JPS59223430A - Ｘ線感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、Ｘ線感光体に関し、特に、蛍光体層を有した
Ｘ線感光体に関するものである。

従来技術 従来、Ｘ線感光体表面に一様帯電を行い、再生像パター
ンに応じて感光体表面にＸ線露光を行い静電潜像を形成
した後、現像剤を静電潜像、４ターンに応じて選択的に
付着させ現像を行い、しかる後記録紙あるいは記録フィ
ルムに転写する装置が知られている。

添付図面の第１図は、従来のＸ線感光体の一例の構成を
示す概略図でアシ、この従来のＸ線感光体は、導電性基
板１上にセレン層である感光層２を設けたものである。

このＸ線感光体の表面に露光による静電潜像を形成する
には、先ず、感光層２上に正電荷の一様帯電を施した後
、前述の露光操作を行なう。露光によシ感光層２中で光
キャリアが発生し、このΦヤリアの中、正電荷は感光体
表面の正の帯電電荷の静電気力によシ導電性基板１側へ
移動する。他方光キャリアの中食電荷は感光層２中を移
動し、この表面正帯電電荷と結合するため、帯電電荷密
度が低下し、露光ノやターンに応じた電荷密度分布、つ
まり静電潜像が形成される。この従来の感光体では光キ
ヤリア発生層としてセレン層を用いているので、Ｘ線露
光による光キヤリア発生効率は低く鮮明な再生画を得る
ことができなかった。

更に、このような感光体を改善してＸ線露光に対する感
度を増大させるようなＸ線感光体並びにそのための潜像
形成方法も従来から知られている。

その種の従来のＸ線感光体の一例の構成をＫｋ　Ｊ図に
概略的に示している。この従来のＸ線感光体は第一図に
示されるように、支持体３、蛍光体層４導電層５、透光
性絶縁層６、感光層７及び表面絶縁層８を積層してなっ
ている。このＸ線感光体の表面にＸ＠露光による静電潜
像を形成するには、先ず、第３図力に示すように、表面
絶縁層８の表面に一次帯電と同時に可視光による一様露
光を行ない、その後、第３図０に示すように、−次帯電
とは逆極性若しくは交流帯電をＸ線露光と同時に加える
操作を行なう。このＸ線露光は、支持体３の感光層７と
は反対の側から、間にＸ線遮蔽被写体１Ｂを置いてＸ線
管１ＴからＸ線を照射することＫよって行なわれる。最
後に、第３図０に示すように、表面絶縁層８に対して可
視光による全面露光を行なうことによ゛クーて、Ｘ線露
光パターンに応じた静電潜像が形成される。

このような静電潜像形成プロセスに用いられるＸ線感光
体においては、Ｘ線のエネルギーは、蛍光体層４によシ
可視光に変換され、また蛍光体層４を透過したエネルギ
ーは、感光層Ｔを励起するので、Ｘ線露光による光キヤ
リア発生効率は良くなる。しかしながら、この従来のＸ
線感光体ではＸ線露光側からみて、感光層Ｔの前に蛍光
体層４が位置しているので、キャリア発生効率に限界が
ある。その上、一般に製造される蛍光体層は分散塗布系
であるから、実際に現像転写した際の画像が粒状性で低
品位な画像となってしまうという問題もある。更に、仁
の従来の潜像形成プロゝ・、セスでは、Ｘ線照射時に一
次帯電と逆極性の電荷を加えるという複雑な装置が必要
とされるという問題もある。

発明の目的 本発明の目的は、前述したような従来の問題点を解消し
、容易に静電潜像を形成できしかも高い露光感度及び解
像力を有したＸ線感光体を提供することである。

発明の構成 本発明によれば、感光体層表面に一様に帯電された帯電
電荷密度をＸ線照射によシ得られ７し光キャリアによシ
低減せしめて静電潜像を形成するようにしたＸ線感光体
において、支持体上に、少なくとも蛍光体層、１ｌｉＥ
層及び感光層が、Ｘ約照射側の方へ向ってこの順序で積
層される。

実施例 次に、添付図面の第ダ図、第３図及び第６図を参照して
本発明の実施例について本発明をよシ詳細に説明する。

第ｑ図は、本発明の一実施例としてのｘぶν感光体の構
成を概略的に示してｈる。この実施例のＸ線感光体は、
支持体９上に、Ｘ線照射側のノア′へ向って、蛍光体層
１０、導電層１１及び感光ｆｉｔ　１２を仁の順に積層
してなってｂる。

支持体９は、ステンレス、Ａｌ、Ｍｏ、Ａｕ等の金属又
はこれらの合金等の導電性支持体で４．）ってよく、ま
た、アクリル、スチレン、テフロン′、ナイロン、紙、
ガラス等の絶縁性支持体であってもよい。

蛍光体層１０は、例えば、支持体９０表面に、ＣａＷｏ
、、ＺｎＳＪＡｇ、　Ｚｎ５ｉＣｕ、　ＧａＯ，５ＩＴ
ｂ等ノ／〜±θμ：好ましくは３〜／θμ径の微粒子を
、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ、ウレタン、
ポリビニルアセテート等油性有機樹脂結着剤の他ポリビ
ニルアルコール、ポリビニル♂ロリドン、メチルセルロ
ース等水溶性有機樹脂結着剤を主成分とする溶液中に分
散し、それをＳθ〜／、０θ０・μ厚にディッピング、
ブレード法、スプレー法、沈降法等に、ｌ塗布すること
によって形成される。

また、蛍光体層１０は、使用する蛍光体材料によっては
、例えば、Ｃｓｌ、Ｔ、６では、蒸着；スノ臂ツタリン
グ法によっても形成されうる。また１支持体９の上面に
蛍光体層１０を形成することについて説明したが、蛍光
体層１０の裏面に支持体９を形成することも考えられ、
本発明は、その製造工程の順に限定されるもので表＜、
とのととは、以下に述べる他の各層の形成についても同
様である。

導電層１１は、Ｘ線露光側に対して後側に位置する蛍光
体層１０と感光層１２との間に位置するため、この導電
層１１は、感光層１２を透過したＸ線エネルギーに、１
発光した蛍光体層１Ｑの可視光エネルギーを感光層１２
に効率よく与える必要性がアシ、蛍光体層１ｏの発光ス
ペクトルに対して透明である事が要求される。その上、
この導電層１１は、感光層１２０表面との間に電気力線
を形成する働きを持ち自由電子の移動を可能とする程度
の面積抵抗を有していて、１０１１　Ω／１］以下の抵
抗値を有していることが必要である。この導電層１１は
、例えば、Ｃｕｌ、Ｉ　ｎ、Ｏ，、Ｓ　ｎ　Ｏ，、ＴＩ
Ｏ。

の他、Ａ７．　Ａｇ、　Ｐｂ、　Ｚｎ、旧、Ａｕ、　Ｃ
ｕ、　Ｍｏ、　Ｉ　ｎ。

Ｎｂ、　Ｔａ、　Ｖ、　Ｔ　Ｉ、Ｐｔ、Ｕｌ等又はこれ
らの付合を真空蒸着、グロー放電ス／母ツタリング等す
ることによシ膜状に形成されたものでよく、まえ、この
ような膜をラミネー°トシて形成されたものでもよく、
更にまた、低抵抗金属若しくは金属酸化物を結着剤中に
分散してディッピング、プレー−法、スプレー法等で層
状に形成されたものでもコい。

感光層１２は、例えば、支持体９−蛍光体層１〇−導電
層１１からなる基−板上に、ＳｅメはＳｅ系合金の膜を
蒸着して形成されてもよい。叔光層１２を形成する材料
としては、Ｓｅ単体、５ｅＴｃＸＳｅＡｓ、５ｅＴｃＡ
ｓ　等の合金系及びこれらＳｅ合金にＢｉ、Ｓｂ、Ｓ　
　の他、Ｇａ１ｎ等をドーピングして用いてよく、更に
、ハロゲノ等の不純物を添加して用いてもよい。Ｘ線感
光体用の前述のＳｅ系感光体は、支持体製−蛍光体層１
０−導電層１１からなる基板上で２０〜３００μ、好ま
しくは、ｇθ〜−〇θμの厚さに形成される。また、こ
の感光層１２は、単層に限定されるものでなく、積層さ
れたものであってもよい。積層型の感光層としては、蛍
光体層くよってＸ線エネルギーが可視光変換された側（
支持体側）に蛍光体層の発光スペクトルに感光層分光感
度を合致させるような増感剤をドーグした増感層を設け
てもよいし、あるいは、電荷捕獲層、表面層を具備した
二層若しくはそれ以上の層で形成されていてもよい。ま
た、感光層１２を形成する材料は、Ｘ線の励起が通常の
複写機用の感光体のように表面近傍だけの場合と　　　
　ｉ異なり、感光層断面方向全域に受ける都合上、感光
体表面を正負倒れに帯電しても正負両極性の易動度の大
きいことが有利で、例えば、ｓｅをｐ、光層に用いた場
合、酸素含有量が少ないと思われるＳｅを用いるのが有
効である。

第３図は、本発明の別の実施例としての〉−純然光体の
構成を概略的に示している。この実へｉ例のＸ線感光体
は、支持体Ｂ上に、Ｘ線照射側の方へ向って、蛍光体層
１Ｇ、導電層１１及び感オニ層１２をこの順に積層して
いる点において、第９図の実施例のものと同じであるが
、蛍光体層１ｏは支持体保護層１３及び反射層１４を介
して支持体９上に形成され−Ｃおシ、導電層１１は、目
止め層１５を介して蛍光体層１ｏ上に形成されており、
更に、感光層１２上には、表面層１６が設り°られてい
る。

第に図の実施例において、支持体保護層１３は支持体９
上に蛍光体層１０′ｔ−塗布するときにその溶剤に対し
て支持体９を保護したシ、またト、支持体９の表面の凹
凸を吸収して平滑化する［」的で設けられる。反射、１
１４Ｕ、蛍光体層１ｏが発光した光を効率よく感光層１
２の方へ与えるために設けられる。

また目止め層１５は次のような目的で設けられる。すな
わち、蛍光体層１ｏが分散塗布系で形成された場合、蛍
光体層１ｏの表面は蛍光体粒子径の増大に伴ないＸ線励
起に対する蛍光体層面発光効率が増大する性格上、大粒
子の蛍光体を用い凹凸が著しい事が多い。このため、導
電層１１が理想通シに形成できなくなることがあるばか
シでなく、この凹凸の影響で後に形成する感光層１２の
表面にまで凹凸が影響する場合は現像転写工８による画
像品位の低下のみならず一様帯電［行密度若しくは前記
電荷密度による電気力線の乱れにょシ潜像品位を低下さ
せる等の問題を生じてしまう。

この場合には、導電層１１を形成する前に、蛍光体層１
０の表面を平滑化する処理が必要で、例えば、研摩、パ
フェ例でその処理を行なってもよいが、蛍光体層１ｏの
表面に目止め層１５として熱硬化性樹脂を平滑にコーテ
ィングすることも有効である。

感光層１２の表面に積層される表面層１６は、励起Ｘ線
に対して透光性のものであって感光体の帯電能、感光ノ
ー保護の点から有効である。Ｃ１の表面＃１６は　／（
７１１Ω・ｍ以下の抵抗を有し、その電気伝導の形態は
イオン伝導性であって−Ｊ電子伝導性であってもよい。

次に、本発明の構成によるＸ＠感光体の効果を確認する
ため具体的に実験してみた結果について以下の〔実施例
〕、〔比較例／〕、〔比較ｔ４！１．２）としてまとめ
て説明する。

〔実施例〕

、２割厚のフェノール樹脂基板上にシクロ・°・キサノ
ン／θＯＸ、−Ｘ部、ポリエステル樹脂１０７ｈ量部と
サラン樹脂７０重を部中にｌＯμ径のｚ　ｒ＋　３　ｉ
　Ａｇの蛍光体１０θ重量部と、分散補助剤として７ツ
素系昇面活性剤／重景部を分散したペーストをブレード
塗布乾燥し５００μ厚の蛍光体層を形成した。次に、熱
可塑性樹脂（ポリブタジェンゴム）を再びブレード塗布
乾燥し目止め層を形成し、次に蒸着槽に装填し、スーン
ジＴｉを蒸着した後酸化処理しＴｉｅ、透明電極を形成
し、導電層で一形成し、次に、Ｓｅを／３θμ厚蒸着積
層し、感光体とした。この感光体表面に表面電位が＋／
１，０θ■になるようにコロナ帯電を施し、次に３ｍ厚
のＶｐ アクリル板を介し１００　　．２０ｍＡのＸ線を感光体
表面側から連続照射し電位の変化を記録した。また、同
様に、感光体表面電位が一ノロθθ■になるようにコロ
ナ帯電を施した場合に関しても電位の変化を記録した。

〔比較例／〕

次に、蛍光体層が感光層に対してフロント側に位置する
場合の比較例と−して、３餌厚のアクリル板上に実施例
と同組成の蛍光体層、目止め層、導電層、感光層を積層
し感光体表面に表面電位が＋１ｔｏｏｖになるようにコ
四す帯電を施した後、にＶｐ 感光体裏面側から１００　　、．２０ｍＡのＸ線を連続
照射し電位の変化を記録した。即ち、実施例本比較例共
、感光体に入射するＸ線エネルギーはＪｗ＋厚のアクリ
ル板を透過するようにした。

〔比較例コ〕

次に、蛍光体層がない場合の比較例としてコ■厚のＡ７
板上に実施例と同じ感光層を形成し感光体とし実施例と
同様の操作で電位の変化を記録した。

第６図のグラフは、前述の〔実施例〕、〔比較例１〕、
〔比較例コ〕にてそれぞれ得られフコ感光体表面の電位
の変化を示している。

次に、前述の〔実施例〕、〔比較例／〕、〔比較例コ〕
の感光体を用い、解像カフアントノ・、ウェッジ７アン
トムを介し夫々の感光体に適正の露光量を照射し、複写
機（ゼｐツクスジステム／コｊ機）を用い現像、転写し
た所、比較例／の感光体は解像力と低露光域の画像品位
に難点を示し、たが実施例の感光体は、解像力、画像品
位共に片較例コの感光体と同等若しくはそれ以上の画像
が得られた。

発明の効果 本発明によるＸ線感光体は、第６図のグ：５７における
比較例／、２との比較からも明らかなように、従来のも
のと較べて、露光感度が高い、その上、従来のものに比
して容易に静電潜像を形成でき、解像力が高く良質の再
生画像を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第７図は従来のＸ線感光体の一例の構成を示す概略断面
図、第一図は従来のＸ線感光体の別の例の構成を示す概
略断面図、第３図は第２図のＸ線感光体を用いた場合の
潜像形成工程を説明するための図、第を図は本発明の一
実施例としてのＸ線感光体の構成を示す概略断面図、第
Ｓ図は本発明の別の実施例としてのＸ線感光体の構成を
示す概略断面図、第６図は本発明によるＸ線感光体と従
来のＸ線感光体との露光感度の相違を示すため各感光体
の表面の電位の変化を示す図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 感光体層表面に一様に帯電された帯電電荷密度をＸ線照
   射によシ得られた光キャリアによシ低減せしめて静電潜
   像を形成するようＫしたｘ島感光体において、支持体上
   に、少女くとも蛍光体層、導電層及び感光層が、Ｘ線照
   射側の方へ向ってこの順序で積層されている仁とを特徴
   とするＸ線感光体。