JPS593477B2 - 環状エ−テルの製造方法 - Google Patents

環状エ−テルの製造方法

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JPS593477B2
JPS593477B2 JP52018972A JP1897277A JPS593477B2 JP S593477 B2 JPS593477 B2 JP S593477B2 JP 52018972 A JP52018972 A JP 52018972A JP 1897277 A JP1897277 A JP 1897277A JP S593477 B2 JPS593477 B2 JP S593477B2
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acid
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【発明の詳細な説明】 本発明は、グリコールの酢酸エステルよりー段で環状エ
ーテルを製造する方法に関するものである。
詳しくは、1・4−ブタンジオール又は1・4−ジヒド
ロキシブテンー2の酢酸エステルからテトラヒドロフラ
ン又はジヒドロフランを製造する方法の改良に係るもの
である。テトラヒドロフランは、種々の物質に対する溶
剤、特にポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の高分
子物質の溶剤として有用な物質であり、従来、種々の方
法で製造されている。
例えば、フル5 フラールの脱カルボニル化で得られる
フランを接触水素化する方法、或はアセチレンとホルム
アルデヒドとの反応で得られるブチンジオールを水素化
してブタンジオールとなし、次いで脱水環化する方法、
更には1 ・4−ブタンジオールのジ酢10酸エステル
を酸触媒の存在下水と反応させる方法が知られている。
1・4−グリコールの酢酸エステルを原料とする環状エ
ーテル、特にテトラヒドロフランを製造する場合、反応
に必要な水を理論量より過剰に使15用し、且つ水蒸気
として原料エステルと気液向流接触させるならば、高い
転換率で環状エーテルを生成し、生成した環状エーテル
を気相で反応系外に取出すことが出来ることも知られて
いる。
しかして、本環化反応においてn−ブチルアル20 デ
ヒドカ福l生するが、n−ブチルアルデヒドは、テトラ
ヒドロフランの主用途であるポリテトラメチレングリコ
ール製造のための開環重合反応において、悪影響を及ぼ
すので、製品テトラヒドロフラン中の含有率を通常50
0ppm(重量)以下、25好ましくは200pμm以
下、ある場合には100pμm以下にすることが必要と
される。しかるに、n−ブチルアルデヒドは、テトラヒ
ドロフランと挙動を同じく、テトラヒドロフラン及び水
の存在する系においては共沸組成を形成す30るので、
通常の蒸留手段によリブチルアルデヒドのみを除去する
ことは困難である。それ故、高純度のテトラヒドロフラ
ンを得るためは、ブチルアルデヒドを除去する際、かな
りの量のテトラヒドロフランが失われていた。35本発
明者は、製品テトラヒドロフラン中のブチルアルデヒド
の含有率を低減させる工業的に有利な環状エーテル、特
にテトラヒドロフランの製造法について鋭意研究した結
果、反応系から排出されるテトラヒドロフラン中のn−
ブチルアルデヒドの含有率は反応条件に依存し、外部か
ら過剰のn−ブチルアルデヒドを反応系に供給しても、
排出されるテトラヒドロフラン中のn−ブチルアルデヒ
ド含有率はある一定値に制御されることを見出し、本発
明を達成した。
即ち、本発明は、1・4−グリコールの酢酸エステルか
ら高純度のテトラヒドロフランを工業的有利に製造する
方法を提供することを目的とし、かXる目的は本発明に
従い、1・4−ブタンジオール又は1 ・4−ジヒドロ
キシブテン−2の酢酸エステルを酸触媒の存在下水と反
応させて環状エーテルを製造する方法において(a)反
応域から環状エーテル含有反応生成物を気相で留出させ
、(b)該留出物を蒸留して環状エーテルを主体とする
留分を缶出液として取出し、(c)該缶出液を更に蒸留
して環状エーテルを留去し、他方ブチルアルデヒド含有
缶出液は反応域に循環することにより容易に達成される
次に本発明を更に詳細に説明する。
本発明方法の原料として使用する1・4−ブタンジオー
ル又は1・4−ジヒドロキシブテン−2の酢酸エステル
としては、1・4−ジアセトキシブタン、1−ヒドロキ
シ−4−アセトキシブタン、1・4−ジアセトキシブテ
ン−2、1−ヒドロキシ−4−アセトキシブテン−2等
の1・4−グリコールのモノ酢酸エステル及びジ酢酸エ
ステルを包含するものである。
そしてこれらの酢酸エステルは種々の方法で製造される
。その一つは、パラジウム系触媒の存在下ブタジエン、
酢酸、酸素又は酸素含有ガスを反応させて得られるアセ
トキシ化反応生成物から1・4−ジアセトキシブテン−
2、1−ヒドロキシ−4−アセトキシブテン−2等を分
離して得たものを本反応原料に使用するとともに、又ア
セトキシ化反応物を水素化して得られる1・4−ジアセ
トキシブタン及び1−ヒドロキシ−4−アセトキシブタ
ンも原料として使用される。
これらグリコールの酢酸エステルは、前記の如き酢酸エ
ステルを主体とするが、その製造及び精製処理工程によ
つては異性体である1・2一或は1・3−グリコールの
酢酸エステルを付随することもあり、更に又、水素化工
程で副生する酢酸ブチル、酢酸等を含有していることも
ある。
しかしながら純度99,5%以上の1・4−グリコール
酢酸エステルを使用するのが好ましい。1−ヒドロキシ
−4−アセトキシブタンとしては、前記の1・4−ジア
セトキシブタンを部分加水分解することによつても得る
ことは出来るが、プロピレンをパラジウム系触媒の存在
下分子状酸素及び酢酸と反応させてアリルアセテートを
製造し、次いでこれをオキソ反応に付して4−アセトキ
シブチルアルデヒドとなし、引続き水素化することによ
つて製造したものを使用するのが有利であり、その際オ
キソ反応時に副生する2−メチル3−アセトキシプロピ
オンアルデヒドに由来する2−メチル−3−アセトキシ
プロピルアルコールが含まれていても本反応原料として
何等差支えない。
又、本反応の他方の原料である水は特に制限は無いが、
塩素イオンを含有しないのが望ましい。
本発明方法に使用される酸触媒としては不揮発性である
ことが必要であり、液状酸と固体酸とがある。液状酸と
しては、硫酸、リン酸等の無機酸、ベンゼンスルホン酸
、トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸
等の有機スルホン酸が挙げられるが、硫酸が最も経済的
である。固体酸としては、活性白土、シリカチタニア、
シリカアルミナ、シリカジルコニア、クロミアアルミナ
、シリカマグネシア、天然及び合成ゼオライト、強酸性
陽イオン交換樹脂等が挙げられる。これらの酸触媒の使
用量は酸の種類によつても異なり画一的に定めることは
出来ないが、液状酸の場合は、原料ジエステル1部に対
し0.01〜100重量部程度使用される。
又、固体酸触媒を使用する場合は、充填塔中に触媒床と
して使用するので、装置の容量、触媒の活性能に依存す
る。本発明方法の実施態様としては、気一液接触が十分
行われれば特に制限はなく、例えば次のような態様が挙
げられる。(1)気泡塔或は攪拌槽型反応器中に触媒(
液状酸又は固体酸懸濁床)を装入しこれに液状のグリコ
ール酢酸エステルを供給し、さらと装置下部よりスチー
ムを吹込み、必要により外部より加熱して反応を行なう
この際気泡塔の場合は塔の中に多孔板の仕切板をおき、
塔頂より液を塔底よりスチームを供給するのが好ましく
、さらにこの反応器を多段にして上流より液を下流より
スチームを供給するのがよい。
攪拌槽の場合は、多段槽にして同様にするのがよい。触
媒として液状酸を使用する場合連続供給してもよいし、
あらかじめ装入しておいてもよい。(2) ラシヒリン
グ、ベルサドル、インタロツクスサドル等の磁製或は金
属製の充填物を充填した塔に液状の原料酢酸エステル及
び不揮発性酸触媒を供給し、同時に水蒸気を供給し反応
させる。
その際、液状原料とスチームとを気液並流で反応器上部
より下方に、或は下部より上向に通過させることによつ
て実施することも出来るが、気液を向流接触させるのが
より好ましく、特に液状原料を上部より下降させ、スチ
ームを上向に流通させるのが特に好ましい。又、この反
応器を多段にすると更に効果を上げることが出来る。液
状反応生成液は、必要に応じ外部循環され、生成環状エ
ーテル及び酢酸を含有する気相部は反応系外に取り出し
、本発明方法に従い蒸溜によりエーテルを回収する。(
3)前記(2)の実施態様において充填物のかわりに固
体酸触媒を充填した反応塔に原料酢酸エステル及びスチ
ームを供給し反応させるが気一液並流、気一液向流いず
れの方式でもよく、特にエステルの液体原料を塔頂より
流下させ、スチームを塔底部より上向に通過させる気一
液向流方式が最も好ましい。
以上いずれの態様においても、反応器は耐酸性であるこ
とが必要であり、触媒として固体酸を使用する場合はS
US3l6製のものが、又、液状酸を使用する場合で反
応温度が低い(100℃まで)時はSUS3l6製のも
の、幾分温度が高い時はハステロイ、さらに高いときは
ガラスライニングのものが用いられる。
反応温度は通常100〜200℃が適当であり、120
〜160℃がより好適であるが、液状酸を触媒とする場
合は幾分低い温度が採用され、固体酸触媒の場合は12
0℃以上のより高い温度が採用される。圧力は、常圧〜
3k9/CrliG、好ましくは常圧〜1kg/Cr!
IGで操作される。以上の如くして生成したテトラヒド
ロフランは、フ反応域から酢酸、水と一緒に気相で排出
する。
この反応生成物含有留分は次いで蒸留に付し、テトラヒ
ドロフランは缶出液として取出す。その際、その蒸留圧
力下での水−テトラヒドロフラン共沸組成よりも水の含
有量が多いとテトラヒドロフランが留出し、缶出液とし
て取出すことが困難となるので、その場合は、あらかじ
め水の量を減少させるための予備処理を施すのが望まし
い〜 水の量を減らすためには、反応生成物含有留出物を再度
、酸触媒の存在下1・4−ジアセトキシブタンと反応さ
せることによつても行なうことが出来るが、より確実に
はテトラヒドロフラン缶出蒸留塔よりも低い圧力条件下
予備蒸留し、テトラヒドロフラン一水留分を留出し、余
分の水を酢酸と共に缶出分離することにより達成される
そして、水の量を減じた留出物をテトラヒドロフラン缶
出蒸留塔において、予備蒸留の圧力条件よりも高い圧力
下蒸留するならば、残余の水はテトラヒドロフランと共
に留出し、実質的に水を含まないテトラヒドロフランが
缶出液として取出される。しかして、予備蒸留(低圧蒸
留)の操作条件は、通常圧力600T0rr〜3kg/
C77i.G、好ましくは常圧〜1k9/CdG、還流
比0.5〜5、好ましくは1〜3である。又、テトラヒ
ドロフラン缶出蒸留(高圧蒸留)は、通常、圧力3〜2
0k9/CrAG、好ましくは5〜10ky/CdG、
還流比0,5〜5、好ましくは1〜3で操作される。以
上の操作により、得られた実質的に水を含まない缶出テ
トラヒドロフランは、その使用目的によつてはそのまま
使用することも出来るが、本願の目的とする高純度の環
状エーテルを取得するためには、得られた缶出テトラヒ
ドロフランを更に蒸留する必要がある。
即ち、前述の如き反応条件下で反応して得られる気相反
応留出物中には、通常、テトラヒドロフランに対し、1
000乃至200ppm(重量)のn−ブチルアルデヒ
ドが含まれている。そして、水の存在下、n−ブチルア
ルデヒドはテトラヒドロフランと共沸するので、通常、
反応生成物中のn−ブチルアルデヒドの大部分は、缶出
テトラヒドロフランと共に最終蒸留塔に移行する。最終
蒸留塔でテトラヒドロフランを留出させ、所望の高純度
の製品を回収するが、n−ブチルアルデヒドが濃縮され
ている缶出液は、本願方法に従い、反応域に循環する。
最終蒸留塔の操作条件は、通常、圧力、常圧〜1.0k
9/CrllGl好ましくは、常圧下、理論段10段以
上、好ましくは25段、還流比0.5以上、好ましくは
1.5以上の範囲で適宜選定される。缶出液中のブチル
アルデヒドの含有率は0.1〜10wt%程度であり、
他は主としてテトラヒドロフランより成るが、そのまま
反応域に循環する。
かkる過剰のn−ブチルアルデヒドを含有しているテト
ラヒドロフラン缶出液を反応域に循環しても反応域から
留出する反応生成物のn−ブチルアルデヒド含有率は、
前記反応条件下で1000〜200ppmの範囲内に保
たれ、最終蒸留塔上部より得られるテトラヒドロフラン
中のn−ブチルアルデヒドの含有率は定常状態において
500ppm以下に制御される。以上、詳述した如く、
本願方法によれば、製品蒸留塔のn−ブチルアルデヒド
含有缶出液をそのまま反応域に循環するという極めて簡
単な手段により反応域から留出する生成物中のn−ブチ
ルアルデヒド含有率をある一定値以下に保持することを
可能にし、反応系内においてn−ブチルアルデヒドの副
生を抑制するのみならず、高純度の製品を取得する際に
失われて〜・たテトラヒドロフランの回収をも達成する
のである。
次に、本発明方法を実施例により更に具体的に説明する
が、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限
定されるものではない。
実施例 1 添付図面に従つて反応を行つた。
反応器1として内容積501のスチーム加熱ジヤケツト
及び攪拌器付ガラスライニングのものを用い、加熱スチ
ームの圧力を調節して反応器内部を常圧、130℃に保
つた。
反応器に導管1を通じて1・4−ジアセトキシブタン0
.766k9/Hrl導管7を通じて循環される沢過液
0.317kg/Hr並びに導管9を通じて第3蒸留塔
の缶出液0.007kg/Hrlを夫々供給した。
反応器からは、導管2を通じて下記組成の留出物0.8
77kg/Hrが得られた。
留出物の組成 テトラヒドロフラン(THF) 36.1(重量)%水
3.6〃酢酸(AcO
H) 60.3〃この組成物中には、n−
ブチルアルデヒド(NBD)がTHFに対し230pp
m(重量)含まれていた。
この留出物を導管2を通じて、第1蒸留塔v(10mh
X0,1mφ: SUS3l6製:デイクソンパツキン
充填)に供給し、常圧、還流比1.5で操作し塔頂より
0.5m下の位置から側流として留出物を0.337k
9/hの速度で得た。
この留出物中には、NBDがTHFに対して、215p
pm含まれていた。第1蒸留塔の塔底か嗅亀H2O2.
2wt%、AeOH97.8wt%から成る缶出液が0
.540k9/hで導管@を通つて得られた。この留出
物を導管9を通じて第2蒸留塔(:構造は第一蒸留塔に
同じ)に供給して圧力7KV藏L還流比2.0で操作し
たところ、塔頂より導管◎を通じTHF86.7wt%
並びにH2Ol3.3wt%を含み且つ、NBDをTH
Fに対し220ppm(Wt)含有する留出物が0.1
50kg/hの速度で得られた。
塔底からは導管@により純度99.9wt%以上で、N
BDをTHFに対して220ppm(Wt)含有してい
るTHFが0.187kg/hで得られた。
この缶出物を導管@を通じて第3蒸留塔(:構造は第一
蒸留塔に同じ)に供給して常圧、還流比2.0で操作し
て塔頂より導管◎を通じTHFに対してNBDが110
ppm(Wt)に減少した、純度99.95wt%以上
のTHFが0.180kg/hで留出した。塔底からは
NBDを0.28wt%含有するTHFが0.007k
g/hで得られたのでこれを導管9を通じて反応器に循
環した。
以上のNBDの分析精度は±10ppm以内であり、こ
の操作を連続して行つたところ、製品THF中のNBD
は、この範囲で一定であつた。
反応器1の下部からは導管3を通じ、未反応原料エステ
ル、酸触媒、副生高沸物等を含む液状流出物を0.21
3kg/hの割合で取出し、スラリー化槽に移送した。
スラリー化槽は内容積501の水冷却ジヤケツト及び攪
拌器付ガラスライニング槽で、ジヤケツトの通過冷却を
調節して内部を40℃に保持した。
スラリー化槽には導管4を通じて、沢過助剤(粉末活性
炭)11.1(重量)%を含有する水0.126kg/
Hrで供給した。スラリー化槽底部から導管5により生
成したスラリーを抜出し、磁製の沢過器で高沸物を吸着
した固形物を▲別し、沢液は導管6により貯槽に送り、
続いて導管7により前述した如く0.317k9/Hr
の割合で反応器に循環した。
【図面の簡単な説明】
本図は本発明の一実施態様を示すフローシートであり、
図中、I:反応器、:スラリ一化槽、:P過器、:貯槽
、V:第1蒸留塔、:第2蒸留塔及び:第3蒸留塔を示
す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 1・4−ブタンジオール又は1・4−ジヒドロキシ
    ブテン−2の酢酸エステルを酸触媒の存在下水と反応さ
    せて環状エーテルを製造する方法において、(a)反応
    域から環状エーテル含有反応生成物を気相で留出させ、
    (b)該留出物を蒸留して環状エーテルを主体とする留
    分を缶出液として取出し、(c)該缶出液を更に蒸留し
    て環状エーテルを留出し、他方ブチルアルデヒド含有缶
    出液は反応域に循環する、ことを特徴とする環状エーテ
    ルの製造方法。
JP52018972A 1977-02-23 1977-02-23 環状エ−テルの製造方法 Expired JPS593477B2 (ja)

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JPS5141351A (en) * 1974-09-07 1976-04-07 Basf Ag Tetorahidorofuranno seiho

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