JPS5924300A - Scintillation screen for conversion of radiation and manufacture thereof - Google Patents

Scintillation screen for conversion of radiation and manufacture thereof

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JPS5924300A
JPS5924300A JP12627183A JP12627183A JPS5924300A JP S5924300 A JPS5924300 A JP S5924300A JP 12627183 A JP12627183 A JP 12627183A JP 12627183 A JP12627183 A JP 12627183A JP S5924300 A JPS5924300 A JP S5924300A
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layer
scintillation
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アンリ・ルウジエオ
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    • G21K4/00Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
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    • H01J29/38Photoelectric screens; Charge-storage screens not using charge storage, e.g. photo-emissive screen, extended cathode
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、放射線変換用シンチレーションスクリーン及
びその製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a scintillation screen for radiation conversion and a method for manufacturing the same.

放射線変換用シンチレーションスクリーンは公知である
。シンチレーションスクリーンはX線やγ線の照射を受
けるとそれを光子に変換し、このスクリーンの凹面を覆
っている光電陰極は該光子を関知できる。
Scintillation screens for radiation conversion are known. When a scintillation screen receives X-rays or gamma-rays, it converts them into photons, which can be sensed by a photocathode covering the concave surface of the screen.

X線の照射を受けるスクリーンはX線像増感管(X、1
.1.増感器)に用いられ、γ線の照射を受けるスクリ
ーンはシンチレーション走査管に用いられる。
The screen that receives X-rays is an X-ray image intensifier tube (X, 1
.. 1. The screen used in the scintillation scanning tube is used in the scintillation scanning tube and receives gamma ray irradiation.

公知技術では、放射線変換用シンチレーションスクリー
ンは、ナトリウム又はタリウムをドープした沃化セシウ
ムを、たとえばアルミニウム製で放射線を透過させる金
属製の支持体の凹面に蒸着することによって通常製造さ
れる。沃化セシウムが成長すると自然に並置配列の針状
結晶になる。
In the known art, scintillation screens for radiation conversion are usually produced by depositing cesium iodide doped with sodium or thallium onto the concave surface of a radiation-transparent metal support, for example made of aluminum. When cesium iodide grows, it naturally forms needle-shaped crystals arranged side by side.

この構造は、放射線の入射を受けて沃化セシウムの内部
に発生した光をガイドするのに役立つ。このようにして
得られたシンチレーションスクリーンの凹面は、このス
クリーンを光電陰極から隔離することとスクリーンの凹
面の表面状態を向上させることの双方又は一方を意図し
た光電陰極の下層を支持している。次に、光電陰極を該
下層に蒸着する。
This structure serves to guide the light generated inside the cesium iodide upon receiving radiation. The concave surface of the scintillation screen thus obtained supports a lower layer of the photocathode intended to isolate the screen from the photocathode and/or to improve the surface condition of the concave surface of the screen. A photocathode is then deposited onto the underlying layer.

公知のシンチレーションスクリーンにはかなりの数の不
利益が付随しており、そのうちのいくつかは以下列挙で
きる。
A considerable number of disadvantages are associated with known scintillation screens, some of which can be listed below.

(1)得られたシンチレーションスクリーンの凹面はシ
ンチレーション材料の針状結晶構造のために鏡面になっ
ていない事実。この凹面の表面の不整を完全に滑らかに
するのは、光電陰極の下層を用いた場合でも困難である
。蒸着した光電陰極は高い電気的表面抵抗を持つ。与え
られた入射放射線量を越えると、光電陰極の表面でポテ
ンシャルに実質的な局部変動が発生して、その結果電子
像がぼけてしまう。さらに、光電陰極が表面不整である
とその感度が損なわれてしまう。光電感度の層近傍にガ
スポケットを形成する無数の隙間が存在すると、光子放
出効率の低下を招来する。
(1) The concave surface of the scintillation screen obtained is not a mirror surface due to the acicular crystal structure of the scintillation material. It is difficult to completely smooth out this concave surface irregularity even when using the lower layer of the photocathode. The deposited photocathode has a high electrical surface resistance. Above a given incident radiation dose, substantial local variations in potential occur at the surface of the photocathode, resulting in blurring of the electron image. Furthermore, surface irregularities in the photocathode impair its sensitivity. The presence of numerous gaps forming gas pockets near the photosensitive layer leads to a decrease in photon emission efficiency.

(2)クランクの数と表面の不連続はスクリーンの厚さ
の増大に伴って増加するので、スクリーンの厚さを制限
しなければならないという事実。この不利益は、厚いシ
ンチレーションスクリーンを用いる必要のあるγ線写真
用スクリーンの場合に特に問題となる。
(2) The fact that the screen thickness must be limited, since the number of cranks and surface discontinuities increase with increasing screen thickness. This disadvantage is particularly problematic in the case of gamma-ray screens, which require the use of thick scintillation screens.

(3)シンチレーション材料を表面に蒸着した支持体が
シンチレーションスクリーンの内部に存在する事実。こ
の支持体は、入射放射線のほとんどを透過させるがそれ
でもその幾分かの透過を妨げる。
(3) The fact that a support having a scintillation material deposited on its surface is present inside the scintillation screen. This support transmits most of the incident radiation while still blocking some of it.

本発明の目的は、上述した不利益のない放射線変換用シ
ンチレーションスクリーンを提供することである。
The object of the invention is to provide a scintillation screen for radiation conversion that does not have the disadvantages mentioned above.

本発明の特徴によれば、針状結晶構造を持つシンチレー
ション材料で作られている放射線変換用シンチレーショ
ンスクリーンであって、放射線を受ける凸面と鏡面にな
っており表面に光電陰極を支持している凹面とを形成し
であるスクリーンが提供される。
According to a feature of the present invention, there is provided a scintillation screen for radiation conversion made of a scintillation material having an acicular crystal structure, the screen having a convex surface for receiving radiation and a concave surface having a mirror surface and supporting a photocathode on the surface. A screen is provided that forms a screen.

本発明の他の特徴によれば、鏡面状の凸面を形成しであ
ると共に前記シンチレーション材料と異なる熱膨張率の
材料で作られている支持体に蒸着することによりシンチ
レーションスクリーンを得る工程と、蒸着後単に加熱す
ることにより該支持体からシンチレーションスクリーン
を分離する工程とからなる放射線変換用シンチレーショ
ンスクリーンが提供される。
According to other features of the invention, a step of obtaining a scintillation screen by vapor deposition on a support having a mirror-like convex surface and made of a material having a coefficient of thermal expansion different from that of the scintillation material; and subsequently separating the scintillation screen from the support by simply heating.

本発明によるシンチレーションスクリーンの凹面ば、シ
ンチレーション材料の蒸着中支持体の凸面と接触してい
るので、鏡面になっている。従って、この鏡面に蒸着さ
れる光電陰極も鏡面になっ゛ている。スクリーンの肉厚
はその鏡面状態を保ちつつ2〜30ミクロンから数ミリ
メーターの範囲で変えることができる。
The concave surface of the scintillation screen according to the invention has a mirror surface since it is in contact with the convex surface of the support during the deposition of the scintillation material. Therefore, the photocathode deposited on this mirror surface also has a mirror surface. The thickness of the screen can be varied from 2 to 30 microns to several millimeters while maintaining its mirror surface.

最後に、本発明によれば、完成したシンチレーションス
クリーンには、その製造にのみ用いた支持体は残ってい
ない。
Finally, according to the invention, the finished scintillation screen retains no support that was only used for its manufacture.

本発明の他の特徴は、以下添付の図面を参照しで行う詳
細な説明を読むとさらに明らかになるであろう。
Other features of the invention will become more apparent from the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

添付の図面において、同じ参照数字は同じ構成要素を指
示しているが、これらの構成要素の寸法と割合は説明を
明瞭にするために同一にしていない。
In the accompanying drawings, like reference numerals indicate like elements, but the dimensions and proportions of these elements have not been made identical for clarity of illustration.

第1図に図示したように、従来のシンチレーションスク
リーンの断面を見ると、このスクリーンは、例えばアル
ミニウム製の肉薄の金属支持体1の凹面に沃化セシウム
を蒸着することによって得られる。この支持体1は、走
査されるX線又はγ線を透過する。沃化セシウムが成長
していくと、より詳細にスクリーン構造を示す円形の拡
大図に図示しであるような四面体結晶の端部を持つ針状
結晶2が得られる。第1図を見ると、こうして得られた
シンチレーションスクリーンの凹面の表面は著るしく不
整になっていることが該円形拡大図から明らかである。
As shown in FIG. 1, a cross section of a conventional scintillation screen is obtained by depositing cesium iodide on the concave surface of a thin metal support 1 made of aluminum, for example. This support 1 transmits the scanned X-rays or γ-rays. As the cesium iodide grows, needle-like crystals 2 having tetrahedral crystal edges are obtained, as shown in the circular enlarged view showing the screen structure in more detail. Looking at FIG. 1, it is clear from the enlarged circular view that the concave surface of the scintillation screen thus obtained is highly irregular.

光電陰極から針状結晶2を隔離すること及びスクリーン
の凹面の表面状態を改良することの双方又は一方を目的
として光電陰極下層3が該凹面に蒸着される。次いで、
光電陰極0 4が下層3の表面に蒸着される。
A photocathode underlayer 3 is deposited on the concave surface of the screen in order to isolate the needles 2 from the photocathode and/or to improve the surface condition of the concave surface of the screen. Then,
A photocathode 04 is deposited on the surface of the lower layer 3.

第2図は、本発明によるスクリーンの一構成を示す断面
図である。
FIG. 2 is a sectional view showing one configuration of the screen according to the present invention.

本発明によるスクリーン構成がより詳細に図示しである
2つの円形拡大図を見ると、該スクリーンは針状結晶構
造のシンチレーション材料2で構成されることがわかる
。右側の円形拡大図は該スクリーンの凹面が鏡面になっ
ていることを示している。光電陰極4が該凹面に蒸着さ
れる。必要ならば、例えばバナジン酸リンの光電陰極下
層3も該凹面と光電陰極の間に蒸着することもできる。
Looking at the two circular enlarged views in which the screen construction according to the invention is illustrated in more detail, it can be seen that the screen is composed of a scintillation material 2 with an acicular crystal structure. The circular enlarged view on the right shows that the concave surface of the screen is a mirror surface. A photocathode 4 is deposited on the concave surface. If necessary, a photocathode underlayer 3, for example of phosphorus vanadate, can also be deposited between the concave surface and the photocathode.

本発明によるスクリーンを得るためには、以下に述べる
方法を用いることができる。
To obtain the screen according to the invention, the method described below can be used.

高度に研磨しであるが任意の肉厚でよい支持体を用意し
なければならない。この支持体は、用いたシンチレーシ
ョン材料と異なる熱膨張率のガラス又は金属のような任
意の材料で作ってよい。
A support must be provided that is highly polished but of any desired wall thickness. This support may be made of any material such as glass or metal that has a different coefficient of thermal expansion than the scintillation material used.

シンチレーションスクリーンは、支持体の凹面にシンチ
レーション材料を蒸着することによって得られる。蒸着
後、単に加熱することによってス1 クリーンは支持体から分離される。この分離が可能であ
るのは、支持体の凹面が鏡面になっているためであり、
支持体とシンチレーション材料の熱膨張率が異なってい
るためである。
A scintillation screen is obtained by depositing scintillation material on the concave surface of the support. After deposition, the screen is separated from the support simply by heating. This separation is possible because the concave surface of the support is a mirror surface.
This is because the support and the scintillation material have different coefficients of thermal expansion.

このようにして、第2図に示したように鏡面状態の凹面
を持つシンチレーションスクリーンが得られる。何故な
ら、鏡面の凹面はシンチレーション材料の蒸着中支持体
の凸面と接触していたからである。スクリーンの凹面は
光学的に鏡面研磨仕上げになっている。この凹面表面の
粒子の直径は0.1 ミクロンないし50ミクロンの範
囲内で変化する。
In this way, a scintillation screen having a mirror-like concave surface as shown in FIG. 2 is obtained. This is because the concave surface of the mirror was in contact with the convex surface of the support during the deposition of the scintillation material. The concave surface of the screen has an optically mirror-polished finish. The diameter of the particles on this concave surface varies within the range of 0.1 microns to 50 microns.

第2図の左側の円形拡大図かられかるように、スクリー
ンの凸面は、シンチレーション材料の針状結晶の端部の
ためにかなり不整な表面になっているが、このことは、
その凸面では導電現象がないので重要でない。
As can be seen from the circular enlarged view on the left side of Figure 2, the convex surface of the screen has a rather irregular surface due to the ends of the needle-like crystals of the scintillation material;
Its convex surface is of no importance since there is no conductive phenomenon.

事実、この導電現象は、鏡面に蒸着した光電陰極によっ
て生ずる。従って、従来の場合のようなミクロ構造の、
クレータ−の結果として光電陰極と2 接触している層がその連続性従ってその導電現象が妨げ
られる危険は起こらない。
In fact, this conductive phenomenon is caused by a photocathode deposited on a mirror surface. Therefore, the microstructure as in the conventional case,
As a result of the crater, there is no risk that the layer in contact with the photocathode will be disturbed in its continuity and thus in its conductive phenomena.

意図した応用に依存して、スクリーンの肉厚は、鏡面状
態の凹面を確保しつつ2〜30ミクロンから2〜3ミリ
メーターの間で変化できる。
Depending on the intended application, the wall thickness of the screen can vary between 2-30 microns to 2-3 millimeters while ensuring a mirror-like concave surface.

蒸着支持体が蒸着工程中低温に維持されていれば、シン
チレーションスクリーンは微細に分かれた針状結晶構造
を持つ。この場合、該スクリーンは高鮮明度のX線像増
感管に用いることができる。
If the deposition support is maintained at a low temperature during the deposition process, the scintillation screen will have a finely divided needle-like crystal structure. In this case, the screen can be used in a high-definition X-ray image intensifier tube.

他方、もし蒸着支持体が蒸着工程中例えば100°Cな
いし600℃の温度範囲まで加熱されると、集塊状態の
針状結晶のよりモノリシックな構造が得られ、シンチレ
ーション走査技術に該スクリーンを用いることができる
On the other hand, if the deposition support is heated during the deposition process to a temperature range of e.g. be able to.

蒸着支持体は例えばアルミニウムで作ることができる。The deposition support can be made of aluminum, for example.

用いるシンチレーション材料は、ナトリウム又はタリウ
ムをドープした沃化セシウムのようなアルカリハライド
、又は、タリウムをドープ。
The scintillation material used is an alkali halide such as cesium iodide doped with sodium or thallium, or doped with thallium.

した沃化カリウムのようなアルカリ/動イドであってよ
い。また、シンチレーション材料は、例え3 ば、タングステン、金属の硫化物又は硫酸塩であってよ
い。
It may be an alkaline/hydrolytic compound such as potassium iodide. The scintillation material may also be, for example, tungsten, a sulfide or a sulfate of the metal.

上述した方法を用いることによって、こうして得られた
シンチレーションスクリーンの両面を以後任意に処理で
きるようになることがわかる。この処理は、従来のスク
リーンとは異なり蒸着支持体は完成スクリーンの一部を
構成しないという理由で必要となることがある。
It can be seen that by using the method described above, both sides of the scintillation screen thus obtained can be treated as desired thereafter. This treatment may be necessary because, unlike conventional screens, the deposition support does not form part of the finished screen.

スクリーンの機械的強度を高めるために、特に、微細に
分離した針状結晶構造を持つ肉薄のスクリーンの場合、
スクリーンの剛性を高めるために、第2図に図示したよ
うな層5をスクリーンの凸面に蒸着することができる。
In order to increase the mechanical strength of the screen, especially for thin-walled screens with finely separated acicular crystal structures,
To increase the stiffness of the screen, a layer 5 as shown in FIG. 2 can be deposited on the convex side of the screen.

−例として、該層5は、低融点のガラスあるいはほうろ
う、又は、管を炉中で加熱する加熱温度に堪えることが
できる任意の有機材料で作ることができる。こうした材
料を例示すれば、エポキシ樹脂、パリレン(P−キシレ
ン樹脂)、ポリイミド、氷晶石が挙げられる。
- By way of example, the layer 5 can be made of low-melting glass or enamel or any organic material that can withstand the heating temperatures at which the tube is heated in a furnace. Examples of such materials include epoxy resin, parylene (P-xylene resin), polyimide, and cryolite.

スクリーンの凸面にも、放射線の入射でスクリーンに発
生した光を反射する層を形成することが4 できる。この層は、スクリーンの凸面に入射してくる全
光を光電陰極に戻してしう。該層は、アルミニウムやニ
クロムのような任意の適当な蒸着金属を用いて作ること
ができる。
It is also possible to form a layer on the convex surface of the screen that reflects light generated on the screen when radiation is incident. This layer returns all light incident on the convex side of the screen to the photocathode. The layer can be made using any suitable vapor deposited metal such as aluminum or nichrome.

スクリーンの凸面には、又、その量子検出効率を高める
層を形成することもできる。この層は、酸化バリウム、
酸化鉛や酸化タングステンのような原子番号が大きくて
薄いフィルム状に蒸着される高密度材料で作られる。こ
のタイプの材料は、光電放出及び電離線遮蔽力に効果が
ある。
The convex surface of the screen can also be provided with a layer that increases its quantum detection efficiency. This layer consists of barium oxide,
They are made from dense materials with high atomic numbers, such as lead oxide or tungsten oxide, which are deposited in thin films. This type of material is effective in photoemission and ionizing radiation shielding power.

それ故、スクリーンの凸面に1枚、2枚あるいは3枚の
連続層を重ねることができる。これらの各層は以下の機
能を果たすものとされる。すなわち、スクリーンの剛性
を高める層、放射線の入射でスクリーンに発生する光を
反射する層、及び、スクリーンの量子検出効率を高める
層である。これらの異なる層の重ね順序は可変である。
Therefore, one, two or three successive layers can be superimposed on the convex side of the screen. Each of these layers is supposed to perform the following functions. That is, a layer that increases the rigidity of the screen, a layer that reflects light generated on the screen when radiation is incident, and a layer that increases the quantum detection efficiency of the screen. The stacking order of these different layers is variable.

上述の2ta能を果たす材料で作られた層を用いること
は可能である。例えば、インジウム又はすず製の層は、
放射線の入射でスクリーンに発生し5 た光を反射する機能及びスクリーンの剛性を高める機能
の両方を果たすことができる。このタイプの層は、陰極
スパッター法、蒸着法、溶射法や他の任意の公知方法で
得ることができる。スクリーンの鏡面状の凹面に関して
は、その表面に蒸着された光電陰極は、シンチレーショ
ンスクリーンにはあまり依存しないがスクリーンに蒸着
した光電陰極に第一義的に依存している最小の電気的表
面抵抗を持つ。
It is possible to use layers made of materials that perform the above-mentioned 2ta function. For example, a layer made of indium or tin
It can perform both the function of reflecting light generated on the screen by the incidence of radiation and the function of increasing the rigidity of the screen. Layers of this type can be obtained by cathodic sputtering, vapor deposition, thermal spraying or any other known method. For the specular concave surface of the screen, the photocathode deposited on its surface has a minimum electrical surface resistance that depends not so much on the scintillation screen but primarily on the photocathode deposited on the screen. have

スクリーンの凹面は、はぼ前面に渡って以下の機能の少
なくとも1つを果たす少なくとも1層で覆われている。
The concave surface of the screen is covered over the front surface with at least one layer that performs at least one of the following functions:

すなわち、光電陰極の電気的表面抵抗をさらに低下させ
る機能、及び、シンチレーションスクリーンと光電陰極
間に化学的見地からの適合性を確立する機能である。
namely, the function of further reducing the electrical surface resistance of the photocathode, and the function of establishing compatibility from a chemical point of view between the scintillation screen and the photocathode.

第2図に示したように、下層3はスクリーンの凹面に蒸
着できる。この下層は酸化インジウム、又は、シンチレ
ータによって発生する光のほとんどを透過させるアルミ
ニウムのような薄いフィルム状金属で作ることができる
。例えば、セシウム6 やアンチモン製の光電陰極4を下層に蒸着する。
As shown in FIG. 2, the underlayer 3 can be deposited on the concave surface of the screen. This underlayer can be made of indium oxide or a thin film metal such as aluminum, which transmits most of the light generated by the scintillator. For example, a photocathode 4 made of cesium 6 or antimony is deposited as a lower layer.

以後の使用を目的として管の内部に本発明のスクリーン
を埋め込むためには、第3図に示したように、スクリー
ンと同じ凹形率又は曲率半径を持つ支持グリッド7を用
いることができる。このグリッドは、入射放射線束を透
過すると共に例えばニッケル又は鉄で作ることができる
To embed the screen of the invention inside a tube for subsequent use, a support grid 7 can be used which has the same concavity or radius of curvature as the screen, as shown in FIG. This grid is transparent to the incident radiation flux and can be made of nickel or iron, for example.

第3図において、図示のスクリーンは、このスクリーン
の量子検知効率を高める層6と、高度に研磨した凹面を
持つ針状結晶タイプのシンチレーション材料の層2と、
光電陰極下層3と、光電陰極4とから構成される。
In FIG. 3, the screen shown comprises a layer 6 which increases the quantum sensing efficiency of the screen and a layer 2 of scintillation material of the acicular crystal type with a highly polished concave surface.
It is composed of a photocathode lower layer 3 and a photocathode 4.

第3図から明らかなように、スクリーンの凹面の周辺に
金属リング8が蒸着しである。加圧ストリップ9を該リ
ングに押圧して光電陰極との接続を与える。
As is clear from FIG. 3, a metal ring 8 is deposited around the concave surface of the screen. A pressure strip 9 is pressed against the ring to provide a connection with the photocathode.

本発明のスクリーンは、十分な肉厚の場合、支持グリッ
ドを用いなくとも管に埋め込むこともできる。
The screen of the invention can also be embedded in a tube without a support grid if the wall thickness is sufficient.

本発明による種々異なった構成のスクリーンは、7 任意の所望の順序で重ねることのできる前述した層の1
又は多数を該スクリーンの1面又は両面に形成すること
によって得られるものである。
Screens of different configurations according to the invention can be made up of 7 one of the aforementioned layers which can be superimposed in any desired order.
Or by forming a large number of them on one or both sides of the screen.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、従来のシンチレーションスクリーンの断面図
である。 第2図及び第3図は、本発明によるシンチレーションス
クリーンの2構成をそれぞれ示す断面図である。 図面において、 100.肉薄の金属支持体、 200.針状結晶、 300.光電陰極下層、 408.光電陰極、 5.6010層、 700.支持グリッド、 880.金属リング、 910.加圧ストリップ。 8
FIG. 1 is a cross-sectional view of a conventional scintillation screen. FIGS. 2 and 3 are cross-sectional views showing two configurations of scintillation screens according to the present invention, respectively. In the drawings: 100. Thin metal support, 200. Needle crystal, 300. Photocathode lower layer, 408. Photocathode, 5.6010 layers, 700. support grid, 880. metal ring, 910. Pressure strip. 8

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)X線やγ線の照射を受けるとそれを光子に変換す
ると共に、両面の一方を覆っている光電陰極が該光子を
感知できるようになっている放射線変換用シンチレーシ
ョンスクリーンであって、針状結晶構造のシンチレーシ
ョン材料で形成しであること、及び、放射線の照射を受
ける凸面と鏡面になっていて前記光電陰極を支持してい
る凹面とが形成しであることを特徴とするシンチレーシ
ョンスクリーン。 (2、特許請求の範囲第1項に記載したスクリーンであ
って、前記凸面は、以下の少なくとも1機能を果たす少
なくとも1層で覆われていることを特徴とするスクリー
ン、 Talスクリーンの剛性を高める層、 山)放射線の入射を受けてスクリーンに発生した光を反
射する層、 (Clスクリーンの量子検知効率を高める層。 (3)特許請求の範囲第1項に記載したスクリーンであ
って、前記凹面は、以下の少なくとも1機能を果たす少
なくとも1層で覆われていることを特徴とするスクリー
ン、 (a)前記光電陰極との適合性を保障する層、山)該光
電陰極の表面抵抗を減少させる層。 (4)特許請求の範囲第1項に記載したスクリーンであ
って、用いたシンチレーション材料は、ナトリウム又は
タリウムをドープした沃化セシウムのようなアルカリハ
ライド、又はタリウムをドープした沃化カリのようなア
ルカリハライドであることを特徴とするスクリーン。 (5)特許請求の範囲第1項に記載したスクリーンであ
って、前記シンチレーション材料は、微細に”分かれた
針状結晶から成る構造又は集塊状の針状結晶から成る構
造になっていることを特徴とするスクリーン。 (6)特許請求の範囲第1項に記載したスクリーンであ
って、前記シンチレーション材料は、2〜30ミクロン
から2〜3ミリメートルの範囲の厚さを持つことを特徴
とするスクリーン。 (7)特許請求の範囲第1項に記載したスクリーンであ
って、前記した鏡面状の凹面は、0.1 ミクロンない
し50ミクロンの範囲の直径を持つ粒子を含むことを特
徴とするスクリーン。 (8)特許請求の範囲第2項に記載したスクリーンであ
って、スクリーンの剛性を高める前記した層は、低融点
のガラスあるいはほうろう、又は、エポキシ樹脂、パリ
レン、ポリイミド、氷晶石のような有機物質を含むこと
を特徴とするスクリー(9)特許請求の範囲第2項に記
載したスクリーンであって、放射線の入射でスクリーン
に発生した光を反射する前記した層は、アルミニウム又
はニクロム製であることを特徴とするスクリーン。 (10)特許請求の範囲第2項に記載したスクリーンで
あって、前記量子検知効率を高める前記した層は、薄い
フィルムに蒸着した酸化バリウム、酸化鉛、酸化タング
ステンのような高密度材料で作られることを特徴とする
スクリーン。 (11)特許請求の範囲第3項に記載したスクリーンで
あって、前記光電陰極の表面抵抗を減少させる前記した
層は、酸化インジウムで作られているか、又は、金属性
の薄いフィルムであることを特徴とするスクリーン。 (12、特許請求の範囲第1項に記載したスクリーンの
製造方法であって、鏡面状の凸面を形成しであると共に
前記シンチレーション材料と異なる熱膨張率の材料で作
られている支持体に蒸着することによりシンチレーショ
ンスクリーンを得る工程と、蒸着後単に加熱することに
より該支持体からシンチレーションスクリーンを分離す
る工程とからなることを特徴とする方法。 (13)特許請求の範囲第12項に記載したスクリーン
の製造方法であって、該支持体は蒸着中低温状態に維持
されるので、微細に分かれた針状結晶から成る構造が得
られることを特徴とする方法。 (14)特許請求の範囲第12項に記載したスクリーン
の製造方法であって、該支持体は蒸着中加熱されるので
、集塊状の針状結晶から成る構造が得られることを特徴
とする方法。
[Scope of Claims] (1) A radiation conversion device that converts the irradiation of X-rays or γ-rays into photons, and allows a photocathode covering one of both surfaces to detect the photons. The scintillation screen is made of a scintillation material having an acicular crystal structure, and has a convex surface that is irradiated with radiation and a concave surface that is a mirror surface and supports the photocathode. A scintillation screen featuring (2. The screen according to claim 1, characterized in that the convex surface is covered with at least one layer that performs at least one of the following functions: Increasing the rigidity of the Tal screen. layer, mountain) a layer that reflects light generated on the screen upon receiving radiation; (a layer that increases the quantum detection efficiency of the Cl screen); A screen characterized in that the concave surface is covered with at least one layer that performs at least one of the following functions: (a) a layer that ensures compatibility with the photocathode, a layer) that reduces the surface resistance of the photocathode; Layer to let. (4) The screen according to claim 1, wherein the scintillation material used is an alkali halide such as cesium iodide doped with sodium or thallium, or potassium iodide doped with thallium. A screen characterized by being an alkali halide. (5) The screen according to claim 1, wherein the scintillation material has a structure consisting of finely divided needle-like crystals or a structure consisting of agglomerated needle-like crystals. (6) The screen according to claim 1, wherein the scintillation material has a thickness in the range from 2 to 30 microns to 2 to 3 millimeters. (7) The screen according to claim 1, wherein the mirror-like concave surface includes particles having a diameter in the range of 0.1 microns to 50 microns. (8) In the screen according to claim 2, the above-mentioned layer that increases the rigidity of the screen is made of low melting point glass or enamel, or epoxy resin, parylene, polyimide, cryolite, etc. Screen (9) characterized in that it contains an organic substance.The screen according to claim 2, wherein the layer that reflects light generated on the screen upon incidence of radiation is made of aluminum or nichrome. (10) The screen according to claim 2, wherein the layer for increasing the quantum detection efficiency is made of barium oxide, lead oxide, or tungsten oxide deposited on a thin film. (11) The screen according to claim 3, wherein the layer for reducing the surface resistance of the photocathode is made of indium oxide. (12) A method for manufacturing a screen according to claim 1, which comprises forming a mirror-like convex surface. obtaining a scintillation screen by vapor deposition on a support made of a material having a coefficient of thermal expansion different from that of the scintillation material, and separating the scintillation screen from the support by simply heating after vapor deposition. (13) A method for producing a screen according to claim 12, wherein the support is maintained at a low temperature during vapor deposition, so that finely divided needle-like A method characterized in that a structure consisting of crystals is obtained. (14) A method for producing a screen according to claim 12, wherein the support is heated during vapor deposition, so that a structure consisting of crystals is obtained. A method characterized in that a structure consisting of shaped crystals is obtained.
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