JPS5922384B2 - レ−ザ−用の光学空洞構造 - Google Patents
レ−ザ−用の光学空洞構造Info
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- JPS5922384B2 JPS5922384B2 JP48130317A JP13031773A JPS5922384B2 JP S5922384 B2 JPS5922384 B2 JP S5922384B2 JP 48130317 A JP48130317 A JP 48130317A JP 13031773 A JP13031773 A JP 13031773A JP S5922384 B2 JPS5922384 B2 JP S5922384B2
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- cavity
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/086—One or more reflectors having variable properties or positions for initial adjustment of the resonator
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/041—Arrangements for thermal management for gas lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0979—Gas dynamic lasers, i.e. with expansion of the laser gas medium to supersonic flow speeds
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザ用の光学空洞構造に関する。
レーザ方式においてレーザ作用(誘導放出による光の増
幅)を生じさせるに必要な二つの条件はレーザー作用の
生じるべき媒体内のエネルギー状態の分布反転と適当な
光学空洞内で行われる媒体内の光子増幅の雪崩プロセス
とである。これまではこの分布反転を生じさせるレーザ
媒体を光学空洞内または互いに正確な空間関係に維持さ
れた鏡の間に置くのが一般的である。このレーザ媒体は
固体、液体、気体またはプラズマである。或る場合には
固体または液体媒体と他の媒体との間の界面が鏡として
作用し且つそれ故光学空洞を限定する反射表面となる。
例えば半導体レーザでは光学空洞はしばしばこのように
して形成される。そしてそのためこの場合にはレーザ媒
体自身の寸法が光学空洞を限定する。しかしながら、す
べてのガス卦よびプラズマレーザ、および多くの固体お
よび液体レーザは光学空洞を限定すべく互いに正しく整
合した別の鏡を用い、そしてレーザ媒体がそれら鏡間の
光学軸に沿つて配置される。本発明はレーザ方式に卦け
る光学空洞を限定する鏡を保持し、間隔を保ちそして支
持するための構造に関する。或るレーザー、そして特に
大出力ガスレーザは比較的大きな寸法をもち、光学空洞
を限定する鏡の間のスペースは数メートルの程度となる
。
幅)を生じさせるに必要な二つの条件はレーザー作用の
生じるべき媒体内のエネルギー状態の分布反転と適当な
光学空洞内で行われる媒体内の光子増幅の雪崩プロセス
とである。これまではこの分布反転を生じさせるレーザ
媒体を光学空洞内または互いに正確な空間関係に維持さ
れた鏡の間に置くのが一般的である。このレーザ媒体は
固体、液体、気体またはプラズマである。或る場合には
固体または液体媒体と他の媒体との間の界面が鏡として
作用し且つそれ故光学空洞を限定する反射表面となる。
例えば半導体レーザでは光学空洞はしばしばこのように
して形成される。そしてそのためこの場合にはレーザ媒
体自身の寸法が光学空洞を限定する。しかしながら、す
べてのガス卦よびプラズマレーザ、および多くの固体お
よび液体レーザは光学空洞を限定すべく互いに正しく整
合した別の鏡を用い、そしてレーザ媒体がそれら鏡間の
光学軸に沿つて配置される。本発明はレーザ方式に卦け
る光学空洞を限定する鏡を保持し、間隔を保ちそして支
持するための構造に関する。或るレーザー、そして特に
大出力ガスレーザは比較的大きな寸法をもち、光学空洞
を限定する鏡の間のスペースは数メートルの程度となる
。
そのような大きなレーザについては空洞の一端にある鏡
と他端の鏡との整合を維持することは一般に困難である
。例えばこのような大きなレーザに}いては光学空洞の
両端の鏡の角度的な不整合は100マイクロラジアンを
越えてはならず、そして或るレーザにおいては鏡同志の
光学的な角度配向は発生されるべきレーザ輻射の適正な
モード制御を与えるには10マイクロラジアンと100
マイクロラジアンの間で変化させねばならない。本発明
の目的はレーザ内外の熱的条件には関係なくレーザ内の
光学空洞の両端にある鏡の正確な整合を容易に維持しう
る光学空洞構造を提供することである。
と他端の鏡との整合を維持することは一般に困難である
。例えばこのような大きなレーザに}いては光学空洞の
両端の鏡の角度的な不整合は100マイクロラジアンを
越えてはならず、そして或るレーザにおいては鏡同志の
光学的な角度配向は発生されるべきレーザ輻射の適正な
モード制御を与えるには10マイクロラジアンと100
マイクロラジアンの間で変化させねばならない。本発明
の目的はレーザ内外の熱的条件には関係なくレーザ内の
光学空洞の両端にある鏡の正確な整合を容易に維持しう
る光学空洞構造を提供することである。
本発明によればレーザの光学軸を与えるための空間的関
係を維持された鏡を有するレーザ用の光学空洞が与えら
れるのであり、これら鏡を保持するための装置がこれら
鏡の空間関係を排他的に限定する寸法をもつ複数のスペ
ーサと、これらスペーサを囲むシールド装置と、このシ
ールド装置に対して実質的な熱接触をする装置とを含み
、このシールド装置とそれに熱接触する装置がスペーサ
の温度を充分均一に維持させてその熱膨脹と収縮がこれ
ら鏡の空間関係に過度のずれを生じさせないようにする
。
係を維持された鏡を有するレーザ用の光学空洞が与えら
れるのであり、これら鏡を保持するための装置がこれら
鏡の空間関係を排他的に限定する寸法をもつ複数のスペ
ーサと、これらスペーサを囲むシールド装置と、このシ
ールド装置に対して実質的な熱接触をする装置とを含み
、このシールド装置とそれに熱接触する装置がスペーサ
の温度を充分均一に維持させてその熱膨脹と収縮がこれ
ら鏡の空間関係に過度のずれを生じさせないようにする
。
ここに示す本発明の実施例はガスCO2,N2卦よびH
6の混合物となつている大出力流動ガスレーザである。
6の混合物となつている大出力流動ガスレーザである。
このガス混合体は空洞の軸に対しほぼ直角の方向におい
て空洞に出入する。このガスは空洞内でその光学軸に直
角でガス流の方向にも直角にこの空洞のほぼ全長にわた
う指向される大電力電子ビームで照射される。動作につ
いては、光学空洞からのガスはそれに入るガスより高温
であり、それ故この空洞を形成し限定しそして支持する
と共にこのガス路内にある部分はこのガスの温度で熱的
影響を受ける。これら熱効果は種々の部分の温度に影響
を与えそしてこの光学空洞と支持構造を形成する種々の
部分に温度勾配と過渡温度を生じさせる。ここに示す実
施例では光学空洞の端にある鏡同志の空間配向はレーザ
のガス流入と流出における実質的な温度差によう大きな
部分に与えられる熱勾配と総合的な温度のレベル変化に
基づく二つの乱れ効果を受ける。例えば空洞を限定する
機械構造の寸法によりきまる空洞の光学的長さはこれら
部分の総合的な温度で影響を受ける。光学空洞を限定す
る部分間の温度差そしてまたはこれら部分に}ける温度
勾配によ)空洞の両端にある鏡の角度的な不整合が生じ
る。θで示すこの角度的な不整合または角度的歪み(第
4図)は一方の鏡の軸と他方の鏡の軸の間の鋭角であう
、これはここで最も注目する光学的空洞の歪みの目安で
ある。この歪みパラメータを無視しうるものとするかあ
るいは少くとも最少にするこの実施例は夫々が鏡を支持
する端部プレートに固定された複数のスペーサロツドを
含んでいる。これらスペーサロツドは熱膨脹率が比較的
小さい物質からなり、各ロツドは熱伝導率が大きく且つ
冷却流体のような吸熱体と連続する物質で囲まれあるい
はシールドされる。さらに、これらシールドは端部プレ
ート同志の空間的配向を機械的に制限したbそれを決定
したりするものではないのであり、この配向は全体とし
てこれらスペーサロツドによ)決定される。この構造を
以後光学的空洞(StrOngba!c)と呼ぶことに
する。上述のように構成されるガスレーザ内の光学空洞
は機械的な基礎から端部プレートへの支持構造体により
機械的な基礎に対して支持される。
て空洞に出入する。このガスは空洞内でその光学軸に直
角でガス流の方向にも直角にこの空洞のほぼ全長にわた
う指向される大電力電子ビームで照射される。動作につ
いては、光学空洞からのガスはそれに入るガスより高温
であり、それ故この空洞を形成し限定しそして支持する
と共にこのガス路内にある部分はこのガスの温度で熱的
影響を受ける。これら熱効果は種々の部分の温度に影響
を与えそしてこの光学空洞と支持構造を形成する種々の
部分に温度勾配と過渡温度を生じさせる。ここに示す実
施例では光学空洞の端にある鏡同志の空間配向はレーザ
のガス流入と流出における実質的な温度差によう大きな
部分に与えられる熱勾配と総合的な温度のレベル変化に
基づく二つの乱れ効果を受ける。例えば空洞を限定する
機械構造の寸法によりきまる空洞の光学的長さはこれら
部分の総合的な温度で影響を受ける。光学空洞を限定す
る部分間の温度差そしてまたはこれら部分に}ける温度
勾配によ)空洞の両端にある鏡の角度的な不整合が生じ
る。θで示すこの角度的な不整合または角度的歪み(第
4図)は一方の鏡の軸と他方の鏡の軸の間の鋭角であう
、これはここで最も注目する光学的空洞の歪みの目安で
ある。この歪みパラメータを無視しうるものとするかあ
るいは少くとも最少にするこの実施例は夫々が鏡を支持
する端部プレートに固定された複数のスペーサロツドを
含んでいる。これらスペーサロツドは熱膨脹率が比較的
小さい物質からなり、各ロツドは熱伝導率が大きく且つ
冷却流体のような吸熱体と連続する物質で囲まれあるい
はシールドされる。さらに、これらシールドは端部プレ
ート同志の空間的配向を機械的に制限したbそれを決定
したりするものではないのであり、この配向は全体とし
てこれらスペーサロツドによ)決定される。この構造を
以後光学的空洞(StrOngba!c)と呼ぶことに
する。上述のように構成されるガスレーザ内の光学空洞
は機械的な基礎から端部プレートへの支持構造体により
機械的な基礎に対して支持される。
この支持構造は端部プレートとスペーサロツドの縦およ
び横方向の膨脹と収縮を禁制するようなものである。こ
の支持はまたレーザ空洞の光学軸の方向が端部プレート
、スペーサロツドおよび支持構造の縦および横方向の闘
脹があつたとしても=定となるように自己整合機能を有
する。この支持構造は機械的基礎に対する空洞の光学軸
の位置の横方向変化を生じさせるようなその横方向シフ
トがないように機械的基礎の上に置かれる。
び横方向の膨脹と収縮を禁制するようなものである。こ
の支持はまたレーザ空洞の光学軸の方向が端部プレート
、スペーサロツドおよび支持構造の縦および横方向の闘
脹があつたとしても=定となるように自己整合機能を有
する。この支持構造は機械的基礎に対する空洞の光学軸
の位置の横方向変化を生じさせるようなその横方向シフ
トがないように機械的基礎の上に置かれる。
第1,2図は大出力流動ガスレーザ装置を示すものであ
ジ、本発明の特徴とするところは光学空洞の部分と、光
学的空洞用の支持構造と、レーザ空洞にガス混合体の連
続する流れを与えるためのガス流系と、光学的空洞内の
スペーサロツドのシールド用の冷却系とである。
ジ、本発明の特徴とするところは光学空洞の部分と、光
学的空洞用の支持構造と、レーザ空洞にガス混合体の連
続する流れを与えるためのガス流系と、光学的空洞内の
スペーサロツドのシールド用の冷却系とである。
図示の実施例は光学的空洞と支持構造とガス流系に対し
てシールドされた包囲体を与える。
てシールドされた包囲体を与える。
ポンピング用の電子ビームはこの包囲体の開口を通つて
光学空洞内に放出され、そして発生されるレーザビーム
はこの光学空洞から包囲体の窓を通るようにされる。こ
のように構造体を包囲する利点のいくつかをここに述べ
る。第1図は包囲体1の端部を示すものであり、この包
囲体はその底に置かれた支持構造3上の光学的空洞2を
含み、この支持体の底をここでは機械的基準または基礎
4と呼ぶ。
光学空洞内に放出され、そして発生されるレーザビーム
はこの光学空洞から包囲体の窓を通るようにされる。こ
のように構造体を包囲する利点のいくつかをここに述べ
る。第1図は包囲体1の端部を示すものであり、この包
囲体はその底に置かれた支持構造3上の光学的空洞2を
含み、この支持体の底をここでは機械的基準または基礎
4と呼ぶ。
ガス流系5も光学的空洞内のスペーサロツドの温度シー
ルドを冷却するための流体冷却系6と共にこの包囲体内
に含まれる。第2図に示すように包囲体1は両端が開放
されている。
ルドを冷却するための流体冷却系6と共にこの包囲体内
に含まれる。第2図に示すように包囲体1は両端が開放
されている。
これら端部は前扉7と後扉8で密閉される。電子ビーム
系9は前扉で支持されそしてこの扉の外側に外部分11
と内側に内部分12を含んでいる。この電子ビーム系の
内部分12は光学的空洞2によう保持される光学空洞の
光学軸20の夫々の側に配置された格子構造14と15
に向けて電子ビームを発射する。後扉8はガス流系5の
配管16により主として占められるこの包囲体の後部へ
のアクセスのためのものである。この配管は入口ガスダ
クト17と排出ガスダクト18を含み、これらがレーザ
ガス混合体をレーザの光学空洞に導入し排出する。ガス
流は格子15の外側の壁19とビームが貫通するように
格子14の外側に配置された箔壁21とにより光学空洞
内で限定される。ガス用のブロワ22がこのダクト内に
配置されてレーザ系の動作中に光学空洞を通るレーザガ
スの安定した均一の流れを生じさせる。第1,2図に示
す型式の流動ガスレーザに訃いする鏡の角度的不整合を
つくり角歪みθを導入し、機械的基準に対する空洞の軸
の方向と位置をシフトさせる。光学空洞は2本の上部ス
ペーサロツド27,28と2本の下部スペーサロツド2
9,30である4本のスペーサロツドにより一緒に固定
接続される2枚の端部プレート25,26を含んでいる
。
系9は前扉で支持されそしてこの扉の外側に外部分11
と内側に内部分12を含んでいる。この電子ビーム系の
内部分12は光学的空洞2によう保持される光学空洞の
光学軸20の夫々の側に配置された格子構造14と15
に向けて電子ビームを発射する。後扉8はガス流系5の
配管16により主として占められるこの包囲体の後部へ
のアクセスのためのものである。この配管は入口ガスダ
クト17と排出ガスダクト18を含み、これらがレーザ
ガス混合体をレーザの光学空洞に導入し排出する。ガス
流は格子15の外側の壁19とビームが貫通するように
格子14の外側に配置された箔壁21とにより光学空洞
内で限定される。ガス用のブロワ22がこのダクト内に
配置されてレーザ系の動作中に光学空洞を通るレーザガ
スの安定した均一の流れを生じさせる。第1,2図に示
す型式の流動ガスレーザに訃いする鏡の角度的不整合を
つくり角歪みθを導入し、機械的基準に対する空洞の軸
の方向と位置をシフトさせる。光学空洞は2本の上部ス
ペーサロツド27,28と2本の下部スペーサロツド2
9,30である4本のスペーサロツドにより一緒に固定
接続される2枚の端部プレート25,26を含んでいる
。
スペーサロツド28と30は第3図では夫々ロツド27
と29の陰になつている。これらを第2,9図に示して
ある。プレート25と26の夫々はレーザの光学軸20
に沿つて夫々軸方向開口25a,26aを有し、そして
夫々この軸に沿つて1以上の鏡を支持する。例えばプレ
ート25はプレート25から点3で支持される鏡板33
に固定された一個の鏡32を支持するようにしてもよい
。鏡板33はピポツト35によシ一点で回動しうるよう
に支持され、他の2点で鏡板位置ぎめモータ36,37
によ)支持される。これらモータは端部プレート上に支
持されて鏡板33の傾きを調節し、それによジ空洞の軸
20に対する鏡32の傾きを調節する。スペーサロツド
27〜30によう端部プレート25に固定される他方の
端部プレート26は二つの鏡、すなわち鏡32と一緒に
なつて光学空洞を形成する内側の鏡38と光学空洞から
のレーザ輻射をプレート25の開口40を通じてプレー
ト25を丁度越える包囲体1の壁に装着される周知の形
式の空気力学的窓系41に方向づける外側の鏡39とを
支持する。
と29の陰になつている。これらを第2,9図に示して
ある。プレート25と26の夫々はレーザの光学軸20
に沿つて夫々軸方向開口25a,26aを有し、そして
夫々この軸に沿つて1以上の鏡を支持する。例えばプレ
ート25はプレート25から点3で支持される鏡板33
に固定された一個の鏡32を支持するようにしてもよい
。鏡板33はピポツト35によシ一点で回動しうるよう
に支持され、他の2点で鏡板位置ぎめモータ36,37
によ)支持される。これらモータは端部プレート上に支
持されて鏡板33の傾きを調節し、それによジ空洞の軸
20に対する鏡32の傾きを調節する。スペーサロツド
27〜30によう端部プレート25に固定される他方の
端部プレート26は二つの鏡、すなわち鏡32と一緒に
なつて光学空洞を形成する内側の鏡38と光学空洞から
のレーザ輻射をプレート25の開口40を通じてプレー
ト25を丁度越える包囲体1の壁に装着される周知の形
式の空気力学的窓系41に方向づける外側の鏡39とを
支持する。
鏡38と39の夫々は鏡32と同様に軸20に対して傾
斜しておシ、すなわち、夫々一つのピボツト点と二つの
可変点を備えたプレートにより保持されるのであジ、こ
れら可変点は端部プレート26により支持されるモータ
により変化され、ピボツト点は同じくプレート26で支
持されるピボツト接続によりつくられる。
斜しておシ、すなわち、夫々一つのピボツト点と二つの
可変点を備えたプレートにより保持されるのであジ、こ
れら可変点は端部プレート26により支持されるモータ
により変化され、ピボツト点は同じくプレート26で支
持されるピボツト接続によりつくられる。
これらの目的のために鏡38はピボツト43}よびプレ
ート26上に支持される位置ぎめモータ44,45にお
いて保持される鏡板42に装着される。同様に鏡39は
ピボツト47とプレート26によジ支持されるモータ4
8,49とにおいて保持される鏡板46に装着される。
かくして、軸20に対するこれら三つの鏡の夫々の角度
上の整合は調整可能である。これら鏡は適正に整合され
るとすべてのレーザ輻射が鏡32から鏡39へと反射さ
れて鏡39がこのレーザ輻射を包囲体1の外で使用する
ために空気力学的な窓系40の中心点に焦点づけるよう
に形成される。鏡39を支持する鏡板46上のモータ制
御装置は出力レーザビームを窓系40に中心づけそして
これらモータはこの中心づけを行うために窓にある検出
器に応答して遠隔制御される。第3図の光学空洞はすべ
て端部プレート25と26に支持される鏡を位置づけす
るための鏡と機構の構成の一例にすぎない。明らかに他
の構成をレーザ輻射の目的とする使用法、ガス媒体およ
びレーザの附勢方法により使用することが出来る。ここ
に述べる光学系は一例であわ他の系を用いることも出来
る。本発明の原理的な特徴は光学系ではなく端部プレー
ト25,26とこれらプレートをしつかク接続させるス
ペーサロツド27−30とを含む光学空洞と包囲体1の
床である機械的な基礎4にこれらすべてを支持させる支
持構造3とである。
ート26上に支持される位置ぎめモータ44,45にお
いて保持される鏡板42に装着される。同様に鏡39は
ピボツト47とプレート26によジ支持されるモータ4
8,49とにおいて保持される鏡板46に装着される。
かくして、軸20に対するこれら三つの鏡の夫々の角度
上の整合は調整可能である。これら鏡は適正に整合され
るとすべてのレーザ輻射が鏡32から鏡39へと反射さ
れて鏡39がこのレーザ輻射を包囲体1の外で使用する
ために空気力学的な窓系40の中心点に焦点づけるよう
に形成される。鏡39を支持する鏡板46上のモータ制
御装置は出力レーザビームを窓系40に中心づけそして
これらモータはこの中心づけを行うために窓にある検出
器に応答して遠隔制御される。第3図の光学空洞はすべ
て端部プレート25と26に支持される鏡を位置づけす
るための鏡と機構の構成の一例にすぎない。明らかに他
の構成をレーザ輻射の目的とする使用法、ガス媒体およ
びレーザの附勢方法により使用することが出来る。ここ
に述べる光学系は一例であわ他の系を用いることも出来
る。本発明の原理的な特徴は光学系ではなく端部プレー
ト25,26とこれらプレートをしつかク接続させるス
ペーサロツド27−30とを含む光学空洞と包囲体1の
床である機械的な基礎4にこれらすべてを支持させる支
持構造3とである。
理想的にはスペーサロツド27−30は熱膨脹係数の非
常に小さい材料でつくるべきであり、そしてこの材料は
熱の良導体であるべきである。これら両方の性質をもつ
ていれば各スペーサロツドは=定の均一な温度において
急速に安定化しそして各ロツドの温度変化による膨脹あ
るいは収縮は最少となる。明らかにこれら両特性すなわ
ち小さい熱膨脹と高熱伝導性は単一の物質では見い出す
ことが出来ない。例えば熱膨脹係数の小さい物質のカテ
ゴリーにはインバースチールがあるがこの物質の熱伝導
度は低い。従つて端部プレートとスペーサロツドがすべ
てインバースチールであれば光学的空洞は小さい温度変
化による膨脹に対しては良好である。しかしながら、イ
ンバースチール製の空洞の一部が隣接する高温となつた
要素からの輻射により加熱されたb空洞の他の部分より
実質的に多量の流動ガスにより加熱されたシすればイン
バースチールの熱伝導度が低いために大きな温度差を生
じさせてしまう。もし他方銅のような熱の良導体を用い
るとすれば光学的空洞の一点から他の一点への温度差は
極めて小さくなるが、小さい温度変化でも銅は大きく膨
脹するため空洞の歪みを生じさせてしまう。従つてここ
に述べる光学的空洞はインバースチールのような物質と
銅のような物質の所望の特性を組合せるように構成され
る。光学的空洞の構造を第3図に示す。
常に小さい材料でつくるべきであり、そしてこの材料は
熱の良導体であるべきである。これら両方の性質をもつ
ていれば各スペーサロツドは=定の均一な温度において
急速に安定化しそして各ロツドの温度変化による膨脹あ
るいは収縮は最少となる。明らかにこれら両特性すなわ
ち小さい熱膨脹と高熱伝導性は単一の物質では見い出す
ことが出来ない。例えば熱膨脹係数の小さい物質のカテ
ゴリーにはインバースチールがあるがこの物質の熱伝導
度は低い。従つて端部プレートとスペーサロツドがすべ
てインバースチールであれば光学的空洞は小さい温度変
化による膨脹に対しては良好である。しかしながら、イ
ンバースチール製の空洞の一部が隣接する高温となつた
要素からの輻射により加熱されたb空洞の他の部分より
実質的に多量の流動ガスにより加熱されたシすればイン
バースチールの熱伝導度が低いために大きな温度差を生
じさせてしまう。もし他方銅のような熱の良導体を用い
るとすれば光学的空洞の一点から他の一点への温度差は
極めて小さくなるが、小さい温度変化でも銅は大きく膨
脹するため空洞の歪みを生じさせてしまう。従つてここ
に述べる光学的空洞はインバースチールのような物質と
銅のような物質の所望の特性を組合せるように構成され
る。光学的空洞の構造を第3図に示す。
ここではスペーサロツド27〜30はインバースチール
のような熱膨脹の少い物質からなる。ロツド27と30
は夫々51〜54で示す銅のジヤケツトまたはシールド
内にとじ込められ、そして各ジヤケツトがプレート25
または26の一方のみに固定される。ロツド28と30
を包むジヤケツト52と54は第9図に示す。これらジ
ヤケツトのすべてを夫々ジヤケツト51〜54の夫々の
端のフランジ55〜58をねじ59によりプレート25
に固定することによりプレート25に直接に装着すると
よい。各ジヤケツトの他端にはこれらジヤケツトの縦方
向の膨脹がプレート25と26の間に機械的な力を与え
ずしかもこれらプレート同志の位置ぎめが全体としてこ
れらスペーサロツドによりきまるようにプレート26か
ら滑りうるように支持されるフランジを備えている。ジ
ヤケツト51〜54の端にあるフランジ61〜64はプ
レート26に固定される支持ピン65上で滑りうるよう
に設けられ、そしてそれ故ジヤケツトは空洞を歪ませる
ことなく支持され自由に膨脹、収縮が出来る。別のシー
ルドを、プレート25と26を軸20に一般に沿つてい
るレーザーの高温部からシールドするために設けてもよ
い。
のような熱膨脹の少い物質からなる。ロツド27と30
は夫々51〜54で示す銅のジヤケツトまたはシールド
内にとじ込められ、そして各ジヤケツトがプレート25
または26の一方のみに固定される。ロツド28と30
を包むジヤケツト52と54は第9図に示す。これらジ
ヤケツトのすべてを夫々ジヤケツト51〜54の夫々の
端のフランジ55〜58をねじ59によりプレート25
に固定することによりプレート25に直接に装着すると
よい。各ジヤケツトの他端にはこれらジヤケツトの縦方
向の膨脹がプレート25と26の間に機械的な力を与え
ずしかもこれらプレート同志の位置ぎめが全体としてこ
れらスペーサロツドによりきまるようにプレート26か
ら滑りうるように支持されるフランジを備えている。ジ
ヤケツト51〜54の端にあるフランジ61〜64はプ
レート26に固定される支持ピン65上で滑りうるよう
に設けられ、そしてそれ故ジヤケツトは空洞を歪ませる
ことなく支持され自由に膨脹、収縮が出来る。別のシー
ルドを、プレート25と26を軸20に一般に沿つてい
るレーザーの高温部からシールドするために設けてもよ
い。
このために銅のシールド66と67が光学空洞に露呈さ
れるこれらプレートの表面を実質的に覆うように設けら
れる。シールド66と67はスペーサロツドを包むジヤ
ケツト51〜54の端のフランジ上に支持されてもよく
、各シールドはこれらプレートにより支持される鏡間の
輻射を阻止しないように充分大きな開口を軸20に沿つ
て有する。かくして、レーザの高温部とレーザガスの流
れるダクトによシ放出される熱を受ける空洞の部分は銅
によりすべてシールドされて温度勾配を最小にする。さ
らに、スペーサロツドを包むジヤケツト51〜54は夫
々に装着された冷却管内の流体冷却機によ)冷却される
。
れるこれらプレートの表面を実質的に覆うように設けら
れる。シールド66と67はスペーサロツドを包むジヤ
ケツト51〜54の端のフランジ上に支持されてもよく
、各シールドはこれらプレートにより支持される鏡間の
輻射を阻止しないように充分大きな開口を軸20に沿つ
て有する。かくして、レーザの高温部とレーザガスの流
れるダクトによシ放出される熱を受ける空洞の部分は銅
によりすべてシールドされて温度勾配を最小にする。さ
らに、スペーサロツドを包むジヤケツト51〜54は夫
々に装着された冷却管内の流体冷却機によ)冷却される
。
第3図にはこれら冷却管の内の二本を示す。一方の管7
1はジヤケツト51にそして他方の73はジヤケツト5
3に装着される。これら管の端71a,71b,73a
,73bはレーザー包囲体1内に置かれてもよい冷却材
入口および出口マニホルド75,76に接続する。パイ
プJモVと78がこれらマニホルドから包囲体の壁を通う
冷却材ポンプと冷却材源へと伸びる。ジヤケツト51−
54と接触するコイル71−74の夫々を流れる冷却材
の取入れはジヤケツトに沿つた冷却材の効果が少くなれ
ばそれがジヤケツトのすべてに沿つて同一方向になるよ
うにジヤケツトの同一の端で行われるとよい。明らかに
冷却材はジヤケツト51−54の温度を安定化させよう
とし、そしてジヤケツトと直接に熱接触するシールド6
6と67の温度をも安定化させようとするから光学空洞
の内側のすべての銅のシールドは実際に冷却される。
゛動作を述べると、銅のシー
ルドのすべての温度は極めて均一となり、それ故プレー
ト25と26およびスペーサロツド27−30の端の温
度もまたレーザガスの入口と出口間の大きな温度差にも
であり、ここにおいてaはインバーロツドの膨脹係であ
ジ、そして△T2=T2−TOであり.TOはプレート
25と26の温度で、T2は上側のロツド27と28の
温度である。T2の大きさは熱ガスの流れるダクト壁か
らロツドへと放出される熱量をロツドとプレート間の△
T2によりプレートへとロツドから導出される熱量に等
しいと置いて予測される。
1はジヤケツト51にそして他方の73はジヤケツト5
3に装着される。これら管の端71a,71b,73a
,73bはレーザー包囲体1内に置かれてもよい冷却材
入口および出口マニホルド75,76に接続する。パイ
プJモVと78がこれらマニホルドから包囲体の壁を通う
冷却材ポンプと冷却材源へと伸びる。ジヤケツト51−
54と接触するコイル71−74の夫々を流れる冷却材
の取入れはジヤケツトに沿つた冷却材の効果が少くなれ
ばそれがジヤケツトのすべてに沿つて同一方向になるよ
うにジヤケツトの同一の端で行われるとよい。明らかに
冷却材はジヤケツト51−54の温度を安定化させよう
とし、そしてジヤケツトと直接に熱接触するシールド6
6と67の温度をも安定化させようとするから光学空洞
の内側のすべての銅のシールドは実際に冷却される。
゛動作を述べると、銅のシー
ルドのすべての温度は極めて均一となり、それ故プレー
ト25と26およびスペーサロツド27−30の端の温
度もまたレーザガスの入口と出口間の大きな温度差にも
であり、ここにおいてaはインバーロツドの膨脹係であ
ジ、そして△T2=T2−TOであり.TOはプレート
25と26の温度で、T2は上側のロツド27と28の
温度である。T2の大きさは熱ガスの流れるダクト壁か
らロツドへと放出される熱量をロツドとプレート間の△
T2によりプレートへとロツドから導出される熱量に等
しいと置いて予測される。
ロツドへの正味の放出熱量は
であり、T1は上側ロツド27と28に隣接するダクト
の温度であり、e1とE2は夫々壁とロツドの放散度で
あり、σはステフアンボルツマン定数である。
の温度であり、e1とE2は夫々壁とロツドの放散度で
あり、σはステフアンボルツマン定数である。
ロツドから失われる熱量は
でありKはロツドの熱伝導率である。
ロツドがそれへと放出される熱とそのまま導き出すに充
分に熱くなるとき定常状態となる。
分に熱くなるとき定常状態となる。
かくしてである。
ΔTと△T2がT。
と比較して小さいとしてこの式を解くとt?−6欄―噛
L− 」となる。
.司6)を式(2)に代入し、e1とE2を1としレー
ザーに適当な条件、例えばL=150cm.d=泗を入
れさらにインバーの定数K=0.5W/CrrL℃、a
=106/℃を入れてこれを解くと第14図のグラフが
得られる。
ザーに適当な条件、例えばL=150cm.d=泗を入
れさらにインバーの定数K=0.5W/CrrL℃、a
=106/℃を入れてこれを解くと第14図のグラフが
得られる。
ガスの流れるダクトの壁の温度を約50℃とするとθは
レーザについて経験的に決定される許容不整合限界を大
幅に越えることがわかる。事実、ロツドにシールドのな
い場合のこのレーザからの出力は壁が熱くなつた後に減
少し始めることが観測の結果わかつた。これらロツドが
インバーではなく銅製であるとすれば、この不整合はも
つと悪くなることは第14図からも判るであろう。
レーザについて経験的に決定される許容不整合限界を大
幅に越えることがわかる。事実、ロツドにシールドのな
い場合のこのレーザからの出力は壁が熱くなつた後に減
少し始めることが観測の結果わかつた。これらロツドが
インバーではなく銅製であるとすれば、この不整合はも
つと悪くなることは第14図からも判るであろう。
しかしながら、銅のジヤケツトをインバーのロツドのま
わうに設けると次のようにインバーの温度の上昇は,
−一 −Jだけであう
、ここにおいてδは銅ジヤケツトの壁厚である。
わうに設けると次のようにインバーの温度の上昇は,
−一 −Jだけであう
、ここにおいてδは銅ジヤケツトの壁厚である。
この結果の歪みの減少についても第14図に示している
。
。
この構造は100℃のダクト壁温度をもたらす安定条件
において運転出来、この条件での数時間の運転でもレー
ザ出力に減少はなかつた。次に第5−13図を見るにこ
れらは包囲体1の床にある機械的基礎4から空洞2を支
持する支持構造3の種々の詳細を示す。空洞のプレート
25と26は支持パツド91−93上に置かれ、それ故
この空洞は三点支持される。支持構造3は同じく基礎4
と接触しそして第9−13図について詳述する三点94
−96において基礎上に支持される。第5−7図に示す
ようにパツド91−93は丸味のついたきのこ形のスチ
ールのパツドであり1夫々がプレートの底のそれに合つ
た形の溝と接触する。
において運転出来、この条件での数時間の運転でもレー
ザ出力に減少はなかつた。次に第5−13図を見るにこ
れらは包囲体1の床にある機械的基礎4から空洞2を支
持する支持構造3の種々の詳細を示す。空洞のプレート
25と26は支持パツド91−93上に置かれ、それ故
この空洞は三点支持される。支持構造3は同じく基礎4
と接触しそして第9−13図について詳述する三点94
−96において基礎上に支持される。第5−7図に示す
ようにパツド91−93は丸味のついたきのこ形のスチ
ールのパツドであり1夫々がプレートの底のそれに合つ
た形の溝と接触する。
二つのパツド91と92は支持構造3のペデスタル10
2の頂部に固定されるプレート101上で間隔をつけら
れる。これらパツドの高さはパツド軸103,104の
夫々プレート101に固定されたナツト105,106
とのねじ係合によジ調節可能である。同様にパツド93
は支持構造3のペデスタル108の頂部でプレート10
7に固定され、その高さはプレート107に固定された
ナツト110とパツド軸109のねじ接続によシ調整可
能である。パツド91と92の丸味のついた表面はプレ
ート25の底の溝111と112に係合する。
2の頂部に固定されるプレート101上で間隔をつけら
れる。これらパツドの高さはパツド軸103,104の
夫々プレート101に固定されたナツト105,106
とのねじ係合によジ調節可能である。同様にパツド93
は支持構造3のペデスタル108の頂部でプレート10
7に固定され、その高さはプレート107に固定された
ナツト110とパツド軸109のねじ接続によシ調整可
能である。パツド91と92の丸味のついた表面はプレ
ート25の底の溝111と112に係合する。
バツド93の丸味のついた端部はプレート26の底の同
様の溝113に接触する。夫々の溝、例えば113はバ
ツドの端部と接触する114と115のような二つの表
面を含み、それ故夫々のパツドは関連する溝内の二点で
その溝に接触する。角度をもつた溝111と112は夫
々ライン116と117に沿つており、これらラインは
同一の一点でレーザ軸20を通る垂直の面と交わb、そ
の交叉点は好適にはプレート25と26間にある。これ
らラインの夫々のこの面となす角度はαである。プレー
ト26の底の溝113の方向はこの面内にあり軸20に
平行である。ここでバツド91−93が基礎4に対して
固定されるとすると、空洞を支持する溝とパツドは次の
ように作用する。
様の溝113に接触する。夫々の溝、例えば113はバ
ツドの端部と接触する114と115のような二つの表
面を含み、それ故夫々のパツドは関連する溝内の二点で
その溝に接触する。角度をもつた溝111と112は夫
々ライン116と117に沿つており、これらラインは
同一の一点でレーザ軸20を通る垂直の面と交わb、そ
の交叉点は好適にはプレート25と26間にある。これ
らラインの夫々のこの面となす角度はαである。プレー
ト26の底の溝113の方向はこの面内にあり軸20に
平行である。ここでバツド91−93が基礎4に対して
固定されるとすると、空洞を支持する溝とパツドは次の
ように作用する。
スペーサロツド21−30の膨脹によ)プレート26は
パツド93上を軸20に沿つて滑勺、それ故軸20はこ
れらパツドと基礎に対して同一の線に沿つたままである
。プレート25の横方向の膨脹はこの条件をつくらない
。プレート25の横方向の膨脹により溝111と112
の間の幅は増加する。しかしながら、この幅の変化はこ
れらの溝が図示のように等しく角度を与えられているか
ら軸20とプレート25の整合をこわさない。これらの
角度のついた溝によりプレート25はその横方向膨脹に
応じて軸20に沿つて動き、この動きはプレート25の
ねじれをつくらない。かくして支持構造3上の空洞2の
三点支持がなされそしてこれは空洞の部品の均一な縦ま
たは横の膨脹によつてバツドに対する軸20の縦または
横の偏位の変化が生じないようなものである。さらに詳
細にはこれら膨脹や収縮はパツド91−93に対する軸
20の方向や位置を変えない。しかしながらスペーサロ
ツドの縦の膨脹が均一でない場合には第3,4図で述べ
たようにθが生じる。この不整合は前述のように最少と
される。前述のようにペデスタル102と108上に三
つのパツドを支持するこの支持構造3は第1,2,9,
13図に示すような支持部材121を含み、これが二つ
のペデスタルを結合させている。
パツド93上を軸20に沿つて滑勺、それ故軸20はこ
れらパツドと基礎に対して同一の線に沿つたままである
。プレート25の横方向の膨脹はこの条件をつくらない
。プレート25の横方向の膨脹により溝111と112
の間の幅は増加する。しかしながら、この幅の変化はこ
れらの溝が図示のように等しく角度を与えられているか
ら軸20とプレート25の整合をこわさない。これらの
角度のついた溝によりプレート25はその横方向膨脹に
応じて軸20に沿つて動き、この動きはプレート25の
ねじれをつくらない。かくして支持構造3上の空洞2の
三点支持がなされそしてこれは空洞の部品の均一な縦ま
たは横の膨脹によつてバツドに対する軸20の縦または
横の偏位の変化が生じないようなものである。さらに詳
細にはこれら膨脹や収縮はパツド91−93に対する軸
20の方向や位置を変えない。しかしながらスペーサロ
ツドの縦の膨脹が均一でない場合には第3,4図で述べ
たようにθが生じる。この不整合は前述のように最少と
される。前述のようにペデスタル102と108上に三
つのパツドを支持するこの支持構造3は第1,2,9,
13図に示すような支持部材121を含み、これが二つ
のペデスタルを結合させている。
ペデスタル102の底に固定されるベースプレート12
2は基礎4から支持構造3を支持する支持点94と95
に接続する。ペデスタル108の底に固定される他のベ
ースプレート123は他の点96に接続する。これら支
持点は第13図にも示してある。第10−12図は構造
3についての支持点94一96の拡大図である。
2は基礎4から支持構造3を支持する支持点94と95
に接続する。ペデスタル108の底に固定される他のベ
ースプレート123は他の点96に接続する。これら支
持点は第13図にも示してある。第10−12図は構造
3についての支持点94一96の拡大図である。
基礎への接触はスチ一 ルの球によりこれら支持点でな
される。一点94に卦いて基礎4に対する構造3の縦}
よび横の動作はこの球がこれら方向には回転出来ないの
で阻止される。他方、点95において球は横方向にそし
て点96では縦方向に回転出来る。これら条件を第13
図に示す。第10図に示すように点94において球12
5は夫々プレート122と基礎4に固定されるパツド1
28と129の窪みの間に入る。
される。一点94に卦いて基礎4に対する構造3の縦}
よび横の動作はこの球がこれら方向には回転出来ないの
で阻止される。他方、点95において球は横方向にそし
て点96では縦方向に回転出来る。これら条件を第13
図に示す。第10図に示すように点94において球12
5は夫々プレート122と基礎4に固定されるパツド1
28と129の窪みの間に入る。
第12図に示すように点96では球131は夫々プレー
ト123と基礎4に固定されるパツド134と135の
縦溝132と133に含まれる。同様に点95で球13
6は夫々プレート122と基礎4に固定されるパツド1
39と140の横溝137と138内で回転する。支持
構造3と基礎からの支持点の機能と利点を第13図に示
す。
ト123と基礎4に固定されるパツド134と135の
縦溝132と133に含まれる。同様に点95で球13
6は夫々プレート122と基礎4に固定されるパツド1
39と140の横溝137と138内で回転する。支持
構造3と基礎からの支持点の機能と利点を第13図に示
す。
ペデスタルを接続する部材121の膨脹または収縮は基
礎に対しペデスタル108を縦方向に動かすだけであり
、これにより支持パツド93が端部プレート26を動か
したう空洞を歪みたりすることなくプレート26の底の
溝内で動く。部材121のこの縦の膨脹は障げられない
から支持構造3をねじれさせたりしない。ペデスタル1
02}よびその頂部のプレート101の横の膨脹はパツ
ド91と92を互いに離れるように動かすものであるが
、これはこれらパツドの置かれるプレート25の底の溝
の角度により軸20に沿つて空洞をわずかに動かす。ペ
ダスタル102の底のプレート122の横の膨脹は支持
点95に訃いて可能とされ、それ故これらの膨脹は基礎
に対して横方向にペデスタル102の位置をシフトさせ
ることなく逃がされる。基礎から光学的空洞を支持する
この支持構造の特徴はレーザ系の鏡を支持するための全
体的なプラツトホームを与えるためこの空洞の利点と組
合された利点をこのレーザに卦いて有する。
礎に対しペデスタル108を縦方向に動かすだけであり
、これにより支持パツド93が端部プレート26を動か
したう空洞を歪みたりすることなくプレート26の底の
溝内で動く。部材121のこの縦の膨脹は障げられない
から支持構造3をねじれさせたりしない。ペデスタル1
02}よびその頂部のプレート101の横の膨脹はパツ
ド91と92を互いに離れるように動かすものであるが
、これはこれらパツドの置かれるプレート25の底の溝
の角度により軸20に沿つて空洞をわずかに動かす。ペ
ダスタル102の底のプレート122の横の膨脹は支持
点95に訃いて可能とされ、それ故これらの膨脹は基礎
に対して横方向にペデスタル102の位置をシフトさせ
ることなく逃がされる。基礎から光学的空洞を支持する
この支持構造の特徴はレーザ系の鏡を支持するための全
体的なプラツトホームを与えるためこの空洞の利点と組
合された利点をこのレーザに卦いて有する。
これらの特徴のために、鏡同志または基礎に対して鏡の
位置づけをずらせるこれら熱膨脹や収縮は最少となvあ
るいは回避される。
位置づけをずらせるこれら熱膨脹や収縮は最少となvあ
るいは回避される。
第1図は支持構造と包囲体を示す流動ガスレーザの光学
空洞の側面図、第2図はこのレーザの光学軸に平行な方
向における端面図、第3図は光学的空洞とそれが置かれ
る支持ペデスタルの一部を示すこのレーザの側面図、第
4図はスペーサロツドが膨脹するときの歪みパラメータ
θで示す空洞の特性図、第5図は支持パツドを示す空洞
の下面図、第6卦よび7図はパツドの詳細を示す空洞の
端面図、第8図は第1図のガスレーザの部分的端面図、
第9図は第1図のガスレーザの他方の端部の端面図、第
10−12図は三点支持の詳細図、第13図は三点支持
の上面図、第14図はθのグラフである。 1・・・包囲体、2・・・光学空洞、3・・・支持構造
、4・・・機械的基礎、5・・・ガス流系、6・・・冷
却系、25,26・・・端部プレート、27−30・・
・スペーサ、32,38,39・・・鏡、51−54・
・・シールド装置(ジヤケツト)、66,67・・・シ
ールド装置。
空洞の側面図、第2図はこのレーザの光学軸に平行な方
向における端面図、第3図は光学的空洞とそれが置かれ
る支持ペデスタルの一部を示すこのレーザの側面図、第
4図はスペーサロツドが膨脹するときの歪みパラメータ
θで示す空洞の特性図、第5図は支持パツドを示す空洞
の下面図、第6卦よび7図はパツドの詳細を示す空洞の
端面図、第8図は第1図のガスレーザの部分的端面図、
第9図は第1図のガスレーザの他方の端部の端面図、第
10−12図は三点支持の詳細図、第13図は三点支持
の上面図、第14図はθのグラフである。 1・・・包囲体、2・・・光学空洞、3・・・支持構造
、4・・・機械的基礎、5・・・ガス流系、6・・・冷
却系、25,26・・・端部プレート、27−30・・
・スペーサ、32,38,39・・・鏡、51−54・
・・シールド装置(ジヤケツト)、66,67・・・シ
ールド装置。
Claims (1)
- 1 レーザーの光学軸を与える鏡が隔置されて保持され
、かつ対向端部プレート25、26に対して光学空洞構
造により支持されており、複数のスペーサロッド27−
30が隔置されて前記端部プレート25、26を保持す
るために該端部プレート25、26に取付けられ、かつ
各スペーサロッドが比較的小さい熱膨張率を有する材料
から成りしかも比較的大きい熱伝導度を有する材料から
成るシールド手段51−54により囲まれており、該シ
ールド手段51−54が温度変化による該シールド手段
に対する前記スペーサロッドの相対的な膨張及び収縮を
調整するためにその一端で一方の端部プレート25に固
定され、かつ他方の端部プレート26に摺動可能に支持
され、しかもヒートシンク71、73に熱接触しており
、前記光学空洞が固定支持手段102、108、4に対
して(a)前記一方の端部プレート25の底部に設けら
れ、垂直面に対してそれぞれ等しい角度をなすように光
学軸を通る垂直面内の1点で交差する軸に沿つて設けら
れている2つの溝111、112、(b)前記他方の端
部プレート26の底部に、垂直面内にある軸に沿つて設
けられている溝113、及び(c)前記光学空洞構造を
支持する支持パッド91、92、93であつて、温度変
化による膨張及び収縮にもかゝわらずに前記光学空洞構
造が光学軸の方向を実質的に変化せずに該支持パッド上
を移動することを可能にするように各支持パッドが前記
溝111、112、113の異なつた1つに接触してい
る支持パッド91、92、93によつて支持されている
ことを特徴とするレーザー用の光学空洞構造。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US00308347A US3808553A (en) | 1972-11-21 | 1972-11-21 | Thermally stable laser resonator support assembly |
US308347 | 1981-10-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS4984191A JPS4984191A (ja) | 1974-08-13 |
JPS5922384B2 true JPS5922384B2 (ja) | 1984-05-26 |
Family
ID=23193623
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP48130317A Expired JPS5922384B2 (ja) | 1972-11-21 | 1973-11-21 | レ−ザ−用の光学空洞構造 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3808553A (ja) |
JP (1) | JPS5922384B2 (ja) |
CA (1) | CA993698A (ja) |
CH (1) | CH580343A5 (ja) |
DE (1) | DE2357927C2 (ja) |
FR (1) | FR2207371B1 (ja) |
GB (1) | GB1444404A (ja) |
IL (1) | IL43591A (ja) |
IT (1) | IT997600B (ja) |
SE (1) | SE395796B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61197830A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-02 | Sanwa Tekki Corp | 油圧防振器 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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