点に達するまでの間、バ
ーナ往動による加熱時の火力を段階的に減少させる特許
請求の範囲第1項記載のMCVD法によるガラス生成時
の温度制御方法。
[Scope of Claims] 1. A burner that reciprocates along the longitudinal direction of the outer periphery of the glass tube is set to heat the glass tube during reciprocation, and supplies raw material gas into the glass tube and heats the burner. In the MCVD method, in which a glass layer is repeatedly deposited on the inner periphery of a glass tube by reacting the raw material gas while performing the above steps, the heat storage temperature of the glass tube caused by the above heating is reduced by burner adjustment to maintain the glass tube at the set temperature. A method for controlling temperature during glass production using the MCVD method, which is characterized by heating to . 2 The heat storage temperature of the glass tube is detected during the backward movement of the burner, and when heating by the forward movement of the burner after the backward movement, the burner heating power is reduced according to the detected heat storage temperature, Claim 1 A temperature control method during glass production using the MCVD method described above. 3. A temperature control method during glass production using the MCVD method according to claim 1, wherein the heating power during heating by reciprocating burner is gradually reduced until the heat storage temperature of the glass tube reaches the saturation point.
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