JPS5930454B2 - 排ガスの処理法 - Google Patents
排ガスの処理法Info
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- JPS5930454B2 JPS5930454B2 JP51109458A JP10945876A JPS5930454B2 JP S5930454 B2 JPS5930454 B2 JP S5930454B2 JP 51109458 A JP51109458 A JP 51109458A JP 10945876 A JP10945876 A JP 10945876A JP S5930454 B2 JPS5930454 B2 JP S5930454B2
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は排ガスの処理法に関し、詳しくは鉄系触媒を用
いる排ガスの湿式処理力法において、排ガス処理に用い
た吸収液を再生して循環使用するとともに吸収液に移行
、生成した窒素化合物や硫黄化合物を効率よく除去、回
収することのできる排ガスの処理法に関する。
いる排ガスの湿式処理力法において、排ガス処理に用い
た吸収液を再生して循環使用するとともに吸収液に移行
、生成した窒素化合物や硫黄化合物を効率よく除去、回
収することのできる排ガスの処理法に関する。
近年、排ガス中の窒素酸化物、硫黄酸化物の除去が公害
対策上、大きな問題としてとり上げられ、鉄系触媒を含
む吸収液を用いる排ガスの湿式浄化力法が種々提案され
ている。
対策上、大きな問題としてとり上げられ、鉄系触媒を含
む吸収液を用いる排ガスの湿式浄化力法が種々提案され
ている。
さらに、これらの吸収液については再生使用する方法が
検討され、その1つとして電解還元法を適用しうること
も示唆されている。
検討され、その1つとして電解還元法を適用しうること
も示唆されている。
しかしながら、これらの吸収液を用いる公知の方法にお
いては、その吸収機構の実体が明確でなく、吸収液の再
生および排ガスから吸収液に移行した有害物の除去に際
して、たとえば吸収液の一部フ節−あるいは加熱処理、
直接電解酸化、電解還元等が示されているものの具現化
するに必要な手段が十分には明らかにされていない。
いては、その吸収機構の実体が明確でなく、吸収液の再
生および排ガスから吸収液に移行した有害物の除去に際
して、たとえば吸収液の一部フ節−あるいは加熱処理、
直接電解酸化、電解還元等が示されているものの具現化
するに必要な手段が十分には明らかにされていない。
本発明者らは、鉄系触媒を含む吸収液を用いる排ガスの
処理方法において、よりすぐれた吸収液の開発と共にこ
の吸収液の効果的な再生ならびに該吸収液中に蓄積した
硫黄化合物(特に硫黄酸化物)および/または窒素化合
物の分離、除去方法について鋭意検討した。
処理方法において、よりすぐれた吸収液の開発と共にこ
の吸収液の効果的な再生ならびに該吸収液中に蓄積した
硫黄化合物(特に硫黄酸化物)および/または窒素化合
物の分離、除去方法について鋭意検討した。
その結果、吸収液とじて■第1鉄イオン、■所定量の亜
硫酸イオンあるいは亜硫酸水素イオンおよび■アルカノ
ールアミンを含有する液を用いると共に陰イオン交換膜
による隔膜電解還元力法にて該吸収液を処理することに
より、陰極部において鉄系触媒が効率よく還元、再生さ
れ、かつ該吸収液中に捕捉、蓄積された硫黄化合物およ
び/または窒素化合物が陰イオン交換膜を通して陽極室
側へ効率よく移動し、−力陽極室にはハロゲンを含む陽
極液を流通させることによって、移動してきた硫黄化合
物、窒素化合物が速やかに酸化され、容易に回収、除去
しうろことを見出し、本発明を完成するに至った。
硫酸イオンあるいは亜硫酸水素イオンおよび■アルカノ
ールアミンを含有する液を用いると共に陰イオン交換膜
による隔膜電解還元力法にて該吸収液を処理することに
より、陰極部において鉄系触媒が効率よく還元、再生さ
れ、かつ該吸収液中に捕捉、蓄積された硫黄化合物およ
び/または窒素化合物が陰イオン交換膜を通して陽極室
側へ効率よく移動し、−力陽極室にはハロゲンを含む陽
極液を流通させることによって、移動してきた硫黄化合
物、窒素化合物が速やかに酸化され、容易に回収、除去
しうろことを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、@)第1鉄イオン2〜1000ミリ
モル/l、(0)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオ
ンもしくは両者の混合物400〜15oOミリモル/l
および(/→アルカノールアミン10〜3000 ミI
Jモル/lを含有するpH5〜8の吸収液を用いて排ガ
スを浄化処理し、次いで隔膜として陰イオン交換膜を用
いる隔膜電解法により該吸収液中に存在する陰イオン曲
硫黄化合物および/または窒素化合物を陰極室側から陽
極室側へ移行させ、かつ該陽極室tこはハロゲンもしく
はハロゲン化物を含む陽極液を流通させることを特徴と
する排ガスの処理法を提供するものである。
モル/l、(0)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオ
ンもしくは両者の混合物400〜15oOミリモル/l
および(/→アルカノールアミン10〜3000 ミI
Jモル/lを含有するpH5〜8の吸収液を用いて排ガ
スを浄化処理し、次いで隔膜として陰イオン交換膜を用
いる隔膜電解法により該吸収液中に存在する陰イオン曲
硫黄化合物および/または窒素化合物を陰極室側から陽
極室側へ移行させ、かつ該陽極室tこはハロゲンもしく
はハロゲン化物を含む陽極液を流通させることを特徴と
する排ガスの処理法を提供するものである。
本発明において、吸収液は排ガス処理装置(たとえば、
吸収塔など)の排ガス浄化帯域を流通させた後、隔膜電
解槽の陰極部を流通させて再生し、前記排ガス浄化帯域
に循環させる。
吸収塔など)の排ガス浄化帯域を流通させた後、隔膜電
解槽の陰極部を流通させて再生し、前記排ガス浄化帯域
に循環させる。
吸収液の循環工程では、吸収液は排ガス浄化帯域におい
て排ガス中の有害物質である窒素酸化物、硫黄酸化物等
を吸収し、次いで隔膜電解槽陰極部へ誘導され、電解還
元により再生されて、再び浄化帯域に戻して排ガスの浄
化処理(こ供される。
て排ガス中の有害物質である窒素酸化物、硫黄酸化物等
を吸収し、次いで隔膜電解槽陰極部へ誘導され、電解還
元により再生されて、再び浄化帯域に戻して排ガスの浄
化処理(こ供される。
なお排ガスと吸収液の接触は排ガス浄化帯域において向
流的もしくは並流的方法によって行なわれる。
流的もしくは並流的方法によって行なわれる。
ここにおいて用いられる亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水
素イオンもしくは両者の混合物(沈殿、溶液のはかH8
03−イオンとして存在するものを含む)は吸収液中に
400〜1500 ミIJモル/l添加されることが重
要である。
素イオンもしくは両者の混合物(沈殿、溶液のはかH8
03−イオンとして存在するものを含む)は吸収液中に
400〜1500 ミIJモル/l添加されることが重
要である。
添加量がこの範囲内であると吸収液は溶液状もしくは懸
濁状となっているが、添加量が微量(30ミIJモル/
l以下)であると吸収液がスラリー状となり隔膜電解法
による処理が困難となる。
濁状となっているが、添加量が微量(30ミIJモル/
l以下)であると吸収液がスラリー状となり隔膜電解法
による処理が困難となる。
また、吸収液のpHは5〜8とする。
pHが5以下であると吸収能力が低下し、pHが8以上
であると亜硫酸イオンが酸化されて硫酸イオンとなり易
いため適当でなく、鉄イオンの溶解度も低下する。
であると亜硫酸イオンが酸化されて硫酸イオンとなり易
いため適当でなく、鉄イオンの溶解度も低下する。
第1鉄イオン源としてハ硫酸第1鉄、塩化第1鉄、硝酸
第1鉄等が用いられ、亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素
イオン源としては亜硫酸ガスのほか亜硫酸ナトリウム、
亜硫酸水素すl−IJウム、亜硫酸カルシウム、亜硫酸
水素カルシウム等の金属亜硫酸塩もしくは金属亜硫酸水
素塩や亜硫酸アンモニウム、亜硫酸水素アンモニウム等
を用いることができる。
第1鉄等が用いられ、亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素
イオン源としては亜硫酸ガスのほか亜硫酸ナトリウム、
亜硫酸水素すl−IJウム、亜硫酸カルシウム、亜硫酸
水素カルシウム等の金属亜硫酸塩もしくは金属亜硫酸水
素塩や亜硫酸アンモニウム、亜硫酸水素アンモニウム等
を用いることができる。
また、アルカノールアミンとしてはモノエタノールアミ
ン、モノプロパツールアミン等のモノアルカノールアミ
ン:ジェタノールアミン、ジブロバノールアミン等のジ
アルカノールアミン;トリエタノールアミン、トリプロ
パツールアミン等のトリアルカノールアミンを用いるこ
とができる。
ン、モノプロパツールアミン等のモノアルカノールアミ
ン:ジェタノールアミン、ジブロバノールアミン等のジ
アルカノールアミン;トリエタノールアミン、トリプロ
パツールアミン等のトリアルカノールアミンを用いるこ
とができる。
なお、本工程において、排ガスから吸収液に移行した硫
黄化合物(主として硫黄酸化物)およびまたは窒素化合
物(主として窒素酸化物)は、その吸収反応機構が複雑
であり、明確ではないが、亜硫酸イオン、亜硫酸水素イ
オン、硫酸イオン等の硫黄酸化物やイミドスルホン酸化
合物、アミドスルホン酸化合物などの窒素化合物に変化
しているものと考えられる。
黄化合物(主として硫黄酸化物)およびまたは窒素化合
物(主として窒素酸化物)は、その吸収反応機構が複雑
であり、明確ではないが、亜硫酸イオン、亜硫酸水素イ
オン、硫酸イオン等の硫黄酸化物やイミドスルホン酸化
合物、アミドスルホン酸化合物などの窒素化合物に変化
しているものと考えられる。
吸収液の再生には陰イオン交換膜を隔膜とする隔膜電解
槽が用いられ、吸収液は通電下に該装置の陰極部を流通
する際に、吸収液中の鉄イオンが第1鉄イオンに還元さ
れ、かつ排ガスから吸収液に移行した、あるいは移行後
、吸収液中で生成した硫黄化合物および窒素化合物が陰
イオン准物質として陰イオン交換膜を通過して陽極側へ
移行することによって再生される。
槽が用いられ、吸収液は通電下に該装置の陰極部を流通
する際に、吸収液中の鉄イオンが第1鉄イオンに還元さ
れ、かつ排ガスから吸収液に移行した、あるいは移行後
、吸収液中で生成した硫黄化合物および窒素化合物が陰
イオン准物質として陰イオン交換膜を通過して陽極側へ
移行することによって再生される。
本工程(こおいて、硫黄化合物の移行は予想されること
であるが、同時に窒素を含む物質が陽極側へ移動する事
実は予想外のことであり、本発明の基礎的事実として特
徴部分を形成するものである。
であるが、同時に窒素を含む物質が陽極側へ移動する事
実は予想外のことであり、本発明の基礎的事実として特
徴部分を形成するものである。
また、陰イオン交換膜としては市販のもの、たとえばス
チレン−ブタジェンポリマー、スチレン−ジビニルベン
ゼンポリマー、スチレン−ビニルピリジン−ジビニルベ
ンゼンポリマー、ポリエチレン−スチレングラフトポリ
マーなどを母材とするものを用いることができる。
チレン−ブタジェンポリマー、スチレン−ジビニルベン
ゼンポリマー、スチレン−ビニルピリジン−ジビニルベ
ンゼンポリマー、ポリエチレン−スチレングラフトポリ
マーなどを母材とするものを用いることができる。
なお、隔膜材として陽イオン交換膜または素焼等を用い
た場合にも、陰イオン准物質の一部を移動させて除去す
ることもできるが、この場合、除去しようとする陰イオ
ン避物質の移動が不十分であったり、鉄イオンば移動し
たりして十分な分離効果が得られず好ましくない。
た場合にも、陰イオン准物質の一部を移動させて除去す
ることもできるが、この場合、除去しようとする陰イオ
ン避物質の移動が不十分であったり、鉄イオンば移動し
たりして十分な分離効果が得られず好ましくない。
一方、電解槽陽極室を通過する陽極液としては希硫酸、
Na 2SO4、に2SO4などの電解質水溶液を用い
るが、移行した物質の回収を容易にするためには希硫酸
を用いることが好ましい。
Na 2SO4、に2SO4などの電解質水溶液を用い
るが、移行した物質の回収を容易にするためには希硫酸
を用いることが好ましい。
陽極液1こハロゲンもしくはハロゲン化物を含有せしめ
ることにより電解槽陽極側(こ移行した陰イオン跣の窒
素化合物、硫黄化合物等は効率よく酸化され、回収する
ことが容易となる。
ることにより電解槽陽極側(こ移行した陰イオン跣の窒
素化合物、硫黄化合物等は効率よく酸化され、回収する
ことが容易となる。
予め、ハロゲンもしくはハロゲン化物を陽極液に存在さ
せた場合には、上記窒素化合物、硫黄化合物等は移行後
、直ちに酸化されるが、別の態様として陽極液を系外へ
誘導した後、ハロゲンもしくはハロゲン化物を存在させ
て酸化を行なうことも可能である。
せた場合には、上記窒素化合物、硫黄化合物等は移行後
、直ちに酸化されるが、別の態様として陽極液を系外へ
誘導した後、ハロゲンもしくはハロゲン化物を存在させ
て酸化を行なうことも可能である。
陽極液中に存在させるハロゲンとしては塩素ガス等があ
り、ハロゲン化物としては塩化ナトリウム、塩化カリウ
ム等の塩素化物:臭化すl−IJウム、臭化カリウム等
の臭素化物などがあり、これらを単独でまたは組合せて
用いることができる。
り、ハロゲン化物としては塩化ナトリウム、塩化カリウ
ム等の塩素化物:臭化すl−IJウム、臭化カリウム等
の臭素化物などがあり、これらを単独でまたは組合せて
用いることができる。
隔膜を通過して陽極液(こ移行する物質は前述したよう
に、陰イオン曲の窒素化合物や硫黄化合物であり、具体
的にはイミドスルホン酸、アミドスルホン酸を主体とす
る窒素化合物、種々の形態の硫黄酸化物などである。
に、陰イオン曲の窒素化合物や硫黄化合物であり、具体
的にはイミドスルホン酸、アミドスルホン酸を主体とす
る窒素化合物、種々の形態の硫黄酸化物などである。
そのため、l@極液に電解質のみが含有されている場合
、これらは混在状態を形成し、そのまS回収することは
困難である。
、これらは混在状態を形成し、そのまS回収することは
困難である。
しかしながら、ハロゲンもしくはハロゲン化物を存在さ
せることによって、種々の陰イオン囲硫黄酸化物は速や
かに硫酸イオンに変化し、またイミドスルホン酸および
アミドスルホン酸を主体とする窒素化合物は窒素と硫酸
イオンに分解され、非常Qこ簡単な組成の溶液になる。
せることによって、種々の陰イオン囲硫黄酸化物は速や
かに硫酸イオンに変化し、またイミドスルホン酸および
アミドスルホン酸を主体とする窒素化合物は窒素と硫酸
イオンに分解され、非常Qこ簡単な組成の溶液になる。
そのため、続いてこの溶液に水酸化マグネシウム、水酸
化カルシウム等を加えるなどの公知の方法を適用するこ
とによって硫酸塩として回収することができる。
化カルシウム等を加えるなどの公知の方法を適用するこ
とによって硫酸塩として回収することができる。
なお、ハロゲンやハロゲン化物は陽極液中に窒素化合物
に対し3〜10倍モルの割合で存在させることが好まし
い。
に対し3〜10倍モルの割合で存在させることが好まし
い。
以上の如く、本発明Qこよれば排ガス処理に用′J)る
吸収液の再生を効率よく行ない、循環使用することがで
き、しかも吸収液中に捕捉された窒素化合物、硫黄化合
物を容易に無害化して回収、除去できる。
吸収液の再生を効率よく行ない、循環使用することがで
き、しかも吸収液中に捕捉された窒素化合物、硫黄化合
物を容易に無害化して回収、除去できる。
そのため、本発明は産業上、きわめて有益なものである
。
。
次に、本発明を実施例により詳しく説明する。
実施例 l
FeSO4−7H20300ミリモル/It、ジェタノ
ールアミン2700ミリモル//l、SO2(SO2ガ
ス)800ミリモル/lおよび水を混合し、硫酸を用い
てpHを7.2に調整した液1oolを吸収液とした。
ールアミン2700ミリモル//l、SO2(SO2ガ
ス)800ミリモル/lおよび水を混合し、硫酸を用い
てpHを7.2に調整した液1oolを吸収液とした。
21容の通気撹拌槽に上記吸収液を入れ、温度を60°
Cに保持して、ヘリウムガスで希釈した2係濃度のNO
ガスを17/分で4時間導入した。
Cに保持して、ヘリウムガスで希釈した2係濃度のNO
ガスを17/分で4時間導入した。
次いで、該処理に用いた吸収液をアクリル樹脂製H型セ
ルを有する電解槽で電解還元を行なっノ;。
ルを有する電解槽で電解還元を行なっノ;。
このときの電解条件は次のとおりである。
陰 極 液 :吸収液1000g
陽 極 液 : IN H2SO410007
717+NaCA 1 00 ミ リ モル 陰極および陽極 : いずれも白金 隔 膜 : 陰イオン交換膜(商品名:セレミ
オンAMV、旭硝 子■製) 陰極電位: −0,65V 温 度 : 50°C 浴 電 圧 : 4.5V 浴 電 流 = 2人 電解時間:2.5時間 その結果、電解還元前の吸収液中のFe” /Fe3
は36/64であったのに対し、還元後は92/8に
変化した。
717+NaCA 1 00 ミ リ モル 陰極および陽極 : いずれも白金 隔 膜 : 陰イオン交換膜(商品名:セレミ
オンAMV、旭硝 子■製) 陰極電位: −0,65V 温 度 : 50°C 浴 電 圧 : 4.5V 浴 電 流 = 2人 電解時間:2.5時間 その結果、電解還元前の吸収液中のFe” /Fe3
は36/64であったのに対し、還元後は92/8に
変化した。
このときの2価鉄への還元電流効率は約90%であった
。
。
一力、はじめに吸収液中に存在していたイミドおよびテ
ミド態の窒素化合物(イミドスルホン酸70係、アミド
スルホン酸30%)169ミリモルのうち、45ミリモ
ルが陽極液側に移動した。
ミド態の窒素化合物(イミドスルホン酸70係、アミド
スルホン酸30%)169ミリモルのうち、45ミリモ
ルが陽極液側に移動した。
ナオ、陽極液側に移動したイミドスルホン酸は加水分解
されてアミドスルホン酸になっており、陽極液中の窒素
化合物を分析した結果、アミドスルホン酸18ミリモル
が残存していた。
されてアミドスルホン酸になっており、陽極液中の窒素
化合物を分析した結果、アミドスルホン酸18ミリモル
が残存していた。
減少した27ミリモルのアミドスルホン酸は窒素ガスと
硫酸イオンに分解していることが確認された。
硫酸イオンに分解していることが確認された。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (イ)第1鉄イオン2〜1000ミリモル/l。 (ロ)亜硫酸イオンもしくは亜硫酸水素イオンもしくは
両者の混合物400〜1500 ミIJモル/lおよび
(ハ)アルカノールアミン10〜3000ミリモル/l
を含有するpH5〜8の吸収液を用いて排ガスを浄化処
理し、次いで隔膜として陰イオン交換膜を用いる隔膜電
解法により該吸収液中に存在する陰イオン曲硫黄酸化物
および/または窒素化合物を陰極室側から陽極室側へ移
行させ、かつ該陽極室にはハロゲンもしくはハロゲン化
物を含む陽極液を流通させることを特徴とする排ガスの
処理法。 2 陽極室に含まれるハロゲンもしくはハロゲン化物が
塩素ガス、塩化ナトリウム、塩化カリウム臭化ナトリウ
ムおよび臭化カリウムよりなる群から選択された1種も
しくは2種以上の物質である特許請求の範囲第1項記載
の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51109458A JPS5930454B2 (ja) | 1976-09-14 | 1976-09-14 | 排ガスの処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP51109458A JPS5930454B2 (ja) | 1976-09-14 | 1976-09-14 | 排ガスの処理法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5334677A JPS5334677A (en) | 1978-03-31 |
JPS5930454B2 true JPS5930454B2 (ja) | 1984-07-27 |
Family
ID=14510733
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP51109458A Expired JPS5930454B2 (ja) | 1976-09-14 | 1976-09-14 | 排ガスの処理法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5930454B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6134941U (ja) * | 1984-07-31 | 1986-03-04 | 積水化学工業株式会社 | 収納壁 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3614005A1 (de) * | 1986-04-25 | 1987-10-29 | Westfael Elekt Werke | Verfahren zur rauchgasentschwefelung |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50139066A (ja) * | 1974-04-26 | 1975-11-06 | ||
JPS50152980A (ja) * | 1974-05-30 | 1975-12-09 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS466167Y1 (ja) * | 1967-09-13 | 1971-03-04 | ||
JPS5096809U (ja) * | 1974-01-10 | 1975-08-13 |
-
1976
- 1976-09-14 JP JP51109458A patent/JPS5930454B2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50139066A (ja) * | 1974-04-26 | 1975-11-06 | ||
JPS50152980A (ja) * | 1974-05-30 | 1975-12-09 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6134941U (ja) * | 1984-07-31 | 1986-03-04 | 積水化学工業株式会社 | 収納壁 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5334677A (en) | 1978-03-31 |
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