JPS58153930A - Composition for forming pattern hardenable by ultraviolet rays irradiation - Google Patents
Composition for forming pattern hardenable by ultraviolet rays irradiationInfo
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- JPS58153930A JPS58153930A JP3577082A JP3577082A JPS58153930A JP S58153930 A JPS58153930 A JP S58153930A JP 3577082 A JP3577082 A JP 3577082A JP 3577082 A JP3577082 A JP 3577082A JP S58153930 A JPS58153930 A JP S58153930A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、プリント基板や銘板の加工あるいは感光性゛
刷版の・ξターン形成に用いられる、紫外線により硬化
しアルカリ水溶液により剥離する紫外線硬化パターン形
成用組成物に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an ultraviolet-curable pattern-forming composition that is cured by ultraviolet light and peeled off by an alkaline aqueous solution, and is used for processing printed circuit boards and nameplates or for forming ξ turns on photosensitive printing plates.
近年、種々の・ξター/形成に紫外線硬化型組成物が多
用され始めている。これは従来使用されて来た熱硬化型
組成物に較べ、生産性、省エネルギー、無公害などの面
で実用上有利なことによる。また、・ぞターン形成後の
紫外線硬化被膜の剥離についても、作業環境の汚染や経
済性等の理由により、溶剤による剥離からアルカリ水溶
液による剥離へと移行している。このような状況におい
て種々の紫外線硬化組成物が検討されて来た。しかし、
アルカリ水溶液による紫外線硬化被膜の剥離性を向上さ
せようとすると、架橋密度の減少や過度の親水性保持な
どを招きやすく、これに起因する紫外線硬化性の低下、
エツチング液中での硬化被膜の強度低下あるいはアルカ
リ水溶液により剥離された硬化被膜が細分化したり溶解
したりすることによる廃水処理の問題が生じ、要求性能
を十分に満足するものは未た開発されるに至っていない
。In recent years, ultraviolet curable compositions have begun to be frequently used for the formation of various types of . This is because it is practically advantageous in terms of productivity, energy saving, pollution-free, etc., compared to conventionally used thermosetting compositions. Furthermore, with regard to the peeling of the ultraviolet cured film after the formation of the turn, there has been a shift from peeling using a solvent to using an alkaline aqueous solution due to reasons such as contamination of the working environment and economic efficiency. Under these circumstances, various UV-curable compositions have been investigated. but,
Attempts to improve the removability of UV-cured coatings using aqueous alkaline solutions tend to result in a decrease in crosslinking density and excessive retention of hydrophilicity, resulting in a decrease in UV-curing properties,
Wastewater treatment problems arise due to a decrease in the strength of the cured film in the etching solution or fragmentation or dissolution of the cured film peeled off by an alkaline aqueous solution, and a product that fully satisfies the required performance has yet to be developed. has not yet been achieved.
本発明者等は上記問題点を解決子べく鋭意前売を続けた
結果、アルカリ水溶液による硬化被膜の剥離性がすぐれ
、また紫外線による硬化性、エツチング時の硬化被膜強
度にもすぐれ、かつアルカリ水溶液により剥離したとき
に硬化被膜の細分化や溶解を生じない廃水処理が容易な
紫51(
外線硬化パターン形成用組成物を見い出し、本発明を完
成するに至った。The inventors of the present invention have made efforts to solve the above-mentioned problems, and as a result, they have found that the cured film with an alkaline aqueous solution has excellent removability, and also has excellent curing properties with ultraviolet rays and strength of the cured film during etching. We have discovered Purple 51 (external line cured pattern forming composition) which does not cause fragmentation or dissolution of the cured film when it is peeled off, and which is easy to treat in waste water, and have completed the present invention.
すなわち、本発明は、
(但し、Rは水素またはCnH2H+1 t n −1
〜4で示されるアルキル基を表わす。)で示される酸無
水物と1分子中に少くとも1個のヒドロキシル基及び少
くとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する単量体と
のモノエステル化化合物、(B) 一般式(II)
(但し、Rは水素または”:nH21+1 + n −
1〜4で示されるアルキ、ル基を表わす。)で示される
酸無水物と1分子中に少くとも1個のヒドロキシル基及
び少くとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する単量
体とのモノエステル化化合物、(C) ジシクロペン
タジェニルオキシアルキル(メタ)アクリレート、およ
び
(Di 光増感剤
を配合してなる紫外線硬化・ぞターン形成用組成物であ
る。That is, the present invention provides the following conditions: (However, R is hydrogen or CnH2H+1 t n -1
- represents an alkyl group represented by 4. ) A monoesterified compound of an acid anhydride represented by (B) with a monomer having at least one hydroxyl group and at least one (meth)acryloyl group in one molecule, (B) general formula (II) (However, R is hydrogen or ": nH21+1 + n -
It represents an alkyl group represented by 1 to 4. ) A monoesterified compound of an acid anhydride represented by (C) with a monomer having at least one hydroxyl group and at least one (meth)acryloyl group in one molecule, (C) dicyclopentadienyl This is an ultraviolet curing/zottle-forming composition containing an oxyalkyl (meth)acrylate and a (Di) photosensitizer.
本発明:二使用される(N一般式(I)で示される酸無
水物と1分子中に少なくとも1個のヒドロキシル基およ
び少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する単
量体とのモノエステル化化合物としては、例えばヘキサ
ヒドロンタル酸無水物、3−メチルへキサヒドロフタル
酸無水物、4−メチにヘキサヒドロンタル酸無水物、3
−エチルへキサヒドロフタル酸無水物、4−エチルへキ
サヒドロフタル酸無水物、3−プロピルへキサヒドロフ
タル酸無水物、3−イソプロピルへキサヒドロフタル酸
無水物、4−プロピルへキサヒドロフタル酸無水物、4
−イソゾロビルへキサヒドロフタル酸無水物、3−ブチ
ルヘキサヒドロフタル酸無水物、4−プチルヘキサヒr
ロフタル酸などの酸無水物、好ましくはヘキサヒドロン
タル酸無水物、3−メチルへキサヒドロフタル酸無水物
、4−メチルヘキサヒPロフタル酸無水物と、例えば2
−ヒドロキシルチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシル
チル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモ
ノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモ
ノ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ポリカシロラクトンモノ(メタ
)アクリレートなどの単量体とのモノエステル化化合物
があげられる。。これら(A)モノエステル化化合物は
一種または二極以上を任意の割合で混合して使用するこ
とができる。The present invention: monoester of an acid anhydride represented by the general formula (I) and a monomer having at least one hydroxyl group and at least one (meth)acryloyl group in one molecule Examples of compounds include hexahydrontalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride, 4-methylhexahydrontalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride,
-Ethyl hexahydrophthalic anhydride, 4-ethyl hexahydrophthalic anhydride, 3-propyl hexahydrophthalic anhydride, 3-isopropyl hexahydrophthalic anhydride, 4-propyl hexahydrophthalic anhydride acid anhydride, 4
-Isozolobil hexahydrophthalic anhydride, 3-butylhexahydrophthalic anhydride, 4-butylhexahydrophthalic anhydride
With an acid anhydride such as phthalic acid, preferably hexahydronthalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride, 4-methylhexahydrophthalic anhydride, e.g.
-Hydroxylthyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxylthyl (meth)acrylate, polyethylene glycol mono(meth)acrylate, polypropylene glycol mono(meth)acrylate, polybutylene glycol mono(meth)acrylate , monoesterified compounds with monomers such as polycasilolactone mono(meth)acrylate. . These monoesterified compounds (A) can be used alone or in combination of two or more in any ratio.
本発明に使用される(B)一般式(II)で示される酸
無水物と1分子中に少なくとも1個のヒドロキシル基お
よび少なくとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する
単量体とのモノエステル化化合物としては、例えばフタ
ル酸無水物、3−メチルテトラヒドロフタル酸無水物、
4−メチルテトラヒドロフタル酸、3−エチルテトラヒ
P−ロフタルー無水物、4−エチルテトラヒドロフタル
酸無水物、3−プロピルテトラヒドロフタル酸無水物、
4−プロピルテトラヒドロフタル酸無水物、3−ブチル
テトラヒドロフタル酸無水物、4−ブチルテトラヒドロ
フタル酸無水物、などの酸無水物、好ましくは、フタル
酸無水物、3−メチルテトラヒドロフタル酸無水物、4
−メチルテトラヒドロフタル酸無水物と、例えば2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル
(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(
メタ)アクリレート、ポリプロピレンモノ(メタ)アク
リレート、ポリブチレングリコールモノ(メタ)アクリ
レート、ポリカシロラクトンモノ(メタ)アクリレート
などの単量体とのモノエステル化化合物かあ−げられる
。これら(B)モノエステル化化合物は一種または二種
以上を任意の割合で混合して使用することができる。Monoester of (B) acid anhydride represented by general formula (II) used in the present invention and a monomer having at least one hydroxyl group and at least one (meth)acryloyl group in one molecule Examples of compounds include phthalic anhydride, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride,
4-methyltetrahydrophthalic acid, 3-ethyltetrahyP-phthalic anhydride, 4-ethyltetrahydrophthalic anhydride, 3-propyltetrahydrophthalic anhydride,
Acid anhydrides such as 4-propyltetrahydrophthalic anhydride, 3-butyltetrahydrophthalic anhydride, 4-butyltetrahydrophthalic anhydride, preferably phthalic anhydride, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride, 4
- Methyltetrahydrophthalic anhydride and, for example, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 2-hydroxybutyl (meth)acrylate, polyethylene glycol mono(
Examples include monoesterified compounds with monomers such as meth)acrylate, polypropylene mono(meth)acrylate, polybutylene glycol mono(meth)acrylate, and polycasilolactone mono(meth)acrylate. These monoesterified compounds (B) can be used alone or in combination of two or more in any proportion.
上記(Nのモノエステル化化合物および(B)のモノエ
ステル化化合物の合成は、酸無水物と単量体との開環付
加反応により行なわれるのが好ましいが、通常のエステ
ル化反応により合成することもできる。これらモノエス
テル化化合物を合成する場合、酸無水物1モルに対して
単量体1モルを使用するのが好ましいが、一方を過剰に
使用してもかまわない。上記開環付加反応における反応
温度は通常50〜150℃、好ましくは80〜110℃
の範囲である。The monoesterified compound of (N) and the monoesterified compound of (B) are preferably synthesized by a ring-opening addition reaction between an acid anhydride and a monomer, but they can also be synthesized by a normal esterification reaction. When synthesizing these monoesterified compounds, it is preferable to use 1 mol of the monomer per 1 mol of the acid anhydride, but an excess of one may be used.The above ring-opening addition The reaction temperature in the reaction is usually 50 to 150°C, preferably 80 to 110°C.
is within the range of
上記開環付加反応を行う場合、促進剤としてトリエチル
アミン、モルホリン、ペンタメチルジエチレントリアミ
ン、トリエタノールアミンなどの第3級アミン類又はそ
の第4級アンモニウム塩などを使用することができる。When carrying out the above ring-opening addition reaction, tertiary amines such as triethylamine, morpholine, pentamethyldiethylenetriamine, triethanolamine, or their quaternary ammonium salts can be used as promoters.
また、反応中に重合が生ずるのを防止するために、ヒド
ロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、t−ゾチ
ルヒPロキノン、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン
、プ”’zノチアジンなどの一合禁止剤を使用すること
もできる。Additionally, mono-inhibitors such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, t-zotylhyproquinone, t-butylcatechol, benzoquinone, and pro-notiazine may be used to prevent polymerization from occurring during the reaction. can.
上記開環付加反応の反応の進行は、酸無水物の赤外線吸
収スペクトルに−よ−り容易に知ることができ、酸無水
物の赤外線吸収スペクトルー−りの消失により実質的に
反応が完了したと見なせる。The progress of the ring-opening addition reaction described above can be easily determined from the infrared absorption spectrum of the acid anhydride, and the disappearance of the infrared absorption spectrum of the acid anhydride indicates that the reaction has been substantially completed. I can see it.
(A)のモノエステル化化合物の量は、本発明の・ぞタ
ーン形成用組成物に対して好ましくは5〜87重量%で
あり、(B)のモノエステル化化合物の量は、パターン
形成用組成物に対して好ましくは5〜87重量%である
。更に(Nのモノエステル化化合物の量と(B)のモノ
エステル化化合物の量の合計が・ぐターン形成用組成物
に対して42〜92重量%であることが好ましい。(A
)のモノエステル化化合物の量が5重量%以下であると
、エツチング液中での硬化被膜強度が著しく低下し、ま
た、(B)のモノエステル化化合物の量が5重量%以下
であると、アルカリ水溶液により剥離した硬化被膜の細
分化や溶解が生ずる。The amount of the monoesterified compound (A) is preferably 5 to 87% by weight based on the turn-forming composition of the present invention, and the amount of the monoesterified compound (B) is preferably 5 to 87% by weight based on the pattern-forming composition of the present invention. It is preferably 5 to 87% by weight, based on the composition. Furthermore, it is preferable that the total amount of the monoesterified compound of (N) and the monoesterified compound of (B) is 42 to 92% by weight based on the composition for forming a pattern.(A
If the amount of the monoesterified compound (B) is less than 5% by weight, the strength of the cured film in the etching solution will decrease significantly, and if the amount of the monoesterified compound (B) is less than 5% by weight. , fragmentation and dissolution of the cured film peeled off by the alkaline aqueous solution occur.
(A)のモノエステル化化合物と(B)のモノエステル
化化合物の合計量が50重量%以下であると、アルカリ
水溶液による剥離性が著しく低下する。If the total amount of the monoesterified compound (A) and the monoesterified compound (B) is less than 50% by weight, the removability with an alkaline aqueous solution will be significantly reduced.
本発明に使用される(C)ジシクロペンタジェニルオキ
シアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば・ク
シクロペンタジェニル(メタ)アクリレート、ジシクロ
ペンタジェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジ
シクロペンタジェニルオキシゾロビル(メタ)アクリレ
ート、ジシクロペンタジェニルオキシブチルアクリレー
トなどがあげられる。これら(C)ジシクロペンタジェ
ニルオキシアルキル(メタ)アクリレートは一種または
二種以上を任意の割合で混合して使用することができる
。(C) Dicyclopentadienyloxyalkyl (meth)acrylate used in the present invention includes, for example, cyclopentadienyl (meth)acrylate, dicyclopentadienyloxyethyl (meth)acrylate, dicyclopentagenyloxyethyl (meth)acrylate, Genyloxyzorobyl (meth)acrylate, dicyclopentadienyloxybutyl acrylate, etc. These dicyclopentadienyloxyalkyl (meth)acrylates (C) can be used alone or in combination of two or more in any proportion.
(C)ジシクロペンタジェニルオキシアルキル(メタ)
アクリレートの量は、本発明のノぐターン形成用組成物
に対して好ましくは2〜49重量%、より好ましくは5
〜45重、量%である。C)ジシクロペンタジェニルオ
キシアルキル(メタ)7り9L/−ト17;)量が50
重量%以上でなると、アルカリ水溶液による硬化被膜の
剥離性が舊しく低下する。(C) Dicyclopentadienyloxyalkyl (meth)
The amount of acrylate is preferably 2 to 49% by weight, more preferably 5% by weight, based on the nogturn-forming composition of the present invention.
~45% by weight and weight. C) dicyclopentadienyloxyalkyl (meth)7 9L/-17;) amount is 50
When the amount exceeds % by weight, the removability of the cured film with an alkaline aqueous solution is significantly reduced.
本発明に使用される(D)光増感剤としては、公知のど
のような光増感剤でも使用することができるが、配合後
の貯蔵安定性の良いものが望ましい。このような光増感
剤としては、例えばペンシイ7エチルエーテル、ベンゾ
インブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル
などのベンゾインアルキルエーテル系光増感剤、2゜2
−ジェトキシアセトフェノン、4′−フェノキシ−2,
2−ジクロルアセトフェノンなどのアセトフェノン系光
増感剤、2−ヒrロキシー2−メチルプロビオフエノン
、4′−インプロピル−2−ヒドロキシ−2−メチルゾ
ロビオフェノンなどのプロピオフェノン系光増感剤、2
−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノ
/、2−クロルアントラキノンなどのアントラキノン系
光増感剤その他チオキサントン系光増感剤、ペンジルジ
メ笈ルケタールなどがあげられる。これら光増感剤につ
いても一種または二種以上を任意の割合で混合して使用
することができる。(陽光増感剤の量は、本発明パター
ン形成用組成物に対して好ましくは1〜15重量%、よ
り好ましくは3〜13重量%である。As the photosensitizer (D) used in the present invention, any known photosensitizer can be used, but it is desirable that the photosensitizer has good storage stability after being blended. Examples of such photosensitizers include benzoin alkyl ether photosensitizers such as Pency 7 ethyl ether, benzoin butyl ether, and benzoin isopropyl ether;
-jetoxyacetophenone, 4'-phenoxy-2,
Acetophenone photosensitizers such as 2-dichloroacetophenone, propiophenone photosensitizers such as 2-hyroxy-2-methylprobiophenone, and 4'-inpropyl-2-hydroxy-2-methylzorobiophenone. Sensitizer, 2
Examples include anthraquinone photosensitizers such as -ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, and 2-chloroanthraquinone, thioxanthone photosensitizers, and pendyl dimer ketal. These photosensitizers can also be used singly or in combination of two or more in any proportion. (The amount of the sunlight sensitizer is preferably 1 to 15% by weight, more preferably 3 to 13% by weight based on the pattern forming composition of the present invention.
本発明の組成物に対し上記(A) 、 (B)およびC
)以外の不飽和化合物を加えることも可能である。The above (A), (B) and C for the composition of the present invention
It is also possible to add unsaturated compounds other than ).
添加可能な不飽和化合物としては、例えば2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ
(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールモノ(
メタ)アクリレート、ポリカプロラクトンモノ(メタ)
アクリレート、セロソルブ(メタ)アクリレート、メチ
ルセロソルブ(メタ)アクリレート、ブチルセロソルブ
(メタ)アクリレート、カルピトール(メタ)アクリレ
ート、メチルカルピトール(メタ)アクリレート、ブチ
ルカルピトール(メタ)アクリレート、フェノキシエチ
ル(メタ)アクリレート、フェニルグリシジルエーテル
(メタ)震与クリル酸付加物などの単官能性不飽和化合
物、ポリプロレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート−1、
ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリ
カゾロラクトンジ(メタ)アクリレ−)、1.6ヘキサ
ンジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ
(メタ)アクリレートなどの2官能性不飽和化合物など
があげられるが、これが本発明・ぞターン形成用組成物
のうち40重量%以上を占めるまで用いるとアルカリ水
溶液による剥離性が低下するため好ましくない。Examples of unsaturated compounds that can be added include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, polyethylene glycol mono(meth)acrylate, polypropylene glycol mono(meth)acrylate, and polybutylene glycol mono(meth)acrylate.
meth)acrylate, polycaprolactone mono(meth)
Acrylate, cellosolve (meth)acrylate, methyl cellosolve (meth)acrylate, butyl cellosolve (meth)acrylate, carpitol (meth)acrylate, methylcarpitol (meth)acrylate, butylcarpitol (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, Monofunctional unsaturated compounds such as phenylglycidyl ether (meth)acrylic acid adducts, polyprolene glycol di(meth)acrylate,
polyethylene glycol di(meth)acrylate-1,
Examples include bifunctional unsaturated compounds such as polyethylene glycol di(meth)acrylate, polycasololactone di(meth)acrylate), 1.6 hexane di(meth)acrylate, and neopentyl glycol di(meth)acrylate. If this is used to the extent that it accounts for 40% by weight or more of the turn-forming composition of the present invention, it is not preferable because the removability with an alkaline aqueous solution is reduced.
本発明の組成物は、印刷されあるいは塗布されて用いら
れるがその際の印刷性能、塗布適性を向上させるために
体質顔料、レベリング剤、消泡剤、着色顔料、揺変剤な
どを本発明の組成物に加えて使用することができる。The composition of the present invention is used by being printed or coated, and in order to improve printing performance and coating suitability, an extender pigment, a leveling agent, an antifoaming agent, a coloring pigment, a thixotropic agent, etc. are added to the composition of the present invention. Can be used in addition to compositions.
本発明の組成物は、例えば銅、しんちゅう等の金属表面
にスクリーン印刷し、しかる後紫外線を照射して硬化さ
せ、被膜を形成する。紫外線の照射は通常50〜2.0
0W/(+l11の高圧水銀灯又はメタルハライドラン
プを用い30秒以内エツチング液により金属露出部分を
エツチング除去した後、アルカリ水溶液により本発明の
組成物の紫外線硬化被膜を除去し、金属パターンを形成
する。また、金属露出部分に酸性若しくは中性のメッキ
液を用いて、ハンダ、ニッケル、金などの金属メッキを
行ない、アルカリ水溶液により本発明の組成物の紫外線
硬化被膜を除去した後、過硫酸アンモニウムなどの金属
のアルカリ性エツチング液により、硬化被膜下の上記金
属メッキされていない銅、しんちゅうなどの金属面をエ
ツチング除去し、金属メッキを用いた金属パターンを形
成することも可能である。The composition of the present invention is screen printed on a metal surface such as copper or brass, and then cured by irradiation with ultraviolet rays to form a film. UV irradiation is usually 50 to 2.0
After removing the exposed metal portion by etching with an etching solution within 30 seconds using a high pressure mercury lamp or a metal halide lamp of 0 W/(+l11), the ultraviolet cured coating of the composition of the present invention is removed with an alkaline aqueous solution to form a metal pattern. , plating metals such as solder, nickel, and gold using an acidic or neutral plating solution on exposed metal parts, and removing the ultraviolet-cured coating of the composition of the present invention with an alkaline aqueous solution, and then plating metals such as ammonium persulfate. It is also possible to form a metal pattern using metal plating by etching away the metal surface of copper, brass, etc. that is not plated with metal under the cured film using an alkaline etching solution.
本発明の紫外線硬化・ぐターン形成用組成物は、硬化特
性、被膜強度に優れ、またアルカリ水溶液による被膜の
剥離性も良好である。さらに剥離被膜が細分化したり溶
解したりすることがないので廃アルカリ水溶液の処理が
容易であり、金属・ぞターンを形成するための紫外線硬
化組成物として極めて優れている。The ultraviolet curing/guttan-forming composition of the present invention has excellent curing properties and film strength, and also has good removability of the film with an aqueous alkaline solution. Furthermore, since the release film does not fragment or dissolve, the waste alkaline aqueous solution can be easily treated, making it extremely excellent as an ultraviolet curable composition for forming metal grout.
以下、本発明を実施例によって説明する。Hereinafter, the present invention will be explained by examples.
実施例 l
ヘキサヒドロフタル酸無水物t54.9(1モル)、2
−ヒドロキシエチルアクリレート116Il(1モル)
およびヒドロキノン0.27.9を攪拌機付きフラスコ
に入れ、95℃にて赤外線吸収スペクトルの酸無水物の
ピークが消失するまでの時間8時間反応させてモノエス
テル化化合物(A−1)を得た。一方、−3−メチルテ
トラヒドロフタル酸無水物16811(1モル)、2ヒ
ドロ、キシエチルメタクリレート130II(1モル)
およびヒドロキノン0.3079を上記モノエステル化
化合物(A−1)と同様にして反応させモノエステル化
化合物(B−1)を得た。Example l Hexahydrophthalic anhydride t54.9 (1 mol), 2
-Hydroxyethyl acrylate 116Il (1 mol)
and hydroquinone 0.27.9 were placed in a flask equipped with a stirrer, and reacted at 95°C for 8 hours until the acid anhydride peak in the infrared absorption spectrum disappeared to obtain a monoesterified compound (A-1). . On the other hand, -3-methyltetrahydrophthalic anhydride 16811 (1 mol), 2hydro, xyethyl methacrylate 130II (1 mol)
and 0.3079 of hydroquinone were reacted in the same manner as in the above monoesterified compound (A-1) to obtain a monoesterified compound (B-1).
上記モノエステル化化合物(A−1)82部、上記モノ
エステル化化合物(B−1)10部、ジシクロペンタジ
臣二をアクリレート5部並びに光増感剤としてベンゾイ
ンエチルエーテル21
部およびt−ブチルアントラキノン1部を配合し、・ぞ
ターン形成用組成物とした。スクリーン印刷特性を与え
る為上記パターン形成用組成物100部に対しフィラー
としてタルク3o部、硫酸ノ々リウム30部、揺変剤と
してエロジル05部、着色顔料としてフタロシアニンブ
ルー0.5部を加え、ノミターン形成用スクリーン印刷
インクを作製した。スクリーン印刷により、銅板上に上
記)IIパターン形成用スクリーン印刷インク印刷した
。印刷塗布膜の厚みは15μであった。82 parts of the monoesterified compound (A-1), 10 parts of the monoesterified compound (B-1), 5 parts of dicyclopentadiene acrylate, 21 parts of benzoin ethyl ether as a photosensitizer, and 1 part of t-butylanthraquinone. A composition for forming turns was prepared. In order to provide screen printing properties, 30 parts of talc as fillers, 30 parts of Norium sulfate as fillers, 05 parts of Erosil as a thixotropic agent, and 0.5 parts of phthalocyanine blue as a coloring pigment were added to 100 parts of the above pattern-forming composition to give screen printing properties. A screen printing ink for formation was prepared. The above screen printing ink for pattern formation (II) was printed on a copper plate by screen printing. The thickness of the printed coating film was 15μ.
この塗布膜を80 W / amの高圧水銀灯3灯によ
り紫外線を照射し硬化した。硬化に要した時間は5秒で
あり、硬化被膜の鉛筆硬度は3Hであった。次に塩化第
二銅エツチング液により金属露出部分をエツチング除去
した。エツチング後の硬化被膜゛の勾筆硬度はHであっ
た。40 ℃の3%水酸化す) IJウム水溶液により
硬化被膜を一面より剥離して金属パターンを得た。剥離
に要した時間は4秒であり、剥離した硬化被膜は上記水
酸化ナトリウム水、竺液中に48時間放置しても溶解、
細分化を生じ1なかった。This coating film was cured by irradiating ultraviolet rays with three 80 W/am high-pressure mercury lamps. The time required for curing was 5 seconds, and the pencil hardness of the cured film was 3H. Next, the exposed metal portions were removed by etching using a cupric chloride etching solution. The hardness of the cured film after etching was H. The cured film was peeled off from one side using a 3% hydroxide solution at 40° C. to obtain a metal pattern. The time required for peeling was 4 seconds, and the peeled hardened film did not dissolve or dissolve even after being left in the above sodium hydroxide solution or filtration solution for 48 hours.
There was no subdivision.
実施例 2
3−メチルへキサヒドロフタル酸無水物168.9(1
モル)、2−ヒドロキシゾロビルメタクリレート173
1i(1,2モル)を°実施例1と同様にして反応させ
モノエステル化化合物(A−2)を得た。また無水フタ
ル酸148g(1モル)および2−ヒドロキシエチルア
クリレート139 # (1,2モル)についても同様
に反応させモノエステル化化合物(B−2)を得た。Example 2 3-Methylhexahydrophthalic anhydride 168.9 (1
mole), 2-hydroxyzorobyl methacrylate 173
1i (1.2 mol) was reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a monoesterified compound (A-2). Further, 148 g (1 mol) of phthalic anhydride and 139 # (1.2 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate were reacted in the same manner to obtain a monoesterified compound (B-2).
上記(A−2)10部、上記(B−2)80部、ジシク
ロペンタジェニルメタクリレート5部および光増感剤と
してベンジルジメチルナタール5部を配合して1.eタ
ーン形成用組成物とした。該組成物を使用し、実施例1
と同様な処方によりパターン形成用スクリーン印刷イン
クを作製した。このインクを用い実施例1と同様にして
印刷し、硬化した。硬化被膜の鉛筆硬度は3Hであり、
エツチング後の硬化被膜の鉛筆強度はFであった。40
℃3%水酸化す) IJウム水溶液にて硬化被膜を銅表
面より剥離して金属・ξターンを得た。剥離に要した時
間は4秒であり、剥離した硬化被膜は該水溶液中に48
時間放置しても溶解、細分化を生じなかった。1. 10 parts of the above (A-2), 80 parts of the above (B-2), 5 parts of dicyclopentagenyl methacrylate, and 5 parts of benzyl dimethyl natal as a photosensitizer were blended. A composition for forming an e-turn was prepared. Using the composition, Example 1
A screen printing ink for pattern formation was prepared using the same recipe. This ink was printed and cured in the same manner as in Example 1. The pencil hardness of the cured film is 3H,
The pencil strength of the cured film after etching was F. 40
The cured film was peeled off from the copper surface using an IJium aqueous solution (3% hydroxide) to obtain a metal ξ turn. The time required for peeling was 4 seconds, and the peeled cured film was in the aqueous solution for 48 seconds.
No dissolution or fragmentation occurred even after standing for a long time.
実施例 3
ヘキサヒドロフタル酸無水物1s4.9(tモル)およ
び2−ヒドロキシエチルアクリレート130#(1モル
)を実施例1と同様にして反応させモノエステル化化合
物(A−3)を得た。また4−メチルテトラヒドロフタ
ル酸無水物168g(1モル)及び2−ヒドロキシゾロ
ビルメタクリレート144.9(1モル)についても同
様に反応させモノエステル化化合物(B−3)を得た。Example 3 Hexahydrophthalic anhydride 1s4.9 (t mol) and 2-hydroxyethyl acrylate 130# (1 mol) were reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a monoesterified compound (A-3). . Further, 168 g (1 mol) of 4-methyltetrahydrophthalic anhydride and 144.9 (1 mol) of 2-hydroxyzorobyl methacrylate were reacted in the same manner to obtain a monoesterified compound (B-3).
上記(A−3)25部、上記(B−3)30部、ジシク
ロペンタジェニルオキシエチルアクリレート40部およ
び光増感剤として2−ヒPロキシー2−メチループロピ
オフェノン5部を配合してパターン形成用組成物とした
。該組成物を使用し、実施例1と同様にしてパターン形
成用スクリーン印刷インクを作製し、このインクで印刷
し、硬化させた。硬化被膜の鉛筆硬度は3Hであり、エ
ツチング後の鉛筆硬度は2Hであった。40℃の3%水
酸化ナトリウム水溶液にて硬化被膜を銅表面より剥離し
て金属パターンを得た。剥離に要した時間は6秒であり
、剥、離した硬化被膜は、該水溶液中に48時間放置し
ても溶解、細分化を生じなかった。Contains 25 parts of the above (A-3), 30 parts of the above (B-3), 40 parts of dicyclopentadienyloxyethyl acrylate, and 5 parts of 2-hyProxy-2-methyl-propiophenone as a photosensitizer. A pattern-forming composition was prepared. Using this composition, a screen printing ink for pattern formation was prepared in the same manner as in Example 1, and this ink was printed and cured. The pencil hardness of the cured film was 3H, and the pencil hardness after etching was 2H. The cured film was peeled off from the copper surface using a 3% aqueous sodium hydroxide solution at 40° C. to obtain a metal pattern. The time required for peeling was 6 seconds, and the peeled cured film did not dissolve or fragment even after being left in the aqueous solution for 48 hours.
実施例 4
4−メチルへキサヒドロフタル酸無水物16819(1
モル)、テトラエチレングリコールモノアクリレート3
58.!1l(1モル)およびヒドロキノン0.5gを
実施例1と同様に反応させてモノエステル化化合物(A
−4)を得た。また無水フタル酸148.p(1モル)
、2−ヒドロキシエチルメタクリレート130.9(1
モル)およびヒドロキノン0゜28gについても同様に
反応させてモノエステル化化合物(B−4)を得た。Example 4 4-Methylhexahydrophthalic anhydride 16819 (1
mole), tetraethylene glycol monoacrylate 3
58. ! 1 liter (1 mol) and 0.5 g of hydroquinone were reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a monoesterified compound (A
-4) was obtained. Also, phthalic anhydride 148. p (1 mol)
, 2-hydroxyethyl methacrylate 130.9 (1
mol) and 0.28 g of hydroquinone were reacted in the same manner to obtain a monoesterified compound (B-4).
上記(A−4)35部、前記(B−1)20部、′上記
(B−4)18部、ジシクロペンタジェニルオキシゾロ
ビル“メタクリレート15部および光増感剤として4′
−フェノキシ−2,2−ジクロルアセトフェノン12部
を配合してパターン形成用組成物とした。該組成物を使
用し、実施例1と同様にしてパターン形成用スクリーン
印刷インクを作製し、このインクで印刷し、硬化させた
。硬化被膜の鉛筆硬度は3Hであり、エツチング後の鉛
筆硬度はHであった。40℃の3%水酸化ナトリウム水
溶液にて硬化被膜を銅゛宍面より剥離して金属パターン
を得た。剥離に要した時間は4秒であり、剥離した硬化
被膜は該水溶液中に48時間放置しても溶解、細分化を
生じなかった。35 parts of the above (A-4), 20 parts of the above (B-1), 18 parts of the above (B-4), 15 parts of dicyclopentadienyloxyzolobyl methacrylate, and 4 parts as a photosensitizer.
-12 parts of phenoxy-2,2-dichloroacetophenone was blended to prepare a pattern-forming composition. Using this composition, a screen printing ink for pattern formation was prepared in the same manner as in Example 1, and this ink was printed and cured. The pencil hardness of the cured film was 3H, and the pencil hardness after etching was H. The cured film was peeled off from the copper surface using a 3% aqueous sodium hydroxide solution at 40°C to obtain a metal pattern. The time required for peeling was 4 seconds, and the peeled cured film did not dissolve or fragment even after being left in the aqueous solution for 48 hours.
実施例 5
3−メチルへキサヒドロフタル酸無水物168g(1モ
ル)および2−ヒドロキシゾロビルアクリレ−)130
.9(1モル)を実施例1と同様にして反応させモノエ
ステル化化合物(A−5)を得た。また、無水フタル酸
14819(1モル)および2−ヒPロキシプロピルメ
タ1クリ1:
レート14419 (’1モル)についても同様に反応
させモノエステル化化合物(m−s)を得た。Example 5 168 g (1 mol) of 3-methylhexahydrophthalic anhydride and 130 g of 2-hydroxyzorobyl acrylate)
.. 9 (1 mol) was reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a monoesterified compound (A-5). Furthermore, phthalic anhydride 14819 (1 mol) and 2-hyP-roxypropyl methacrylate 14419 ('1 mol) were reacted in the same manner to obtain a monoesterified compound (m-s).
前記(A−3)10部、上記(A−5)25部、上He
c 8 5 ) 13部、ジシクロペンタジェニルオキ
シエチルメタクリレート25部、光増感剤として2−ク
ロルチオキサントン7部およびその他不飽和化合物とし
て2−ヒドロキノンチにメI’クリL/−)20部を配
合してパターン形成i組成物とした。該組成物を使用し
、実施例1と同様にして、?ターン形成用スクリーン印
刷インクを作製し、このインクで印刷し、硬化させた。10 parts of the above (A-3), 25 parts of the above (A-5), upper He
c 8 5 ) 13 parts, dicyclopentadienyloxyethyl methacrylate 25 parts, 2-chlorothioxanthone 7 parts as a photosensitizer, and 2-hydroquinone thionimethylchloride L/-) 20 parts as other unsaturated compounds were blended to form a pattern-forming i composition. Using this composition, in the same manner as in Example 1, ? A screen printing ink for forming turns was prepared, printed with this ink, and cured.
硬化被膜の鉛筆硬度は2Hであり、エツチング後の鉛筆
硬度はHBであった。40’Cの3%水酸化ナトリウム
水溶液にて硬化被膜を銅表面より剥離して金属、eター
ンを得た。剥離に要した時間は4秒であり、剥離した硬
化被膜は該水溶液中に48時間放皺しても溶解、細分化
を生じなかった。The pencil hardness of the cured film was 2H, and the pencil hardness after etching was HB. The cured film was peeled off from the copper surface using a 3% sodium hydroxide aqueous solution at 40'C to obtain a metal e-turn. The time required for peeling was 4 seconds, and the peeled cured film did not dissolve or fragment even after being wrinkled in the aqueous solution for 48 hours.
実施例 6
4−メチルへキサヒドロフタル酸無水物168g(1モ
ル)および2−ヒドロキシエチルメタクリレート14
a Ii(1,1モル)を実施例1と同様にして反応さ
せモノエステル化化合物(A−6)を得た。また、無水
フタル酸14g#(1モル)およびテトラエチレングリ
コールモノアクリレ−)314.9(1,1モル)につ
いても同様に反応させモノエステル化化合物(A−6)
を得た。上記(A−6)40部、上記(B−6)40部
、ジシクロペンタジェニルオキシプロビルアクリレート
1o部、光増感剤としてベンジルジメチルケタール3部
及び2−エチルアントラキノン2部並びにその他不飽和
化合物としてトリプロピレングリコールジアクリレート
5部を配合してパターン形成用組成物とした。該組成物
を使用し、実施例1と同様にして/eターン形成用スク
リーン印刷インクを作製し、このインクで印刷、硬化さ
せた。硬化被膜の鉛筆硬度は3Hであり、エツチング後
の鉛筆硬度は2Hであった。40”Cの3%水酸化ナト
リウム水溶液にて硬化被膜を銅表面より剥離して金属1
パターンを得た。剥離に要した時間は6秒であり、剥離
した硬化被膜は該水溶液中に48時間放置しても溶解、
細分化を生じなかった。Example 6 168 g (1 mol) of 4-methylhexahydrophthalic anhydride and 14 2-hydroxyethyl methacrylate
a Ii (1.1 mol) was reacted in the same manner as in Example 1 to obtain a monoesterified compound (A-6). In addition, 14 g (1 mole) of phthalic anhydride and 314.9 (1.1 mole) of tetraethylene glycol monoacrylate were reacted in the same manner to form the monoesterified compound (A-6).
I got it. 40 parts of the above (A-6), 40 parts of the above (B-6), 10 parts of dicyclopentadienyloxyprobyl acrylate, 3 parts of benzyl dimethyl ketal and 2 parts of 2-ethylanthraquinone as photosensitizers, and other additives. A pattern-forming composition was prepared by blending 5 parts of tripropylene glycol diacrylate as a saturated compound. Using this composition, a screen printing ink for /e turn formation was prepared in the same manner as in Example 1, and this ink was printed and cured. The pencil hardness of the cured film was 3H, and the pencil hardness after etching was 2H. Peel off the cured film from the copper surface with a 3% sodium hydroxide aqueous solution of 40"C to form Metal 1.
I got the pattern. The time required for peeling was 6 seconds, and the peeled cured film did not dissolve or dissolve even if left in the aqueous solution for 48 hours.
No fragmentation occurred.
Claims (1)
で11+1 示されるアルキル基を表わす。)で示される酸無水物と
1分子中に少(とも1個のヒドロキシル基および少くと
も1個の(メタ)アクリロイル基を有する単量体とのモ
ノエステル化化合物、 (B) 一般式(I[) (但し、Rは水素またはcnH2n+1 * n −1
〜4で示されるアルキル基を表わす。)で示される酸無
水物と1分子中罠少な(とも1個のヒドロキシル基およ
び少くとも1個の(メタ)アクリロイル基を有する単量
体とのモノエステル化化合物、 (C) ジシクロペンタジェニルオキシアルキル(メ
タ)アクリレート、および (D) 光増感剤 を配合してなる紫外線硬化・ぞターン形成用組成物。[Claims] 1. (A) General formula (I) (wherein R is hydrogen or cnl(m, nxl~4
represents an alkyl group represented by 11+1. ) A monoesterified compound of an acid anhydride represented by (B) a monomer having at least one hydroxyl group and at least one (meth)acryloyl group in one molecule; [) (However, R is hydrogen or cnH2n+1 * n -1
- represents an alkyl group represented by 4. ) A monoesterified compound of an acid anhydride represented by (C) with a monomer having a small number of traps in one molecule (both having one hydroxyl group and at least one (meth)acryloyl group), (C) dicyclopentageni A composition for ultraviolet curing and turn formation, which comprises a methacrylate (meth)acrylate and (D) a photosensitizer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3577082A JPS58153930A (en) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | Composition for forming pattern hardenable by ultraviolet rays irradiation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3577082A JPS58153930A (en) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | Composition for forming pattern hardenable by ultraviolet rays irradiation |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58153930A true JPS58153930A (en) | 1983-09-13 |
Family
ID=12451099
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3577082A Pending JPS58153930A (en) | 1982-03-09 | 1982-03-09 | Composition for forming pattern hardenable by ultraviolet rays irradiation |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58153930A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4636534A (en) * | 1984-10-30 | 1987-01-13 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Photopolymerizable composition |
WO1989007785A1 (en) * | 1988-02-22 | 1989-08-24 | Coates Brothers Plc | Coating compositions |
JPH04137008U (en) * | 1991-06-17 | 1992-12-21 | エービーシー タイワン エレクトロニクス コープ. | Chip coil |
-
1982
- 1982-03-09 JP JP3577082A patent/JPS58153930A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4636534A (en) * | 1984-10-30 | 1987-01-13 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Photopolymerizable composition |
WO1989007785A1 (en) * | 1988-02-22 | 1989-08-24 | Coates Brothers Plc | Coating compositions |
JPH04137008U (en) * | 1991-06-17 | 1992-12-21 | エービーシー タイワン エレクトロニクス コープ. | Chip coil |
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