JPS59226131A - 粗銅の真空精製装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、粗儒を真空処理することによシ粗銅中のａｔ
）、　Ｂｉ、　Ａｓ、　Ｐｂ等の不純物およびイオウ。

酸素を）除去するために用いる真空精製装置に関する。

銅製錬において銅鞘鉱は、自溶炉等における溶錬、転炉
における疎銅およびｖＩ製炉における精製の各工程を経
て、電解用陽極を得ている。

しかしながら、上記の方法では８ｂ、　Ｂｉ、　Ａｓ。

ｐｂ等の不純物を効率的に除去することが困難であシ、
特に不純物の多い鉱石を大量に処理する場合、あるいは
上記不純物を多く含むスクラップを処理する場合は、望
ましい方法ではなかった。

そこで真空処理による不純物の除去による方法を検討し
た結果、特に真空処理中に酸素含有気体と接触させる等
の方法が、　８ｂ、　Ｂｉ、　Ａｓ、　Ｐｂ等の除去を
効果的に行なわしめることを見い出した。前記方法を実
施するに当たυ１本発明者らは、つぎの装置を用いて実
施すると好ましいことを見い出した。

即ち２本発明は、１ｃ空装置の一箇所以上に酸素含有気
体の導入口を有した粗銅の真空精製装置である。

さらに別の発明としては、真空装置をＲＨタイプを用い
て行なう場合、酸素含有気体の吹き込み口を処理された
銅の排出側に設ける装置に関する。

他の一つの発明は、酸素含有気体の導入後。

真空装置の排ガス中の不純物濃度を検知し、不純物除去
の程度を確認する手段と、除去終了後前記気体の導入口
を閉塞する手段及び又は不活性ガスあるいは貢元ガスを
導入する手段からなる粗銅の真空精製装置に関する。

以下本発明について詳細に説明する。

本発明における粗銅とは、転炉出粗錦、さらにはスクラ
ップ等を含むものである。

粗銅には、処理鉱石中の不純物金貸にもよるが、　　Ｓ
ｂ　α０５〜０１０　チ、　Ｂ１００２〜０．０４　　
％、　　Ａｓ０．０５〜０．２　％、　Ｐｂ　Ｑ、０１
５〜０．０３０．％、　ｚｎ　［１，００１−０，００
２％等の不純物が含まれている。

またイオウは、ａ０１〜０．０２チ、酸素は０．５０〜
ｏ、　ｂ　ｏ　ｓ程度含まれている。さらに不純物の多
い原料を処理した場合は、上記不純物はより上昇する。

粗銅は、１２００〜１３５０℃前後に加熱され、真空炉
内で処理する。

真空炉は、ＲＨタイプあるいはＤＨタイプ等の炉が用い
られ、バッチあるいは連続的に処理される。真空度は、
Ｏ，ＯＳ〜１００　Ｔｏｒ前後で行なわれる。

酸素含有気体は、真空装置の一箇所以上の導入口から浸
入するかあるいは強制的に吹き込まれる。酸素含有気体
とは、空気であれば足り。

その他燃焼排ガス酸素富化空気であっても良い。

導入口の位置は、銅の溶体中に酸素が混入するよりも、
溶体上面を接するように酸素含有気体が存在しているこ
とが望ましいため、真空装置の溶体面よシ上部に位置し
ていることが望ましい。

また特にＨＥタイプの真空装置を用いる場合には、酸素
含有気体の巻き込みが避けやすい。

処理された銅の排出側に設けることが望ましい。

導入口からの酸素含有気体の吹き込みは、真空装置の排
ガス中の不純物１度を検知し、不純物除去の程度を確認
する手段により、除去終了時点を確認し、酸素含有気体
の導入口を閉塞する。酸素含有気体の導入により、　　
Ｓｔ）、　Ｂｉ、　Ａ日の真空処理では除去しにくいも
のを除去し、さらにイオウおよびｅ素のほとんどが除去
される。

ただ酸素については、除去が十分でない場合は、その後
還元ガスを吹き込むことが望ましい。

上記の閉塞は２機械的手段によっても良・いが。

不活性ガスあるいは還元ガスによるシールであっても良
い。寸たさらに積４へ的には、不活性ガスあるいは還元
性ガスを導入する手段によるものであっても良い。

以下２図１１図２によシ木発明の一実施例を説明する。

銅転炉から排出された粗銅は、樋１から炉３に導入され
、吸上はパイプ１１から真゛空装置１５に上げられる。

この際不活性ガスあるいはＮ２ガス等および真望度の差
によシ、真空装置１５に溶体が上昇される。不活性ガス
等は、吹き込みパイプ１２の排出部４よシ溶体に吹き込
まれた。

溶体は、真空装置１５の銅の排出側バイブロ側上部に設
けられた酸素含有気体導入口１７からの酸素と接触し、
粗銅中のＥｌｂ、　Ｂｉ、　Ａｓ、　Ｐｂの大部分が除
去される。またイオウおよび酸素のほとんどが除去され
る。排ガス煙道１８は、酸素含有気体導入口１７と反対
側に設けられ、７リーパスを防止する。

さらに、不純物の除去の程度は、排ガス中の不純物濃度
を原子吸光分析を改良したものにょシ分析しく図示せず
）、不純物の濃度が低下したところで酸素含有気体の導
入を止めた。

溶体は、加熱を兼ねたバーナ１０により排出側パイプか
ら押し流され、再び吸上げパイプ１１に導かれた。

また真空装置から排出された過剰のダストは。

ダスト回収装置１６によシ回収された。

さらに真空装置内でのい付きは、加熱装置７によ漫加熱
されることにより発生が防止された。

口８ また溶体は、液面１３を保ち、処理畑回収鰺よ△ シ回収された。

以上のように本発明を実施することにより以下のような
効果が得られる。

０）　真空装置への酸素含有気体の導入が極めて効果的
に行なうことが出来、粗銅中のＳｂ、　Ｂｉ。

Ａｓ、　Ｐｂ、　Ｓ、　Ｏが十分に除去出来た。

（２）　　さらに、酸素が残存している場合、真空装置
の酸素気体導入口からも森元ガスを吹き込むことにより
、よυ脱酸素効果が高められる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施態様である真空硝製装置を示す
。 第２図は、第１図の平面図である。 ５は真空装置、１７は酸素含有気体導入口である。 特許出願人　日本９１　ｇ＾株式会社 代理人　弁理士（７５６９）並川啓志

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）真空装置の一箇所以上に酸素含有気体の導入口を
   有したことを特徴とする粗銅の真空精製装置。
2. （２）　　真空装置をＲＨタイプを用いて行なう場合酸
   素含有気体の吹き込み口を、処理された錆の排市側に設
   けることを特徴とする粗ｆ＋１の真空精製装置。
3. （３）　　酸素含有気体の導入後、真空装置の排ガス中
   の不純物１度を検知し、不純物除去の程度を確認する手
   段と、除去終了後、前記気体の導入口を閉塞する手段及
   び又は不活性ガスあるいは還元性ガスを導入する手段か
   ら々ることを特徴とする粗銅の真空精製装置。