JPS59334A - 新鮮なイリジウム含有触媒の処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

この発明は新鮮なイリジウム含青改質触媒の処理法

【関
する。 発明の背景 イリジウム含有改質触媒を含めて金属含有炭化水素転化
触媒の製法は業界において周知である。この分舒におけ
る特許文献の多くは使用ずみ触媒に新鮮なすなわち未使
用の触媒の性能に類似の性能を付与するための使用ずみ
触媒の再生法に関する。米国特＃Ｉｌー第２９９：，７
！！ｒ号は再生処理される失活触について、或は新鮮な
触媒の前処理操作の一部としての操作について、行われ
る一連の処理工程を開示している。この処理工程は基本
的（こは９３℃〜．３／ｌ，℃（コθｏ−６ｏｏ″Ｆ）
でλ〜コダ時間の乾燥工程、Ｊ７７０Ｃ〜ｊタ３℃（７
００〜Ｉ１０θ下】で！ｒ　Ｎ７　０時間の焼成工程及
びｑ．２７℃〜３３９℃（１００−／１００下）での無
水還元工程からなる。 米国特許ｔＭ１リｉＡｇー号は使用ずみ触媒または新鮮
な触媒へ適用できる触媒処理法を開示し、この処理法は
１０弘℃〜ｌ一７℃（２２０〜２ｓｏ’Ｆ）で触媒を乾
燥し、次いで２Ａθ℃〜．３’）７℃（ＳＯＯ千〜りｏ
ｏ’Ｆ）での焼成工程を行うことからなる。 この特許では．３７／℃以上の焼成温度は回避すべきこ
とを注意事項としで述べている。乾燥工程及び焼成工程
の次に塩化水素との接触または水素による還元が行われ
る。 発明の概要 この発明は新鮮ムイリジウムーき有改質触媒を ｆｉ＋　　高めた温度で酸素で処理する工程（２）　　
高めた温度でハロゲン化水素で処理する工程及び （３ノ　　工程ｆａ３及びｆｔ））の後で＾めた温度で
還元剤で処理する工程 に付するこＥからなる新鮮なイリジウム含有改質触媒の
処理方法番こ関する。 この発明による酸素処理工程及び／％ロゲン化水素処理
工程は触媒のイリジウム成分が最終還元工程前に適切な
酸化状態に置かれることを確保する。 この発明による方法は高めた温度で六塩化イリジウム酸
から造った新鮮な触媒を酸素で処理することにより実施
するのが好ましい。好適な条件は３９９℃〜！ｉＪｇ″
Ｃ＜りｓｏ″Ｆ−〜１０００ＪＦ）の温度、１０＋２〜
３５ｐ９　ｋＰａ（θ．θＯり〜ｊ　！ｒ　ｋｇ　／ｃ
ｎ＋”計器圧、０、／〜ｊ　０　０　ｐａｉｇの圧力）
、０，Ｉ　Ｎ３０重量％の酸話で０．１〜２９時間処理
することからなる。 史に詳しくは、＃Ｉ素処理工程は新鮮な触媒をθ．／ー
，ｌ／重嵐嘱の酸素で大気圧下弘Ｓダ℃〜Ｓ／θ℃（＆
５θ千〜ゾＳθ０ト〕　　で０，、２　ｊ〜λ時間処理
することによって達成される。 処理手順の次の工程は触媒に乾燥ノ・ロゲン化水素、好
ましくは塩化水素を加えることからなる。ここに「乾燥
塩化水素」とは水分がノ・ロゲン化水素の濃度の／／３
０　以下の：ｍ度に制御されていることを意味する。水
は／　Ｏ　ｐｐｍ以下の量で存在するのが好ましい。一
例として、商業的に入手しうる塩化水素ρ１そのままで
、すなわち乾燥工程を必要としないから適当である。乾
燥ハロゲン化水素による処理ば３　？　／’に−Ｓ　３
　＆’Ｃ（７００ＪＦ〜１０θθ下）の温度、ｉｏλ〜
３　Ｓ　ｔＩ９　ｋＰａ（０．００り〜ｊ　ｓ　ｋ（１
／ｃｍ’計器圧、ｏ．／〜ｓ　ｏ　ｏ　ｐｓｔｇ）の圧
力で少くともｌ重社饅のハロゲン化水素／触媒重ｊｉ／
時間のハロゲン化水素を使用してθ．５−Ｊｅ時間行う
のが好ましい。使用するへロゲン化水素の量は一般に７
時間当り触媒重量当り１０重重量級下であるのが好まし
い。この理由はより多量のへロゲン化水素は使用可能で
はあるが所望の結果を得るためには必要ではないからで
ある。不活性ガス中約３体４１の濃度の塩化水素を大気
圧下、ｌＩｓ　ｔｉ　℃〜３１０℃（１１３０下〜９５
１１７’Ｆ）の温度で約一時間、７．５重ｊｉｔ％塩化
水素／触媒重量／時間の割合で添加するのが好ましい。 酸素及びハロゲン化水素処理工程は同時に行っても同じ
結果が得られる。 最後の前処理工程は触媒を還元剤例えば水素で処理する
ことからなる。適当な温度はθ′、／〜、２ｑ時間の期
間１．２０４！′Ｃ〜ｊ？、、７℃（４！ｏｏ千〜／１
０θ″Ｆ）の範囲である。この操作に大気圧でｙ　ｓ　
ｙ℃〜ｓ　／　０℃ＣｇｊＯ′Ｆ〜デＳθ’Ｆ）の温度
でｏ、ｓ〜λ時間行うのが好ましい。この最後の工程、
すなわち水素還元は前処理操作における別工程として実
施しても、改質器始動操作の一部として実施してもよい
。しかし水素還元工程は酸素処理及びハロゲン化水素処
理の後で実施しなげればならない。 前記３種の処理工程のどの処理工程の間も水分の存在は
触媒の化成及び性能に有害であることに留意することが
重要である。 特Ｇこ好適な実１！Ｍ態様では工程（１）（酸素処理）
及び工程（２）（ハロゲン化水素処理）における処理は
９累、ネオン、ヘリウムまたはアルゴンのような不活性
希釈剤とそれら処理剤の混合物により実施される。不活
性ガスの蓋は厳蕾な制限を要しないが、＠素を基準とし
てＳＯ〜９９．９体積饅の範囲、乾燥ハロゲン化水素を
基準として？　０−９．　？、？体積−の範囲である、
この発明で使用するイリジウム含有触媒はイリジウム及
び他の金属例えば白金及びレニウムと組合わせた多孔質
担体または支持体物質からなる。触媒の支持物質成分は
プルノーエミットーテフー（ＢＥＴ）法によって測定し
た表面積が２０〜ざｏ　ｏ　ｍ２／ｌＩ、好適には／θ
０〜３００ｍ’／ＡＩ　　の多孔質吸着性物質であるの
が好適である。この支持体物質は炭化水素転化方法中で
使用した温度及び圧力条件下で耐熱性でなければならな
い。有用な支持体物質にはｆａ）ケイ素主体物質例えば
７リカ、シリカゲル、炭化ケイ素、粘土、天然または合
成／リケード例えばケイノウ土、カオリン、チャイナク
レー、またはアタパルガスクレー；　＋ｂ）アルずノア
リケードゼオライト物質例えば天然産または合成エリオ
ナイト、モリブナイト、または７アウジヤサイト、これ
らは予め水素形またはアンモニウム型に転化してあって
もなくてもよく、また希土類金ＪＭＩ１１１イオンを始
めとする種々の金属陽イオンでの交換反応によってナト
リウム陽イオンを減少させてあってもなくてもより、Ｉ
Ｃ）アルミナ、二酸化チタン、酸化亜鉛、マグネ７ア、
ドリア、クロミア、シリカ−アルミナ、ンリカーチタニ
ア、シリカ−ジルコニア及びアルミナ−クロミアを含め
た耐熱無機酸化物及び（ｄ）上述の物質の１種またはそ
れ以上の混合物がある。 耐熱無機酸化物は好適な触媒支持体物質である。アルミ
ナ、特にガンマ形またはイータ形のアルミナを使用する
と一般にすぐれた結果が得られる。ナフサ改質操作に触
媒を使用する時にはアルミナが好適な触媒支持体物質で
ある。上述の支持体物質は知られた市販の品で多くの異
なる技法によって触媒成分として使用するために調製で
きる。代表的には支持体物質を球体、顆粒、粉末、押出
成形物、またはベレットの形態に造る。イリジウム含有
触媒の全金親を同じ支持体物質の７つの粒子上に、例え
ば白金及びイリジウムをアルミナ上に含ませてもよく、
或は別の粒子の混合物として、例えばアルミナ上の白金
とアルミナ上のイリジウムの混合物として含ませてもよ
い。別個の粒子の混合物を使用する時には支持体物質は
同一でも異っていてもよい。 ナフサ改質操作Ｇこイリジウム含有触媒を使用する時に
は触媒は全触媒の乾燥重量に基いて０、／重量−以上の
イリジウムを含有するのが好適である。他のタイプの操
作に対してはより少ない量のイリジウムを使用できる。 更に詳しくはイリジウムと白金との各々が乾燥触媒の全
重量のｏ、ｏ　／　〜ｓ、ｏ　［ｉ量饅、好ましくはθ
、／〜／、０重ＵＳの種々の量で触媒上に存在する。最
高の有効性をもつイリジウム／白金ナフサ改質触媒は通
常全触媒重量当りイリジウムと白金の各々をＯｌ、２〜
θ、Ｓ重量多含有する。 イリジウム含有触媒は業界において周知の簡単な含浸法
を使用して造ることができる。このような触媒は支持体
物質をｌ１ｉＴ溶性イリジウム化合物と触媒中に配合さ
れる付加的金属の可溶性化合物との溶液で含浸すること
によって造ることができる。一般に金属化合物の水溶液
が用いられる。支持体物質は種々の金員含有化合物で逐
時に或は同時に含浸できる。支持体物質を適当な１＾度
の溶液で含浸することによって最終触媒中に所望の置の
金属を供与する。イリジウムの場合、支持体上に含浸す
るのに適した化合物には大塩化イリジウム酸、三臭化イ
リジウム、三塩化イリジウム、及び塩化イリジウム酸ア
ンモニウムがあるが、六塩化イリジウム酸が好適である
。好適な触媒調製技法は予め造った支持体例えばアルミ
ナを最終触媒中の所望の金属量を４える適当な濃度の六
塩化イリジウム酸の水溶液と接触させることからなる。 支持体に含浸後に、得られた複合触媒をＩＯ’１℃〜ｌ
コ／’Ｃ（，２２０’ｆ”−２５０下）の温度で乾燥す
る触媒は上述σ）温度で空気中で乾燥しても或は触媒を
不活性ガス、例えば窒素、の流通流中で処理することに
よって乾燥してもよい。得られた新鮮な触媒は上述の前
処理工程にかける。触媒を酸素含有ガス中１１℃〜ｓｉ
ｏ°Ｃ（ｇｓｏ″Ｆ〜ｑｓ。 ′Ｆリ　の温度でＯ１λＳ〜一時間乾燥するのが好まｔ
２い。乾燥工程後に塩化水素処理をｑｓｙ℃〜３１０℃
（ｇｓｏ’Ｆ−ｑｓｏ下）の温度でコ時間行う。 それが好ましい場合には上述の二つの工程を同時に行っ
てもよい。触媒は次に水素のような還元剤で／Ｉ！ＩＩ
’Ｃ〜！ｒ１０℃（ｇ５０−９！；０”ｆ”）　ｒ））
ｆｄ度でｏ、ｓ−２時間処理される。 イリジウム含有改質触媒はナフサ及び直留ガソリンのオ
クタン品位を教養するために使用する。そのほか、上記
触媒は水素化分解、異性化、脱水素及びクランキングの
ような種々の炭化水素転化反応を促進するのに使用でき
る。 ナフサハイドロホーばフグ法（改質法）では代表的には
ｌＳ〜ｇ５体積饅のパラフィン、／３ＮｇＯ体積饅のナ
フテン及び−〜−〇体積−の芳香族を含有し、大気圧下
で実質上コ？　℃〜コ３コ’Ｃ（ｇ　ｏ　〜ｙ　ｓ　ｏ
’Ｆ　）、好ましくは６６℃〜／？／’Ｃ（／！θ十〜
３７ｓ下）の　温度で沸とうする実質上硫黄不含ナフサ
流を水素の存在下でイリジウム含有複合触媒と接触させ
るっ反応は代表的には蒸気相で約、３’１．３℃〜ｓ　
、ｙ　ｚｏＣ（Ａ　ｓ　Ｏ−／　ｏｏｏ″Ｆ）好適には
約り９９℃〜Ｓコク℃（？ｊＯ−９ざθＪＦ）７）温度
で行われる。反応帯域の圧力は／−３０気圧（１０／　
〜５０＆５　ｋＰａ　）　、好適にはｊｒ〜、ｊＯ気圧
（Ｓθ７〜３ｏａ９ｋＰａ）に亘って変化する。ナフサ
原料流は複合触媒上にＯ，Ｓ〜−〇重量部ナフサ／時間
／触媒１重量部（ｗ／ｈ　ｒ　７ｗ　）、好適には／〜
ｔ　ｏ　ｗ／ｂｒ／ｗの空間速度で通すのが便宜である
。反応帯域内の水素／炭化水素モル比は０．５〜λ０１
好適には１〜１０の間に保つのが便宜である。改質操作
中、使用する水素は軽質ガス吠炭化水素と混合してもよ
い。代表的操作では触媒は一連の断熱的に操作される反
応器内に固定床として維持される。直列の反応器中の各
反応器（但し最後の反応器は除（〕がらの生成物流は次
の反応器へ通される前に再加熱される。上述の操作の別
法として、ナフサ装入原料、水素及び触媒を反応器Ｇこ
並流させる移動床として触媒を使用してもよく、或はナ
フサ装入原料を細かく分割した触媒粒子の乱流床を上方
に向けて通す流動床方式で触媒を使用してもよい。 最後に、所望により、触媒を単に装入原料でスラリーに
し、得られた混合物を反応を行うために反応器に輸送し
てもよい。 以下に実施例及び比較例を掲げ、及び図を参照してこの
発明を更に詳細に説明する。 比較例１ イリジウム０．３重ｉ％、白金θ、、？ｆｆ１ｉｉ％、
レニウム０．３重量％を含有する失活した改質触媒を下
記のように再生した： （１）　　使用ずみ触媒を細索雰囲気中Ｓ％酸素及び、
３％塩化水素の存在下に１Ｉｓｃｃ（ｔｒｓｏ６Ｆ）　
１８時間加熱して触媒がらコークス析出物を除いた。 イ２）　　工程１１＋の生成物を水素でＯ，Ｓ時間ｌＩ
Ｓψ℃（ｇｓｏ下）で処理した。 本例及び以下記載の実施例及び比較例における触媒はす
べて水素の温度プログラム化脱着（ＴＰＤ　）により検
査した。水素のＴＰＤは改質触媒Ｌの金属分散を評価す
る技法である。この操作は室温で金属上に水素を化学収
着させ、更にその収着された水素を一定速度（プログラ
ムトレード）で熱をかけることによって脱着することか
らなる。脱着した水素を捕集し、水素／金属比を知るこ
とによって金属の分散を計算できる。 こ５１１．で、Ｏ，Ｓの分散とは全金属の３０％が表面
金属として露出ｌ、ていることに等しい。改質反応を行
うためには少くとも０．５の分散が必要である。代表的
には前処理したイリジウム含有触媒はθ、Ａ〜／、Ｏの
範囲の分散をもつ。温度の函数として温度に対して脱着
された水素の速度をプロットした脱着スペクトルは支持
体上の金属の状態に関する史に別の情報を与える。 得られた比較例１の触媒はＯ，Ｓ以下の分散であった。 従って前処理操作は失活すなわち使用ずみ触媒にはうま
く鋤かない。 比較例コ イリジウム０．３重量％、白金０．３重１１１ｔ％を含
む新鮮な改質触媒を下記のように前処理した：（１１新
鮮な触媒を水分含有窪素中醗素５％と塩化水素３％の存
在下で１４！；ｌＩ℃ｃｇ５０下〕で２時間加熱した。 この期間中Ｓ、ｔＳ　：　／の水：塩化水素モル比を維
持した。 １２）工程ｆｌ＋の生成物を乾燥条件下で水素中ｙｓｙ
℃（Ｉｔｓｏ下）で０．５時間処理し、得られた触媒は
０　、．１以下の分散であった。従って、水の存在は前
処理操作に有害である。 実施例１ イリジ６ムθ、３重量％、白金θ、３重量係、レニウム
Ｏ０３重量％を含有する新鮮な改質触媒を下記のように
前処理した： （１）　　新鮮な触媒を９素雰囲気中の５％酸素中で３
１０℃（ｑｓｏ５Ｆ）でｏ、ｓ時間加熱シタ。 （２）　　工程（１）の生成物を更に窒素中の３、θ？
％塩化水素中、ｓｉｏ℃（ｆｊ［’ｌ”）で一時間、／
Ｊ重量饅塩化水素／触媒重量／時間で処理した。 （３）　　工程１２１　ノ生成物を水素で７時間、Ｓ１
０℃（デｓｏ”Ｆ）で処理した。 得られた触媒はＯ，Ｓ以上の分散で、前処理が成功であ
ったことを示した。 比較例３ イリジウム０．３重量％、白金０．３重量−、レニウム
０．３重量％からなる新鮮な改質触媒を下記のように処
理した。 （１）　　新鮮な触媒を窒素中で４Ｉｓグ℃（１３０″
Ｆ）でＯ，Ｓ時間加熱した。 ｆ２１　　工程ｔ１１の生成物をダｓｑ’ｃ、ｃｇｓｏ
″Ｆ）で一時間、窒素中の、３．０９％塩化水乗／、ｊ
重ｉｌ１％塩化水素／触媒重ｉｔ／時間で処理した。 （３）　　工程−の生成物を水素で７時間１１℃（ｇ！
；Ｏ’Ｆ）で処理した。 得られた触媒は０．！ｉ未満の分散で、この低分散は明
らかに前処理を行うためには酸素が必要であることを示
す。 比較例ダ 比較例３の触媒を工程＋１１〜（３）において湿度でｑ
ｇｇ℃（ｑｏθ’Ｆ　）及び３／θ℃（デｓｏ″Ｆ）で
置換えた以外は比較例３と同様に処理した。 得られた触媒の分散はＯ，Ｓ未満で、このことは前処理
に酸素が必要なことを示すものである。 比較例Ｓ イリジウム０．３重１ｌｉ１％、白金０．３１目及びレ
ニウム０．３重Ｍ％を含む新鮮な改質触媒を下記のよう
に前処理した： １１）　　触媒’ｆｉ−５ＩＯ’ＣＡ９！；０下）に窒
素中（１）　、３．０９％塩化水素を／、５重″１に％
塩化水素／触媒重置／時間で加熱した。 １２１　　工程ｉｌ＋の生成物を水素で１時間ｓｔｏ℃
（９３０′Ｆ）で処理した。 得られた触媒は再びＯ，Ｓ未満の分散であった。 実施例− イリジウム０．３重！ｔｑｂ、白金。、３重量％、レニ
ウム０．３重量−を含む新鮮な触媒を下記のように前処
理した： （１）　　新鮮な触媒を’ｌ５４Ｉ℃（ｇｓθ’Ｆ）に
窒素雰囲気中５％酸素の存在下で３．０？−環化水素／
、３重量％／触媒重量／時間で２時間加熱した。 １２＋　　工程（１）の生成物を４ｔｓｙ℃（ｇｓｏ′
Ｆ）の湛度で７時間水素で処理した。 得られた触媒はＯ，Ｓ以上の分散を示した。従って工程
（１）及び）２１の前処理操作は順次に（実施例１）に
行っても同時に行ってもよい。 実施例３ イリジウム０．３重量饅、白金Ｏ，Ｊ重量俤、レニウム
０．３重Ｍ％を含む新鮮な改質触媒＋Ａ）を例−のよう
に前処理し、水素化学収着によって調べた時にＯ，Ｓよ
り大きい分散を示した。 ０．３５重重量−金、Ｏ，Ｊ　！；重量％レニウムの組
成をもつ市販の白金−レニウム改質触媒（ＥＡＯＪ）を
窒素雰囲気中Ｓ％醗素を使用して５１０ｃ（９，ｔＯ下
）で２時間慣用のように前処理し、次いで水素で７時間
ＳＩＯ℃Ｃ９３θ″Ｆ）で処理した。前処理したコ金属
含有触媒（ｇ６０ｊ）と前処理した３金属含有触媒（Ａ
）とを下記の性状をもつＣ，−１７７°Ｃ（ｊｊＯ’Ｆ
）沸点範囲のアラビアン・ライト・ナフサの改質操作に
おいて？　ｌＩ　Ｒ十ｆ）オクタン価（リサーチ法、無
塩オクタン価９ｇの苛酷度で評価した。 アラビアンーライトｅナフサ性状 体積チ パラフィン　　　　　　　　？　７．４’ナフテン　　
　　　　　　ｌり、Ｓ 芳香族　　　ｌＩ、／ 比重　　　　　０．２３コグ 硫黄（ｐｐｍ）　　　　　　　０−コ　′窃　素（ｐｐ
ｍ）　　　　　　　θ、コ反応条件は圧力／　ｇ　２　
Ｓ　ｋＰａ　（／　７．ｊ　１１／ｃｍ’ｌｔ器圧、コ
ｊ　Ｏｐｓｉｇ）、重量時間空間速度（ＷＨ８Ｖ）コ、
全モル再循環比７であった。操作日数に対する反応器入
口温度の比較を第１図に示す。図中、○紘コ金属含有触
媒（ＥＡＯＪ）によるデータ、口は３金属含有触媒（４
）によるデータである。図かられかるように前処理した
３金属含有触媒は慣用のコ金属含有触媒より安定性が改
善された。 実施例ダ イリジウム０．３重量係、白金Ｏ，Ｓ重量％、レニウム
０．３重量−を含有する新鮮な改質触媒ＩＢ）を実施例
−に従って前処理した。 白金−レニウム含有触媒を窒素中／、、’ｌＪ％の塩素
でｐｇ、２℃（？（７０′Ｆ）で一時間、／、１重量饅
塩素／触媒重意／時間で処理した。イリジウム成分を次
いで添加し、得られた複合触媒を水素中で１時間ｑ　ｓ
　ｖ℃（ｇ　ｓ　Ｏ’Ｆ）で処理した。 前処理した白金−レニウム／　新、鮮（ＩＪ　シウム含
有触媒（蜀とこの発明により前処理した白金−レニウム
−イリジウム触媒ＩＢ）とを下記の性状をモツＣ，−／
７７℃（３！１０下〕沸点範囲のアラビアンーライト・
ナフサの改質について？　ｌｒ　Ｒ十〇のオクタン価苛
酷度で評価した。 アラビアンφライト優ナフサ性状 体檀饅 パラフィン　　　　　　　　　　７ハグナ７テン　　　
　　　　　　　／り、Ｓ芳香族　　　　／へ／ 比重　　　　　　０．７３−に 硫　黄（ｐｐｍ）　　　　　　　　ｏ、コ９　素（ｐｐ
ｍ）　　　　　　　　０．コ反応条件は／ＥコＳ　ｋＰ
ａ　（／　７４　喰４，２　　計器圧、ａ　ｓ　ｏ　ｐ
ａｉｇ　）、コＷＨ８Ｖ　　及び全モル再循環比？であ
った。操作日数に対する反応器入口湿度の関係を第一図
に示す。図において○は前処理したＰｔＲｅ／新鮮１ｒ
触媒（蜀のデータ、口は本発明による前処理したＰｔ−
Ｒｅ−Ｉｒ触媒（Ｂ）のデータである。図かられかるよ
うにこの発明による前処理は改質操作ｙｏ日日後６℃（
１０’ｌ”）のオクタン利得が得られる。 実施例Ｓ イリジウム０．３重量饅、白金０．３重ｉｔ％を含む二
金属含有触媒を例−に従って前処理した。 前処理した触媒の分散はＯ，Ｓより大きく、このことは
前処理が成功であったことを示す。 実施例１ イリジウムＱ、、３重ｆｆｉ％、白金ｏ、３重ｊ１ｑｂ
ヲ含む市販の二金属含有触媒（商品名ＫＸ−／、３θ）
を実施例コ従って、但し全工程において温度をｔｉｓ弘
℃（Ｅ！ｒＯ′Ｆ）に保って前処理した。 この前処理した触媒は０３より大きい分散をもち、前処
理操作が成功したことを示した。 比較例６ 白金０．３重量％、イリジウム０，３重量％、レニウム
０．３重ｉｔ％を含む新鮮な改質触媒ｔｌ−最初にｐｓ
ｏ℃で７時間水素中で還元した以外は実施例−に従って
前処理した。水素化学収着法により決定した得られた触
媒の分散は０．５未満であった。従って、この発明によ
る処方の前処理は予め還元した改質触媒には有効でない
。 実施例？ 白金０．３重ｆｆｉ％、イリジウム０．３重量−を含有
する新鮮な改質触媒を実施例−の操作に従って、但し工
程（１）における酸素／塩化水素の代りに酸素／塩素を
使用して前処理した。得られた触媒は化学収着によって
決定した時にＯ，Ｓ未満であり、このことは前処理をう
ま（行うためにはハロゲン化水素と酸素との存在が必要
であることを示すものである。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明のｌ実施態様により一槙金フサ改質操
作の操作臼ｗｋ：反応器入ロ温度の関係を示すグラフ、
第一図は前記ｌ実施態様の前処理触媒と新鮮なイリジウ
ム成分と混合したθＵ処理ｐｉ−ＲｅＭ４媒とを比較し
た第１図と同様なグラフである。 −ゲル アメリカ合衆国ニューシャーシ 二側ローレンスビル・パイン・ ノウル・ドライブ４２

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｌ　新鮮なイリジウム含有改質触媒を下記の工程に付す
   ることからなる新規なイリジウム含有改質触媒の処理方
   法： （１１高めた温度で酸素で処理する工程、（２）　　高
   めた調度でノ・ロゲン化水素で処理する工程及び （３）　　工程（１）及び１２１の後で高めた温度で還
   元剤で処理する工程。 ２　酸素での処理工程とノ１０ゲンイヒ水素での処理工
   程とを合併して一工稈で行う特許請求の範囲第１項記載
   の方法。 ３　＃素処理工程が触媒を３９９℃〜ｊＪｇ′ｃＩ１７
   ）温度、ｌＯコ〜３５　’ｌ　９　ｋＰａの出力で０．
   ｌＮ２９時間、θ、／〜ＳＯ重１を饅の酸素で処理する
   ことからなる特許請求の範凹第１項記載σ〕方法、ｔｒ
   ＩＩ素処坤工程が触媒をダＳす°０〜３１０”ＣでＯ，
   １５〜１時間、０．７〜−７重１饅の酸素で処理するこ
   とからなる特許請求の範囲第１項または第一項記載の方
   法。 Ｓ　ハロゲン化水素処理工程が触媒を３７／℃〜ｓ３ｇ
   ℃の温度でＯ，Ｓ〜λｑ時間、０．１〜ｔ。 重量饅のハロゲン化水素／触媒重Ｍ／時間で処理するこ
   とからなる特許請求の範囲第１項ないし第９項のいずれ
   かに記載の方法。 ６　ハロゲン化水素が塩化水素である特許請求の範囲第
   １項ないし第５項のいずれかに記載の方法。 ７　触媒を還元剤で一〇ｑ℃〜５？３℃の温度で０、／
   −一す時間処理する特許請求の範囲第１項ないし第６項
   のいずれかに記載の方法。 Ｋ　触媒を還元剤で１１℃〜３１０℃の温度で０４〜２
   時間処理する特許請求の範囲第１項ないし第６項のいず
   れかに記載の方法。 デ　還元剤が水素である特許請求の範囲第１項ないし第
   ３項のいずれかに記載の方法。 ／ａ　触媒が白金または白金及びレニウムをも含む特Ｉ
   Ｗ−請求の範Ｉｉ！！第１項ないし第２項のいずれかに
   記載の方法。