JPS59198595A - Eprom device - Google Patents

Eprom device

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Publication number
JPS59198595A
JPS59198595A JP58072878A JP7287883A JPS59198595A JP S59198595 A JPS59198595 A JP S59198595A JP 58072878 A JP58072878 A JP 58072878A JP 7287883 A JP7287883 A JP 7287883A JP S59198595 A JPS59198595 A JP S59198595A
Authority
JP
Japan
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high voltage
write
gate
signal
vpp
Prior art date
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Pending
Application number
JP58072878A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazunori Furusawa
和則 古沢
Yoichi Matsuno
松野 庸一
Tadashi Muto
匡志 武藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP58072878A priority Critical patent/JPS59198595A/en
Publication of JPS59198595A publication Critical patent/JPS59198595A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards

Abstract

PURPOSE:To reduce a leak current at a non-selecting word line without losing a write speed by applying a write high voltage to the load means of a word line only at write operation by means of a switch MOSFET and boosting a gate voltage with a bootstrap circuit utilizing a write control signal. CONSTITUTION:At write operation, a high voltage is applied to a high voltage terminal Vpp, the write control signal we is brought into a low level, MOSFETs Q45, Q47 are turned off and the gate voltage of an MOSFETQ50 goes to a high level such as Vpp-2Vth through MOSFETQ48, 49. On the other hand, since an MOSFETQ59 is turned on while a delay signal we' is changed to a low level, a bootsrrap capacitor CB is charged up to a high level according to the gate voltage of the MOSFETQ50. Since the gate voltage of the MOSFETQ50 is brought into a high voltage being over the high voltage Vpp through the bootstrap operation, a high voltage Vpp' almost equal to the high voltage Vpp is applied to a depletion MOSFETQ40 or the like being a load.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、MOSFET (絶縁ゲート形電界効果ト
ランジスタ)で構成されたEPROM (エレクトリカ
リ・プログラマブル・リード・オンリー・メモリ)装置
に関するもので、例えば、FAMQS (フローティン
グ・アバランシュインジェクションMO3FET)のよ
うな半導体素子を記憶素子(メモリセル)とするEPR
OM装置に有効な技術に関するものである。
Detailed Description of the Invention [Technical Field] The present invention relates to an EPROM (Electrically Programmable Read Only Memory) device composed of MOSFETs (Insulated Gate Field Effect Transistors), such as FAMQS ( EPR that uses semiconductor elements such as floating avalanche injection MO3FETs as memory elements (memory cells)
The present invention relates to technology effective for OM devices.

〔背景技術〕[Background technology]

FAMQS (フローティング・アバランシュインジェ
クションMOS F ET)のような半導体素子を記憶
素子(メモリセル)とするEPROM装置が公知である
EPROM devices that use semiconductor elements such as FAMQS (floating avalanche injection MOS FET) as storage elements (memory cells) are known.

従来のEPROM装置においては、書込み用高電圧端子
VpI)とワード線との間にディプレッション型MO3
FETで構成された高抵抗負荷を設けて、選択されたワ
ード線を高電圧vppとするものである。ところが、読
み出し動作においては、上記高電圧端子Vppには5v
のような電圧が供給されるものであるので、非選択のワ
ード線において上記高抵抗負荷とXアドレスデコーダと
の間で5μA〜6μA程度のリーク電流が流れるものと
なる。特に、256にビットのような大記憶容量化を図
ったEPROM装置では、上記リーク電流が全体で10
mAを越えるような大きな電流値となってしまう。
In a conventional EPROM device, a depletion type MO3 is connected between the write high voltage terminal (VpI) and the word line.
A high resistance load made up of FETs is provided to apply a high voltage vpp to a selected word line. However, in the read operation, 5V is applied to the high voltage terminal Vpp.
Since such a voltage is supplied, a leakage current of about 5 μA to 6 μA flows between the high resistance load and the X address decoder in unselected word lines. In particular, in an EPROM device with a large storage capacity such as 256 bits, the leakage current is 10% in total.
This results in a large current value exceeding mA.

そこで、スイッチMO3FETを介して書込み動作時に
のみ上記高電圧vppを高抵抗負荷手段に供給すること
が考えられる。しかし、この場合には、スイッチMO3
FETのしきい値電圧骨だけ選択されたワード線の書込
み電圧が低下するので書込み速度が遅くなってしまうと
いう問題が生じるものとなる。
Therefore, it is conceivable to supply the high voltage vpp to the high resistance load means only during the write operation via the switch MO3FET. However, in this case, switch MO3
Since the write voltage of the selected word line is reduced by the threshold voltage of the FET, a problem arises in that the write speed becomes slow.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明の目的は、書込み速度を損なうことなく非選択
ワード線におけるリーク電流の削減を図ったEPROM
装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide an EPROM that reduces leakage current in unselected word lines without impairing write speed.
The goal is to provide equipment.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面がら明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、書込み制御信号によりオン状態となるスイッ
チMO3FETによって書込み動作時のみに書込み用高
電圧vppをワード線の負荷手段に供    給すると
ともに、上記書込み制御信号を利用したブートストラッ
プ回路によってそのゲート電圧を昇圧するものである。
That is, the switch MO3FET, which is turned on by the write control signal, supplies the write high voltage vpp to the word line load means only during the write operation, and the gate voltage is controlled by the bootstrap circuit using the write control signal. It boosts the pressure.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明をEPROMに適用した場合のメ
モリアレイ部の一実施例の回路図が示さ     ゛れ
ている。
FIG. 1 shows a circuit diagram of an embodiment of a memory array section when the present invention is applied to an EPROM.

同図に示されているの各回路素子は、公知のMO8半導
体集積回路の製造技術によって、シリコンのような半導
体基板上において形成される。
Each circuit element shown in the figure is formed on a semiconductor substrate such as silicon by a known MO8 semiconductor integrated circuit manufacturing technique.

同図に示されているEPROM装置おいては、図示しな
い外部端子から図示しないアドレスバッファに外部アド
レス信号が供給される。アドレスバッファは、相補対ア
ドレス信号(外部アドレス信号に対応したアドレス信号
と、それに対して位相反転されたアドレス信号)を形成
して、それをアドレスデコーダX−DCR,Y−DCR
に供給する。
In the EPROM device shown in the figure, an external address signal is supplied from an external terminal (not shown) to an address buffer (not shown). The address buffer forms a complementary pair of address signals (an address signal corresponding to an external address signal and an address signal whose phase is inverted with respect to the address signal) and sends it to the address decoders X-DCR and Y-DCR.
supply to.

アドレスデコーダX−DCRは、その相補対アドレス信
号に従ったメモリアレイM−ARYにおけるワード線W
の選択信号を形成する。
Address decoder X-DCR decodes word line W in memory array M-ARY according to its complementary pair address signal.
form a selection signal.

アドレスデコーダY−DCRは、その相補対アドレス信
号に従ったメモリアレイM−ARYのデータ線りの選択
信号を形成する。
Address decoder Y-DCR forms a selection signal for the data line of memory array M-ARY according to its complementary pair address signal.

上記メモリアレイM−ARYは、複数のFAMO3)ラ
ンジスタ、ワード線及びデータ線によって構成される。
The memory array M-ARY is composed of a plurality of FAMO transistors, a word line, and a data line.

同図には、その代表として複数のFAMO3)ランジス
タ(不揮発性メモリ素子・・MO3FETQI〜Q6)
と、ワード線Wl。
The figure shows multiple FAMO3) transistors (non-volatile memory elements...MO3FETQI to Q6) as representatives.
and word line Wl.

W2及びデータ線D1〜Dnが示されている。W2 and data lines D1-Dn are shown.

上記メモリアレイM−ARYにおいて、同じ行に配置さ
れたFAMO3)ランジスタQ1〜Q3(Q4〜Q6)
のコントロールゲートは、それぞれ対応するワード線W
l  (W2)に接続され、同じ列に配置されたFAM
OSトランジスタQl。
In the above memory array M-ARY, FAMO3) transistors Q1 to Q3 (Q4 to Q6) arranged in the same row.
The control gates of the respective word lines W
FAM connected to l (W2) and placed in the same column
OS transistor Ql.

Q4〜Q3.Q6のドレインは、それぞれ対応するデー
タ線D1〜Dnに接続されている。
Q4-Q3. The drains of Q6 are connected to corresponding data lines D1 to Dn, respectively.

そして、上記FAMO3I−ランジスタのそれぞれのソ
ースは、共通ソース線C8に結合される。
The sources of each of the FAMO3I- transistors are coupled to a common source line C8.

特に制限されないが、この実施例においては、書込み信
号yeを受けるディプレッション型MO3FETQIO
を介して上記共通ソース線CSが接地される。また、上
記各データ線D1〜Dnは、カラム(列)選択スイッチ
MO3FETQ7〜Q9を介して、共通データ線CDに
接続される。
Although not particularly limited, in this embodiment, a depletion type MO3FETQIO receiving the write signal ye
The common source line CS is grounded via the common source line CS. Further, each of the data lines D1 to Dn is connected to a common data line CD via column selection switches MO3FETQ7 to Q9.

この共通データ線CDには、外部端子I10から入力さ
れる書込み信号を受ける書込み用のデータ人カバソファ
DIBの出力端子が接続される。
This common data line CD is connected to an output terminal of a data cover sofa DIB for writing which receives a write signal inputted from an external terminal I10.

また、次に説明するレベルリミッタ回路と、このレベル
リミッタ回路に設けられた増幅MO3FETQ15を通
した出力信号を受けるセンスアンプSAと、このセンス
アンプSAの増幅出力を受けるデータ出力バッファDO
Bとが設けられている。
Also, a level limiter circuit to be described next, a sense amplifier SA that receives an output signal through the amplification MO3FET Q15 provided in this level limiter circuit, and a data output buffer DO that receives the amplified output of this sense amplifier SA.
B is provided.

上記レベルリミッタ回路は、特に制限されないが、次の
ような回路構成とされる。直列形態のディプレッション
型MO3FETQ11とエンノ\ンスメント型MO3F
ETQI 2とは、そのコンダクタンス比により、電源
電圧Vccを分圧して所定。
The level limiter circuit has the following circuit configuration, although it is not particularly limited. Depression type MO3FETQ11 and enhancement type MO3F in series
ETQI 2 is determined by dividing the power supply voltage Vcc according to its conductance ratio.

の中間レベルを形成する。上記MO3FETQ11、Q
l2で形成された中間レベルは、リミッタ用MO3FE
TQI 3及び増幅用MO3FETQ15のゲートに印
加される。これらのMO3FETQ13及びMO3FE
TQI 5のソースは、共に上記共通データ線CDに接
続される。そして、上記MO3FETQ13のドレイン
は、電源電圧Vccに接続され、上記MO3FETQI
 5のドレインは、負荷MO3FETQI 4を介して
電源電圧Vccに接続される。また、上記MO3FET
Q11、Ql2と類似の回路で形成された中間レベルの
バイアス電圧VBは、MO3FETQI 6のゲートに
印加される。このMO3FETQI 6のソースは接地
され、そのドレインは上記共通データ線CDに接続され
ている。
form an intermediate level. Above MO3FETQ11,Q
The intermediate level formed by l2 is MO3FE for limiter.
It is applied to TQI 3 and the gate of MO3FETQ15 for amplification. These MO3FETQ13 and MO3FE
The sources of TQI 5 are both connected to the common data line CD. The drain of the MO3FETQ13 is connected to the power supply voltage Vcc, and the drain of the MO3FETQ13 is connected to the power supply voltage Vcc.
The drain of MO3FET QI 5 is connected to the power supply voltage Vcc through the load MO3FET QI 4. In addition, the above MO3FET
An intermediate level bias voltage VB formed by a circuit similar to Q11 and Ql2 is applied to the gate of MO3FET QI6. The source of this MO3FET QI 6 is grounded, and its drain is connected to the common data line CD.

メモリセルに記憶された情報の読み出し時におい7、ア
ドレスデコーダX−DCR,Y−DCRによって選択さ
れたメモリセルには、上記MO3FETQ13を介して
バイアス電圧が与えられる。
When reading information stored in a memory cell, a bias voltage is applied to the memory cell selected by the address decoders X-DCR and Y-DCR via the MO3FETQ13.

選択されたメモリセルは、書込まれた情報に従って、ワ
ード線選択レベルに対して、高いしきい値電圧か又は低
いしきい値電圧を持つものである。
The selected memory cell has a threshold voltage higher or lower than the word line selection level, depending on the written information.

選択されたメモリセルがワード線選択レベルにかかわら
ずにオフ状態にされている場合、共通データ線CD(7
)電位は、MO3FETQI 3によって比較的ハイレ
ベルにされる。一方、選択されたメモリセルがワード線
選択レベルによってオン状態にされている場合、共通デ
ータ線CDは比較的ロウレベルにされる。この場合、共
通データ線CDのハイレベルは、MO3FETQI 3
のゲート電圧が上記MO3FETQI 1.Ql 2の
コンダクタンス比に従って、比較的低くされていること
によって比較的低いレベルにされる。
When the selected memory cell is turned off regardless of the word line selection level, the common data line CD (7
) potential is brought to a relatively high level by MO3FETQI3. On the other hand, when the selected memory cell is turned on by the word line selection level, the common data line CD is set to a relatively low level. In this case, the high level of the common data line CD is MO3FETQI3
The gate voltage of MO3FETQI 1. According to the conductance ratio of Ql 2, it is brought to a relatively low level by being relatively low.

共通データ線CDのロウレベルは、MO3FETQ13
及びMO3FETQI 5とメモリセルを構成するMO
SFETとの寸法比を適当に設定することによって比較
的高いレベルにされる。
The low level of the common data line CD is MO3FETQ13.
and MO3FETQI 5 and MO constituting the memory cell.
A relatively high level can be achieved by appropriately setting the size ratio with the SFET.

このように共通データ線CDのハイレベルとロウレベル
とを制限すると、この共通データ線CD等に信号変化速
度を制限する浮遊容量等の容量が存在するにかもかわら
ず、読み出しの高速化を図ることができる。すなわち、
複数のメモリセルからのデータを次々に読み出すような
場合において共通データ線CDの一方のレベルが他方の
レベルへ変化させられるまでの時間を短(することがで
きる。
By restricting the high level and low level of the common data line CD in this way, it is possible to speed up reading even though the common data line CD has a capacitance such as a stray capacitance that limits the speed of signal change. I can do it. That is,
In the case where data is read out from a plurality of memory cells one after another, the time required for one level of the common data line CD to change to the other level can be shortened.

なお、上記増幅用のMO3FETQI 5は、ゲート接
地型ソース入力の増幅動作を行い、次段の差動増幅回路
で構成されたセンスアンプSAにその出力を伝える。そ
して、このセンスアンプSAの出力は、データ出力バッ
ファDOBを介して上記外部端子I10から送出される
Note that the MO3FET QI 5 for amplification performs an amplification operation of the gate-grounded source input, and transmits its output to the sense amplifier SA constituted by the next-stage differential amplifier circuit. The output of this sense amplifier SA is sent out from the external terminal I10 via the data output buffer DOB.

制御回路C0NTは、外部端子CE、OE、PRG及び
Vppに供給されるチップイネーブル信号。
The control circuit C0NT is a chip enable signal supplied to external terminals CE, OE, PRG, and Vpp.

アウトプットイネーブル信号、プログラム信号及び書込
み用高電圧に応じて、後述する内部制御信号ce、we
等を形成する。
Depending on the output enable signal, program signal, and high voltage for writing, internal control signals ce and we, which will be described later, are activated.
form etc.

第2図には、上記アドレスデコーダX−DCHの具体的
一実施例の回路図が示されている。
FIG. 2 shows a circuit diagram of a specific embodiment of the address decoder X-DCH.

この実施例のアドレスデコーダX−DCRは、3分割さ
れたアドレスデコーダ部DCR1ないしDCR3により
構成される。
The address decoder X-DCR of this embodiment is composed of three divided address decoder sections DCR1 to DCR3.

上記アドレスデコーダ部DCR3は、特に制限されない
が、N0R−AND機能を持つ単位回路の複数個から構
成されている。すなわち、単位回路は、実質的に複数の
アドレス信号(同図に示された例では、アドレス信号a
6〜a8)間でN。
The address decoder section DCR3 is composed of a plurality of unit circuits having an N0R-AND function, although this is not particularly limited. That is, the unit circuit substantially receives a plurality of address signals (in the example shown in the figure, the address signal a
N between 6 and a8).

R(ノア)論理演算を行い、この論理演算結果と更にア
ドレスデコーダ部DCR1の出力信号(同図に示されて
いる例では、出力信号11crl)との間でAND (
アンド)論理演算を行って、出力信号を形成する。同図
には、代表として1つの単位回路が示されている。この
単位回路は、図示のようにディプレッション型負荷MO
3FETQ22と、それぞれのゲートに上位3ビツトの
内部アドレス信号a6〜a8及び次に説明するアドレス
デコーダ部DCRIの出力信号dcrlが供給されるエ
ンハンスメント型駆動MO3FETQ23ないしQ26
と、上記負荷MO3FETQ22と電源電圧Vccとの
間に設けられ、そのゲートに上記アドレスデコーダ部D
CRIの出力信号clcrlが供給されたエンハンスメ
ント型のパワースイッチMO3FETQ21とから構成
されている。特に制限されないが、この単位回路は、4
本のワード線に対応される。また、特に制限されないが
、この実施例においては、256本のワード線が形成さ
れている。
An R (NOR) logical operation is performed, and the result of this logical operation is ANDed (in the example shown in the figure, the output signal 11crl) of the address decoder unit DCR1
and) performs a logical operation to form an output signal. In the figure, one unit circuit is shown as a representative. This unit circuit consists of a depletion type load MO as shown in the figure.
3FET Q22, and enhancement type drive MO3FETs Q23 to Q26 whose respective gates are supplied with internal address signals a6 to a8 of the upper three bits and an output signal dcrl of the address decoder section DCRI, which will be described next.
is provided between the load MO3FET Q22 and the power supply voltage Vcc, and the address decoder section D is connected to its gate.
It is composed of an enhancement type power switch MO3FETQ21 to which the CRI output signal clcrl is supplied. Although not particularly limited, this unit circuit may include 4
Corresponds to the word line of the book. Although not particularly limited, 256 word lines are formed in this embodiment.

したがって、この実施例においては、64個の単位回路
が用意される。また、特に制限されないが、上記パワー
スイッチMO3FETQ21は、出方信号のハイレベル
を大き(するため、低しきい値電圧を持つように形成さ
れている。
Therefore, in this embodiment, 64 unit circuits are prepared. Although not particularly limited, the power switch MO3FETQ21 is formed to have a low threshold voltage in order to increase the high level of the output signal.

なお、同図に劣されていない63個の単位回路も、上記
単位回路とぼり同様な構成にされている。
It should be noted that the 63 unit circuits that are not inferior to those shown in the figure also have the same configuration as the above-mentioned unit circuits.

但し、供給されるアドレス信号又は/及びアドレスデコ
ーダ部DCRIから供給される出力信号が異なっている
However, the supplied address signal and/or the output signal supplied from the address decoder unit DCRI are different.

この実施例のようアドレスデコーダを分割すると、集積
回路装置において、ワード線のピッチ(間隔)を制限す
ることなくアドレスデコーダ部DCR3の単位回路を配
置することができる。すなわち、メモリアレイMARY
における複数の記憶素子の集積度を低下させないですむ
ものとなる。      ゛アドレスデコーダ部DCR
1は、特に制限されないが、アドレスデコーダ部DCR
3と同様にN0R−AND機能を持つ単位回路の複数個
から構成される。すなわち、単位回路は、実質的に複数
のアドレス信号(例えば、アドレス信号al−a3)間
でNOR論理演算を行い、その結果と更に制御信号ce
との間でAND論理演算を行って、出力信号を形成する
。なお、同図には1つの単位回路のみが示されている。
By dividing the address decoder as in this embodiment, the unit circuits of the address decoder portion DCR3 can be arranged in the integrated circuit device without limiting the word line pitch (interval). That is, memory array MARY
This eliminates the need to reduce the degree of integration of a plurality of memory elements in the device.゛Address decoder section DCR
1 is an address decoder unit DCR, although it is not particularly limited.
3, it is composed of a plurality of unit circuits having the N0R-AND function. That is, the unit circuit substantially performs a NOR logical operation between a plurality of address signals (for example, address signals al-a3), and further uses the result and the control signal ce.
An AND logical operation is performed between the two to form an output signal. Note that only one unit circuit is shown in the figure.

アドレスデコーダ部DCRIの単位回路には、下位3ビ
ツトの内部アドレス信号a1〜a3と制御信号ceとが
供給される。特に制限されないが、この実施例において
は、アドレスデコーダ部DCR1は、8個の単位回路を
含んでおり、上記単位回路以外の残りの7個の単位回路
も、上記単位回路とはり同様な構成にされている。但し
、供給されるアドレス信号が、上述したアドレスデコー
ダ部DCR3の場合と同様に異なっている。
The unit circuits of the address decoder section DCRI are supplied with internal address signals a1 to a3 of the lower three bits and a control signal ce. Although not particularly limited, in this embodiment, the address decoder section DCR1 includes eight unit circuits, and the remaining seven unit circuits other than the above unit circuits also have a similar configuration to the above unit circuits. has been done. However, the supplied address signal is different as in the case of the address decoder section DCR3 described above.

このアドレスデコーダ部DCRIは、下位3ビツトの相
補アドレス信号a1〜a3.al〜i3が供給され、し
かも8個の単位回路を含んでいるため、下位3ビツトの
相補アドレス信号をデコードする。すなわち、178の
選択を行うことのできる出力信号をアドレスデコーダ部
DCRIは形成する。
This address decoder unit DCRI receives complementary address signals a1 to a3 . Since it is supplied with signals al to i3 and includes eight unit circuits, it decodes the complementary address signal of the lower three bits. That is, the address decoder unit DCRI forms an output signal capable of performing 178 selections.

このアドレスデコーダ部DC:R1における単位回路の
出力信号dcrl、 dc汀は、それぞれ上記アドレス
デコーダ部DCR3における8個づづの単位回路に供給
される。
The output signals dcrl and dc of the unit circuits in the address decoder section DC:R1 are respectively supplied to eight unit circuits in the address decoder section DCR3.

アドレスデコーダ部DCRIのそれぞれの単位回路から
それぞれデコードされた出力信号dcrlが出力される
ので、アドレスデコーダ部DCR3の単位回路における
駆動MO3FETの数を減少させることができる。
Since each decoded output signal dcrl is output from each unit circuit of the address decoder section DCRI, the number of drive MO3FETs in the unit circuit of the address decoder section DCR3 can be reduced.

上記構成により、アドレスデコーダ部DCR3における
1つの単位回路の出力信号dcr3は、6ビツトのアド
レス信号、すなわち上記3ビツトと下位3ビツトのアド
レス信号が所定のレベル状態とされたときだけハイレベ
ルにされる。すなわち、例えばアドレスデコーダ部DC
R3における64の単位回路の出力信号のうち、アドレ
スデコーダ部DCR1及びDCR3に供給される6ビツ
トのアドレス信号の状態に対応される1つのみがハイレ
ベルにされる。
With the above configuration, the output signal dcr3 of one unit circuit in the address decoder section DCR3 is set to high level only when the 6-bit address signal, that is, the address signal of the above 3 bits and the lower 3 bits, is set to a predetermined level state. Ru. That is, for example, the address decoder section DC
Among the output signals of the 64 unit circuits in R3, only one corresponding to the state of the 6-bit address signal supplied to address decoders DCR1 and DCR3 is set to high level.

アドレスデコーダ部DCR3における1つの単位回路の
出力信号dcr3は、それぞれワード線に−対−ニ対応
されたエンハンスメント型の伝送ゲー)MO3FETQ
27.Q29.Q31及びQ33の一方の電極(ソース
又はドレイン)に共通に伝えられる。そして、これらの
MO3FETQ27等のゲートには、アドレスデコーダ
部DCR2の出力信号dcr2が印加される。
The output signal dcr3 of one unit circuit in the address decoder section DCR3 is transmitted through an enhancement type transmission gate (MO3FETQ) corresponding to each word line.
27. Q29. It is commonly transmitted to one electrode (source or drain) of Q31 and Q33. The output signal dcr2 of the address decoder section DCR2 is applied to the gates of these MO3FETQ27 and the like.

このアドレスデコーダ部DCR2は、それぞれ2ビツト
のアドレス信号a4.a5をデコードする単位回路の4
個から構成される。なお、同図のデコードにらり得られ
る4種類の出力信号のうち、1つの出力信号dcr2.
 dcr2のみが示されている。
This address decoder section DCR2 receives 2-bit address signals a4, . 4 of the unit circuit that decodes a5
Consists of individuals. Note that among the four types of output signals obtained by decoding in the figure, one output signal dcr2.
Only dcr2 is shown.

上記伝送ゲートMO3FETQ27.Q29゜Q31及
びQ33は、アドレスデコーダ部DCR2から供給され
る出力信号によって択一的にオン状態とされる。したが
って、アドレスデコーダ部DCR2の1つの出力信号は
、4つの伝送ゲートMO3FETQ27.Q29.Q3
1及びQ33のそれぞれの他方の電極(ワード線側)の
1つに伝送される。
The above transmission gate MO3FETQ27. Q29°Q31 and Q33 are alternatively turned on by an output signal supplied from the address decoder section DCR2. Therefore, one output signal of the address decoder section DCR2 is transmitted to the four transmission gates MO3FETQ27. Q29. Q3
1 and Q33 are transmitted to one of the other electrodes (word line side).

上記エンハンスメント型伝送ゲートMO3FETQ27
.Q29.Q31及びQ33のそれぞれの出力側と回路
の接地電位端子(GND)との間にエンハンスメント型
MO3FETQ2B、Q30、Q32及びQ34が設け
られる。これらのMO3FETQ2B、Q30.Q32
及びQ34のそれぞれのゲートには、対応するアドレス
デコーダ部DCR2の出力信号dcr2が印加される。
The above enhancement type transmission gate MO3FETQ27
.. Q29. Enhancement type MO3FETs Q2B, Q30, Q32 and Q34 are provided between the respective output sides of Q31 and Q33 and the ground potential terminal (GND) of the circuit. These MO3FETQ2B, Q30. Q32
The output signal dcr2 of the corresponding address decoder section DCR2 is applied to each gate of Q34.

また、上記伝送ゲートMO3FETQ27.Q29、Q
31及びQ33のそれぞれの他方の電極と、対応するワ
ード線W1〜W4等が接続されるワード線選択出力端子
との間には、ディプレッション型の伝送ゲートMO3F
ETQ35ないしQ38がそれぞれ設けられる。これら
のMO3FETQ35ないしQ3Bのゲートには、共通
に上記制御信号(書込み制御信号)weが印加される。
Furthermore, the transmission gate MO3FETQ27. Q29, Q
A depletion type transmission gate MO3F is connected between the other electrode of each of 31 and Q33 and the word line selection output terminal to which the corresponding word lines W1 to W4, etc. are connected.
ETQ35 to Q38 are provided respectively. The control signal (write control signal) we is commonly applied to the gates of these MO3FETs Q35 to Q3B.

上記代表として示されているワード線W1〜W4には、
特に制限されないが、高抵抗値の負荷としてのディプレ
ッション型MO3FETQ40ないしQ43が設けられ
る。
The word lines W1 to W4 shown as representatives above include
Although not particularly limited, depletion type MO3FETs Q40 to Q43 are provided as high resistance loads.

なお、上記ディプレッション型MO3FETQ35ない
しQ3Bは、特に制限されないが、スタックドゲート構
造とされることによって、書込み高電圧端子VPpに供
給される高電圧よりも大きい値のドレイン耐圧を持つよ
うにされる。
Although not particularly limited, the depletion type MO3FETs Q35 to Q3B have a stacked gate structure so that they have a drain breakdown voltage larger than the high voltage supplied to the write high voltage terminal VPp.

この実施例では、非選択のワード線でのリーク電流を削
減するため、上記負荷としてのディプレッション型MO
3FETQ40ないしQ、43には書込み制御信号Wτ
と書込み用高電圧vppとを受けるタイミング発生回路
TGで形成された書込み用高電圧vpp’が供給される
。すなわち、書込み動作の時にのみ、上記負荷としての
ディプレッション型MO3FETQ40等に対して上記
高電圧vppとは一゛等しい高レベルの電圧Vl)p’
 の供給が行われる。
In this embodiment, in order to reduce leakage current in unselected word lines, a depletion type MO is used as the load.
Write control signal Wτ is applied to 3FETQ40 to Q43.
A high voltage for writing vpp' formed by a timing generation circuit TG receiving the high voltage for writing and vpp is supplied. That is, only during the write operation, a high level voltage Vl)p' equal to the high voltage vpp is applied to the depletion type MO3FET Q40 etc. as the load.
will be supplied.

第3図には、上記タイミング発生回Ii′8TGの一実
施例の回路図が示されている。
FIG. 3 shows a circuit diagram of an embodiment of the timing generation circuit Ii'8TG.

負荷手段としてのディプレッション型MO3FETQ4
4と、駆動手段としてのエンハンスメント型MO8FE
TQ45とは、インバータ回路を構成する。上記MO3
FETQ45のゲートには、書込み制御信号iが印加さ
れる。上記インバータ回路で形成された反転信号と、上
記書込み制御信号iτとは、プッシュプル形態のMO8
FETQ46.Q47のゲートにそれぞれ印加され、い
わゆるインバーチイツトプッシュプル回路を構成する。
Depletion type MO3FETQ4 as load means
4 and an enhancement type MO8FE as a driving means
TQ45 constitutes an inverter circuit. Above MO3
A write control signal i is applied to the gate of FETQ45. The inverted signal formed by the inverter circuit and the write control signal iτ are a push-pull type MO8.
FETQ46. These signals are applied to the gates of Q47, forming a so-called invert push-pull circuit.

上記プッシュプル回路の出力信号は、出力MO3FET
Q50のゲートに印加される。また、このMO3FET
Q50のゲートと高電圧端子■ppとの間には、ダイオ
ード形態のエンハンスメント型MO3FETQ4B、Q
49が負荷として設けられる。上記M OS F E 
T Q 50のドレインは、上記負荷としてのディプレ
ッション型MO3FETQ40等に高レベルの電圧V 
pp’ を供給するため、上記高電圧端子Vppに接続
されている。上記MO3FETQ50のゲート・ソース
間には、ブートストラップ容量CBが設けられる。そし
て、上記M・03FETQ50のソースと回路の接地電
位点との間には、上記書込み制御信号71の遅延信号i
′を受けるMO3FETQ59が設けられている。上記
遅延信号w e ’ は、MOS F ETQ51ない
しQ58で構成された上記同様な4個の縦列形態のイン
バータ回路によって形成される。
The output signal of the above push-pull circuit is the output MO3FET
Applied to the gate of Q50. Also, this MO3FET
Diode-type enhancement type MO3FETs Q4B and Q are connected between the gate of Q50 and the high voltage terminal ■pp.
49 is provided as a load. Above M OS F E
The drain of TQ50 is connected to a high level voltage V to the depletion type MO3FETQ40 etc. as the load.
It is connected to the high voltage terminal Vpp to supply pp'. A bootstrap capacitor CB is provided between the gate and source of the MO3FETQ50. A delay signal i of the write control signal 71 is connected between the source of the M.03FET Q50 and the ground potential point of the circuit.
' is provided. The delayed signal w e ' is formed by four cascade-type inverter circuits similar to those described above, each consisting of MOS FETs Q51 to Q58.

すなわち、上記書込み制御信号iτを上記インバータ回
路で構成された遅延回路を通して伝達することによって
、上記遅延信号蔓1′が形成されるものである。なお、
特に制限されないが、そのしきい値電圧によるレベル損
失を少なくするため、上記MO3FETQ46及びMO
3FETQ4BないしQ50は、低しきい値電圧を持つ
ように形成される。
That is, the delayed signal chain 1' is formed by transmitting the write control signal iτ through the delay circuit constituted by the inverter circuit. In addition,
Although not particularly limited, in order to reduce the level loss due to the threshold voltage, the MO3FETQ46 and the MO3FETQ46
3FETs Q4B-Q50 are formed to have low threshold voltages.

書込み動作においては、上記高電圧端子vppには、例
えば21Vのような書込み用高電圧が供給される。そし
て、書込み制御信号weがロウレベルにされる。この書
込み制御信号;1のロウレベルによって、MO3FET
Q45.Q47がオフ状態となるので、最終的にはMO
3FETQ4B。
In a write operation, a high voltage for writing, such as 21V, is supplied to the high voltage terminal vpp. Then, the write control signal we is set to low level. This write control signal; by the low level of 1, MO3FET
Q45. Since Q47 is turned off, the MO
3FETQ4B.

Q49を通してMO3FETQ50のゲート電圧がVp
p−zvthのような高レベルとなる。この時、MO3
FETQ46は、上記MO3FETQ50のゲート電圧
が電源電圧Vcc以上になると、そのゲートとソースと
はVccレベルの同電位となるのでオフ状態にされるも
のである。なお、vthは、MOSFETのしきい値電
圧を表す。
The gate voltage of MO3FETQ50 is Vp through Q49.
It becomes a high level like p-zvth. At this time, MO3
When the gate voltage of the MO3FET Q50 exceeds the power supply voltage Vcc, the FET Q46 is turned off because its gate and source have the same potential at the Vcc level. Note that vth represents the threshold voltage of the MOSFET.

一方、上記遅延回路を通して形成される遅延信号we”
がロウレベルに変化するまでの間、MO3FETQ59
がオン状態となっているので、上記ブートストラップ容
量CBには、上記MO3FETQ50のゲート電圧に従
った高レベルにチャージアップされるものとなる。そし
て、上記遅延信号we’ のロウレベルにより、MOS
FET0゜59がオフ状態となるので、ブートストラン
プ容量CBにチャージアップした電圧によりMO3FE
TQ50のゲート電圧が上昇する。このブートストラッ
プ動作により、上記MO3FETQ50のゲート電圧を
上記高電圧VPI)以上の高電圧にすることができるた
め、上記負荷としてのディプレッショ、ン型MOSFE
TQ40等には、上記高電圧VPPとほり等しい高電圧
vpp’を供給することができる。
On the other hand, the delay signal we” formed through the delay circuit
MO3FETQ59 until it changes to low level.
is in the on state, the bootstrap capacitor CB is charged up to a high level according to the gate voltage of the MO3FETQ50. Then, due to the low level of the delay signal we', the MOS
Since FET0゜59 is in the off state, MO3FE is
The gate voltage of TQ50 increases. Due to this bootstrap operation, the gate voltage of the MO3FETQ50 can be raised to a high voltage higher than the high voltage VPI), so that the depletion type MOSFE as the load can be
A high voltage vpp' that is approximately equal to the high voltage VPP can be supplied to the TQ40 and the like.

また、第2図の上記アドレスデコーダX−DCRによっ
て形成されたハイレベルのワード線選択信号によつて、
上記1つのディプレッション型伝送ゲートMO5FET
Q35等がオフ状態となるので、そのワード線W1等の
レベルは、MO3FETQ40を通した上記高電圧vp
p’ に従った高レベルにされる。一方、非選択のワー
ド線については、上記X−DCHによって形成されたロ
ウレベルの非選択信号によってディブレンジョン型伝送
ゲートMO3FETQ36等がオン状態を継続するので
非選択のワード線をロウレベルとするものとなる。この
うよに非選択のワード線をロウレベルにするため、上記
高電圧をワード線に供給するMO3FETQ40等のイ
ンピーダンスは、ロウレベルを出力するMO31?ET
Q28.Q35等のインピーダンスに比べて十分大きく
設定されている。
Also, by the high level word line selection signal formed by the address decoder X-DCR of FIG.
The above one depletion type transmission gate MO5FET
Since Q35 etc. are turned off, the level of the word line W1 etc. is equal to the high voltage vp passed through MO3FET Q40.
to a high level according to p'. On the other hand, regarding the unselected word lines, the debension type transmission gate MO3FETQ36 etc. continue to be in the on state due to the low level non-selection signal formed by the above-mentioned X-DCH, so the unselected word lines are set to low level. Become. In order to set the unselected word line to low level in this way, the impedance of MO3FETQ40 etc. that supplies the high voltage to the word line is changed to MO31? which outputs low level. E.T.
Q28. The impedance is set sufficiently large compared to the impedance of Q35, etc.

また、読み出し動作においては、上記書込み制御信号w
eがハイレベルとなっている。このため、MO3FET
Q45.GL47がオシ状態となることによって、MO
3FETQ50をオフ状態とするものである。したがっ
て、高電圧端子vppから電源電圧Vccのような5v
を供給するものとしても、上記MO3FETQ50のオ
フ状態によって上記端子VPPからの電圧が上記負荷と
してのディプレッション型MO3FETQ40ないしQ
43等に供給されることはない。
In addition, in the read operation, the write control signal w
e is at a high level. For this reason, MO3FET
Q45. By the GL47 being in the oscillating state, the MO
This turns 3FETQ50 off. Therefore, from the high voltage terminal vpp to the power supply voltage Vcc, 5V
Even if the MO3FET Q50 is in the off state, the voltage from the terminal VPP is increased by the depletion type MO3FET Q40 to Q serving as the load.
43 etc. will not be supplied.

〔効 果〕〔effect〕

(1)書込み動作においては、上記タイミング発生回路
により、書込み用高電圧VPpとはソ′等しい高電圧を
選択されたワード線に供給することができることによっ
て、書込与動作の高速化を図ることができるという効果
が得られる。
(1) In a write operation, the timing generation circuit can supply a high voltage equal to the write high voltage VPp to a selected word line, thereby increasing the speed of the write operation. This has the effect of being able to.

(2)読み出し動作においては、上記ワード線の負荷と
してのMOS F ETQ 4・0等への電圧供給を行
わないので、非選択のワード線において上記M。
(2) In the read operation, voltage is not supplied to the MOS FETQ4.0 etc. as a load on the word line, so the M on the unselected word line.

5FETQ40等を通して流れるリーク電流の削減を図
ることができるという効果が得られる。例えば、256
にビットの記憶容量を持っEFROM装置では、ワード
線数が1024本となり、1本当たりのリーク電流1直
が5〜6μA程度と小さくとも、全体では10mAを越
えてしまう。この実施例では、このリーク電流を削減で
きるから大幅な低消費電力化を図ることができるものと
なる。
The effect of reducing the leakage current flowing through the 5FETQ40 etc. can be obtained. For example, 256
In an EFROM device having a storage capacity of 1,000 bits, the number of word lines is 1024, and even though the leakage current per line is as small as about 5 to 6 μA, the total exceeds 10 mA. In this embodiment, since this leakage current can be reduced, power consumption can be significantly reduced.

(3)上記書込み動作の高速化と読み出し動作の低消費
電力化を図るためのタイミング発生回路は、ブートスト
ラップ回路を利用するものであるので、極めて簡単な回
路によって実現できるという効果が得られる。
(3) Since the timing generation circuit for increasing the speed of the write operation and reducing the power consumption of the read operation uses a bootstrap circuit, it has the advantage that it can be realized by an extremely simple circuit.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、リーク電流を
削減するためのタイミング発生回路に関して言えば、上
記ワード線の負荷手段を複数組に分割し、上記同様なタ
イミング発生回路を複数個用意して、アドレス信号に従
ってそのうち1個のみを動作させることにより、書込み
時でのリーク電流をも削減するものとしてもよい。また
、その具体的回路構成は、種々の変形を採ることができ
るものである。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, regarding a timing generation circuit for reducing leakage current, the word line load means described above is divided into multiple sets, a plurality of timing generation circuits similar to the above are prepared, and only one of them is activated according to an address signal. The operation may also reduce leakage current during writing. Furthermore, the specific circuit configuration can be modified in various ways.

〔利用分野〕[Application field]

この発明は、EPROM装置に広く利用できるものであ
る。
This invention can be widely used in EPROM devices.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明の一実施例を示す回路図、第2図は
、そのアドレスデコーダX−′DcRの具体的一実施例
を示す回路図、 第3図は、そのタイミング発生回路の一実施例を示す回
路図である。 X−DCR,Y−DCR−−7ドレスデコーダ、M−A
 RY・・メモリアレ・(、SA・・センスアンプ、D
rB・・データ人カバソファ、DOB・・データ出カバ
ソファ、TG・・タイミング発生回路 第  1  図 ] ご 一; 第  2  図 ノー ノブ 第  3  図 ユ We′
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific embodiment of the address decoder X-'DcR, and FIG. FIG. 2 is a circuit diagram showing an example. X-DCR, Y-DCR--7 dress decoder, M-A
RY...Memory array (, SA...Sense amplifier, D
rB...Data output cover sofa, DOB...Data output cover sofa, TG...Timing generation circuit Fig. 1] Fig. 2 No knob Fig. 3 We'

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、コントロールゲートとフローティングゲートとを有
し、フローティングゲートに電荷を取り込むことにより
情報記憶を行う不揮発性半導体記憶素子がマI・リソク
ス状に配置されて構成されたメモリアレイと、上記コン
トロールゲートが接続されたワード線に一端が接続され
た高抵抗負荷手段と、書込み制御信号を受けて上記高抵
抗負荷手段の他端に書込み用高電圧Vflpを供給する
スイッチMO3FETQ50と、このスイッチへ10s
FETQ50のゲート、ソース間に設けられたブートス
トラップ容量と、上記スイッチMO3FETQ50のソ
ースと回FI3の接地電位との間に設けられ、上記書込
み制御信号の遅延信号を受けるMO3FETQ59とを
含むことを特徴とするEPROM装置。 2、上記高抵抗負荷手段は、ディプレッション型Nio
 s F ETにより構成されるものであることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のEPROM装置。 3、上記スイッチMO3FETQ50は、低しきい値電
圧のMOS F ETであることを特徴とする特許請求
の範囲第1又は第2項”記載のEPROM装置。
[Claims] 1. A memory array in which non-volatile semiconductor storage elements having a control gate and a floating gate and storing information by taking charge into the floating gate are arranged in a matrix shape. a high resistance load means having one end connected to the word line to which the control gate is connected; a switch MO3FETQ50 which receives a write control signal and supplies a write high voltage Vflp to the other end of the high resistance load means; 10s to this switch
It is characterized by including a bootstrap capacitor provided between the gate and source of the FETQ50, and an MO3FETQ59 provided between the source of the switch MO3FETQ50 and the ground potential of the switch FI3 to receive a delay signal of the write control signal. EPROM device. 2. The high resistance load means is a depression type Nio
2. The EPROM device according to claim 1, wherein the EPROM device is constituted by an s FET. 3. The EPROM device according to claim 1 or 2, wherein the switch MO3FETQ50 is a low threshold voltage MOS FET.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7272047B2 (en) 2004-10-27 2007-09-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Wordline voltage generating circuit including a voltage dividing circuit for reducing effects of parasitic capacitance

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