JPS5927334B2 - 2−ピロリドンの製造法 - Google Patents
2−ピロリドンの製造法Info
- Publication number
- JPS5927334B2 JPS5927334B2 JP5773776A JP5773776A JPS5927334B2 JP S5927334 B2 JPS5927334 B2 JP S5927334B2 JP 5773776 A JP5773776 A JP 5773776A JP 5773776 A JP5773776 A JP 5773776A JP S5927334 B2 JPS5927334 B2 JP S5927334B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pyrrolidone
- reaction
- succinonitrile
- catalyst
- producing
- Prior art date
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- Expired
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- Pyrrole Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
ピロリドンはナイロンー4の製造、有機溶剤として有用
なN−メチルピロリドンおよびN−ビニルピロリドン製
造の中間物として、ある種の特性を有する重合体の形成
に特に有用である。
なN−メチルピロリドンおよびN−ビニルピロリドン製
造の中間物として、ある種の特性を有する重合体の形成
に特に有用である。
米国特許第3、095、423号によれば、水性アン、
モニアと少なくとも500psiの、好ましくは100
0〜2000psiの水素圧を使つてスクシノニトリル
の同時水素化、加水分解からなる液相法でピロリドンが
製造されてきた。
モニアと少なくとも500psiの、好ましくは100
0〜2000psiの水素圧を使つてスクシノニトリル
の同時水素化、加水分解からなる液相法でピロリドンが
製造されてきた。
米国特許第3、781、298号は水溶液中で2000
psi9以上の圧力でスクシノニトリルを水素化するこ
とによる2−ピロリドンの一般製造法を記載している。
米国特許第3、644、402号はスクシノニトリルを
順次加水分解、水素化する二段法を記載しており、加水
分解反応を水性アンモニア中で実施し、水素化を窒素含
有塩基性有機溶剤の存在で、約750〜3000psi
の圧力で行なう。本発明によれば、スクシノニトリルの
水性反応混合物を高温、高圧で水素化触媒の存在で水素
と接触させ、この水性反応混合物に2−ピロリドンおよ
びアルキル基が1〜6個の炭素原子を含むNアルキル−
2−ピロリドンからなる群から選ばれる反応助触媒を添
加することによつて、2−ピロリドンの収率が著しく改
善されることが見出された。
psi9以上の圧力でスクシノニトリルを水素化するこ
とによる2−ピロリドンの一般製造法を記載している。
米国特許第3、644、402号はスクシノニトリルを
順次加水分解、水素化する二段法を記載しており、加水
分解反応を水性アンモニア中で実施し、水素化を窒素含
有塩基性有機溶剤の存在で、約750〜3000psi
の圧力で行なう。本発明によれば、スクシノニトリルの
水性反応混合物を高温、高圧で水素化触媒の存在で水素
と接触させ、この水性反応混合物に2−ピロリドンおよ
びアルキル基が1〜6個の炭素原子を含むNアルキル−
2−ピロリドンからなる群から選ばれる反応助触媒を添
加することによつて、2−ピロリドンの収率が著しく改
善されることが見出された。
この方法で行なわれる全反応は次式で表わすことができ
る。
る。
望ましくない重合体の生成を最小にするように水性反応
混合物中ではピロリドンの低水準を維持することが望ま
しいという見地からは、添加ピロリドンの存在でこの反
応で2−ピロリドンの実質上一層高い転化率と収率が得
られることは驚くべきことである。
混合物中ではピロリドンの低水準を維持することが望ま
しいという見地からは、添加ピロリドンの存在でこの反
応で2−ピロリドンの実質上一層高い転化率と収率が得
られることは驚くべきことである。
反応混合物に2−ピロリドン自身、N−アルキル2−ピ
ロリドン、または2−ピロリドンを含んでいる前の生成
物混合物のような助触媒を添加することによつて、ピロ
リドンへの改良された転化率が認められる。
ロリドン、または2−ピロリドンを含んでいる前の生成
物混合物のような助触媒を添加することによつて、ピロ
リドンへの改良された転化率が認められる。
添加助触媒濃度は広く変化できるが、スクシノニトリル
1モル当り約0.1〜1.5モルの範囲の濃度が好まし
く、スクシノニトリル1モル当り0.3〜1.0モル濃
度が最も好ましい。再循環と回収に関連する問題が最小
となる理由で、本法の好ましい反応助触媒は2−ピロリ
ドンである。また、N−メチルピロリドンの使用が特に
望ましい。本法で使う触媒は、水素化触媒ならいかなる
ものでもよい。
1モル当り約0.1〜1.5モルの範囲の濃度が好まし
く、スクシノニトリル1モル当り0.3〜1.0モル濃
度が最も好ましい。再循環と回収に関連する問題が最小
となる理由で、本法の好ましい反応助触媒は2−ピロリ
ドンである。また、N−メチルピロリドンの使用が特に
望ましい。本法で使う触媒は、水素化触媒ならいかなる
ものでもよい。
好ましい触媒はニツケル、クロム、白金、パラジウム、
ロジウム、ルテニウム、コバルト、銅、レニウムの元素
を含む水素化触媒の群から選ばれる。この触媒はどのよ
うな形をとることもでき、たとえば酸化物、金属、また
はラネ一触媒であることができる。触媒は担持触媒であ
ることができ、この場合担持媒体はカーボン、アルミナ
、シリカ、シリカ−アルミナ、ジルコニア、ケイソウ土
、または他のよく知られた不活性担体であることができ
る。水素化触媒使用量も広く変化でき、ふつう反応に使
うスクシノニトリル重量基準で約0.1〜40重量%を
使う。
ロジウム、ルテニウム、コバルト、銅、レニウムの元素
を含む水素化触媒の群から選ばれる。この触媒はどのよ
うな形をとることもでき、たとえば酸化物、金属、また
はラネ一触媒であることができる。触媒は担持触媒であ
ることができ、この場合担持媒体はカーボン、アルミナ
、シリカ、シリカ−アルミナ、ジルコニア、ケイソウ土
、または他のよく知られた不活性担体であることができ
る。水素化触媒使用量も広く変化でき、ふつう反応に使
うスクシノニトリル重量基準で約0.1〜40重量%を
使う。
しかし、反応させるスクシノニトリル重量基準で約3.
5〜35重量%の触媒を使うのが一層好ましい。触媒を
済過またはデカンテーシヨンによつて反応混合物から便
利に回収でき、ふつうは再生することなく、次の反応に
再使用できる。本法で反応器に仕込む反応物のスクシノ
ニトリル、水、水素の比は重要ではない。
5〜35重量%の触媒を使うのが一層好ましい。触媒を
済過またはデカンテーシヨンによつて反応混合物から便
利に回収でき、ふつうは再生することなく、次の反応に
再使用できる。本法で反応器に仕込む反応物のスクシノ
ニトリル、水、水素の比は重要ではない。
水を化学量論量で、すなわちスクシノニトリル1モル当
り水1モルを存在させることができ、または過剰の水を
使用できる。一般に、スクミノニトリル1モル当り水約
5〜25モルを使うのが好ましい。水使用量の上限はス
クシノニトリルのスクシンイミドへの過度の加水分解お
よび生成物回収の経済性によつて支配され、またその下
限は重合体生成によつて支配される。約100〜150
0psiの範囲の水素圧を使つて反応を実施できるが、
本法に関連した一層重要な利点の一つは、従来の当該技
術の方法で使われる水素圧よりもはるかに低い水素圧で
最適結果が得られることである。
り水1モルを存在させることができ、または過剰の水を
使用できる。一般に、スクミノニトリル1モル当り水約
5〜25モルを使うのが好ましい。水使用量の上限はス
クシノニトリルのスクシンイミドへの過度の加水分解お
よび生成物回収の経済性によつて支配され、またその下
限は重合体生成によつて支配される。約100〜150
0psiの範囲の水素圧を使つて反応を実施できるが、
本法に関連した一層重要な利点の一つは、従来の当該技
術の方法で使われる水素圧よりもはるかに低い水素圧で
最適結果が得られることである。
本法での一層低い水素圧の使用は、スクシノニトリルの
ピロリジンおよび関連生成物への過度の水素化を最小に
し、特に一層安価な反応器装置ですむ点で重要な経済的
意義がある。
ピロリジンおよび関連生成物への過度の水素化を最小に
し、特に一層安価な反応器装置ですむ点で重要な経済的
意義がある。
好ましくは約300〜750psiの水素圧を使う。本
法を種種の技術と反応器を使つて実施でき、バツチ操作
および連続操作の両者が意図されている。更に、反応生
成物を反応混合物に再循環することも反応に有利である
。好ましい製造法では、水、スクシノ[ャgリル、助触媒
、触媒を望む濃度で反応器に仕込み、ついで反応器を閉
じ、更に水素を仕込む。ついでかきまぜて反応混合物の
温度を所望の水準に上げる。反応温度は約50〜300
℃の範囲であることができるが、好ましくは約100〜
200℃の範囲内の温度を使う。望む温度で約0,5〜
6時間の範囲で反応を行なうが、連続操作の場合には接
触時間は0,1時間程度の短かさであることができる。
一般に、反応時間は約2〜5時間の範囲内であり、その
後熱を除去し、反応塊を冷す。ついで反応混合物を淵過
して触媒を除き、フラツシユ蒸留して過剰の水と揮発性
成分を除く。ついで残存反応混合物を分留することによ
り、生成物の2−ピロリドンを好収率で回収できる。比
較実施例A−Cおよび実施例1〜7 助触媒を用いた反応と助触媒を使わない反応との比較比
較実施例 A−C 各比較実施例の反応は11のステンレス鋼パールオート
クレーブに脱イオン水、スクシノニトリル、水素化触媒
を入れて実絢した。
法を種種の技術と反応器を使つて実施でき、バツチ操作
および連続操作の両者が意図されている。更に、反応生
成物を反応混合物に再循環することも反応に有利である
。好ましい製造法では、水、スクシノ[ャgリル、助触媒
、触媒を望む濃度で反応器に仕込み、ついで反応器を閉
じ、更に水素を仕込む。ついでかきまぜて反応混合物の
温度を所望の水準に上げる。反応温度は約50〜300
℃の範囲であることができるが、好ましくは約100〜
200℃の範囲内の温度を使う。望む温度で約0,5〜
6時間の範囲で反応を行なうが、連続操作の場合には接
触時間は0,1時間程度の短かさであることができる。
一般に、反応時間は約2〜5時間の範囲内であり、その
後熱を除去し、反応塊を冷す。ついで反応混合物を淵過
して触媒を除き、フラツシユ蒸留して過剰の水と揮発性
成分を除く。ついで残存反応混合物を分留することによ
り、生成物の2−ピロリドンを好収率で回収できる。比
較実施例A−Cおよび実施例1〜7 助触媒を用いた反応と助触媒を使わない反応との比較比
較実施例 A−C 各比較実施例の反応は11のステンレス鋼パールオート
クレーブに脱イオン水、スクシノニトリル、水素化触媒
を入れて実絢した。
オートクレーブを窒素で5分フラツシユし、かきまぜて
200psigまで窒素を加圧し、窒素圧を操作圧の2
倍に15分間増加することにより洩れをしらべた。洩れ
が認められなかつたら、窒素を排気し、オートクレーブ
を1/2時間で60℃まで加熱し、ついで水素で操作圧
まで加圧した。水素が消費されたら、操作圧を維持する
ために時々水素を添加した。水素添加後140℃の反応
温度に達する前に、かきまぜと加熱を約1時間続けた。
発熱反応がしばしば反応温度を表1および2に示した温
度よりも高くした。定期的に試料をオートクレーブから
除去し、未反応スクシノニトリル、ピロリドン、加水分
解生成物のスクシンイミド、コハク酸をガスクロマトグ
ラフイ一で分析した。最高のピロリドン転化率が認めら
れた条件を記録した。その時間ではスクシノニトリル転
化はふつう完結した。スクシンイミドおよびコハク酸の
ほかに同定された他の副生物はピロリジンとブチロラク
トンであつた。反応内容物を冷し、済過し、減圧ストリ
ツピングで濃縮した。実施例 1〜7 実施例1〜7では比較実施例A−Cで使つた実験操作を
くり返したが、ただし反応助触媒を示した濃度で水、ス
クシノニトリル、触媒の反応混合物に添加した。
200psigまで窒素を加圧し、窒素圧を操作圧の2
倍に15分間増加することにより洩れをしらべた。洩れ
が認められなかつたら、窒素を排気し、オートクレーブ
を1/2時間で60℃まで加熱し、ついで水素で操作圧
まで加圧した。水素が消費されたら、操作圧を維持する
ために時々水素を添加した。水素添加後140℃の反応
温度に達する前に、かきまぜと加熱を約1時間続けた。
発熱反応がしばしば反応温度を表1および2に示した温
度よりも高くした。定期的に試料をオートクレーブから
除去し、未反応スクシノニトリル、ピロリドン、加水分
解生成物のスクシンイミド、コハク酸をガスクロマトグ
ラフイ一で分析した。最高のピロリドン転化率が認めら
れた条件を記録した。その時間ではスクシノニトリル転
化はふつう完結した。スクシンイミドおよびコハク酸の
ほかに同定された他の副生物はピロリジンとブチロラク
トンであつた。反応内容物を冷し、済過し、減圧ストリ
ツピングで濃縮した。実施例 1〜7 実施例1〜7では比較実施例A−Cで使つた実験操作を
くり返したが、ただし反応助触媒を示した濃度で水、ス
クシノニトリル、触媒の反応混合物に添加した。
実施例1〜7では、助触媒2−ピロリドンおよびN−メ
チル−2−ピロリドンを反応混合物に添加し、これらの
実施例は本発明の例である。実施例3では、比較実帷例
Cの反応生成物をスクシノニトリル1モル当り2−ピロ
リドン0,5モルの濃度を与える量で添加することによ
つて、反応助触媒2−ピロリドンを反応混合物に合体し
た。本発明の反応に対する反応助触媒としての2−ピロ
リドンおよびN−アルキル−2−ピロリドンの効果は表
1および2の実施例で示される。
チル−2−ピロリドンを反応混合物に添加し、これらの
実施例は本発明の例である。実施例3では、比較実帷例
Cの反応生成物をスクシノニトリル1モル当り2−ピロ
リドン0,5モルの濃度を与える量で添加することによ
つて、反応助触媒2−ピロリドンを反応混合物に合体し
た。本発明の反応に対する反応助触媒としての2−ピロ
リドンおよびN−アルキル−2−ピロリドンの効果は表
1および2の実施例で示される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 水素化触媒の存在で高温、高圧でスクシノニトリル
の水性反応混合物を水素と接触させることによる2−ピ
ロリドンの製造法において、上記水性反応混合物に2−
ピロリドンおよびアルキル基が1〜6個の炭素原子を含
むN−アルキル−2−ピロリドンからなる群から選ばれ
る反応助触媒を添加することを特徴とする改良法。 2 助触媒が2−ピロリドンである特許請求の範囲第1
項記載の2−ピロリドンの製造法。 3 反応助触媒2−ピロリドンを前の反応から得た反応
混合物の形で添加する特許請求の範囲第2項記載の2−
ピロリドンの製造法。 4 助触媒がN−メチル−2−ピロリドンである特許請
求の範囲第1項記載の2−ピロリドンの製造法。 5 反応助触媒をスクシノニトリル1モル当り約0.1
〜1.5モルの範囲内の濃度で反応混合物に添加する特
許請求の範囲第1項記載の2−ピロリドンの製造法。 6 水素化触媒がニッケル含有触媒である特許請求の範
囲第5項記載の2−ピロリドンの製造法。 7 水性反応触媒中のスクシノニトリルの濃度が、水対
スクシノニトリルモル比5対1〜25対1の範囲であり
、触媒をスクシノニトリル1モル当り0.2〜40gの
範囲内の濃度で存在させる特許請求の範囲第6項記載の
2−ピロリドンの製造法。 8 反応温度が50〜300℃の範囲内である特許請求
の範囲第7項記載の2−ピロリドンの製造法。 9 水素圧が100〜1500psiの範囲内である特
許請求の範囲第8項記載の2−ピロリドンの製造法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/591,882 US4042599A (en) | 1975-06-30 | 1975-06-30 | Process for producing 2-pyrrolidone |
US05/591,878 US3966763A (en) | 1975-06-30 | 1975-06-30 | Process for producing 2-pyrrolidone |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS525760A JPS525760A (en) | 1977-01-17 |
JPS5927334B2 true JPS5927334B2 (ja) | 1984-07-05 |
Family
ID=27081284
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5773776A Expired JPS5927334B2 (ja) | 1975-06-30 | 1976-05-19 | 2−ピロリドンの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5927334B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0216123U (ja) * | 1988-07-13 | 1990-02-01 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5515366A (en) * | 1978-07-20 | 1980-02-02 | Narasaki Zosen Kk | Upper suspending arrangement method for small ship |
-
1976
- 1976-05-19 JP JP5773776A patent/JPS5927334B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0216123U (ja) * | 1988-07-13 | 1990-02-01 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS525760A (en) | 1977-01-17 |
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