JPS5929246A - Composition for forming ultraviolet-cured pattern - Google Patents

Composition for forming ultraviolet-cured pattern

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JPS5929246A
JPS5929246A JP13913482A JP13913482A JPS5929246A JP S5929246 A JPS5929246 A JP S5929246A JP 13913482 A JP13913482 A JP 13913482A JP 13913482 A JP13913482 A JP 13913482A JP S5929246 A JPS5929246 A JP S5929246A
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JP
Japan
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meth
acrylate
anhydride
monoesterified
parts
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Application number
JP13913482A
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Japanese (ja)
Inventor
Kunio Nishihara
邦夫 西原
Hiroshi Ozawa
小沢 宏
Takefumi Shibuya
渋谷 武文
Shigeo Makino
繁男 牧野
Kazuyoshi Ono
小野 一良
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

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Abstract

PURPOSE:To obtain the titled composition giving a cured film which is easily stripped off with an aqueous alkali soln. without requiring difficult treatment of waste water by blending specified two kinds of monoesterified compounds with dicyclopentenyloxyalkyl (meth)acrylate and a photosensitizer. CONSTITUTION:A monoesterified compound (A) prepared from an acid anhydride represented by formula I [where R is H or formula II (n is 1-4)] and a monomer having hydroxyl and (meth)acryloyl groups is blended with a monoesterified compound (B) prepared from an acid anhydride represented by formula III or IVand a monomer having hydroxyl and (meth)acryloyl groups, dicyclopentenyloxyalkyl (meth)acrylate (C), and a photosensitizer (D). Hexahydrophthalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride or the like is used as the acid anhydride represented by the formula I , and phthalic anhydride, 3-methyltetra- hydrophthalic anhydride or the like is used as the acid anhydride represented by the formula III.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、プリント基板や銘板の加工あるいは感光性刷
版のパターン形成に用いられる、紫外線により硬化1−
アルカリ水溶液により剥離する紫外線硬化パターン形成
用組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a UV-cured 1-
The present invention relates to an ultraviolet-curable pattern-forming composition that is peeled off with an alkaline aqueous solution.

近年、種々のパターン形成に紫外線硬化型組成物が多用
され始めている。これは従来使用されて来だ熱硬化型組
成物に較べ、生産性、省エネルギー、無公害などの面で
実用上有利なことによる。
In recent years, ultraviolet curable compositions have begun to be frequently used for forming various patterns. This is because it is practically advantageous in terms of productivity, energy saving, pollution-free, etc., compared to conventionally used thermosetting compositions.

また、パターン形成後の紫外線硬化被膜の剥離について
も、作業環境の汚染や経済性等の理由により、溶剤によ
る剥離からアルカリ水溶液による剥離へと移行している
。このような状況において種々の紫外線硬化組成物が検
討されて来た。しかし、アルカリ水溶液による紫外線硬
化被膜の剥離性を向上させようとすると、架橋密度の減
少や過度の親水性保持などを招きやすく、これに起因す
る紫外線硬化性の低下、エツチング液中での硬化被膜の
強度低下あるいはアルカリ水溶液により剥離された硬化
被膜が細分化したり溶解したりすることによる廃水処理
の問題が生じ、要求性能を十分に満足するものは未だ開
発されるに至っていない。
Further, regarding the peeling of the ultraviolet cured film after pattern formation, due to reasons such as pollution of the working environment and economic efficiency, there has been a shift from peeling using a solvent to peeling using an alkaline aqueous solution. Under these circumstances, various UV-curable compositions have been investigated. However, when attempting to improve the removability of a UV-cured film using an alkaline aqueous solution, it tends to result in a decrease in crosslinking density and excessive retention of hydrophilicity, resulting in a decrease in UV-curability and a hardening of the film in an etching solution. Problems arise in wastewater treatment due to a decrease in strength or fragmentation or dissolution of the cured film peeled off by an alkaline aqueous solution, and so far no product that fully satisfies the required performance has been developed.

本発明者等は上記問題点を解決すべく鋭意研究を続けた
結果、アルカリ水溶液による硬化被膜の剥離性がすぐれ
、また紫外線による硬化性、エツチング時の硬化被膜強
度にもすぐれ、かつアルカリ水溶液により剥離したとき
に硬化被膜の細分化や溶解を生じない廃水処理が容易な
紫外線硬化パターン形成用組成物を見い出し、本発明を
完成するに至った。
As a result of intensive research to solve the above problems, the inventors of the present invention have found that a cured film with an alkaline aqueous solution has excellent removability, and also has excellent curing properties with ultraviolet rays and strength of the cured film during etching. The present inventors have discovered an ultraviolet-curable pattern-forming composition that does not cause fragmentation or dissolution of the cured film when it is peeled off, and which is easy to treat in waste water, and has completed the present invention.

すなわち、本発明は、 (A)一般式(1) (但し、Rは水素またはcnH2、n=1〜4でΩ+1 示されるアルキル基を表わす。)で示される酸無水物と
1分子中に少くとも1個のヒドロキシル基及び少くとも
1個の(ツタ)アクリロイル基を有する単量体とのモノ
エステル化化合物、(B)一般式(II) (但し、Rは水素またはcnH2、n−1〜4でn+1 示されるアルキル基を表わす。)で示される酸無水物と
1分子中に少くとも1個のヒドロキシル基及び少くとも
1個の(メタ)アクリロイル基を有する単量体とのモノ
エステル化化合物、(C)ジシクロペンテニルオキシア
ルキル(メタ)アクリレートおよび (D)光増感剤 分配金してなる紫外線硬化パターン形成用の組成物であ
る。
That is, the present invention provides an acid anhydride represented by (A) general formula (1) (wherein R represents hydrogen or an alkyl group represented by Ω+1 when n=1 to 4) and a small amount in one molecule. A monoesterified compound with a monomer having both one hydroxyl group and at least one (ivy) acryloyl group, (B) general formula (II) (wherein R is hydrogen or cnH2, n-1 ~ 4 represents n+1 an alkyl group) and a monomer having at least one hydroxyl group and at least one (meth)acryloyl group in one molecule. This is a composition for forming an ultraviolet curable pattern, comprising a compound, (C) dicyclopentenyloxyalkyl (meth)acrylate, and (D) a photosensitizer.

本発明に使用される(A)一般式(1)で示される酸無
水物と1分子中に少なくとも1個のヒドロキシル基およ
び少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する単
量体とのモノエステル化化合物としては、例えばヘキサ
ヒドロフタル酸無水物、3−メチルへキサヒドロフタル
酸無水物、4−メチルへギザヒドロフタル酸無水物、6
−エチルへキサヒドロフタル酸無水物、4−エチルへキ
サヒドロフタル酸無水物、6−プロピルへキサヒドロフ
タル酸無水物、6−イツプロビルへキサヒドロフタル酸
無水物、4−プロピルへキサヒドロフタル酸無水物、4
−イソプロピル〜キサヒドロフタル酸無水物、ろ〜ブチ
ルヘキサヒドロフタル酸無水物、4−ブチルヘキサヒド
ロフタル酸などの酸無水物、好捷しくはヘキサヒドロフ
タル酸無水物、6−メチルへキサヒドロフタル酸無水物
、4−メチルへキサヒドロフタル酸無水物と、例えば2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブ
チル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモ
ノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモ
ノ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトンモノ(メタ
)アクリレートなどの単量体とのモノエステル化化合物
があげられる。これら(A)モノエステル化化合物は一
種または二種以上を任意の割合で混合して使用すること
ができる。
(A) A monoester of an acid anhydride represented by general formula (1) and a monomer having at least one hydroxyl group and at least one (meth)acryloyl group in one molecule used in the present invention Examples of compounds include hexahydrophthalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride, 4-methylhegizahydrophthalic anhydride, 6-methylhexahydrophthalic anhydride,
-Ethyl hexahydrophthalic anhydride, 4-ethyl hexahydrophthalic anhydride, 6-propyl hexahydrophthalic anhydride, 6-ituproyl hexahydrophthalic anhydride, 4-propyl hexahydrophthalic anhydride acid anhydride, 4
- Acid anhydrides such as isopropyl-xahydrophthalic anhydride, ro-butylhexahydrophthalic anhydride, 4-butylhexahydrophthalic acid, preferably hexahydrophthalic anhydride, 6-methylhexahydrophthalic anhydride. Phthalic anhydride, 4-methylhexahydrophthalic anhydride and e.g.
-Hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, polyethylene glycol mono(meth)acrylate, polypropylene glycol mono(meth)acrylate, polybutylene glycol mono(meth)acrylate , monoesterified compounds with monomers such as polycaprolactone mono(meth)acrylate. These monoesterified compounds (A) can be used alone or in combination of two or more in any proportion.

本発明に使用される(B)一般式(II)で示される酸
無水物と1分子中に少なくとも1個のヒドロキシル基お
よび少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する
単量体とのモノエステル化化合物としては、例えばフタ
ル酸無水物、6−メチルテトラヒドロフタル酸無水物、
4−メチルテトラヒドロフタル酸、ろ−エチルテトラヒ
ドロフタル酸無水物、4−エチルテトラヒドロフタル酸
無水物、3−プロピルテトラヒドロフタル酸無水物、4
−プロピルテトラヒドロフタル酸無水物、ろ−ブチルテ
トラヒドロフタル酸無水物、4−ブチルテトラヒドロフ
タル酸無水物、などの酸無水物、好ましくは、フタル酸
無水物、6−メチルテトラヒドロフタル酸無水物、4−
メチルテトラヒドロフタル酸無水物と、例えば2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(
メタ)アクリレ−1・、ポリエチレングリコールモノ(
メタ)アクリレート、ポリプロピレンモノ(メタ)アク
リレート、ポリブチレングリコールモノ(メタ)アクリ
レート、ポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート
などの学量体とのモノエステル化化合物があげられる1
、これら(B)モノエステル化化合物は一種または二種
以−Fを任意の割合で混合して使用することができる。
Monoester of (B) acid anhydride represented by general formula (II) used in the present invention and a monomer having at least one hydroxyl group and at least one (meth)acryloyl group in one molecule Examples of compounds include phthalic anhydride, 6-methyltetrahydrophthalic anhydride,
4-Methyltetrahydrophthalic anhydride, ethyltetrahydrophthalic anhydride, 4-ethyltetrahydrophthalic anhydride, 3-propyltetrahydrophthalic anhydride, 4
Acid anhydrides such as -propyltetrahydrophthalic anhydride, ro-butyltetrahydrophthalic anhydride, 4-butyltetrahydrophthalic anhydride, preferably phthalic anhydride, 6-methyltetrahydrophthalic anhydride, 4-butyltetrahydrophthalic anhydride, etc. −
Methyltetrahydrophthalic anhydride and, for example, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (
meth)acrylate-1, polyethylene glycol mono(
Examples include monoesterified compounds with molecular entities such as meth)acrylate, polypropylene mono(meth)acrylate, polybutylene glycol mono(meth)acrylate, and polycaprolactone mono(meth)acrylate.
These (B) monoesterified compounds can be used singly or in combination of two or more -F in any proportion.

−に記(A)のモノエステル化化合物および(B)のモ
ノエステル化化合物の合成は、酸無水物と単量体との開
環付加反応(でよシ行なわれるのが好ましいが、通常の
エステル化反応により合成することもてきる。これらモ
ノエステル化化合物を合成する場合、酸無水物1モルに
対して単量体1モルを使用するのが好ましいが、一方を
過剰に使用してもかまわない。上記開環付加反応におけ
る反応温度は通常50〜150℃、好ましくは80〜1
10℃の範囲である。
- Synthesis of the monoesterified compound of (A) and the monoesterified compound of (B) is carried out by a ring-opening addition reaction between an acid anhydride and a monomer (preferably carried out by a conventional method). It can also be synthesized by esterification reaction.When synthesizing these monoesterified compounds, it is preferable to use 1 mole of monomer per 1 mole of acid anhydride, but even if one is used in excess, The reaction temperature in the above ring-opening addition reaction is usually 50 to 150°C, preferably 80 to 150°C.
The temperature range is 10°C.

上記開環付加反応を行う場合、促進剤としてトリエチル
アミン、モルホリン、ペンタメチルジエチレントリアミ
ン、トリエタノールアミンなどの第3級アミン類又はそ
の第4級アンモニウム塩などを使用することができる。
When carrying out the above ring-opening addition reaction, tertiary amines such as triethylamine, morpholine, pentamethyldiethylenetriamine, triethanolamine, or their quaternary ammonium salts can be used as promoters.

また、反応中に重合が生ずるのを防出するために、ヒド
ロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、t−ブチ
ルヒドロキノン、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン
、フェノチアジンなどの重合禁止剤を使用することもで
きる。
Furthermore, in order to prevent polymerization from occurring during the reaction, polymerization inhibitors such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, t-butylhydroquinone, t-butylcatechol, benzoquinone, and phenothiazine can also be used.

上記開環付加反応の反応の進行は、酸無水物の赤外線吸
収スペクトルにより容易に知ることができ、酸無水物の
赤外線吸収スペクトルピークの消失により実質的に反応
が完了したと見なせる。
The progress of the ring-opening addition reaction can be easily determined from the infrared absorption spectrum of the acid anhydride, and it can be considered that the reaction is substantially completed when the infrared absorption spectrum peak of the acid anhydride disappears.

(A)のモノエステル化化合物の量は、本発明のパター
ン形成用組成物に対して好ましくは5〜87重量%であ
り、(B)のモノエステル化化合物の量は、パターン形
成用組成物に対して好ましくは5〜87重量%である。
The amount of the monoesterified compound (A) is preferably 5 to 87% by weight based on the pattern forming composition of the present invention, and the amount of the monoesterified compound (B) is preferably 5 to 87% by weight based on the pattern forming composition of the present invention. It is preferably 5 to 87% by weight.

更に(A)のモノエステル化化合物の量と(B)のモノ
エステル化化合物の量の合計がノくターン形成用組成物
に対して42〜922〜92重量%とが好ましい。(A
)のモノエステル化化合物の量が5重量%以下であると
、エツチング液中での硬化被膜強度が著しく低下し、ま
た、(B)のモノエステル化化合物の量が5重量%以丁
であると、アルカリ水溶液により剥離した硬化被膜の細
分化や溶解が生ずる。(A)のモノエステル化化合物と
(B)のモノエステル化化合物の合計数が50重t%以
下であると、アルカリ水溶液による剥離性が著しく低下
する。
Further, the total amount of the monoesterified compound (A) and the monoesterified compound (B) is preferably 42 to 922 to 92% by weight based on the composition for forming knots. (A
If the amount of the monoesterified compound (B) is less than 5% by weight, the strength of the cured film in the etching solution will decrease significantly, and if the amount of the monoesterified compound (B) is less than 5% by weight. Then, the cured film peeled off by the alkaline aqueous solution is fragmented and dissolved. If the total number of monoesterified compounds (A) and monoesterified compounds (B) is less than 50% by weight, the removability with an alkaline aqueous solution will be significantly reduced.

本発明に使用される(C)ジシクロペンテニルオキシア
ルキル(メタ)アクリレートとしては、例えばジシクロ
ペノテニル(メタ)アクリレート、シンクロペンテニル
オキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニ
ルオキ7プチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテ
ニルオキ7プチル(メタ)アクリレートなどがあげられ
る。これら(C)ジシクロペンテニルオキシアルキル(
メタ)アクリレートは一種または二種以上を任意の割合
で混合して使用することができる。
Examples of dicyclopentenyloxyalkyl (meth)acrylate (C) used in the present invention include dicyclopenotenyl (meth)acrylate, synclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, and dicyclopentenyloxy7butyl (meth)acrylate. , dicyclopentenyl ox-7butyl (meth)acrylate, and the like. These (C) dicyclopentenyloxyalkyl (
One type of meth)acrylate or a mixture of two or more types can be used in any ratio.

(C) ジシクロペンテニルオキシアルキル(メタ)ア
クリレートの黴は、本発明のパターン形成用組成物に対
して好寸しくは2〜49重量%、より好ましくは5〜4
5重量%である。(C)ジシクロペンテニルオキシアル
キル(メタ)アクリレートの量が50重量%以上大なる
と、アルカリ水溶液による硬化被膜の剥離性が著しく低
下する。
(C) The mold of dicyclopentenyloxyalkyl (meth)acrylate is preferably 2 to 49% by weight, more preferably 5 to 4% by weight, based on the pattern forming composition of the present invention.
It is 5% by weight. When the amount of dicyclopentenyloxyalkyl (meth)acrylate (C) increases by 50% by weight or more, the removability of the cured film with an aqueous alkaline solution is significantly reduced.

本発明に使用される(D)光増感剤としては、公知のど
のような光増感剤でも使用することができるが、配合後
の貯蔵安定性の良いものが望ましい。
As the photosensitizer (D) used in the present invention, any known photosensitizer can be used, but it is desirable that the photosensitizer has good storage stability after being blended.

このような光増感剤としては、例えばベンゾインエチル
エーテル、ペンソインフチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテルなどのベンゾインアルキルエーテル系
光増感剤、2.2−ジエトキシアセトフェノン、4′−
フェノキシ−2,2−ジクロルアセトフェノンなどのア
セトフェノン系光増感剤、2−ヒドロキシ−2−メチル
プロピオフェノン、4′−イソプロピル−2−ヒドロキ
シ−2−メチルプロピオフェノンなどのプロピオフェノ
ン系光増感剤、2−エチルアントラキノン、2−1−ブ
チルアントラキノン、2−クロルアントラキノンなどの
アントラキノン系光増感剤その他チオキサントン系光増
感剤、ベンジルジメチルケタールなどがあげられる。こ
れら光増感剤(てついても一種または二種以上を任意の
割合で混合して使用することができる。(D)光増感剤
の量は、本発明メタへ 一ン形成用組成物に対して好捷しくは1〜15重隈俸、
より好ましくは3〜13重量係である。
Examples of such photosensitizers include benzoin alkyl ether photosensitizers such as benzoin ethyl ether, pensoin phthyl ether, and benzoin isopropyl ether, 2,2-diethoxyacetophenone, and 4'-
Acetophenone photosensitizers such as phenoxy-2,2-dichloroacetophenone; propiophenone photosensitizers such as 2-hydroxy-2-methylpropiophenone and 4'-isopropyl-2-hydroxy-2-methylpropiophenone; Photosensitizers include anthraquinone photosensitizers such as 2-ethylanthraquinone, 2-1-butylanthraquinone, and 2-chloroanthraquinone, thioxanthone photosensitizers, and benzyl dimethyl ketal. These photosensitizers can be used alone or in a mixture of two or more in any ratio. (D) The amount of the photosensitizer can be adjusted to On the other hand, it is preferable to pay 1 to 15 times,
More preferably, the weight ratio is 3 to 13.

本発明の組成物に対し上記(A)、 (B)および(c
)以外の不飽和化合物を加えることも可詣である。
For the composition of the present invention, the above (A), (B) and (c)
It is also possible to add unsaturated compounds other than ).

推力1呵能な不飽和化合物としては、例えば2−ヒドロ
キシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロ
ピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモ
ノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモ
ノ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ポリカプロラクトンモノ(メタ
)アクリレート、セロソルブ(メタ)アクリレート、メ
チルセロンルプ(メタ)アクリレート、ブチルセロソル
ブ(メタ)アクリレート、カルピトール(メタ)アクリ
レート、メチルカルピトール(メタ)アクリレート、ブ
チルカルピトール(メタ)アクリレート、フェノキンエ
チル(メタ)アクリレート、フェニルグリンジルエーテ
ル(メタ)アクリル酸付加物などの単官能性不飽和化合
物、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ポリプロビレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポ
リブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリカ
プロラクトンジ(メタ)アクリレート、1.6ヘキサン
ジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(
メタ)アクリレートなどの2官能性不飽和化合物などが
あげられるが、これ翫;水弁へ 明パターン形成用組成物のうち40重量係以上を占める
まで用いるとアルカリ水溶液による剥離性が低下するた
め好ましくない。
Examples of unsaturated compounds capable of increasing thrust include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, polyethylene glycol mono(meth)acrylate, polypropylene glycol mono(meth)acrylate, and polybutylene glycol mono(meth)acrylate. (meth)acrylate, polycaprolactone mono(meth)acrylate, cellosolve (meth)acrylate, methylselonulp(meth)acrylate, butyl cellosolve (meth)acrylate, carpitol (meth)acrylate, methylcarpitol (meth)acrylate, butylcarpitol (meth)acrylate, fenoquinethyl (meth)acrylate, monofunctional unsaturated compounds such as phenylgrindyl ether (meth)acrylic acid adducts, polyethylene glycol di(meth)acrylate,
Polypropylene glycol di(meth)acrylate, polybutylene glycol di(meth)acrylate, polycaprolactone di(meth)acrylate, 1.6 hexane di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(
Examples include bifunctional unsaturated compounds such as meth)acrylate; however, it is preferable to use this compound until it accounts for 40% or more of the composition for forming a bright pattern in the water valve because the removability with an aqueous alkaline solution decreases. do not have.

本発明の組成物は、印刷されあるいは塗布されて用いら
れるがその際の印刷性能、塗布適性を向上させるために
体質顔料、レベリング剤、消泡剤、着色顔料、揺変剤な
どを本発明の組成物に加えて使用することができる。
The composition of the present invention is used by being printed or coated, and in order to improve printing performance and coating suitability, an extender pigment, a leveling agent, an antifoaming agent, a coloring pigment, a thixotropic agent, etc. are added to the composition of the present invention. Can be used in addition to compositions.

本発明の組成物は、例えば銅、しんちゅう等の金属表面
にスクリーン印刷し、しかる後紫外線を照射して硬化さ
せ、被膜を形成する。紫外線の照射は通常50〜200
W/cmの高圧水銀灯又はメタルハライドランプを用い
30秒以内の短時間の照射により硬化を完了することが
できる。次に塩化第二銅、塩化第二鉄、鉱酸などの金属
の酸性エツチング液により金属露出部分をエツチング除
去した後、アルカリ水溶液により本発明の組成物の紫外
線硬化被膜を除去し、金属パターンを形成する。
The composition of the present invention is screen printed on a metal surface such as copper or brass, and then cured by irradiation with ultraviolet rays to form a film. UV irradiation is usually 50 to 200
Curing can be completed by short-time irradiation within 30 seconds using a W/cm high-pressure mercury lamp or metal halide lamp. Next, the exposed metal portions are removed by etching with an acidic metal etching solution such as cupric chloride, ferric chloride, or mineral acid, and then the ultraviolet-cured coating of the composition of the present invention is removed with an alkaline aqueous solution to form the metal pattern. Form.

まだ、金属露出部分に酸性若しくは中性のメッキ液を用
いて、ノ・ンダ、ニッケル、金などの金属メッキを行な
い、アルカリ水溶液によシ本発明の組成物の紫外線硬化
被膜を除去した後、過硫酸アンモニウムなどの金属のア
ルカリ性エツチング液により、硬化被膜下の上記金属メ
ッキされていない銅、しんちゅうなどの金属面をエツチ
ング除去し、金属メッキを用いた金属パターンを形成す
ることも可能である。
After plating metals such as gold, nickel, and gold on the exposed metal parts using an acidic or neutral plating solution, and removing the ultraviolet-cured coating of the composition of the present invention using an alkaline aqueous solution, It is also possible to form a metal pattern using metal plating by etching away the metal surface of copper, brass, etc. that is not plated with the metal under the hardened film using an alkaline metal etching solution such as ammonium persulfate.

本発明の紫外線硬化パターン形成用組成物は、硬化特性
、被膜強度に優れ、またアルカリ水溶液による被膜の剥
離性も良好である。さらに剥離被膜が細分化したシ溶解
したりすることがないので廃アルカリ水溶液の処理が容
易であシ、金属パターンを形成するだめの紫外線硬化組
成物として極めて優れている。
The ultraviolet curable pattern forming composition of the present invention has excellent curing properties and film strength, and also has good removability of the film with an aqueous alkaline solution. Furthermore, since the release film does not become fragmented or dissolved, the waste alkali aqueous solution can be easily treated, and it is extremely excellent as an ultraviolet curable composition for forming metal patterns.

以下、本発明を実施例によって説明する。Hereinafter, the present invention will be explained by examples.

実施例1 ヘキサヒドロフタル酸無水物154 fl (1モル)
、2−ヒドロキシエチルアクリレート116 y (1
モル)およびヒドロキノン027りを撹拌機付きフラス
コに入れ、95℃にて赤外線吸収スペクトルの酸無水物
のピークが消失するまでの時間8時間反応させてモノエ
ステル化化合物(A−1)を得た。
Example 1 Hexahydrophthalic anhydride 154 fl (1 mol)
, 2-hydroxyethyl acrylate 116 y (1
Mol) and hydroquinone 027 were placed in a flask with a stirrer and reacted at 95°C for 8 hours until the acid anhydride peak in the infrared absorption spectrum disappeared to obtain a monoesterified compound (A-1). .

一方、6−メチルテトラヒドロフタル酸無水物168 
f (1モル)、2ヒドロキシエチルメタクリレ−)−
130y(1モル)およびヒドロキノンOろ0りを一上
記モノエステル化化合物(A−1)と同様にして反応さ
せモノエステル化化合物(B−1)を得た。
On the other hand, 6-methyltetrahydrophthalic anhydride 168
f (1 mol), 2hydroxyethyl methacrylate)-
130y (1 mol) and hydroquinone O2 were reacted in the same manner as in the above monoesterified compound (A-1) to obtain a monoesterified compound (B-1).

上記モノエステル化化合物(A−1)82部、上記モノ
エステル化化合物(B−1)10部、ジシクロペンテニ
ルアクリレート5部並びに光増感剤としてベンゾインエ
チルエーテル2部およびt−ブチルアントラキノン1部
を配合し、パターン形成用組成物とした。スクリーン印
刷特性を与える為上記パターン形成用組成物ioo部に
対しフィラーとしてタルク30部、硫酸バリウム60部
、揺変剤としてエコジル05部、着色顔料としてフタロ
シアニンブルー05部を加え、パターン形成用スクリー
ン印刷インクを作製した。スフ1ノーン印刷により、銅
板上に上記パターン形成用スクリーン印刷インクを印刷
した。印刷塗布膜の厚みは15μであった。この塗布膜
をB o w 7cmの高圧水銀灯6灯により紫外線を
照射し硬化した。硬化に要しだ時間は5秒であり、硬化
被膜の鉛筆硬度は3Hであった。次に塩化第二銅エツチ
ング液により金属露出部分をエツチング除去した。エツ
チング後の硬化被膜の鉛筆硬度はHであった。40℃の
3918水酸化ナトリウム水溶液により硬化被膜を銅面
より剥離して金属パターンを得た。剥離に要した時間は
4秒であり、剥離した硬化被膜は上記水酸化ナトリウム
水溶液中に48時間放置しても溶解、細分化を生じなか
った。
82 parts of the above monoesterified compound (A-1), 10 parts of the above monoesterified compound (B-1), 5 parts of dicyclopentenyl acrylate, and 2 parts of benzoin ethyl ether and 1 part of t-butylanthraquinone as photosensitizers. were blended to prepare a pattern-forming composition. To provide screen printing properties, 30 parts of talc as fillers, 60 parts of barium sulfate, 05 parts of Ecosil as a thixotropic agent, and 05 parts of phthalocyanine blue as a coloring pigment were added to 10 parts of the above composition for pattern formation, and screen printing for pattern formation was performed. Ink was created. The above pattern-forming screen printing ink was printed on a copper plate by 1-noon printing. The thickness of the printed coating film was 15μ. This coating film was cured by irradiating it with ultraviolet rays using six high-pressure mercury lamps with a bow of 7 cm. The time required for curing was 5 seconds, and the pencil hardness of the cured film was 3H. Next, the exposed metal portions were removed by etching using a cupric chloride etching solution. The pencil hardness of the cured film after etching was H. The cured film was peeled off from the copper surface using a 3918 sodium hydroxide aqueous solution at 40° C. to obtain a metal pattern. The time required for peeling was 4 seconds, and the peeled cured film did not dissolve or fragment even after being left in the above sodium hydroxide aqueous solution for 48 hours.

実施例2 ろ−メチルヘキサヒドロンタル酸無水物168り(1モ
ル)、2−ヒドロキシプaピルメタクリレ−)173f
(1,2モル)を実施例1と同様にして反応させモノエ
ステル化化合物(A−2)を得た。
Example 2 Methylhexahydrontalic anhydride 168 (1 mol), 2-hydroxybutyrmethacrylate) 173f
(1.2 mol) was reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a monoesterified compound (A-2).

また無水フタル酸148 ft (1モル)および2−
ヒドロキシエチルアクリレ−)139f(1,2モル)
についても同様に反応させモノエステル化化合物(B−
2)を得だ。
Also 148 ft (1 mole) of phthalic anhydride and 2-
Hydroxyethyl acrylate) 139f (1.2 mol)
was also reacted in the same manner to form a monoesterified compound (B-
2) Got it.

上記(A−2)10部、上記(B−2)80部、ジシク
ロペンテニルメタクリレート5部および光増感剤として
ベンジルジメチルケタール5部を配合して、パターン形
成用組成物とした。該組成物を使用し、実施例1と同様
な処方忙よりパターン形成用スクリーン印刷インクを作
製した。このインクを用い実施例1と同様にして印刷し
、硬化し3%水酸化ナトリウム水溶液にて硬化被膜を銅
表面より剥離して金属パターンを得た。剥離に要した時
間は4秒であり、剥離した硬化被膜は該水溶液中に48
時間放置しても溶解、細分化を生じなかった。
A pattern-forming composition was prepared by blending 10 parts of the above (A-2), 80 parts of the above (B-2), 5 parts of dicyclopentenyl methacrylate, and 5 parts of benzyl dimethyl ketal as a photosensitizer. Using this composition, a pattern-forming screen printing ink was prepared using the same formulation as in Example 1. This ink was printed in the same manner as in Example 1, cured, and the cured film was peeled off from the copper surface with a 3% aqueous sodium hydroxide solution to obtain a metal pattern. The time required for peeling was 4 seconds, and the peeled cured film was in the aqueous solution for 48 seconds.
No dissolution or fragmentation occurred even after standing for a long time.

実施例3 ヘキサヒドロフタル酸無水物154 f (1モル)お
よび2−ヒドロキンエチルメタクリレート1307(1
モル)を実施例1と同様にして反応させモノエステル化
化合物(A−6)を得た。また4−メチルテトラヒドロ
フタル酸無水物168 y (1モル)及び2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート144¥(1モル)につい
ても同様に反応させモノエステル化化合物(B−3)を
得た。上記(A−6)25部、上記(B−3)so部、
ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート40部お
よび光増感剤として2−ヒドロキシ−2−メチル−プロ
ピオフェノン5部を配合してパターン形成用組成物とし
た。該組成物を使用し、実施例1と同様にしてパターン
形成用スクリーン印刷インクを作製し、このインクで印
刷し、硬化させた。硬化被膜の鉛筆硬度は3Hであり、
エツチング後の鉛筆硬度は2Hであった。40℃の6チ
水酸化ナトリウム水溶液にて硬化被膜を銅表面より剥離
して金属パターンを得た。剥離に要した時間は6秒であ
り、剥離した硬化被膜は、該水溶液中に48時間放置し
ても溶解、細分化を生じなかった。
Example 3 Hexahydrophthalic anhydride 154 f (1 mol) and 2-hydroquinethyl methacrylate 1307 (1 mol)
mol) was reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a monoesterified compound (A-6). Furthermore, 168 y (1 mol) of 4-methyltetrahydrophthalic anhydride and 144 yen (1 mol) of 2-hydroxypropyl methacrylate were reacted in the same manner to obtain a monoesterified compound (B-3). 25 parts of the above (A-6), the so part of the above (B-3),
A pattern-forming composition was prepared by blending 40 parts of dicyclopentenyloxyethyl acrylate and 5 parts of 2-hydroxy-2-methyl-propiophenone as a photosensitizer. Using this composition, a screen printing ink for pattern formation was prepared in the same manner as in Example 1, and this ink was printed and cured. The pencil hardness of the cured film is 3H,
The pencil hardness after etching was 2H. The cured film was peeled off from the copper surface using an aqueous solution of sodium hydroxide at 40°C to obtain a metal pattern. The time required for peeling was 6 seconds, and the peeled cured film did not dissolve or fragment even after being left in the aqueous solution for 48 hours.

実施例4 4−メチルへキサヒドロフタル酸無水物1687(1モ
ル)、テトラエチレングリコールモノアクリレート35
B ? (1モル)およびヒドロキノン052を実施例
1と同様に反応させてモノエステル化化合物(A−4)
を得た。まだ無水フタル酸148 y (1モル)、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート150f(1モル)
およびヒドロキノン0282についても同様に反応させ
てモノエステル化化合物(B−4)を得た。上記(A−
4)35部、前記(B−1)20部、上記(、B−4)
18部、ジ/クロペンテニルオキシグロビルメタクリレ
−1−15部および光増感剤として4′−フェノキシ−
2,2−ジクロルアセトフェノンi2*l配合してパタ
ーン形成用組成物とした。該組成物を使用し、実施例1
と同様にしてパターン形成用スクリーン印刷インクを作
製し、このインクで印刷し、硬化させた。硬化被膜の鉛
筆硬度は3Hであり、エツチング後の鉛筆硬度はHであ
″)た。40℃の3%水酸化すトリウム水溶液にて硬化
被膜を銅表面より剥離して金属パターンを得た。剥離に
要した時間は4秒であシ、剥離した硬化被膜は該水溶液
中に48時間放置しても溶解、細分化を生じなかった。
Example 4 4-Methylhexahydrophthalic anhydride 1687 (1 mol), tetraethylene glycol monoacrylate 35
B? (1 mol) and hydroquinone 052 were reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a monoesterified compound (A-4).
I got it. Still phthalic anhydride 148 y (1 mol), 2
-Hydroxyethyl methacrylate 150f (1 mol)
and Hydroquinone 0282 were reacted in the same manner to obtain a monoesterified compound (B-4). Above (A-
4) 35 parts, 20 parts of the above (B-1), the above (, B-4)
18 parts, 1-15 parts of di/clopentenyloxyglobil methacrylate and 4'-phenoxy- as a photosensitizer.
A pattern-forming composition was prepared by blending 2,2-dichloroacetophenone i2*l. Using the composition, Example 1
A pattern-forming screen printing ink was prepared in the same manner as above, and this ink was printed and cured. The pencil hardness of the cured film was 3H, and the pencil hardness after etching was H. The cured film was peeled off from the copper surface with a 3% aqueous thorium hydroxide solution at 40°C to obtain a metal pattern. The time required for peeling was 4 seconds, and the peeled cured film did not dissolve or fragment even after being left in the aqueous solution for 48 hours.

実施例5 (1モル)および2−ヒドロキシグロピルアクリレート
L501F(1モル)を実施例と同様にして反応させモ
ノエステル化化合物(A−5)を得だ。
Example 5 (1 mol) and 2-hydroxyglopylacrylate L501F (1 mol) were reacted in the same manner as in Example to obtain a monoesterified compound (A-5).

また、無水フタル酸148 ? (1モル)および2−
ヒドロキシエチルメタクリレート144 fi’ (1
モル)についても同様に反応させモノエステル化化合物
(B−s)を得た。前記(A−1)10部、上記(A−
5)25部、上記(B−5)13部、ジシクロペンテニ
ルオキ/エチルメタクリレート25部、光増感剤として
2−クロ′ルチオキサント77部およびその他不飽和化
合物として2−ヒドロキシエチルメタクリレート20部
を配合してパターン形成用組成物とした。該組成物を使
用し、実施例1と同様にしてパターン形成用スクリーン
印刷インクを作製し、このインクで印刷し、硬化させた
。硬化被膜の鉛筆硬度は2Hであり、エツチング後の鉛
筆硬度はHBであった。40℃の6チ水酸化ナトリウム
水溶液にて硬化被膜を銅表面より剥離して金属バター/
を得た。剥離に要した時間は4秒であり、剥離した硬化
被膜は該水溶液中に48時間放置しても溶解、細分化を
生じなかった。
Also, phthalic anhydride 148? (1 mol) and 2-
Hydroxyethyl methacrylate 144 fi' (1
mol) was similarly reacted to obtain a monoesterified compound (B-s). 10 parts of the above (A-1), the above (A-
5) 25 parts, 13 parts of the above (B-5), 25 parts of dicyclopentenyl oxy/ethyl methacrylate, 77 parts of 2-chlorothioxane as a photosensitizer, and 20 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate as other unsaturated compounds. These were blended to form a pattern-forming composition. Using this composition, a screen printing ink for pattern formation was prepared in the same manner as in Example 1, and this ink was printed and cured. The pencil hardness of the cured film was 2H, and the pencil hardness after etching was HB. The cured film was peeled off from the copper surface using a 40°C aqueous solution of sodium hydroxide and metal butter/
I got it. The time required for peeling was 4 seconds, and the peeled cured film did not dissolve or fragment even after being left in the aqueous solution for 48 hours.

実施例6 4−メチルへキサヒドロフタル酸無水物168Li!(
1モル)および2−ヒドロキシエチルメタクリレート1
4ろ7(11モル)を実施例1と同様にして反応させモ
ノエステ、ル化化合物(A−6)を得た。また、無水フ
タル酸148 f (1モル)およびテトラエチレング
リコールモノアクリレート6947(11モル)につい
ても同様に反応させモノエステル化化合物(八−6)を
得だ。上記(A−6)40部、上記(B−(S)40部
、ジシクロペンテニルオキシプロピルアクリレート10
部、光増感剤トシてベンジルジメチルケタール6部及び
2−エチルアントラキノ72部並び((その他不飽和化
合物としてトリブロピレングリコールンアクリレート5
部を配合してパターン形成用組成物とした。
Example 6 4-Methylhexahydrophthalic anhydride 168Li! (
1 mol) and 2-hydroxyethyl methacrylate 1
4-7 (11 mol) was reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a monoester compound (A-6). Furthermore, phthalic anhydride 148f (1 mol) and tetraethylene glycol monoacrylate 6947 (11 mol) were reacted in the same manner to obtain a monoesterified compound (8-6). 40 parts of the above (A-6), 40 parts of the above (B-(S)), 10 parts of dicyclopentenyloxypropyl acrylate
1 part, 6 parts of benzyl dimethyl ketal and 72 parts of 2-ethyl anthraquino as a photosensitizer, and 5 parts of tribropylene glycol acrylate as other unsaturated compounds.
A pattern-forming composition was prepared by blending the following parts.

該組成物を使用し、実施例1と同様にしてパターン形成
用スクリーン印刷インクを作製し、このインクで印刷、
硬化させた。硬化被膜の鉛筆硬度は3Hであり、エツチ
ング後の鉛筆硬度は2Hであった。40℃の3チ水酸化
ナトl)ラム水溶液にて硬化被膜を銅表面より剥離して
金属パターンを得だ。剥離に要した時間は6秒であシ、
剥離した硬化被膜は該水溶液中に48時間放置しても溶
解、細分化を生じなかった。
Using this composition, a screen printing ink for pattern formation was prepared in the same manner as in Example 1, and printing with this ink,
hardened. The pencil hardness of the cured film was 3H, and the pencil hardness after etching was 2H. The cured film was peeled off from the copper surface in an aqueous solution of sodium trihydroxide at 40°C to obtain a metal pattern. The time required for peeling is 6 seconds.
The peeled cured film did not dissolve or fragment even when it was left in the aqueous solution for 48 hours.

特許出願人 三井東圧化学株式会社patent applicant Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 10\)一般式(1) (但し、Rは水素またはC1H2’ 、 n =1〜4
でn→1 示されるアルキル基を表わす。)で示される酸無水物と
1分子中に少くとも1個のヒドロキシル基および少くと
も1個の(メタ)アクリロイル基を有する単量体とのモ
ノエステル化化合物、(B)一般式(11) (但し、Rは水素またはCnH2n+□、n−1〜4で
示されるアルキル基を表わす。)で示される酸無水物と
1分子中に少なくとも1個のヒドロキシル基および少く
とも1個の(メタ)アクリロイル基を有する単量体との
モノエステル化化合物、(C)ジシクロペンテニルオキ
シアルキル(メタ)アクリレート、よ・より゛ (D)光増感剤 を配合してなる紫外線硬化パターン形成用の組成物。
[Claims] 10\) General formula (1) (However, R is hydrogen or C1H2', n = 1 to 4
represents an alkyl group represented by n→1. ) A monoesterified compound of an acid anhydride represented by (B) with a monomer having at least one hydroxyl group and at least one (meth)acryloyl group in one molecule, (B) general formula (11) (However, R represents hydrogen or CnH2n+□, an alkyl group represented by n-1 to 4.) and at least one hydroxyl group and at least one (meth) in one molecule. A composition for forming an ultraviolet curable pattern comprising a monoesterified compound with a monomer having an acryloyl group, (C) dicyclopentenyloxyalkyl (meth)acrylate, and (D) a photosensitizer. thing.
JP13913482A 1982-08-12 1982-08-12 Composition for forming ultraviolet-cured pattern Pending JPS5929246A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS604512A (en) * 1983-06-22 1985-01-11 Takao Ono Photosetting composition
US4636534A (en) * 1984-10-30 1987-01-13 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Photopolymerizable composition
EP0337403A2 (en) * 1988-04-15 1989-10-18 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photopolymerizable compositions

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