JPS59191135A - Magnetic recording medium and its production - Google Patents
Magnetic recording medium and its productionInfo
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- JPS59191135A JPS59191135A JP6580883A JP6580883A JPS59191135A JP S59191135 A JPS59191135 A JP S59191135A JP 6580883 A JP6580883 A JP 6580883A JP 6580883 A JP6580883 A JP 6580883A JP S59191135 A JPS59191135 A JP S59191135A
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/68—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent
- G11B5/70—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer
- G11B5/702—Record carriers characterised by the selection of the material comprising one or more layers of magnetisable material homogeneously mixed with a bonding agent on a base layer characterised by the bonding agent
- G11B5/7026—Radiation curable polymers
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体及びその製造方法に関する。一層
詳細には、電気メッキ、化学メッキ2真空蒸着、スパッ
クリング、イオンブレーティング等により支持体上に強
磁性薄膜を形成させた薄膜型磁気記録媒体に放射線感応
硬化性樹脂をバックコートして硬化させたものにおいて
、へツク層の表面粗さが0.05〜0.6μになるよう
に場合により表面処理して摩擦係数を低下させ、強磁性
薄膜面のドロップアウトを減少させると共に巻き状態を
良好にした磁気記録媒体及びその製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a magnetic recording medium and a method for manufacturing the same. More specifically, a thin film type magnetic recording medium is prepared by forming a ferromagnetic thin film on a support by electroplating, chemical plating, vacuum evaporation, spackling, ion blating, etc., and is then back coated with a radiation sensitive curable resin and cured. In this case, the surface of the hex layer is optionally treated to have a surface roughness of 0.05 to 0.6μ to lower the coefficient of friction, reduce dropouts on the ferromagnetic thin film surface, and improve the winding state. The present invention relates to an improved magnetic recording medium and a method for manufacturing the same.
現在、磁気記録媒体として、ビデオテープ、コンピュー
ターテープ、高性能オーディオテープ。Currently, video tape, computer tape, and high-performance audio tape are used as magnetic recording media.
多重コードテープ、磁気ディスク、フロソピーディスク
、磁気カードなどが用いられているが、媒体に記録する
情報量も年々増加し、媒体には記録密度の高いことがま
すます要求されるようになってきている。高密度記録の
ためには短波長記録方式が採られるが、これはドロップ
アウトの問題を生しやすい。ドロップアウトとは磁気テ
ープに書込まれている情報を読み出す際存在すべきパル
スを見落とす誤りであり、これは磁気テープと磁気ヘッ
ドとの間のスペーシング損失が瞬時的に増加することが
主因となっている。Multi-coded tapes, magnetic disks, frossopy disks, magnetic cards, etc. are used, but the amount of information recorded on media is increasing year by year, and media are increasingly required to have high recording densities. It's coming. A short wavelength recording method is used for high-density recording, but this method is prone to dropout problems. Dropout is an error in which pulses that should exist are overlooked when reading information written on a magnetic tape, and this is mainly caused by an instantaneous increase in spacing loss between the magnetic tape and the magnetic head. It has become.
磁気ヘッドを用いる現在の記録方式においては、(dB
)(d:テープーヘリド間距離、λ:記録波長)で表さ
れる。この式かられかるように、記録密度の高い短波長
記録においては、スペーシング損失が長波長のそれより
著しく大きくなり、従ってごく小さな異物がテープ表面
上にあってもスペーシング損失が大きくなっ・て、それ
がドロップアウトとなるのである。In the current recording method using a magnetic head, (dB
) (d: tape-helide distance, λ: recording wavelength). As can be seen from this equation, in short-wavelength recording with high recording density, the spacing loss is significantly larger than that in long-wavelength recording, so even if a very small foreign object is on the tape surface, the spacing loss will be large. This results in dropout.
ドロップアウトは、磁気テープ製造過程あるいは使用過
程から由来する異物がテープ面に存在し、これら異物が
ヘッド−テープ間のスペーシングを拡げる作用をするこ
とによって起こるのであるが、これら異物の発生原因と
して考えられるのは、くり返し応力がかかることによる
金属薄膜の劣化から生ずる磁気テープ金属薄膜表面の薄
膜削れあるいは走行中にヘースが削り取られたものや、
ホコリ等が静電的にベース面に付着しさらにそれが金属
薄膜面に転移すること等である。これらを防止するため
、例えば後者の原因に対しては、磁気テープの磁性面と
反対の支持体表面(バンク面)に、カーボンブランクあ
るいはグラファイト等を有機バインダーとともに混練し
た塗料を塗布したり、帯電防止剤を塗布することにより
ヘースの帯電現象を少なくする方法、あるいは酸化珪素
等を有機バインダーとともに混練した塗料を塗布するこ
とによりヘースの強靭化をはかりヘースの削れを少なく
する等の方法が考案されてきた。これらの処理により、
くり返し走行に対するドロップアウト増加の傾向はかな
り抑えることができる。しかしながら、そのレベルは、
現状ではまだ完全とは言えず、さらに少なくする必要が
ある。Dropouts occur when foreign matter from the magnetic tape manufacturing or usage process is present on the tape surface, and these foreign matter act to widen the spacing between the head and the tape. Possible causes include thin film abrasion on the surface of the magnetic tape metal thin film due to deterioration of the metal thin film due to repeated stress, or thin film scraping off during running, or
Dust and the like electrostatically adhere to the base surface and further transfer to the metal thin film surface. In order to prevent these problems, for example, for the latter cause, a paint made by mixing carbon blank or graphite with an organic binder may be applied to the support surface (bank surface) opposite to the magnetic surface of the magnetic tape. Methods have been devised such as applying an inhibitor to reduce the electrification phenomenon of the heath, or applying a paint containing silicon oxide or the like mixed with an organic binder to make the heath tougher and reduce the chance of scratching of the heath. It's here. Through these processes,
The tendency for dropouts to increase due to repeated running can be significantly suppressed. However, the level
At present, it cannot be said to be perfect, and there is a need to further reduce it.
ドロップアウトをさらに少なくするため、その発生原因
を詳細に調べた結果、次の様なことがわかった。In order to further reduce dropouts, we investigated the causes of dropouts in detail and found the following.
バンク層は走行回数を増してもドロップアウトが増加し
ないよう強靭であることが要求されるから、通常、熱硬
化型樹脂が結合剤として使用される。その場合、ハック
層が塗布された後、テープは巻ぎ取られ、熱硬化処理が
施されることになる。Since the bank layer is required to be strong so that dropout does not increase even when the number of runs is increased, a thermosetting resin is usually used as a binder. In that case, after the hack layer has been applied, the tape will be wound up and subjected to a heat curing treatment.
しかし、塗布が終わった時点においては、バンク層中で
はまだ硬化反応が始まっておらずその塗膜は弱く、しか
もハック面と磁性面とは密着状態であるため、ハック層
塗膜中に充填されたカーボンブラック、グラファイト、
あるいは他の無機充愼剤を含んだへツク面塗膜表面は、
それが接触している反対側の磁性層表面に転移し易(、
その転移したものがドロップアウトやヘッド目づまりの
原因となっていることがねがった。一方、ハック層を磁
性層よりも先に塗布した場合も、ハック層がベース面に
転移し易く、その転移したものが同様にドロップアウト
もヘッド目づまりの原因となっていることがわかった。However, at the time the coating is finished, the curing reaction has not yet started in the bank layer and the coating film is weak.Moreover, the hack surface and the magnetic surface are in close contact with each other, so the coating is filled into the hack layer coating. carbon black, graphite,
Alternatively, the surface of the hexagonal coating containing other inorganic fillers may be
It is easy to transfer to the magnetic layer surface on the opposite side with which it is in contact (,
It was discovered that this metastasized material was causing dropouts and head clogging. On the other hand, it has been found that even when the hack layer is applied before the magnetic layer, the hack layer is likely to transfer to the base surface, and the transferred dropouts also cause head clogging.
またこの現象は熱可塑性樹脂であっても同様な現象が起
こりうると考えられる。ハック層を設けることにより、
くり返し走行によるドロップアウトの増加を抑えること
ばてきるが、走行回数の少ない段階においてドロップア
ウトがそれ程低くないのはこの理由のためである。Further, it is thought that this phenomenon may occur in the case of thermoplastic resins as well. By providing a hack layer,
This is said to suppress the increase in dropouts due to repeated running, but this is the reason why dropouts are not so low when the number of runs is small.
本発明は、バンク層形成工程での上記のような不具合を
解消するため、放射線感応樹脂(放射線の照射で硬化し
うる樹脂)をバインダーとしてカーボンブランクまたは
グラファイトあるいは無機顔料のみ、カーボンブラック
、グラファイト等のかわりに、あるいは−緒に顔料等を
用いることにより、これらを混練した塗料でハック層を
形成した後活性エネルギー線源により放射線を照射し、
硬化処理を施すか、あるいはそのまま表面処理を行った
後硬化処理を施し、ハック層中に三次元架橋を生じさせ
、強靭な塗膜とした後、そのテープを巻き取ることによ
り、上記のような原因によるドロップアウトを減少させ
るものである。この方法によればハック層と磁性層のい
ずれかの形成が先であっても、テープが巻き取られるの
は塗膜の架橋反応が終了した後であるから、巻き取りに
よりバンク層が磁性層に密着してもハック層から磁性層
への転移は起きない。In order to eliminate the above-mentioned problems in the bank layer forming process, the present invention uses a radiation-sensitive resin (resin that can be cured by radiation irradiation) as a binder and uses carbon blank, graphite, or inorganic pigment alone, carbon black, graphite, etc. Alternatively, or by using pigments etc. in addition, a hack layer is formed with a paint made by kneading these and then irradiated with radiation from an active energy ray source,
By applying a hardening treatment or directly applying a surface treatment followed by a hardening treatment to create three-dimensional crosslinking in the hack layer to create a strong coating film, the tape can be rolled up to produce the above-mentioned properties. This reduces dropouts due to various causes. According to this method, even if either the hack layer or the magnetic layer is formed first, the tape is wound up after the crosslinking reaction of the coating film is completed, so that the bank layer becomes the magnetic layer by winding. Even if the magnetic layer is brought into close contact with the magnetic layer, no transition occurs from the hack layer to the magnetic layer.
ハック層の表面粗さについての考序:も必要である。ハ
ック層の表面粗さが粗すぎると、テープ再生時の出力変
動が大きくなり、出力変動を許容水準以下に抑えるには
表面粗さが0.6μ以下であるのが適当である。他方、
テープの巻取時にテープと共に巻き込まれる空気の放出
を円lNにすることおよびテープの走行を安全に保持す
ることの点で表面粗さは0.05μ以上であることか好
ましい。Consideration regarding the surface roughness of the hack layer is also required. If the surface roughness of the hack layer is too rough, output fluctuations during tape playback will increase, and in order to suppress output fluctuations below an allowable level, the surface roughness is preferably 0.6 μm or less. On the other hand,
It is preferable that the surface roughness is 0.05 μm or more in order to ensure that the air that is drawn in together with the tape when the tape is wound is released within a circle of 1N, and to maintain the safe running of the tape.
このように、本発明においては、磁気テープ製造工程に
おけるハック層から磁性面への転移物を排除すると共に
、バンク層の表面粗さを適正に選択することによって、
磁気テープの使用初期はもちろんのこと、くり返し使用
中にもきわめて有効にドロップアウトの発生が抑制され
るのである。In this way, in the present invention, by eliminating transition substances from the hack layer to the magnetic surface in the magnetic tape manufacturing process and by appropriately selecting the surface roughness of the bank layer,
The occurrence of dropouts is extremely effectively suppressed not only during the initial use of the magnetic tape, but also during repeated use.
本発明で用いる放射線感応樹脂とは、放射線によりラジ
カルを発生し架橋構造を生しるような、分子鎖中に不飽
和二重結合を2個以上含むものであり、これはまた熱可
塑性樹脂を放射線感応変性することによっても可能であ
る。The radiation-sensitive resin used in the present invention is one that contains two or more unsaturated double bonds in its molecular chain, which can generate radicals and create a crosslinked structure when exposed to radiation, and this also includes thermoplastic resins. It is also possible through radiation sensitivity degeneration.
放射線感応変性の具体例としては、ラソカル重合性を有
する不飽和二重結合を示すアクリル酸。A specific example of radiation-sensitive modification is acrylic acid, which exhibits an unsaturated double bond that is radially polymerizable.
メタクリル酸あるいはそれらのエステル化合物のような
アクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリ
ル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽
和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合乾燥する
基を分子中に導入することである。Groups that can be crosslinked or polymerized and dried by radiation irradiation, such as acrylic double bonds such as methacrylic acid or their ester compounds, allylic double bonds such as diallyl phthalate, and unsaturated bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives. It is introduced into the molecule.
その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合で
あれば用いる事が出来る。Any unsaturated double bond that undergoes cross-linking polymerization upon irradiation with radiation can be used.
放射線感応樹脂に変性できる熱可塑性樹脂を以下に示す
。Thermoplastic resins that can be modified into radiation-sensitive resins are shown below.
(1)塩化ビニール系共重合体
塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニールアルコール共重合体、塩
化ビニール−ビニールアルコール−プロピオン酸ビニー
ル共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸
共重合体。(1) Vinyl chloride copolymer Vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-vinyl alcohol copolymer, vinyl chloride-vinyl alcohol-vinyl propionate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-malein Acid copolymer.
塩化ビニール−酢酸ビニール−末端○H(i’l鎖アJ
lzキル基共重合体、たとえばUCC社VROII、
VYNC。Vinyl chloride - vinyl acetate - terminal ○H (i'l chain AJ
lz kill group copolymer, such as UCC VROII,
VYNC.
VYEGX等またUCC社VERR等が挙げられる。Examples include VYEGX and UCC's VERR.
上記共重合体に後に述べる手法により、アクリル系二重
結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入
し放射線感応変性を行う。By the method described later, an acrylic double bond, a maleic acid double bond, and an allylic double bond are introduced into the above copolymer to undergo radiation sensitivity modification.
(IT)飽和ポリエステル樹脂
フタル酸、イソフタル酸5テレフタル酸、コハク酸、ア
ジピン酸、セバシン酸の様な飽和多塩基酸とエチレング
リコール、ジエチレングリコール、グリセリン、トリメ
チロールプロパン。(IT) Saturated polyester resin saturated polybasic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, 5-terephthalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid and ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, trimethylolpropane.
1.2プロピレングリコール、1.3ブタンジオール、
ジプロピレングリコール、1.4ブタンジオール、1.
6ヘキサンジオール、ペンタエリスリット、ソルビトー
ル、グリセリン、ネオペンチルグリコール、1.4 シ
クロヘキサンジメタツールの様な多価アルコールとのエ
ステル結合により得られる飽和ポリエステル樹脂又はこ
れらのポリエステル樹脂をSO3Na等で変性した樹脂
(バイロン53s)。これらを後に述べる手法により放
射線感応変性を行う。1.2 propylene glycol, 1.3 butanediol,
Dipropylene glycol, 1.4 butanediol, 1.
Saturated polyester resins obtained by ester bonding with polyhydric alcohols such as 6-hexanediol, pentaerythritol, sorbitol, glycerin, neopentyl glycol, 1.4-cyclohexane dimetatool, or these polyester resins modified with SO3Na etc. Resin (Byron 53s). Radiation sensitivity degeneration is performed using the methods described below.
(I)不飽和ポリエステル樹脂
分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば第(U)項の熱可塑性樹脂とし
て記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合から
成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイン
酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽和
ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げる
ことができる。(I) Unsaturated polyester resin A polyester compound containing a radiation-curable unsaturated double bond in its molecular chain, such as an ester bond of a polybasic acid and a polyhydric alcohol as described in the thermoplastic resin of item (U). Examples include unsaturated polyester resins, prepolymers, and oligomers containing radiation-curable unsaturated double bonds in which part of the polybasic acid is maleic acid in saturated polyester resins.
飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルコール
成分は第(1)項に記載した各化合物を挙げることがで
き、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、
フマル酸等を挙ケることができる。Examples of the polybasic acid and polyhydric alcohol components of the saturated polyester resin include the compounds listed in item (1), and examples of the radiation-curable unsaturated double bond include maleic acid,
Examples include fumaric acid.
放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は、多塩基
酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上にマレイ
ン酸、フマル酸等を加え富法、すなわち触媒存在180
〜200℃窒素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反応
の後、240〜280℃まで昇温し、0.5〜1ml(
gの減圧下縮合反応によりポリエステル樹脂を得ること
ができる。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時
の架橋、放射線硬化性等から酸成分中1〜40モル%で
好ましくは10〜30モル%である。The method for producing radiation-curable unsaturated polyester resin is a rich method in which maleic acid, fumaric acid, etc. are added to one or more polybasic acid components and one or more polyhydric alcohol components, that is, a catalyst presence 180%.
After dehydration or dealcoholization under a nitrogen atmosphere at ~200°C, the temperature is raised to 240-280°C, and 0.5-1 ml (
A polyester resin can be obtained by the condensation reaction of g under reduced pressure. The content of maleic acid, fumaric acid, etc. in the acid component is 1 to 40 mol%, preferably 10 to 30 mol%, in view of crosslinking during production, radiation curability, etc.
(■)ポリビニルアルコール系樹脂
ポリビニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹
脂、ホルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体。これ
ら樹脂中に含まれる水酸基を後に述べる手法により放射
線感応変性を行う。(■) Polyvinyl alcohol resin polyvinyl alcohol, butyral resin, acetal resin, formal resin, and copolymers of these components. The hydroxyl groups contained in these resins are subjected to radiation-sensitivity modification by a method described later.
(V)エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂ビスフェノール
Aとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリンの
反応によるエポキシ樹脂−シエル化学製(エピコート1
52.154,828゜1001.1004.1007
) 、ダウケミカル!!J (DEN 431゜DER
732,DER511,DER331) 、大日本イン
キ製(エビクロン−400,エビクロン−800) 、
更に上記エポキシの高重合度樹脂であるUCC社製フェ
ノキシ樹脂(PKHA、 PKI(C,PKl’lH)
臭素化ビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの共重
合体、大日本インキ化学工業製(エビクロン145、1
52.153.1120 )等。(V) Epoxy resin, phenoxy resin Epoxy resin produced by the reaction of bisphenol A, epichlorohydrin, and methyl epichlorohydrin - manufactured by Ciel Chemical (Epicote 1)
52.154,828°1001.1004.1007
), Dow Chemical! ! J (DEN 431゜DER
732, DER511, DER331), Dainippon Ink (Ebikuron-400, Ebikuron-800),
Furthermore, phenoxy resin (PKHA, PKI (C, PKl'lH) manufactured by UCC, which is a high polymerization degree resin of the above epoxy)
Copolymer of brominated bisphenol A and epichlorohydrin, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals (Evicron 145, 1
52.153.1120) etc.
これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して、放射線
感応変性を行う。Radiation sensitivity modification is performed using the epoxy groups contained in these resins.
(VI)繊維素誘導体
各種分子量の繊維素系誘導体も、また熱可塑性プラスチ
ック成分として効果的である。その中でも、特に効果的
なものは硝化綿、セルローズアセトブチレート5エチル
セルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセルローズ等
が好適であり、樹脂中の水酸基を活用して後に述べる手
法により放射線感応変性を行う。(VI) Cellulose Derivatives Cellulose derivatives of various molecular weights are also effective as thermoplastic components. Among them, particularly effective ones include nitrified cotton, cellulose acetobutyrate 5-ethyl cellulose, butyl cellulose, acetyl cellulose, etc., and radiation sensitivity modification is carried out by utilizing the hydroxyl groups in the resin by the method described later.
その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体(PVPオ
レフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂
、フェノール樹脂。Other resins that can be used for radiation-sensitive modification include polyfunctional polyester resins, polyether ester resins, polyvinylpyrrolidone resins and derivatives (PVP olefin copolymers), polyamide resins, polyimide resins, and phenol resins.
スピロアセクール樹脂、水酸基を含有するアクリルエス
テル及びメタクリルエステルを少なくとも1種以上重合
成分として含むアクリル系樹脂等も有効である。Also effective are spiroacecool resins, acrylic resins containing at least one polymerization component of acrylic esters and methacrylic esters containing hydroxyl groups.
さらに上記放射線感応変性熱可塑性樹脂に熱可塑性エラ
ストマーまたはプレポリマーをブレンドすることにより
、−Pt強靭な塗膜とすることができる。さらに、下記
に述べるように、これらエラストマーあるいはプレポリ
マーが、同様に放射線感応性に変性された場合は、より
効果的である。Furthermore, by blending a thermoplastic elastomer or a prepolymer with the radiation-sensitive modified thermoplastic resin, a -Pt tough coating film can be obtained. Furthermore, as described below, it is more effective if these elastomers or prepolymers are similarly modified to be radiation sensitive.
以下に、上記放射線感応樹脂と組み合わせることのでき
るエラストマー又はプレポリマーを挙げる。Listed below are elastomers or prepolymers that can be combined with the radiation-sensitive resin.
(I)ポリウレタンエラストマー及びプレポリマー及び
テロマー
ポリウレタンエラストマーの使用は、耐摩耗性、 PE
Tフィルムへの接着性が良い点で特にを効である。(I) The use of polyurethane elastomers and prepolymers and telomer polyurethane elastomers provides abrasion resistance, PE
It is particularly effective in terms of its good adhesion to T-film.
このようなウレタン化合物の例としては、イソシアネー
トとして、2.4−)ルエンジイソシアネート2.6−
)ルエンジイソシアネート。Examples of such urethane compounds include 2.4-) luene diisocyanate 2.6-
) Luene diisocyanate.
1.3−キシレンジイソシアネート、1.4−キシレン
ジイソシアネート、1.5−ナックレンジイソシアネー
ト、m−フエニレンジイソシアネーh p−フェニレ
ンジイソシアネート3,3゛−ジメチル−4,4゛
−ジフェニルメタンジイソシアネート、 4.4 ’
−ジフェニルメタンジイソシアネート、3.3° −
ジメチルビフェニレンジイソシアネート、4.4” −
ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソ
シアネート。1.3-xylene diisocyanate, 1.4-xylene diisocyanate, 1.5-knack diisocyanate, m-phenylene diisocyanate h p-phenylene diisocyanate 3,3゛-dimethyl-4,4゛
-diphenylmethane diisocyanate, 4.4'
-Diphenylmethane diisocyanate, 3.3°-
Dimethylbiphenylene diisocyanate, 4.4”-
Biphenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate.
イソフォロンジイソシアネー1−.ジシクロヘキシルメ
タンジイソシアネート、デスモジュールし、デスモジュ
ールN等の各種多価イソシアネート、線状飽和ポリエス
テル(エチレングリコール、ジエチレングリコール、グ
リセリン、トリメチロールプロパン、1.4−ブタンジ
オール。Isophorone diisocyanate 1-. Dicyclohexylmethane diisocyanate, various polyvalent isocyanates such as Desmodur and Desmodur N, linear saturated polyesters (ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, trimethylolpropane, 1,4-butanediol).
1.6−ヘキサンジオール、ペンタエリスリット。1.6-hexanediol, pentaerythritol.
ソルビトール、ネオペンチルグリコール 1.4−シク
ロヘキサンジメタツールの様な多価アルコールと、フタ
ル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、コハ
ク酸、アジピン酸、セバシン酸、の様な飽和多塩基酸と
の縮重合によるもの)、線状飽和ポリエーテル(ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテ
トラエチレングリコール)やカプロラクタム、ヒドロキ
シン含有アクリル酸エステル、ヒドロキシン含有メタア
クリル酸エステル等の各種ポリエステル類の縮重合物よ
り成るポリウレタンエラストマー、プレポリマー、テロ
マーが有効である。With polyhydric alcohols such as sorbitol, neopentyl glycol, 1.4-cyclohexane dimetatool, and saturated polybasic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, maleic acid, succinic acid, adipic acid, and sebacic acid. condensation polymers of various polyesters such as linear saturated polyethers (polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetraethylene glycol), caprolactam, hydroxyl-containing acrylic esters, hydroxyl-containing methacrylic esters, etc. Polyurethane elastomers, prepolymers, and telomers consisting of are effective.
これらのエラストマーを放射線感応性の各種熱可塑性プ
ラスチックスとそのまま組み合わせても良いが、更にウ
レタンエラストマーの末端のイソシアネート基又は水酸
基と反応するアクリル系二重結合又はアリル系二重結合
等を有する単量体と反応させることにより、放射線感応
性に変性することは非常に効果的である。These elastomers may be combined as they are with various radiation-sensitive thermoplastics, but monomers having an acrylic double bond or allylic double bond that reacts with the terminal isocyanate group or hydroxyl group of the urethane elastomer may also be used. It is very effective to make it radiosensitive by reacting with the body.
(II)アクリルニトリル−ブタジェン共重合エラスト
マー
シンクレアペトロケミカル社製ポリBDリクイリドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリルニト
リルブクジエン共重合体プレポリマー、あるいは日本ゼ
オン社製ハイカー1432 J等のエラストマーは、特
にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生
じ架橋及び重合させるエラストマー成分として適する。(II) Acrylonitrile-butadiene copolymer elastomer An elastomer such as an acrylonitrile-butadiene copolymer prepolymer with a terminal hydroxyl group commercially available as polyBD liquid resin manufactured by Sinclair Petrochemical Co., Ltd. or Hiker 1432 J manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. In particular, it is suitable as an elastomer component in which the double bonds in butadiene generate radicals by radiation and undergo crosslinking and polymerization.
(I)ポリブタジエンエラストマー
シンクレアベトロケミカル社製ポリBDリクイリドレジ
ンR−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性樹脂との相溶性の点で好適である。R
−15プレポリマーにおいては分子末端が水酸基となっ
ているため分子末端をアクリル系不飽和二重結合を付加
することにより放射線感応性を高めることが可能であり
、バインダーとして更に有利となる。(I) Polybutadiene Elastomer A prepolymer having a low molecular weight terminal hydroxyl group, such as PolyBD Liquid Resin R-15 manufactured by Sinclair Vetro Chemical Co., is particularly suitable in terms of compatibility with thermoplastic resins. R
Since the -15 prepolymer has a hydroxyl group at the molecular end, it is possible to increase the radiation sensitivity by adding an acrylic unsaturated double bond to the molecular end, making it more advantageous as a binder.
また、ポリブタジェンの環化物日本合成ゴム製CBR−
M 901も熱可塑性樹脂との組合せによりすくれた性
能を発揮する。特に、環化されたポリブタジェンは、ポ
リブタジェン本来の有する不飽和結合のラジカルにより
放射線による架橋重合の効率が良く、バインダーとして
優れた性質を有している。In addition, polybutadiene cyclized product Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd. CBR-
M 901 also exhibits excellent performance in combination with thermoplastic resins. In particular, cyclized polybutadiene has excellent properties as a binder, as it is highly efficient in crosslinking polymerization by radiation due to the radicals of unsaturated bonds inherent in polybutadiene.
その地熱可塑性エラストマー及びそのプレポリマーの系
で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム、塩
化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化物
(日本合成ゴムjJJcIR701があり、エポキシ変
性ゴム、内部可塑化飽和線状ポリエステル(東洋紡バイ
ロン#300 ) 、等のエラストマーも下記に述べる
放射線感応変性処理を施すことにより有効に利用できる
。Suitable geothermal plastic elastomer and prepolymer systems include styrene-butadiene rubber, chloride rubber, acrylic rubber, isoprene rubber, and its cyclized product (Japan Synthetic Rubber jJJcIR701), epoxy-modified rubber, and internal plasticization saturation line. Elastomers such as polyester (Toyobo Vylon #300) can also be effectively used by subjecting them to the radiation-sensitive modification treatment described below.
次に放射線感応性バインダー合成例を説明する。Next, an example of synthesis of a radiation-sensitive binder will be explained.
※トリレンジイソシアネートのアダクトの製法a)塩化
ビニール酢酸ビニール共重合系樹脂(放射線感応変性樹
脂)のアクリル変性体の合成ビニライトVAGH750
部とトルエン1250部、シクロヘキサノン500部を
5β4つロフラスコに仕込み加熱溶解し、80℃昇温後
トリレンジイソシアネートの2−ヒドロキシエチルメタ
アクリレートアダクトを61.4部加え、更にオクチル
酸スズ0.012部、ハイドロキノン0.012部加え
80℃でN2気流中NGO反応率が90%となるまで反
応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエチルケトン1
250部加え希釈する。*Manufacturing method of tolylene diisocyanate adduct a) Synthesis of acrylic modified vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin (radiation sensitive modified resin) Vinyrite VAGH750
1,250 parts of toluene, and 500 parts of cyclohexanone were placed in four 5β flasks, heated and dissolved, and after raising the temperature to 80°C, 61.4 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate adduct of tolylene diisocyanate was added, and further 0.012 parts of tin octylate. , 0.012 part of hydroquinone was added and allowed to react at 80° C. in a N2 stream until the NGO reaction rate reached 90%. After the reaction is completed, cool and methyl ethyl ketone 1
Add 250 parts and dilute.
※)トリレンジイソシアネート(TDI )の2−ヒド
ロキシエチルメタアクリレート(2HEMA)アダクト
の製法
トリレンジイソシアネート348部をN2気流中1βの
4つ目フラスコ内で80°Cに加熱後、2−へキサエチ
レンメタアクリレート260部。*) Production method of 2-hydroxyethyl methacrylate (2HEMA) adduct of tolylene diisocyanate (TDI) After heating 348 parts of tolylene diisocyanate to 80°C in a 1β fourth flask in a N2 stream, 2-hexaethylene was added. 260 parts of methacrylate.
オクチル酸スズ0.07部、ハイドロキノン0.05部
を反応缶内の温度が80〜85°Cとなるように冷却コ
ントロールしながら滴下終了後80℃で3時間攪拌し反
応を完結させる。反応終了後取り出して冷却後白色ペー
スト状のTDIの2HEMAを得た。After dropping 0.07 part of tin octylate and 0.05 part of hydroquinone while controlling cooling so that the temperature inside the reaction vessel is 80 to 85°C, the mixture is stirred at 80°C for 3 hours to complete the reaction. After the reaction was completed, the reactor was taken out and cooled to obtain TDI 2HEMA in the form of a white paste.
b)ブチラール樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応
変性樹脂)
ブチラール樹脂積木化学製BM−3100部をトルエン
191.2部、シクロへキサノン71.4部に5′β4
つロフラスコに仕込み加熱熔解し80℃昇温後トリレン
ジイソシアネートの2−ヒドロキシエチルメタアクリレ
ートアダクトを7.4部加え、更に、オクチル酸スズ0
.015部、ハイドロキノン0.015部を加え、80
℃でN2気流中NGO反応率が90%以上となるまで反
応せしめる。反応終了後冷却しメチルエチルケトンにて
希釈する。b) Synthesis of acrylic modified butyral resin (radiation-sensitive modified resin) 100 parts of butyral resin BM-3 manufactured by Building Blocks Chemical Co., Ltd. were mixed with 191.2 parts of toluene and 71.4 parts of cyclohexanone to 5'β4
After heating and melting the mixture in a double flask and raising the temperature to 80°C, 7.4 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate adduct of tolylene diisocyanate was added, and 0 parts of tin octylate was added.
.. 015 parts and 0.015 parts of hydroquinone were added, and 80
The reaction was allowed to occur at ℃ in a N2 stream until the NGO reaction rate reached 90% or more. After the reaction is completed, it is cooled and diluted with methyl ethyl ketone.
C)飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成(放射
線感応変性樹脂)
東洋紡製バイロンRV−200100部をトルエン11
6部、メチルエチルケトン116部に加pie 溶解し
80°C昇温後TDIの2HE門Aアダクトを3.55
部加え、オクチル酸スズ0.007部、ハイドロキノン
0.007部を添加し、N2気流中80°CでNGO反
応率90%以上となるまで反応せしめる。C) Synthesis of acrylic modified saturated polyester resin (radiation-sensitive modified resin) 100 parts of Toyobo Vylon RV-200 was mixed with 11 parts of toluene.
Add 6 parts of methyl ethyl ketone to 116 parts of methyl ethyl ketone, dissolve and heat to 80°C.
1 part, 0.007 part of tin octylate, and 0.007 part of hydroquinone, and the mixture was reacted at 80°C in a N2 stream until the NGO reaction rate reached 90% or more.
d)エポキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応変
性樹脂)
シェル化学製ユピコート10074009Bヲ)シェフ
50部1MEK 50部に加熱溶解後NN−ジメチルヘ
ンシルアミン0.006部、ハイドロキノン0.003
部を添加し80℃とし、アクリル酸69部を滴下し80
℃で酸価5以下となるまで反応せしめる。d) Synthesis of epoxy resin acrylic modified product (radiation-sensitive modified resin) Iupicoat 10074009B manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.) Chef 50 parts 1 After heating and dissolving in 1 MEK 50 parts, NN-dimethylhensylamine 0.006 part, hydroquinone 0.003
80°C, and 69 parts of acrylic acid was added dropwise to 80°C.
The reaction was allowed to take place at ℃ until the acid value reached 5 or less.
e)ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成(放射
線感応エラストマー)
末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
ト (MDI )系ウレタンプレポリマー(日本ポリウ
レタン社製ニラポラン4040) 250部、 28
部MA32.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチ
ル酸スズ0.009部を反応缶に入れ、80°Cに加熱
溶解後TDr 43.5部を反応缶内の温度が80〜9
0°Cとなる様に冷却しながら滴下し、滴下終了後80
°CでNGO反応率95%以上となるまで反応せしめる
。e) Synthesis of acrylic modified urethane elastomer (radiation-sensitive elastomer) Urethane prepolymer based on diphenylmethane diisocyanate (MDI) terminal isocyanate (Nilaporan 4040 manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) 250 parts, 28
32.5 parts of MA, 0.07 parts of hydroquinone, and 0.009 parts of tin octylate were placed in a reaction can, heated and dissolved at 80°C, and then 43.5 parts of TDr was added until the temperature inside the reaction can was 80-9.
Drop it while cooling it to 0°C, and after dropping it,
The reaction was allowed to occur at °C until the NGO reaction rate reached 95% or more.
f)ポリエーテル系末端ウレタン変性エラストマーアク
リル変性体の合成(放射線感応エラストマー)
日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG −5002
50部、 2 HEFIA32.5部、ハイドロキノ
ン0.007部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶
に入れ80℃に加熱溶解後TDI 43.5部を反応缶
内の温度が80〜90℃となる様に冷却しながら滴下し
、滴下終了後80℃でNGO反応率9ま輻以上となるま
で反応せしめる。f) Synthesis of acrylic modified polyether-based urethane-terminated elastomer (radiation-sensitive elastomer) Polyether PTG-5002 manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.
50 parts, 2 32.5 parts of HEFIA, 0.007 parts of hydroquinone, and 0.009 parts of tin octylate were placed in a reaction can and heated to 80°C and dissolved, and then 43.5 parts of TDI was added until the temperature inside the reaction can was 80 to 90°C. After the dropwise addition was completed, the reaction was allowed to proceed at 80° C. until the NGO reaction rate reached 9 degrees or higher.
g)ポリブタジェンエラストマーアクリル双性体の合成
(放射線感応エラストマー)
シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジェンポリBDリクィリドレジンR−15250部
、ZHE旧32.5部、ハイドロキノン0.007部、
オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入れ、80℃に
加熱熔解後TDI 43.5部を反応缶内の温度が80
〜90℃となる様に冷却しながら滴下し、滴下終了後8
0”cでNGO反応率95%以上となるまで反応せしめ
る。g) Synthesis of polybutadiene elastomer acrylic dimer (radiation-sensitive elastomer) Low molecular weight terminal hydroxyl group polybutadiene polybutadiene polyBD Liquid Resin R-15250 parts manufactured by Sinclair Petrochemical Co., Ltd., ZHE old 32.5 parts, hydroquinone 0.007 parts,
Put 0.009 parts of tin octylate into a reaction can, heat and melt at 80°C, then add 43.5 parts of TDI until the temperature inside the reaction can reaches 80°C.
Drop it while cooling it to ~90℃, and after the completion of dropping,
The reaction was allowed to proceed until the NGO reaction rate reached 95% or more at 0''c.
以上の変性体の他に高分子には放射線照射により崩壊す
るものと分子間に架橋を起こすものが知られている。分
子間に架橋を起こすものとしては、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン。In addition to the above-mentioned modified polymers, there are known polymers that disintegrate upon radiation exposure and polymers that cause intermolecular crosslinking. Polyethylene, polypropylene, and polystyrene cause crosslinking between molecules.
ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド。Polyacrylic acid ester, polyacrylamide.
ホ+J 塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルピロリ
ドンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインが
ある。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変
性を特に施さなくても、架橋反応が起きるので、そのま
ま放射線架橋用バックコート樹脂として使用可能である
。E+J Vinyl chloride, polyester, polyvinylpyrrolidone rubber, polyvinyl alcohol, and polyacrolein. If such a crosslinked polymer is used, the crosslinking reaction will occur even without the above-mentioned modification, so it can be used as it is as a backcoat resin for radiation crosslinking.
さらにまた、こ−の方法によれば溶剤を使用しない無溶
剤型の樹脂であっても短時間で硬化することができるの
で、この様な樹脂をハックコート用として用いることが
できる。Furthermore, according to this method, even a solvent-free resin that does not use a solvent can be cured in a short time, so such a resin can be used for hack coating.
また、本発明のバックコートの架橋に使用する活性エネ
ルギー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、
Go”を線源としたT線、Sr”を線源としたβ線、X
線発生器を線源としたX線あるいは紫外線等が使用され
る。In addition, the active energy rays used for crosslinking the back coat of the present invention include electron beams using a radiation accelerator as a radiation source;
T-rays using Go'' as a radiation source, β-rays using Sr'' as a radiation source, X
X-rays or ultraviolet rays using a ray generator as a ray source are used.
特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線の遮蔽等の見地から放射線加速器
により放射線を使用する方法が有利である。In particular, as an irradiation source, it is advantageous to use radiation using a radiation accelerator from the viewpoints of controlling the absorbed dose, introducing it into the manufacturing process line, and shielding ionizing radiation.
パック層を硬化する際に使用する放射線特性としては、
透過力の面から加速電圧1010〜750 KV好まし
くは150〜300KVの放射線加速器を用い吸収線量
を0.5〜20メガランドになるように照射するのが好
都合である。The radiation characteristics used when curing the pack layer are as follows:
From the viewpoint of penetrating power, it is convenient to irradiate using a radiation accelerator with an accelerating voltage of 1010 to 750 KV, preferably 150 to 300 KV, so that the absorbed dose is 0.5 to 20 Megaland.
本発明のハック層硬化に際しては、米国エテージーサイ
エンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速
器(エレクトロカーテンシステム)等がテープコーティ
ング加エラインへの導入、加速器内部の二次χ線の遮蔽
等に極めて有利であるもちろん、従来より放射線加速材
として広く活用されているところのファンデグラフ型加
速器を使用しても良い。When curing the hack layer of the present invention, a low-dose type radiation accelerator (electrocurtain system) manufactured by Etage Science, Inc. in the United States is introduced into the tape coating processing line, and the secondary χ rays inside the accelerator are shielded. Of course, a van de Graaff type accelerator, which has been widely used as a radiation accelerating material, may also be used.
また、放射線架橋に際しては、N2ガス、 Heカス等
の不活性ガス気流中で放射線をハック層に照射すること
が有ぐ・であり、空気中で放射線を照射することは、バ
イングー成分の架橋に際し放射線照射により生じた0等
の影響でポリマー中に生じたラジカルが有利に架橋反応
に働く事を阻害するので極めて不利である。In addition, when crosslinking with radiation, the hack layer may be irradiated with radiation in an inert gas stream such as N2 gas or He scum, and irradiation with radiation in the air will cause the crosslinking of the baingu component. This is extremely disadvantageous because radicals generated in the polymer due to the influence of radiation, etc., caused by radiation irradiation inhibit the advantageous crosslinking reaction.
従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で5%のN2. He、 CO□等
の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。Therefore, the atmosphere of the area to be irradiated with active energy rays is
In particular, N2 with a maximum oxygen concentration of 5%. It is important to maintain an atmosphere of an inert gas such as He or CO□.
また、本発明でハック層に上記結合材とともに使用され
る充填材としては、(1)グラファイトカーボンブラン
ク等の導電性物質、(2) CaC0* 。Further, in the present invention, fillers used in the hack layer together with the binder include (1) a conductive substance such as graphite carbon blank, and (2) CaC0*.
ゲーサイト、クルク、カオリン、 CaSO4、テフロ
ン粉末、フン化黒鉛、二硫化モリブデン等の無機充填剤
である。(1)及び(2)の組合せも使用される。充填
剤使用量は重量で表して(1)については結合剤100
部に対して20〜100部とされ、そして(2)につい
ては10〜300部が適当であり、充填剤量が多くなり
すぎるとハック層が厚くなりかえってドロップアウトが
多くなるという欠点が生じる。These are inorganic fillers such as goethite, curcum, kaolin, CaSO4, Teflon powder, graphite fluoride, and molybdenum disulfide. Combinations of (1) and (2) may also be used. The amount of filler used is expressed by weight.For (1), binder 100
For (2), 10 to 300 parts is appropriate.If the amount of filler is too large, the hack layer becomes thick and dropouts increase.
こうして生成されたバック層用配合物は、磁性層を形成
ずみの、あるいは磁性層が形成されるべきベースの裏面
に従来態様で所定厚さに塗布される。塗布後、必要な表
面粗さが場合により0.1比0.6μの範囲となるよう
表面処理が実施されうる。The back layer formulation thus produced is applied in a conventional manner to a predetermined thickness on the back side of the base on which the magnetic layer has been formed or on which the magnetic layer is to be formed. After application, a surface treatment may optionally be carried out such that the required surface roughness is in the range of 0.6μ by 0.1.
また、表面粗さは、分散時間、充填剤粒度及び量等に依
存して変化する。Furthermore, the surface roughness varies depending on the dispersion time, filler particle size and amount, etc.
次いで、塗布バンク層を硬化すべく、放射線照射が行わ
れる。Radiation is then applied to cure the coated bank layer.
なお塗布パンク層の硬化は、テープの巻き取り前であれ
ば磁性層の形成の前後を問わずいずれの段階でもよいこ
とは前述の通りである。As mentioned above, the applied puncture layer may be cured at any stage before or after the magnetic layer is formed, as long as it is before the tape is wound up.
さらに、この様なハック層を設けるべき磁気記録媒体と
しては、高性能オーディオテープ、ビデオテープ、コン
ピューター用テープ、エンドレステープ、多重コードテ
ープ、磁気ディスク、フロッピーディスク、磁気カード
などがあるが、中でも、ドロップアウトが最も重要な特
性の1つであるビデオテープ、コンピューター用テープ
に用いることはかなり有効である。Further, magnetic recording media that should be provided with such a hack layer include high-performance audio tape, video tape, computer tape, endless tape, multiplexed code tape, magnetic disk, floppy disk, and magnetic card, among others. It is quite effective for use in video tapes and computer tapes where dropout is one of the most important characteristics.
なお、強磁性薄膜磁気記録媒体は、電気メッキ。The ferromagnetic thin film magnetic recording medium is electroplated.
化学メッキ、真空蒸着、スパンタリング、イオンブレー
ティング等によって得られるが真空蒸着法による場合を
示すと、コバルト/ニッケル(原子比8/2)の合金イ
ンゴットを準備し、真空蒸着法により長尺の強磁性薄膜
をポリエチレンテレフタレートのベースの上に形成する
。蒸着は電子線加熱により行い、中心入射角が70°の
いわゆる斜め蒸着法を採用する。ベースフィルム冷却用
に円筒キャンを用い、冷却温度を5°Cに保つ。真空槽
を3 Xl0−”Paまで排気し、これに酸素ガスを圧
力が6.3 Xl0−”Paになるまで導入して蒸着を
行う。It can be obtained by chemical plating, vacuum evaporation, sputtering, ion blating, etc., but in the case of vacuum evaporation, a cobalt/nickel (atomic ratio 8/2) alloy ingot is prepared, and a long piece is formed by vacuum evaporation. A ferromagnetic thin film is formed on a polyethylene terephthalate base. Vapor deposition is performed by electron beam heating, and a so-called oblique vapor deposition method with a central incident angle of 70° is employed. A cylindrical can is used to cool the base film, and the cooling temperature is maintained at 5°C. The vacuum chamber is evacuated to 3 Xl0-''Pa, and oxygen gas is introduced into it until the pressure reaches 6.3 Xl0-''Pa to perform vapor deposition.
電子銃に与えるパワーとベースフィルムの駆動速度を調
整することによって膜厚が約800人となるようにする
。By adjusting the power given to the electron gun and the drive speed of the base film, the film thickness is made to be approximately 800 mm.
このようにして得られる強磁性N膜は保磁力が約100
0 0e、 Brが約8000 Gとなりヒデオ用の磁
気記録媒体として好都合なものが得られる。The ferromagnetic N film obtained in this way has a coercive force of about 100
00e and Br of about 8000 G, which is suitable as a magnetic recording medium for video.
以下、本発明の実施例について述べる。Examples of the present invention will be described below.
実施例1
カーボンブラック
旭カーホン(株)製旭H3500(粒径81 mμ)5
0部
アクリル変性塩ビー酢ビービニルアルコール−共重合体
く試作品)30部
アクリル変性ポリウレタンエラストマー(試作品)20
部
混合溶剤(MIBK/ )ルエンー1/1)300部
上記混合物をボールミル中5時間分散させ、強磁性薄膜
面が形成されているポリエステルフィルムの裏面に乾燥
厚0,5μになるように塗布し、エレクトロカーテンタ
イプ電子線加速装置を用いて加速電圧150KV 、電
極電流10mA、吸収線量10Mrad、 Nzガス中
で電子線をバンク層に照射し、硬化を行った後巻き取り
、1/2ビデオ幅に切断し、VIISデツキにてドロッ
プアウトを測定した。Example 1 Carbon black Asahi H3500 manufactured by Asahi Carphone Co., Ltd. (particle size 81 mμ) 5
0 parts Acrylic modified chloride, vinegar, vinyl alcohol-copolymer (prototype) 30 parts Acrylic modified polyurethane elastomer (prototype) 20
300 parts of mixed solvent (MIBK/)luene-1/1) The above mixture was dispersed in a ball mill for 5 hours, and applied to the back side of the polyester film on which the ferromagnetic thin film surface was formed to a dry thickness of 0.5μ. Using an electro-curtain type electron beam accelerator, the bank layer was irradiated with an electron beam in Nz gas at an acceleration voltage of 150 KV, an electrode current of 10 mA, and an absorbed dose of 10 Mrad. After curing, the bank layer was wound up and cut into 1/2 video width. Then, dropout was measured using a VIIS deck.
上記ホールミルにての分散において、分散時間が短い場
合、表面粗さが大となる。表面粗さと出力低下との関係
の測定結果を第1図に示す。In the above-mentioned dispersion using a hole mill, if the dispersion time is short, the surface roughness becomes large. Figure 1 shows the measurement results of the relationship between surface roughness and output reduction.
表面粗さが0.6μを越えると、出力低下が大きくなる
。表面粗さが0.05μ〜0.6 μのものは、200
回走行後もドロップアウトの増加は少なく、巻き状態も
良好であった。When the surface roughness exceeds 0.6μ, the output decreases significantly. Surface roughness of 0.05μ to 0.6μ is 200μ
Even after running several times, there was little increase in dropouts and the winding condition was good.
また第2図はバンク層表面粗さととび出し量との関係を
示し、とび出し量は表面粗さが0.05μを越えると急
速に減少する。Further, FIG. 2 shows the relationship between the surface roughness of the bank layer and the amount of protrusion, and the amount of protrusion decreases rapidly when the surface roughness exceeds 0.05μ.
本実施例のサンプルをNo、 1とする。Let the sample of this example be No. 1.
実施例2
CaCO(粒径0.08μ) 50部アク
リル変性塩ビー酢ビ−ビニルアルコール共重合体く試作
品)30部
アクリル変性ポリウレタンエラストマー(試作品)20
部
混合溶剤 300部上記混合物を
実施例1と同様に1il製し、サンプル階2を得た。Example 2 CaCO (particle size 0.08μ) 50 parts Acrylic modified chloride, vinyl acetate, vinyl alcohol copolymer (prototype) 30 parts Acrylic modified polyurethane elastomer (prototype) 20
300 parts of mixed solvent 1 il of the above mixture was prepared in the same manner as in Example 1 to obtain sample floor 2.
実施例3
カオリン(粒径2μ)25部
カーボンブランク
旭カーボン(株)製旭H5500(粒径81mμ)25
部
アクリル変性基ビー酢ビーヒニルアルコール。Example 3 Kaolin (particle size 2 μ) 25 parts Carbon blank Asahi H5500 manufactured by Asahi Carbon Co., Ltd. (particle size 81 μ) 25
Part acrylic modified group bee vinegar bee vinyl alcohol.
共重合体 30部アクリル変性ポ
リウレタンエラストマー20部
混合溶剤 300部上記混合物を
実施例1と同様に調製し、サンプルNo、 3を得た。Copolymer 30 parts Acrylic modified polyurethane elastomer 20 parts Mixed solvent 300 parts The above mixture was prepared in the same manner as in Example 1 to obtain Sample No. 3.
上記サンプルNo、1.No、2およびNo、3の出力
変動、ドロップアウトおよび巻き状態をVHSデツキに
て8周べた。The above sample No. 1. The output fluctuations, dropouts, and winding conditions of No. 2 and No. 3 were recorded 8 times on a VHS deck.
これらはいずれも画像でのゆらぎは問題とならなかった
。また、これらサンプルは200回走行させてもドロッ
プアウトの増加が少なく、巻き状態も良好であり、画像
の状態もゆらぎがなく非常に良好なものであった。In all of these cases, image fluctuation was not a problem. Furthermore, even after these samples were run 200 times, there was little increase in dropouts, the winding condition was good, and the image condition was also very good with no fluctuation.
以上本発明につき好適な実施例を挙げて種々説明したが
、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、発明
の精神を逸脱しない範囲内で多くの改変を施し得るのは
もちろんのことである。Although the present invention has been variously explained above with reference to preferred embodiments, the present invention is not limited to these embodiments, and it goes without saying that many modifications can be made without departing from the spirit of the invention. It is.
第1図は、バンク層表面粗さと出力低下の関係を示すグ
ラフであり、第2図はへツク層表面粗さととび出し量と
の関係を示すグラフである。
特許出願人
東京電気化学工業株式会社
代表者 大 歳 寛
j、4′−、−,1
じ桶邑
第1図
1,6F
表面粗さく/lt、)
第2図
1、(1
表面粗さくf)FIG. 1 is a graph showing the relationship between bank layer surface roughness and output reduction, and FIG. 2 is a graph showing the relationship between bank layer surface roughness and protrusion amount. Patent applicant Tokyo Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd. Representative Hiroshi Otoshi, 4'-, -, 1 Jiokemura Figure 1, 6F Surface roughness/lt,) Figure 2 1, (1 Surface roughness f )
Claims (1)
にバンク層を設けた磁気記録媒体において、バンク層が
放射線感応硬化性樹脂を含む結合材中に充填材を分散し
硬化したものにより形成され、表面粗さが0.05〜0
.6μに調整されていることを特徴とする磁気記録媒体
・ 2、充填材が、カーボンブラック、グラファイト等の導
電物質の粉末又は無機顔料のみである特許請求の範囲第
1項記載の磁気記録媒体゛。 3、充填材が、カーボンブランク、グラファイト等の導
電物質の粉末と、顔料等の高靭性材料の粉末とを含む特
許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体。 4、支持体の一方の面に強磁性薄膜を形成し、他方の面
にハック層を設けた磁気記録媒体の製法において、バン
ク層に放射線感応硬化性樹脂を含む結合材中に充填材を
分散した塗膜をパック層の表面粗さが0.05〜0.6
μになるように表面処理し、活性エネルギー線を照射し
て、該感応樹脂を硬化することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。[Claims] 1. In a magnetic recording medium in which a ferromagnetic thin film is formed on one side of a support and a bank layer is provided on the other side, the bank layer is formed in a binder containing a radiation-sensitive curable resin. It is formed by dispersing filler and hardening it, and the surface roughness is 0.05 to 0.
.. 2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the filler is only a powder of a conductive substance such as carbon black or graphite, or an inorganic pigment. . 3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the filler contains powder of a conductive material such as carbon blank or graphite, and powder of a highly tough material such as pigment. 4. In a method for manufacturing a magnetic recording medium in which a ferromagnetic thin film is formed on one side of a support and a hack layer is provided on the other side, a filler is dispersed in a binder containing a radiation-sensitive curable resin in the bank layer. The surface roughness of the pack layer is 0.05 to 0.6.
1. A method for manufacturing a magnetic recording medium, which comprises performing a surface treatment so that the sensitive resin becomes μ, and curing the sensitive resin by irradiating it with active energy rays.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6580883A JPS59191135A (en) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | Magnetic recording medium and its production |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6580883A JPS59191135A (en) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | Magnetic recording medium and its production |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59191135A true JPS59191135A (en) | 1984-10-30 |
Family
ID=13297691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6580883A Pending JPS59191135A (en) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | Magnetic recording medium and its production |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59191135A (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5740755A (en) * | 1980-08-25 | 1982-03-06 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
JPS57200937A (en) * | 1981-06-05 | 1982-12-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
-
1983
- 1983-04-14 JP JP6580883A patent/JPS59191135A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5740755A (en) * | 1980-08-25 | 1982-03-06 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
JPS57200937A (en) * | 1981-06-05 | 1982-12-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
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