JPH0132493B2 - - Google Patents

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JPH0132493B2
JPH0132493B2 JP55161374A JP16137480A JPH0132493B2 JP H0132493 B2 JPH0132493 B2 JP H0132493B2 JP 55161374 A JP55161374 A JP 55161374A JP 16137480 A JP16137480 A JP 16137480A JP H0132493 B2 JPH0132493 B2 JP H0132493B2
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JP
Japan
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acrylate
meth
parts
pattern
film
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Application number
JP55161374A
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Japanese (ja)
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JPS5785050A (en
Inventor
Kunio Nishihara
Hiroshi Ozawa
Takefumi Shibuya
Shigeo Makino
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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Publication of JPS5785050A publication Critical patent/JPS5785050A/en
Publication of JPH0132493B2 publication Critical patent/JPH0132493B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプリント基板、銘板あるいは感光性刷
版等のパターン形成に使用される組成物、特に紫
外線を照射する事により硬化し、アルカリにより
剥離するのに好適な組成物に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a composition used for forming patterns on printed circuit boards, nameplates, photosensitive printing plates, etc., particularly a composition suitable for curing by irradiation with ultraviolet rays and peeling off by alkali. It is related to.

近年、上記した如き物品のパターン形成の為
に、紫外線硬化型樹脂が使用され始めている。こ
れは従来用いられてきた熱硬化型樹脂とは硬化機
構が異るのでパターンが付与される基体素材の熱
変形がなくかつ短時間で硬化することができ、又
無溶剤で使用されるのでいわゆる溶剤公害が回避
出来る等の特長がある等の理由による。一方、パ
ターン形成後硬化した樹脂を剥離する際には従来
溶剤で剥離する方式が主流であつたが、作業環境
汚染や溶剤公害等の問題からアルカリ水溶液によ
り剥離する方式へと移行している。このような状
況で種々の紫外線硬化アルカリ剥離型パターン形
成用組成物が検討されて来たが、紫外線による速
硬化性を求めるとすればアルカリ水溶液による剥
離性が悪くなり、又アルカリ水溶液による剥離性
を向上させようとすると硬化性が悪くなるという
矛盾があつて、これらの要求性能を十分に満足す
るに到つていない。
In recent years, ultraviolet curable resins have begun to be used to form patterns in articles such as those described above. This resin has a different curing mechanism from conventionally used thermosetting resins, so there is no thermal deformation of the base material on which the pattern is applied, and it can be cured in a short time. This is because it has features such as being able to avoid solvent pollution. On the other hand, when removing the cured resin after pattern formation, conventionally the mainstream method was to use a solvent to remove it, but due to problems such as work environment contamination and solvent pollution, there has been a shift to a method in which the resin is removed using an aqueous alkaline solution. Under these circumstances, various UV-curable alkaline removable pattern forming compositions have been studied, but if rapid curing with UV rays is desired, removability with alkaline aqueous solutions is poor, and removability with alkaline aqueous solutions is poor. If an attempt is made to improve the properties, there is a contradiction in that the curability deteriorates, and these required performances have not yet been fully satisfied.

本発明者等は上述の問題点を解決すべく鋭意研
究を続けた結果本発明を完成するに至つたのであ
る。
The inventors of the present invention have completed the present invention as a result of intensive research to solve the above-mentioned problems.

すなわち本発明のパターン形成用組成物は、メ
チルテトラヒドロフタル酸と分子中に少くとも1
個のヒドロキシル基及び少くとも1個のメタクロ
イル又はアクロイル基を含有する単量体(以下A
単量体と略称する)とのモノエステル化合物(即
ちビニル重合性を有するメチルテトラヒドロフタ
ル酸モノエステルである。以下これをモノエステ
ルBと略称する)を被膜形成用バインダー成分の
10重量%以上含有してなる組成物である。
That is, the pattern forming composition of the present invention contains methyltetrahydrophthalic acid and at least 1 molecule in the molecule.
monomers containing at least one hydroxyl group and at least one methacroyl or acroyl group (hereinafter referred to as A
A monoester compound (that is, methyltetrahydrophthalic acid monoester having vinyl polymerizability, hereinafter abbreviated as monoester B) is used as a binder component for film formation.
This is a composition containing 10% by weight or more.

本発明者等は上述の問題点の解決の為にポリカ
ルボン酸類とA単量体とから得られるモノエステ
ルB及びその類似物質の利用について注目し検討
を行つた結果、本発明のモノエステルBが特に有
効なことを見出した。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have focused on and studied the use of monoester B obtained from polycarboxylic acids and monomer A and similar substances thereof, and as a result, the present inventors have found that monoester B of the present invention was found to be particularly effective.

本発明に使用されるモノエステルBの原料とな
るメチルテトラヒドロフタル酸としては、例えば
3−メチルテトラヒドロフタル酸、3−メチルテ
トラヒドロフタル酸無水物、4−メチルテトラヒ
ドロフタル酸、4−メチルテトラヒドロフタル酸
無水物などがあげられる。
Examples of methyltetrahydrophthalic acid that is a raw material for monoester B used in the present invention include 3-methyltetrahydrophthalic acid, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride, 4-methyltetrahydrophthalic acid, and 4-methyltetrahydrophthalic acid. Examples include anhydrous substances.

またモノエステルBのもう1方の原料であるA
単量体としては、例えばヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)
アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ(メ
タ)アクリレート、1,4ブタンジオールモノ
(メタ)アクリレート、1,3ブタジオールモノ
(メタ)アクリレート、1,6ヘキサンジオール
モノ(メタ)アクリレート等のアルキルジオール
のモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプ
ロパンモノ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリ
スリトールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールジ(メタ)アクリレート等のアルキ
ルトリオールあるいはアルキルテトラオールのモ
ノ(メタ)アクリレートあるいはジ(メタ)アク
リレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)
アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ
(メタ)アクリレート等のポリエーテルのモノ
(メタ)アクリレート、フエニルグリシジルエー
テルの(メタ)アクリル酸付加物、ビスフエノー
ルA型エポキシ化合物の(メタ)アクリル酸付加
物、ビスフエノールF型エポキシ化合物の(メ
タ)アクリル酸付加物等のエポキシ系(メタ)ア
クリレート(上記「(メタ)アクリレート」など
の表現は「メタクリレート又はアクリレート」あ
るいは「メタクリル酸又はアクリル酸」を意味す
るものとして用いられている。以下同じ。)等が
あげられる。
In addition, A, which is the other raw material for monoester B,
Examples of monomers include hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)
Acrylate, neopentyl glycol mono(meth)acrylate, 1,4-butanediol mono(meth)acrylate, 1,3-butadiol mono(meth)acrylate, 1,6-hexanediol mono(meth)acrylate, etc. Mono(meth)acrylate, trimethylolpropane mono(meth)acrylate, trimethylolpropane di(meth)acrylate, pentaerythritol mono(meth)acrylate, alkyltriol or alkyltetraol mono(meth)acrylate, etc. Acrylate or di(meth)acrylate, polyethylene glycol mono(meth)
Acrylate, mono(meth)acrylate of polyether such as polypropylene glycol mono(meth)acrylate, (meth)acrylic acid adduct of phenyl glycidyl ether, (meth)acrylic acid adduct of bisphenol A type epoxy compound, bisphenol Epoxy-based (meth)acrylates such as (meth)acrylic acid adducts of F-type epoxy compounds (the above expressions such as "(meth)acrylate" mean "methacrylate or acrylate" or "methacrylic acid or acrylic acid") (The same applies hereinafter.) etc.

本発明で用いるモノエステルBの合成は、メチ
ルテトラヒドロフタル酸とA単量体との反応をメ
チルテトラヒドロフタル酸1モルに対し上記単量
体のヒドロキシル基1モルとなるように使用して
合成するのが普通であるが勿論必要に応じ反応物
の一方を過剰に用いてもよい。本発明のモノエス
テルBの合成はメチルテトラヒドロフタル酸無水
物とA単量体のヒドロキシル基との開環付加反応
により行われるのが好ましいが、無水物でないメ
チルテトラヒドロフタル酸とモノエステルBのヒ
ドロキシル基との脱水エステル化反応によつて合
成してもかまわない。メチルテトラヒドロフタル
酸無水物とA単量体のヒドロキシル基との開環付
加反応を行う場合、促進剤として例えばトリエチ
ルアミン、モルホリン、トリベンジルアミン、ペ
ンタメチルジエチレントリアミン等の第3アミン
類又はその第4級アンモニウム塩等を使用しても
かまわない。又、反応中の重合を防止する為に、
通常重合禁止剤が用いられる。これらの例として
はヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテ
ル、t−ブチルヒドロキノン、t−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、トルキノン、フエノチアジ
ンなどのごとき重合禁止剤があげられる。これら
の使用量は一般に反応物の約0.01〜1重量%が適
当である。
Monoester B used in the present invention is synthesized by reacting methyltetrahydrophthalic acid with monomer A in such a manner that 1 mole of the hydroxyl group of the above monomer becomes 1 mole of methyltetrahydrophthalic acid. Of course, one of the reactants may be used in excess if necessary. The synthesis of monoester B of the present invention is preferably carried out by a ring-opening addition reaction between methyltetrahydrophthalic anhydride and the hydroxyl group of monomer A. It may be synthesized by a dehydration esterification reaction with a group. When carrying out the ring-opening addition reaction between methyltetrahydrophthalic anhydride and the hydroxyl group of the A monomer, tertiary amines such as triethylamine, morpholine, tribenzylamine, pentamethyldiethylenetriamine, or their quaternary Ammonium salt etc. may be used. In addition, in order to prevent polymerization during the reaction,
Polymerization inhibitors are usually used. Examples of these include polymerization inhibitors such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, t-butylhydroquinone, t-butylcatechol, benzoquinone, tolquinone, phenothiazine, and the like. The amount of these used is generally about 0.01 to 1% by weight of the reactants.

メチルテトラヒドロフタル酸無水物と上記単量
体の開環付加反応における反応温度は通常50℃〜
150℃、好ましくは80℃〜110℃の範囲がよい。
The reaction temperature in the ring-opening addition reaction between methyltetrahydrophthalic anhydride and the above monomers is usually 50℃~
The temperature is preferably 150°C, preferably in the range of 80°C to 110°C.

反応の経過は、メチルテトラヒドロフタル酸無
水物を過剰に用いさえしなければ反応物の無水酸
の赤外線吸収スペクトルによつて容易に知ること
ができる。反応物の無水酸の赤外線吸収スペクト
ルピークが消失した時、反応は実質的に完了した
ものとみなしてよい。
The progress of the reaction can be easily determined by the infrared absorption spectrum of the reactant acid anhydride, provided that methyltetrahydrophthalic anhydride is not used in excess. The reaction may be considered to be substantially complete when the infrared absorption spectrum peak of the reactant acid anhydride disappears.

本発明の組成物にはパターンを形成する被膜形
成用バインダー成分としてモノエステルBの少く
とも1種の外に各種ビニル重合性を有するモノマ
ーやオリコマー、カルボキシル基を有する樹脂等
を併用する事ができる。上記モノマーとしては、
例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、(メ
タ)アクリル酸アルキルエステル、フエノキジエ
チル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メ
タ)アクリレート、(メタ)アクリル酸のエチル
カルビトールエステル、テトラヒドロフルフリル
(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリ
レート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレー
ト、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)ア
クリレート等があげられるが、本発明の組成物を
パターン形成の為に印刷又は塗布する際の蒸発が
少いことが好ましく、従つて150℃以上の沸点を
有するモノマーが好ましい。上記オリゴマーとし
ては、例えばエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、プロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート、1,4ブタンジオールジ(メタ)アク
リレート、1,3ブタンジオールジ(メタ)アク
リレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)ア
クリレート、1,6ヘキサンジオールジ(メタ)
アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート等が用いられるが、
これらのモノマーやオリゴマーを被膜形成用バイ
ンダー成分の40重量%以上用いるとアルカリ水溶
液による剥離速度が低下し好ましくない。
In the composition of the present invention, in addition to at least one type of monoester B, various vinyl polymerizable monomers, olicomers, resins having carboxyl groups, etc. can be used in combination as a binder component for forming a pattern-forming film. . The above monomers include:
For example, hydroxyethyl (meth)acrylate,
Hydroxypropyl (meth)acrylate, (meth)acrylic acid alkyl ester, phenoxydiethyl (meth)acrylate, butoxyethyl (meth)acrylate, ethyl carbitol ester of (meth)acrylic acid, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, etc., but evaporation is small when printing or coating the composition of the present invention for pattern formation. is preferred, and therefore monomers having a boiling point of 150°C or higher are preferred. Examples of the oligomers include ethylene glycol di(meth)acrylate, propylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,3-butanediol di(meth)acrylate, and neopentyl glycol di(meth)acrylate. ) acrylate, 1,6 hexanediol di(meth)
Acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, etc. are used.
If these monomers or oligomers are used in an amount of 40% by weight or more of the binder component for film formation, the peeling speed with an alkaline aqueous solution is undesirably reduced.

上記カルボキシル基を有する樹脂としては例え
ばカルボキシル基を有するポリエステル樹脂、カ
ルボキシル基を有するアクリル樹脂、スチレン−
マレイン酸共重合物、ロジン、マレイン化ロジン
等があげられるがモノエステルBとの相溶性が良
くかつ単独でアルカリ水溶液に溶解する樹脂であ
る事が好ましくは、又被膜形成用バインダー成分
の0〜40重量%の範囲内で用いることがアルカリ
水溶液下での剥離速度の点で好ましい。
Examples of the resins having carboxyl groups include polyester resins having carboxyl groups, acrylic resins having carboxyl groups, and styrene resins.
Examples include maleic acid copolymer, rosin, maleated rosin, etc., but preferably a resin that has good compatibility with monoester B and dissolves alone in an alkaline aqueous solution, and 0 to 10% of the binder component for film formation. It is preferable to use within the range of 40% by weight from the viewpoint of peeling speed under an alkaline aqueous solution.

本発明のパターン形成用組成物中のモノエステ
ルBの量は、被膜形成用バインダー成分の10重量
%以上、好ましくは30重量%以上が望ましい。10
重量%未満であるとアルカリ水溶液による剥離性
及び紫外線による硬化性において良好な結果を得
られない。
The amount of monoester B in the pattern-forming composition of the present invention is desirably 10% by weight or more, preferably 30% by weight or more of the film-forming binder component. Ten
If the amount is less than % by weight, good results cannot be obtained in terms of removability with an aqueous alkaline solution and curability with ultraviolet light.

本発明の組成物には、紫外線を照射する事によ
り、硬化塗膜を形成するように光増感剤が添加さ
れる。光増感剤としては、例えばベンゾフエノ
ン、p−クロルベンゾフエノン等のベンゾフエノ
ン誘導体、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインブ
チルエーテル等のベンゾイン誘導体エチルアント
ラキノン、クロルアントラキノン、アミルアント
ラキノン等のアントラキノン誘導体、ジエトキシ
アセトフエノン、ジヒドロキシアセトフエノン等
のアセトフエノン誘導体、クロルチオキサントン
等のチオキサントン誘導体及びベンジルケタール
誘導体等があげられるが、紫外線によるラジカル
発生効率が良く、本発明の組成物に添加した場合
の暗所における貯蔵安定性の良い光増感剤である
事が好ましい。光増感剤の添加量としては被膜形
成用バインダー成分に対し0.1〜10重量%好まし
くは、0.5〜5重量%がよい。
A photosensitizer is added to the composition of the present invention so as to form a cured coating film upon irradiation with ultraviolet rays. Examples of the photosensitizer include benzophenone derivatives such as benzophenone and p-chlorobenzophenone; benzoin derivatives such as benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, and benzoin butyl ether; anthraquinone derivatives such as ethyl anthraquinone, chloranthraquinone, and amyl anthraquinone; Examples include acetophenone derivatives such as diethoxyacetophenone and dihydroxyacetophenone, thioxanthone derivatives such as chlorothioxanthone, and benzyl ketal derivatives, but they have good radical generation efficiency with ultraviolet rays, and when added to the composition of the present invention, dark It is preferable to use a photosensitizer that has good storage stability. The amount of the photosensitizer added is 0.1 to 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight, based on the binder component for film formation.

本発明の組成物をパターン形成の為に印刷又は
塗布する場合の印刷性、塗装適性を向上させる為
に、本発明の組成物に体質顔料、レベリング剤、
消泡剤、着色顔料、揺変性付与剤等を加えてもか
まわない。
In order to improve the printability and coating suitability when the composition of the present invention is printed or applied for pattern formation, the composition of the present invention may contain extender pigments, leveling agents, etc.
Antifoaming agents, coloring pigments, thixotropic agents, etc. may be added.

本発明の組成物の実用に際しては、これにより
形成され紫外線硬化したパターンを得ること、更
に必要に応じ、このパターンをアルカリにより除
去することができるが、最も代表的な応用例とし
ては、銅、しんちゆう、アルミニウム等の金属表
面にスクリーン印刷、オフセツト印刷等の方法に
より所望のパターンを印刷した後、紫外線を照射
して硬化した被膜を形成する。紫外線の照射は通
常50〜200w/cmの高圧水銀灯、メタルハライド
ランプ等のランプを用い30秒以内の短時間の照射
により光硬化を完了する事が出来る。次いで、塩
化第2鉄、塩化第2銅、鉱酸等の金属のエツチン
グ剤によつて金属露出部分をエツチングした後ア
ルカリ水溶液によつて本発明の組成物の硬化被膜
を硬化して金属パターンを顕在化する。或いは、
金属露出部分に、酸性又は中性のメツキ液を用い
て、ハンダ、金、ロジウム等の上記エツチング液
に侵されない金属のメツキを行ない、アルカリ水
溶液により本発明の組成物の硬化被膜を除去した
後、上記のエツチング剤によつて、硬化被膜下に
あつた上記の金属メツキされていない銅、しんち
ゆう、アルミニウム等の金属面をエツチング除去
し、金属メツキを用いた金属パターンを形成する
ことも可能である。
In practical use of the composition of the present invention, it is possible to obtain a pattern formed using the composition and cured by ultraviolet rays, and further, if necessary, this pattern can be removed with an alkali. After a desired pattern is printed on the surface of a metal such as aluminum or the like by a method such as screen printing or offset printing, a hardened film is formed by irradiation with ultraviolet rays. For UV irradiation, a lamp such as a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp with a power output of 50 to 200 W/cm is usually used, and photocuring can be completed within a short time of 30 seconds. Next, the exposed metal parts are etched with a metal etching agent such as ferric chloride, cupric chloride, or mineral acid, and then the cured film of the composition of the present invention is cured with an alkaline aqueous solution to form a metal pattern. manifest. Or,
After plating metals such as solder, gold, rhodium, etc. that are not affected by the above-mentioned etching liquid using an acidic or neutral plating liquid on the exposed metal parts, and removing the cured film of the composition of the present invention with an alkaline aqueous solution. It is also possible to use the above-mentioned etching agent to etch away the unplated metal surface of copper, aluminum, aluminum, etc. that is under the hardened film, and form a metal pattern using metal plating. It is possible.

以下実施例及び比較例により本発明を説明す
る。実施例に於ける部及び%は特記しない限り重
量によるものである。
The present invention will be explained below with reference to Examples and Comparative Examples. Parts and percentages in the examples are by weight unless otherwise specified.

実施例 1 3−メチルテトラヒドロフタル酸無水物166部、
ヒドロキシエチルアクリレート116部(上記酸無
水物と等モル)及びヒドロキノン0.3部を撹拌機
付フラスコに入れ95℃にて反応させた。赤外線吸
収スペクトルの無水酸のピークが消失する迄7時
間反応させモノエステルBを得、これを被膜形成
用バインダー成分とした。この被膜形成用バイン
ダー成分100部に対し光増感剤としてベンゾイン
エチルエーテルを5部、スクリーン印刷適性を与
える為の体質顔料として硫酸バリウムを20部、タ
ルクを20部、揺変性付与剤としてシリカ微粉末を
0.5部、着色顔料としてフタロシアニンブルーを
0.5部加えてパターン形成用組成物を作製した。
このパターン形成用組成物をスクリーン印刷によ
り紙、フエノール樹脂積層板に貼られた銅箔上に
膜厚20μの印刷を行ない、80w/cmの高圧水銀灯
による紫外線硬化させた。硬化に要した時間は5
秒であり、硬化被膜の鉛筆硬度は2Hであつた。
更に塩化第二銅エツチング液により金属露出部分
をエツチング除去した後、40℃の3%苛性ソーダ
水溶液に浸漬し、硬化被膜を剥離した。剥離に要
した時間は、2秒であつた。
Example 1 166 parts of 3-methyltetrahydrophthalic anhydride,
116 parts of hydroxyethyl acrylate (equimolar to the above acid anhydride) and 0.3 part of hydroquinone were placed in a flask equipped with a stirrer and reacted at 95°C. The reaction was carried out for 7 hours until the peak of the acid anhydride in the infrared absorption spectrum disappeared, and monoester B was obtained, which was used as a binder component for film formation. For 100 parts of the binder component for film formation, 5 parts of benzoin ethyl ether as a photosensitizer, 20 parts of barium sulfate as an extender to give screen printing suitability, 20 parts of talc, and a fine amount of silica as a thixotropy imparting agent. powder
0.5 parts, phthalocyanine blue as a coloring pigment
A pattern forming composition was prepared by adding 0.5 part.
This pattern-forming composition was printed with a film thickness of 20 μm on paper and copper foil attached to a phenolic resin laminate by screen printing, and was cured with ultraviolet light using a high-pressure mercury lamp of 80 W/cm. The time required for curing is 5
The hardness of the cured film was 2H.
Further, the exposed metal portion was removed by etching with a cupric chloride etching solution, and then the cured film was peeled off by immersing it in a 3% caustic soda aqueous solution at 40°C. The time required for peeling was 2 seconds.

実施例 2 実施例1で得られたモノエステルB70部とジプ
ロピレングリコールジアクリレート30部とから被
膜形成用バインダー成分を調製し、以下実施例1
と同様にパターン形成用組成物を作製した。
Example 2 A binder component for film formation was prepared from 70 parts of monoester B obtained in Example 1 and 30 parts of dipropylene glycol diacrylate, and the following Example 1 was prepared.
A pattern forming composition was prepared in the same manner as above.

このパターン形成用組成物を用い実施例1と同
様に印刷し硬化させた。硬化に要した時間は4秒
であり硬化被膜の鉛筆硬度は3Hであつた。その
後実施例1と同様にエツチングを行ない硬化被膜
を剥離した。剥離に要した時間は3秒であつた。
This pattern-forming composition was printed and cured in the same manner as in Example 1. The time required for curing was 4 seconds, and the pencil hardness of the cured film was 3H. Thereafter, etching was performed in the same manner as in Example 1 to peel off the cured film. The time required for peeling was 3 seconds.

実施例 3 無水マレイン酸40部、無水フタル酸60部、無水
トリメリツト酸40部及びエチレングリコール60部
を撹拌装置付フラスコに入れ170℃にて脱水縮合
反応を行なわせ、6時間にて酸価120のカルボキ
シ基を有するポリエステル樹脂を得た。このポリ
エステル樹脂20部と実施例1にて得られたエステ
ルB50部及びジシクロペンテニルオキシエチルア
クリレート30部より被膜形成用バインダー成分を
調製し、以下実施例1と同様にパターン形成用組
成物を作製した。このパターン形成用組成物を実
施例1と同様に印刷し硬化させた。硬化に要した
時間は4秒であり、硬化被膜の鉛筆硬度は4Hで
あつた。その後実施例1と同様にエツチングを行
ない、硬化被膜を剥離した。剥離に要した時間は
4秒であつた。
Example 3 40 parts of maleic anhydride, 60 parts of phthalic anhydride, 40 parts of trimellitic anhydride, and 60 parts of ethylene glycol were placed in a flask equipped with a stirrer and a dehydration condensation reaction was carried out at 170°C, resulting in an acid value of 120 in 6 hours. A polyester resin having a carboxy group of A film-forming binder component was prepared from 20 parts of this polyester resin, 50 parts of ester B obtained in Example 1, and 30 parts of dicyclopentenyloxyethyl acrylate, and a pattern-forming composition was prepared in the same manner as in Example 1. did. This pattern-forming composition was printed and cured in the same manner as in Example 1. The time required for curing was 4 seconds, and the pencil hardness of the cured film was 4H. Thereafter, etching was performed in the same manner as in Example 1, and the cured film was peeled off. The time required for peeling was 4 seconds.

実施例 4 実施例1にて得られたモノエステルB50部と酸
価300、分子量1500のスチレン−マレイン酸共重
合物20部及びテトラエチレングリコールジアクリ
レート30部より被膜形成用バインダー成分を調製
し、以下実施例1と同様にパターン形成用組成物
を作製した。
Example 4 A binder component for film formation was prepared from 50 parts of the monoester B obtained in Example 1, 20 parts of a styrene-maleic acid copolymer with an acid value of 300 and a molecular weight of 1500, and 30 parts of tetraethylene glycol diacrylate. Thereafter, a pattern forming composition was prepared in the same manner as in Example 1.

このパターン形成用組成物を実施例1と同様に
印刷し硬化させた。硬化に要した時間は4秒であ
り、硬化被膜の鉛筆硬度は5Hであつた。その後
実施例1と同様にエツチングを行ない、硬化被膜
を剥離した。剥離に要した時間は5秒であつた。
This pattern-forming composition was printed and cured in the same manner as in Example 1. The time required for curing was 4 seconds, and the pencil hardness of the cured film was 5H. Thereafter, etching was performed in the same manner as in Example 1, and the cured film was peeled off. The time required for peeling was 5 seconds.

比較例 1 実施例3にて得られたカルボキシル基を有する
ポリエステル樹脂60部とジシクロペンテニルオキ
シエチルアクリレート40部より被膜形成用バイン
ダー成分を調製し、以下実施例1と同様にパター
ン形成用組成物を作製した。このパターン形成用
組成物を実施例1と同様に印刷し硬化させた。
Comparative Example 1 A film-forming binder component was prepared from 60 parts of the polyester resin having a carboxyl group obtained in Example 3 and 40 parts of dicyclopentenyloxyethyl acrylate, and a pattern-forming composition was prepared in the same manner as in Example 1. was created. This pattern-forming composition was printed and cured in the same manner as in Example 1.

硬化に要した時間は20秒であり、硬化被膜の鉛
筆硬度は2Bであつた。その後実施例1と同様に
エツチングを行ない硬化被膜を剥離した。剥離に
要した時間は7秒であつた。
The time required for curing was 20 seconds, and the pencil hardness of the cured film was 2B. Thereafter, etching was performed in the same manner as in Example 1 to peel off the cured film. The time required for peeling was 7 seconds.

比較例 2 酸価300、分子量1500のスチレン−マレイン酸
共重合物40部とテトラエチレングリコールジアク
リレート60部より被膜形成用バインダー成分を調
製し、以下実施例1と同様にパターン形成用組成
物を作製した。
Comparative Example 2 A film-forming binder component was prepared from 40 parts of a styrene-maleic acid copolymer with an acid value of 300 and a molecular weight of 1500 and 60 parts of tetraethylene glycol diacrylate, and a pattern-forming composition was prepared in the same manner as in Example 1. Created.

このパターン形成用組成物を実施例1と同様に
印刷し硬化させた。硬化に要した時間は4秒であ
り、硬化被膜の鉛筆硬度は2Hであつた。その後
実施例1と同様にエツチングを行ない、硬化被膜
を剥離した。剥離に要した時間は74秒であつた。
This pattern-forming composition was printed and cured in the same manner as in Example 1. The time required for curing was 4 seconds, and the pencil hardness of the cured film was 2H. Thereafter, etching was performed in the same manner as in Example 1, and the cured film was peeled off. The time required for peeling was 74 seconds.

比較例 3 無水テトラヒドロフタル酸152部、ヒドロキシ
エチルアクリレート116部(前記酸と等モル)及
びヒドロキノン0.2部を撹拌機付フラスコに入れ
95℃にて反応させた。赤外線吸収スペクトルの無
水酸のピークが消失する迄7時間反応させビニル
重合性フタル酸モノエステル化合物を得た。この
ビニル重合性テトラヒドロフタル酸モノエステル
化合物を被膜形成用バインダー成分とし、以下実
施例1と同様にパターン形成用組成物を作製し
た。このパターン形成用組成物を実施例1と同時
に印刷し、硬化させた。硬化に要した時間は90秒
であり、硬化被膜の鉛筆硬度はHBであつた。そ
の後実施例1と同様にエツチングを行ない硬化被
膜を剥離した。剥離に要した時間は、10秒であつ
た。
Comparative Example 3 152 parts of tetrahydrophthalic anhydride, 116 parts of hydroxyethyl acrylate (equimolar to the above acid), and 0.2 parts of hydroquinone were placed in a flask equipped with a stirrer.
The reaction was carried out at 95°C. The reaction was continued for 7 hours until the peak of the acid anhydride in the infrared absorption spectrum disappeared to obtain a vinyl polymerizable phthalic acid monoester compound. A pattern-forming composition was prepared in the same manner as in Example 1 using this vinyl polymerizable tetrahydrophthalic acid monoester compound as a binder component for forming a film. This pattern-forming composition was printed simultaneously with Example 1 and cured. The time required for curing was 90 seconds, and the pencil hardness of the cured film was HB. Thereafter, etching was performed in the same manner as in Example 1 to peel off the cured film. The time required for peeling was 10 seconds.

実施例 5 3−メチルテトラヒドロフタル無水酸物332部、
トリメチロールプロパンモノアクリレート188部、
(上記無水酸物2モルに対し1モル)ヒドロキノ
ン0.5部を撹拌機付フラスコに入れ100℃にて反応
させた。赤外線吸収スペクトルが消失する迄10時
間反応させてモノエステルBを得た。このモノエ
ステルB70部とジプロピレングリコールジアクリ
レート30部とから被膜形成用バインダー成分を調
整し、以下実施例1と同様にパターン形成用組成
物を作製した。
Example 5 332 parts of 3-methyltetrahydrophthalic anhydride,
188 parts of trimethylolpropane monoacrylate,
0.5 part of hydroquinone (1 mole per 2 moles of the above anhydride) was placed in a flask equipped with a stirrer and reacted at 100°C. Monoester B was obtained by reacting for 10 hours until the infrared absorption spectrum disappeared. A film-forming binder component was prepared from 70 parts of this monoester B and 30 parts of dipropylene glycol diacrylate, and a pattern-forming composition was prepared in the same manner as in Example 1.

このパターン形成用組成物を用い実施例1と同
様に印刷し硬化させた。硬化に要した時間は、4
秒であり、硬化被膜の鉛筆硬度は2Hであつた。
その後実施例1と同様にエツチングを行ない硬化
被膜を剥離した。剥離に要した時間は、2秒であ
つた。
This pattern-forming composition was printed and cured in the same manner as in Example 1. The time required for curing is 4
The hardness of the cured film was 2H.
Thereafter, etching was performed in the same manner as in Example 1 to peel off the cured film. The time required for peeling was 2 seconds.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 メチルテトラヒドロフタル酸と分子中に少く
とも1個のヒドロキシル基及び少くとも1個のメ
タクロイル又はアクロイル基を含有する単量体と
のモノエステル化合物を被膜形成用バインダー成
分の10重量%以上含有してなるパターン形成用組
成物。
1 Contains a monoester compound of methyltetrahydrophthalic acid and a monomer containing at least one hydroxyl group and at least one methacroyl or acroyl group in the molecule in an amount of 10% or more by weight of the film-forming binder component. A composition for forming a pattern.
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JPS4927303A (en) * 1972-07-05 1974-03-11
JPS5315233A (en) * 1976-07-28 1978-02-10 Mitsubishi Rayon Co Method of obtaining etched products by hot etching

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