JPS592118Y2 - 連続電気メツキ装置 - Google Patents
連続電気メツキ装置Info
- Publication number
- JPS592118Y2 JPS592118Y2 JP1980043905U JP4390580U JPS592118Y2 JP S592118 Y2 JPS592118 Y2 JP S592118Y2 JP 1980043905 U JP1980043905 U JP 1980043905U JP 4390580 U JP4390580 U JP 4390580U JP S592118 Y2 JPS592118 Y2 JP S592118Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating
- header
- strip
- plating solution
- anode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は不溶性電極用金属を陽極として陰極のストリッ
プに連続電気メッキを施すに際し、メッキのむらの発生
を防止して安定した品質のメッキ製品が得られるととも
に、メッキ液の節約を可能ならしめた連続電気メツキ装
置に関する。
プに連続電気メッキを施すに際し、メッキのむらの発生
を防止して安定した品質のメッキ製品が得られるととも
に、メッキ液の節約を可能ならしめた連続電気メツキ装
置に関する。
不溶性電極用金属、例えばＰｂを陽極として被メツキス
トリップを陰極とした連続電気メツキラインのメッキ槽
においてはこれまで一般に、槽の一方に設けた供給口か
ら供給された新らしいメッキ液が電極反応を起こしなが
ら槽内を水平方向に流れて陰極のストリップに接触して
これにメッキを施した後、メッキ液が他方の排出口から
槽外に排出されるよう形成されているが、前記メッキ液
流によどみが生じると、その部分においては一定のメッ
キ金属イオン濃度が保持された新らしいメッキ液のスト
リップへの補給が不足し、メッキ反応が不充分となるの
でメッキに光沢むらを生じ、安定した品質の電気メッキ
の形成が阻害される。
トリップを陰極とした連続電気メツキラインのメッキ槽
においてはこれまで一般に、槽の一方に設けた供給口か
ら供給された新らしいメッキ液が電極反応を起こしなが
ら槽内を水平方向に流れて陰極のストリップに接触して
これにメッキを施した後、メッキ液が他方の排出口から
槽外に排出されるよう形成されているが、前記メッキ液
流によどみが生じると、その部分においては一定のメッ
キ金属イオン濃度が保持された新らしいメッキ液のスト
リップへの補給が不足し、メッキ反応が不充分となるの
でメッキに光沢むらを生じ、安定した品質の電気メッキ
の形成が阻害される。
そこで、上記欠点を解消するため、最近金属ストリップ
に対向して配置される電極に多数の小孔を設け、メッキ
液を該小孔から陰極ストリップに噴流状態で吹付ける連
続電気メツキ方法が提案された。
に対向して配置される電極に多数の小孔を設け、メッキ
液を該小孔から陰極ストリップに噴流状態で吹付ける連
続電気メツキ方法が提案された。
本考案は上記新メッキ方法を実施する装置の改良であっ
て、特にメッキ液の無駄を排除するとともに液の疲労を
少なくした経済的装置の開発を目的とするものである。
て、特にメッキ液の無駄を排除するとともに液の疲労を
少なくした経済的装置の開発を目的とするものである。
以下、実施例として掲げた図面により本考案を詳細に説
明する。
明する。
第１図は本考案のストリップ連続電気メツキ装置の一実
施例を示す説明図で、縦断正面図である。
施例を示す説明図で、縦断正面図である。
図において、１はメッキ槽、２はメッキ浴、３は浴２に
浸漬して槽１内を走行する被メツキストリップ、４，４
は前記ストリップ３を挾んで上下に浴２に浸漬して設け
たＰｂ板の陽極、５は陽極４，４に穿設した多数の透孔
、６，６は陽極４の透孔５を通してメッキ液をメッキ槽
１内に供給するようにしたヘッダーである。
浸漬して槽１内を走行する被メツキストリップ、４，４
は前記ストリップ３を挾んで上下に浴２に浸漬して設け
たＰｂ板の陽極、５は陽極４，４に穿設した多数の透孔
、６，６は陽極４の透孔５を通してメッキ液をメッキ槽
１内に供給するようにしたヘッダーである。
第２図は本考案装置を一部切断した斜視図で、陰極３、
陽極４、透孔５及びヘッダー６等の関係が明らかに示さ
れている。
陽極４、透孔５及びヘッダー６等の関係が明らかに示さ
れている。
図示の如く、陽極４は長方形板状のｐｂからなる不溶性
電極であり、板の厚み方向に多数の透孔５を穿設すると
共に外周面外方にそれぞれ鍔部７，７を環設し、常法の
如くにメッキ槽１内を走行する被メツキストリップ陰極
３を挾んで上下に互に鍔部を背にして平行に間隔りを保
ってメッキ浴２内に浸漬せしめられている。
電極であり、板の厚み方向に多数の透孔５を穿設すると
共に外周面外方にそれぞれ鍔部７，７を環設し、常法の
如くにメッキ槽１内を走行する被メツキストリップ陰極
３を挾んで上下に互に鍔部を背にして平行に間隔りを保
ってメッキ浴２内に浸漬せしめられている。
ヘッダー６．６は図示例では周囲及び蓋と仕切が気密の
画形であり、周縁から外方に鍔部８，８を環設する。
画形であり、周縁から外方に鍔部８，８を環設する。
ヘッダー６．６はそれぞれ透孔５を設けた陽極４，４の
背部に取付けられるが、前記陽極４，４の鍔部７，７と
の間に絶縁体９，９を介在せしめて固定され、図示して
いないが適当な支持部材によりメッキ槽の浴２中に支持
される。
背部に取付けられるが、前記陽極４，４の鍔部７，７と
の間に絶縁体９，９を介在せしめて固定され、図示して
いないが適当な支持部材によりメッキ槽の浴２中に支持
される。
ヘッダー６の金山はメッキするストリップの最大中によ
り決定されるが、ヘッダー６内にはメッキする狭山のス
トリップの巾に応じて仕切板１１゜１１を設ける。
り決定されるが、ヘッダー６内にはメッキする狭山のス
トリップの巾に応じて仕切板１１゜１１を設ける。
図示例は広巾、小中、２種類のストリップ用連続電気メ
ツキ装置の場合である。
ツキ装置の場合である。
仕切板によってヘッダー６内は完全に独立した教室に分
かれ、これに開閉弁１４．１５を付属するメッキ液送給
管１２．１３が接続される。
かれ、これに開閉弁１４．１５を付属するメッキ液送給
管１２．１３が接続される。
いま広巾のストリップをメッキしようとする場合は開閉
弁１４，１４，１５．１５をそれぞれ開いて、メッキ液
送給室１２，１２，１３．１３からメッキ液を上下ヘッ
ダー６．６に送ると、上下ヘッダーの仕切板１１．１１
で仕切られた各３室全部に液が送られ、ヘッダーに穿設
された全ての小孔からメッキ液が広巾ストリップの金山
両面にわたって送給される。
弁１４，１４，１５．１５をそれぞれ開いて、メッキ液
送給室１２，１２，１３．１３からメッキ液を上下ヘッ
ダー６．６に送ると、上下ヘッダーの仕切板１１．１１
で仕切られた各３室全部に液が送られ、ヘッダーに穿設
された全ての小孔からメッキ液が広巾ストリップの金山
両面にわたって送給される。
次に狭巾のストリップをメッキしようとする場合は開閉
弁１４．１４を閉じ、開閉弁１５．１５のみを開けてメ
ッキ液を上下ヘッダーに供給すると上下ヘッダーの仕切
板１１．１１で仕切られた中央の室のみに液が送られて
仕切板１１．１１間に穿設された小孔のみからメッキ液
が狭巾のストリップの金山両面にわたって送給され、こ
の場合狭巾ストリップの巾以外の上下ヘッダー左右小室
部分の小孔からは液の送給が行われず、無駄なメッキ液
の流出が防止される。
弁１４．１４を閉じ、開閉弁１５．１５のみを開けてメ
ッキ液を上下ヘッダーに供給すると上下ヘッダーの仕切
板１１．１１で仕切られた中央の室のみに液が送られて
仕切板１１．１１間に穿設された小孔のみからメッキ液
が狭巾のストリップの金山両面にわたって送給され、こ
の場合狭巾ストリップの巾以外の上下ヘッダー左右小室
部分の小孔からは液の送給が行われず、無駄なメッキ液
の流出が防止される。
すなわち仕切板をヘッダー内に設け、仕切板で画成され
たヘッダーの各室毎に通じる開閉弁付メッキ液送給管を
設けることにより、冬山の異なるストリップを連続メツ
キラインに流すことの多い現実に対処して、容易に液を
送給する小孔の範囲を切換えることができる。
たヘッダーの各室毎に通じる開閉弁付メッキ液送給管を
設けることにより、冬山の異なるストリップを連続メツ
キラインに流すことの多い現実に対処して、容易に液を
送給する小孔の範囲を切換えることができる。
またヘッダー６は陽極４から電気的に絶縁されているの
で、メッキ液送給管１２．１３等を其の債ヘッダーに取
付けることができる。
で、メッキ液送給管１２．１３等を其の債ヘッダーに取
付けることができる。
本考案は上記構成よりして、ヘッダー６に送給されたメ
ッキ液は、メッキしようとするストリップの巾に応じ陽
極４，４の多数の透孔より一斉にメッキ槽内のストリッ
プにむけて噴射され、直かにストリップの表裏に接触す
るので、常に一定のメッキ金属イオン濃度を保持した新
らしいメッキ液によりメッキが施され、メッキむらの無
い安定した品質の連続ストリップのメッキ製品が得られ
るとともに、メッキ液の無駄が排除され、液の疲労も少
なくすることができる等の効果を挙げることができる。
ッキ液は、メッキしようとするストリップの巾に応じ陽
極４，４の多数の透孔より一斉にメッキ槽内のストリッ
プにむけて噴射され、直かにストリップの表裏に接触す
るので、常に一定のメッキ金属イオン濃度を保持した新
らしいメッキ液によりメッキが施され、メッキむらの無
い安定した品質の連続ストリップのメッキ製品が得られ
るとともに、メッキ液の無駄が排除され、液の疲労も少
なくすることができる等の効果を挙げることができる。
第１図は本考案装置の一実施例を示した説明図で縦断正
面図、第２図はストリップ陰極、ｐｂ板の陽極及びヘッ
ダーの構造を示す一部切断した斜視図である。 １：メッキ槽、２：メッキ浴、３：被メツキストリップ
陰極、４：陽極、５：透孔、６：ヘッダー、７，８ ：
鍔部、９：絶縁体、１０：ボルト、１１：仕切板、１２
．１３ ：メッキ液送給管、１４，１５ ：開閉弁。
面図、第２図はストリップ陰極、ｐｂ板の陽極及びヘッ
ダーの構造を示す一部切断した斜視図である。 １：メッキ槽、２：メッキ浴、３：被メツキストリップ
陰極、４：陽極、５：透孔、６：ヘッダー、７，８ ：
鍔部、９：絶縁体、１０：ボルト、１１：仕切板、１２
．１３ ：メッキ液送給管、１４，１５ ：開閉弁。
Claims (1)
- ｐｂ等の不溶性電極用金属からなる陽極４に設けた多数
の透孔５からメッキ槽内の陰極ストリップ３にメッキ液
を供給するメッキ装置において、前記陽極の背部に仕切
板１１．１１を設けたヘッダー６を電気絶縁的に取付け
るとともに、仕切板１１．１１で国威されたヘッダーの
各室毎に通ずる開閉弁付メッキ液送給管１２，１３を設
けることにより、被メツキストリップの巾に応じてメッ
キ液の流出する透孔５を制限するよう構成したことを特
徴とする連続電気メツキ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1980043905U JPS592118Y2 (ja) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | 連続電気メツキ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1980043905U JPS592118Y2 (ja) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | 連続電気メツキ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56146777U JPS56146777U (ja) | 1981-11-05 |
| JPS592118Y2 true JPS592118Y2 (ja) | 1984-01-20 |
Family
ID=29639217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1980043905U Expired JPS592118Y2 (ja) | 1980-03-31 | 1980-03-31 | 連続電気メツキ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS592118Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4586423B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2010-11-24 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 電気めっき鋼板の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52133839A (en) * | 1976-05-05 | 1977-11-09 | Hoechst Ag | Continuous electrolytic treating process for metal strip and apparatus therefor |
-
1980
- 1980-03-31 JP JP1980043905U patent/JPS592118Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52133839A (en) * | 1976-05-05 | 1977-11-09 | Hoechst Ag | Continuous electrolytic treating process for metal strip and apparatus therefor |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56146777U (ja) | 1981-11-05 |
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