JPS5938380A - 帯状金属体の連続パタ−ン蒸着法 - Google Patents

帯状金属体の連続パタ−ン蒸着法

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JPS5938380A
JPS5938380A JP14944182A JP14944182A JPS5938380A JP S5938380 A JPS5938380 A JP S5938380A JP 14944182 A JP14944182 A JP 14944182A JP 14944182 A JP14944182 A JP 14944182A JP S5938380 A JPS5938380 A JP S5938380A
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JP
Japan
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deposited
vapor
vapor deposition
evaporation
pattern
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Pending
Application number
JP14944182A
Other languages
English (en)
Inventor
Sadahiko Sanki
参木 貞彦
Yasuhiko Miyake
三宅 保彦
Mamoru Onda
護 御田
「そね」田 征次
Seiji Soneda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Cable Ltd filed Critical Hitachi Cable Ltd
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Publication of JPS5938380A publication Critical patent/JPS5938380A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は例えば半導体用リードフレームの製造に適用す
ることができる帯状金属体の連続パターン蒸着法に関す
る。
一般に集積回路(IC)およびトランジスタ(T R)
  の組立てに際しては半導体用リードフレームが用い
られるが、この半導体用リードフレームとして長尺の帯
状金属体上にアルミニウムをパターン蒸着したものがあ
る。
このアルミニウムをパターン蒸着したリードフレームは
、従来特公昭45−41451号公報に示されるように
、帯状金属体上にアルミニウムを蒸着した後、所要のア
ルミニウム蒸着部分を液体ビニール等を噴射してマスク
し、不要のアルミニウム蒸着部分をエツチング除去し、
ついで前記マスクを除去して帯状金属体上に所望のアル
ミニウム蒸着パターンを形成するという方法で製造され
る。この方法はマスク、エノチンダ工程が煩雑であり、
したがってアルミニウム蒸着からリードフレーム完成ま
でを1ラインで連続して行なうことができないという問
題がある。
このことからアルミニウムをパターン蒸着したリードフ
レームの効率的な製造方法が検討されるが、その1つと
して予めアルミニウムのパターン蒸着形状に対応する貫
通口模様を有する金属あるいはプラスチック製機械マス
クを用い、これを帯状金属体上に密着当接させて帯状金
属体上にアルミニウムを蒸着すると同時にパターン化す
る方法が考えられる。この方法によれば、機械マスクを
用いることにより製造工程の単純化が図られ1ライン化
が可能であるが、機械マスクは普通短尺品であり蒸着装
置と一体に使用されることから機械マスクにより蒸着を
安定に行なうためには、少なくとも蒸着時において帯状
金属体の移動を停止する必要があり、さらに機械マスク
はその貫通口周縁に必ず蒸着金属が付着するためにその
堆積状況により定期的に洗浄あるいは交換する必要があ
る。
このことから帯状金属体の移動は必然的に間欠的となら
ざるを得す、したがってそのパターン蒸着における生産
性の向上には限界があるV。
これに対し、第1図に示すようにアルミニウムのパター
ン蒸着形状に対応する貫通凹模様を有する遮蔽用エンド
レスベルト1からなるマスクを用いて帯状金属体2上に
アルミニウムを連続パター/蒸着する方法が考えられる
。6輪蒸発源4からのアルミニウム金属蒸気流、5は回
転ドラムである。
この方法においては帯状金属体の移動とマスクの移動は
夫々同期させる必要があり、したがってリードフレーム
の生産性は明らかに向上する。しかしながらこの方法に
よれば、時間の経過とともに遮蔽用エンドレスベルトに
蒸着金属が堆積し、その量が一定“厚さ以上になると脱
落し作業あるいは蒸着品質に支障をきだすと共に、脱落
しない場合においても蒸着金属がエンドレスベルトの貫
通口周縁に付着しこの付着量が増大すればパターン蒸着
の寸法、形状に変化を与えるという問題がある。
このことから、その対策の一つとして一般に定期的に蒸
着作業を中断し、遮蔽用エンドレスベルトに付着した蒸
着金属を除去しエンドレスベルトを洗浄するかあるいは
新しいエンドレスベルトに交換することが行われるが、
このような方法は蒸着厚さが薄くかつ蒸着速度が遅い場
合にはエンドレスベルトの洗浄および交換頻度が少なく
問題とならないが、例えばμオーダーに蒸着厚さが厚く
かつ例えば1μ/min以上に蒸着速度が早い場合には
エンドレスベルトの洗浄および交換頻度が多くなるため
に作業性が著しく悪くなるという問題がある。
まだ、別の対策として堆積した蒸着物を除去するスクレ
ーパー等機構を蒸着装置内に設ける方法もあるが、この
場合除去した蒸着金属片が周囲に飛散し蒸着装置機構部
に落下したり円滑に除去できずエンドレスベルトに傷を
付は正常な蒸着を困難にするという問題がある。
本発明の目的は、上記点に鑑みきわめて生産性が高くか
つ高精度に蒸着を行うことができると共にまた蒸着厚さ
を高め蒸着速度を上げることができる帯状金属体の連続
パターン蒸着法を提供することにある。
すなわち本発明の要旨は、表面にパターン蒸着すべき長
尺の帯状金属体と前記パターン蒸着の形状に対応する貫
通凹模様を有する長尺の遮蔽用帯状金属体を夫々コイル
巻き状態から同時に繰り出して重ね合わせ、この重ね合
わせ状態において前記貫通凹模様を通して所望の金属蒸
気流をパターン蒸着すべき帯状金属体の表面に蒸着させ
、その後両帯状金属体を分離し夫々コイル状に巻取るよ
うにしたことにある。
本発明において遮蔽用帯状金属体を用いる理由は、これ
がプラスチックテープなどだと蒸着厚さが1/10〜1
/100μのオーダーで非常に薄い場合には蒸着時間が
短時間で済むために蒸発源からの熱影響が少ないこと、
また蒸着金属について高度の密着性を要求しない場合に
は蒸着すべき金属体を予熱することが不要であることな
どからプラスチックテープで十分であるが、蒸着金属に
ついて厚く強固な密着性が要求される場合には蒸着時間
が長くなり予熱等も必要となることから熱影響が無視で
きなくな9、そこで耐熱性の要求に適するものとして帯
状金属体が採用されたものである。
次に添付図面を参照し本発明の一実施例をアルミニウム
被覆半導体用リードフレームの製造を例にとって説明す
る。
第2図および第6図において、幅50m+n、厚さ0.
1rrr!n1長さ500mのFe−42%Ni合金条
からなる帯状金属体6と、幅50m、厚さ0.1511
1+I+、長さ500mの長手方向50閣間隔毎に20
關角の貫通口17を有するステンレス鋼条からなる遮蔽
用帯状金属体7を、夫々コイル巻き8,9状態にして真
空蒸着装置の送シ出し側にセットする。前記帯状金属体
6を夫々矢印方向に同時に繰り出し、押えロール10.
11および押えロール12.13をもって夫々直径1m
の回転ドラム14上に導き、パターン蒸着すべき帯状金
属体6を内側にして互いに重ね合わせる。この重ね合わ
せ状態においては両帯状金属体6.7の移動速度’ri
、 0.5 m 7’ minである。禽発源15から
はアルミニウム金属蒸気流16が遮蔽用帯状金属体7の
貫通口17を通して蒸着すべき帯状金属体1の所定の部
分に1μ/罷の蒸着速度で蒸着される。蒸着後両帯状金
属体6,7を分離し、夫々コイル巻き18.19に巻取
る。この結果、裁着すべき帯状金属俸乙の表面に、厚さ
2μのアルミニウムスポノトハターン蒸着膜20が形成
される。
なお、このようなパターン蒸着膜2oを形成した帯状金
属体6は、本実施例においては半導体用リードフレーム
として使用されるからその後打抜きがなされるが、この
ような場合予め打抜きがなされた帯状金属体を本発明の
出発材料として使用することも可能である。
次に第4図により本発明の他の実施例を同じく半導体用
リードフレームを例にとって説明する。
幅50M、厚J[]、iM、長さ10000mのFe−
42%Ni合金条からなる蒸着すべき帯状金属体21と
、幅60mm、厚さQ、15m+++、長さ10000
mの長手方向50胴間隔毎に20脳角の貫通口(図示せ
ず)を有するステンレス鋼条からなる遮蔽用帯状金属体
22を、夫々コイル巻き23.24状態のところから押
えロール25.26および押えロール27.28を介し
て夫々直径300市回転ドラム29.30上に導き、こ
こで両帯状金属体21.22を一体に重ね合わせる。蒸
発源61からのアルミニウム金属蒸気流62を遮蔽用帯
状金属体22の貫通口を通して蒸着すべき帯状金属体2
1の表面にアルミニウムを2μ蒸着する。
なお帯状金属体21.22の移動速度は5m/酊であり
、アルミニウムの蒸着速度は10μ/mI7+である。
蒸着後両帯状金属体21.22を分離し、夫々コイル巻
き33.34状態に巻取る。
以上説明したように、本発明によれば蒸着すべき長尺の
帯状金属体と遮蔽用帯状金属体を夫々コイル巻状態から
同時に繰り出して重ね合わせ、蒸着することから動作が
連続的であシ、きわめて生産性の高い方法で非常に高度
かつ安定した寸法精度をもって帯状金属体のパターン蒸
着を行なうことができる。また、蒸着厚さを高め蒸着速
度を上げることができると共に蒸着膜の脱落の危険性が
ないため蒸着の品質を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来例を示す正面図、第2図は本発明の一実施
例を示す正面図、第6図は同概略を示す斜視図、第4図
は本発明の他の実施例を示す正面図である。 6.21 :帯状金属体、7.22:遮蔽用帯状金属体
、8,9,23,24 :コイル巻き、18.19,3
3,34:コイル巻き、14.29,30 :回転ドラ
ム、 15.31:蒸発源、 16.32ニアルミニウム金属蒸気流、17二貫通口、 20:アルミニウムスポラトノζターン蒸着膜。 捧 1 図 算2日 隊 4 図 1

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、 表面にパターン蒸着すべき長尺の帯状金属体と前
    記パターン蒸着の形状に対応する貫通口模様を有する長
    尺の遮蔽用帯状金属体を夫々コイル巻き状態から同時に
    繰り出して重ね合わせ、この重ね合わせ状態において前
    記貫通口模様を通して所望の金属蒸気流をパターン蒸着
    すべき帯状金属体の表面に蒸着させ、その後両帯状金属
    体を分離し、夫々コイル状に巻取ることを特徴とする帯
    状金属体の連続パターン蒸着法。
JP14944182A 1982-08-27 1982-08-27 帯状金属体の連続パタ−ン蒸着法 Pending JPS5938380A (ja)

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JPS5938380A true JPS5938380A (ja) 1984-03-02

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ID=15475180

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6113653A (ja) * 1984-06-29 1986-01-21 Dainippon Printing Co Ltd 半導体リ−ドフレ−ムの金属部分被覆法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS596372A (ja) * 1982-07-03 1984-01-13 Shinko Electric Ind Co Ltd 金属帯条の部分真空蒸着方法およびその装置

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