JPS59191134A - 磁気記憶体とその製造方法 - Google Patents

磁気記憶体とその製造方法

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JPS59191134A
JPS59191134A JP6584283A JP6584283A JPS59191134A JP S59191134 A JPS59191134 A JP S59191134A JP 6584283 A JP6584283 A JP 6584283A JP 6584283 A JP6584283 A JP 6584283A JP S59191134 A JPS59191134 A JP S59191134A
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JP
Japan
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axis
magnetic storage
medium
storage medium
disk
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Pending
Application number
JP6584283A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Yanagisawa
雅広 柳沢
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
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Publication of JPS59191134A publication Critical patent/JPS59191134A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/85Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition

Landscapes

  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は磁気記憶装置に用いられる磁気ディスク等の磁
気記憶体とその製造方法にかかる。現在主に用いられて
いる長手記録方式においては、最近高密度記憶媒体とし
て、記憶媒体が、めっさ法又はスパッタ法により、製作
された連続磁性研膜型のめっき磁気ディスク、フエライ
トスバ、り磁気ディスクが用いられ始めた。これらの連
糺碌性′Nf膜を記j黛媒体とする磁気ディスクを用い
た高性能磁気ディスク装置が1981年に開発され、線
W′度14000BPI、トラック育成11(IOTP
IO都記録密度が外爪されている。
今後更に冒臂度化が進む状況にあり、紳密度及びトラッ
ク密度の向上の為の研究開発力付^発に行なわれている
トラック密度に関しては、従来からサーボディスクを用
いたサーボ面サーボ方式が採用されているが、この方式
ではサーボディスクとデータディスク間の物理的距離及
び構造等に帰因する温度差による熱膨張の違いが生じて
トラック密度の増大の大きな障害になっている。この欠
点を除去する方法としてデータ面サーボ方式が提案され
ているが、この方式ではデータ領域をサーボ領域にさか
なけれはならないため、記録密度を大巾に塘加すること
は難しい。
本発明の目的はデータ領域をせばめることなく高線密度
反ひ筒トラック荀′度が可tjハなサーボ方式を実現す
る為に、斜め蒸着装置により基体上に市内単一方向(半
径又は円周方向)の磁化容易軸を有するサーボ情報用媒
体を被覆し、該媒体の上にさらに蒸着方向を変えた斜め
蒸着装置により該媒体と直角方向に面内単一方向(円周
又は半径方向)の磁化容易軸を有するデータ情報用媒体
が被覆してなる磁気記憶体とその製造方法を提供するこ
とにある。
本発明による磁気記憶体及びその製造方法は非磁性基体
と該非磁性基体を被覆する非磁性層とこの非磁性層の上
に斜め蒸着法により面内単一方向に磁化容易軸を有する
サーボ情報用磁気記録媒体を被覆し、該媒体上に、再び
斜め蒸着装置により該媒体と直角方向に面内単一方向に
磁化容易軸を有するデータ情報用磁気記録媒体を被覆し
該媒体上に保護膜を被覆して、上記多層tA造を有する
磁気記憶体を製造する。
次に図面を参1(I L、て本発明の詳細な説明する。
第1および2図は本発明の製造方法により作製した磁気
記憶体の実施例の部分断面図である。
第3図は単一方向に磁化容易軸を有するコバルト又はコ
バルト合金層を形成する方法の概念図てあ−ボ情報用及
びデータ情報用磁気記憶媒体のヒステリシス特性である
。第1.2図において非磁性基体lとしてアルミ合金、
チタン合金等が用いられる。該非磁性基体1の上に被覆
される非磁性層2は硬質のニッケルーリン合金層又はア
ルミナ、SiO,、SiC等のセラミックスが用いられ
、該非磁性層2の表面は研磨により表面粗さの小さな鏡
面に仕上げられる。
但し記録密度が低く、/J)さな表面粗さを必要としな
いフレキシブルディスクにおいては非磁性層2は必要で
なく、非磁性基体1として安価なポリエステル、ポリア
ミドイミ ド、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート
などが用いられる。し非磁性層2の上に被覆される面内
単一方向に磁化容易軸を有するサーボ情報用磁気記録媒
体3は第2図3に示す株にディスクの半径方向の面内単
一方向に磁化容易軸を存している。該媒体3としては鉄
′、コバルト、ニッケル等の磁性金属又はコハルトーニ
ッケノペコバルトータングステンなどの合金が用いられ
る。この様な金属又は合金の)!i!続薄j漢を面内単
一方向に磁化容易軸を持たせる方法として斜め蒸着法が
あげられる。
第3図(し)はサーボ情報用磁気記録媒体3を形成する
だめの斜め蒸着方法に用いられる装置の正面概略図であ
る。蒸着源6より発生した金属蒸気8をスリット7によ
り蒸気流を狭い角度に絞りディスク9上に角度θにて蒸
着する。
第3図(a)゛  に示されるように入射方向1′oよ
りディスクの半径方向に入射角θにて(θ1jlO〜6
0度)入射した蒸気流はディスク9の斜線の部分13に
スリット7により絞られて細潰する。この時磁化容易軸
は入射方向に平行にそろうため、ディスクの半径方向に
磁化容易軸がそろうことVこなる。ディスク9は回転1
11.ているのでディスク全体に半径方向に磁化浴易軸
がそろう。
に示す様にサーボ情報用磁気記録媒体3とは面内直角方
向に磁化容易軸を有しており、ディスク面に対し円周方
向に磁化容易軸Jを有している。該媒体4も材料はサー
ボ情報用磁気記1;は媒体3と同じものを使用すること
が出来る。
但し該媒体4の製造方法は第3図(、t)の様に斜め蒸
着法における蒸気の入射方向をディスクの円周方向に変
化させたためにディスク9の回転軸をずらす。すなわち
前述と同様に媒体3を蒸着させだのと同一の蒸着源6よ
り発生した金属蒸気8をシャッター7′により蒸気流を
狭い角度に絞り、ディスク9上に角度θ(θは10〜6
0度まで変えることが出来る)Kて蒸着する。イυし付
着させる部分は第3図(Cy  に見る様に入射方向l
Oより入射した蒸気流はディスク9の斜線の部分14に
シャッターにより絞られて細潰する。この1皓磁化容易
軸は入射方向に平行にそろうためディスクの円周方向に
磁化容易軸がそろうことになる。ディスク9は回転11
しているのでディスク全体に円周方向に磁化容易軸がそ
ろう。
第4図は第3図とは別の、磁気比1魚体の製造法に用い
る装置の概念図である。
第4図における製造装置は第1反0・2図におけるサー
ボ情報用磁気記憶媒体3とデータ情報用磁気記憶媒体4
を付着させる斜め蒸着用蒸着源6゜6′をそれぞれ個々
に有している。第4図(功は本製造装置の正面概略図で
ある。蒸発源6より発生した金属蒸気8をスリット7に
より蒸気流と狭い角度に絞り回転するディスク9上に角
度θにて方向10から蒸着し、ディスクの半径方向に磁
化容易軸を存するサーボ情報用磁気記憶媒体が被覆され
る。この操作の間、もう1つの蒸着源6′からの蒸気8
′はシャッター12′によりさえぎられている。
次に蒸発源6からの蒸気流8はシャッター12によりさ
えぎられる一方シャッター12’を開けて蒸発源6′か
らの蒸気流8′を方向10’から回転11するディスク
9面に蒸着させ、ディスク9の円周方向に磁化容易軸を
有するデータ情報用磁気記憶媒体が被覆される。
第3図又i−1:第4図の装置により製造されたディス
ク上に保護映5として5in2. Si、N、 、 S
iC。
E、C,クイアモンド、 AA203 、 W 、 I
 r 又はケイ酸重合物(ポリ珪酸)等を蒸着、スパッ
タ、イオンブレーティング又は塗布により被覆する。
サーボ情報用磁気記録媒体3とデータ情報用磁気記録媒
体4からの各情報の読み書きは各々ヘッドギャップの方
向が互いに90°ずれたデータ情報用磁気ヘッドとサー
ボ情報用磁気ヘッドの2種類使用しても良いし、1つの
へラドコア内にデータ及びサーボ両情報用のヘッドを組
みこむこともできる。まだサーボ情報用磁気・\ラドと
して磁気抵抗効果を利用した読出し専用へ、ドを用いる
ことも出来る。第5図(a)はサーボ情報用磁気記録媒
体3のB−、H特性であり、ディスクの半径方向(磁化
容易軸方向)はEl)の様に残留磁束當[B r は大
きいが円周方向(2)(磁化容易軸と曲角方向すなわち
磁化困難軸方向)lIBr  がノ」)キい。一方デー
タ情報用磁気記録媒体4のB−H特性は第5図(b)に
示す様に前記サーボ用媒体3とは逆に円周方向(2)の
Br が大きく、半径方向のBr が外さい為にサーボ
用磁気記録媒体3中に書き込まれたサーボ情報はサーボ
用へ、ドによってのみ読み出しおよび再書込みがなされ
データ用ヘッドでは読み出しおよび書込みは出来ない。
逆にデータ情報用磁気記録媒体4中VC@き込まれたテ
ーク情報はデータ用ヘッドによってのみ読み出しおよび
再書込みがなされサーボ用ヘッドでは読み出しおよび揚
込みは出来ない。
この様にサーボ用磁気記録媒体をデータ用磁気記録媒体
と分けることによりデータ領域の損失なしに高トラツク
密度が可能となる。
以下本発明による磁気記憶体の特徴を実施例により睨明
する。
実施例1 非磁性基体Iとしてのディスク状アルミニウム合金盤上
に非磁性層2としてニッケルー燐合金を約50μmの厚
さにめっきし、最大表面粗さ002μmになるまで鏡面
樹層仕上げした。該ニッケルー燐合金層上に第3図の装
置を用いてサーボ情報用磁気記録媒体3として面内半径
方向に磁化容易軸を有するコバルト・ニッケル合金を斜
め蒸元法にて第3図(’b)の様に膜厚O1μmにて被
覆し、該サーボ用媒体3の上にデータ情報用磁8奴体4
として面内円周方向に磁化容易軸を有するコバルト・ニ
ッケル合金を同じく第3図傾の様に斜め蒸着法によって
膜厚O1μmにて被覆した。該データ用媒体4の上に保
護膜5としてテトラヒドロキシシランのアルコール溶液
をスピン塗布して200℃で焼成し膜厚0゜1μmのケ
イ酸重合物を被覆して磁気ディスクを作った。
実施例2 実施例1と同様に但し、非磁性基体としてポリエステル
を用い、その上に実施例1と同様にサーボ情報用磁気記
録媒体、データ情報用磁気記録媒体、保護膜の順に被覆
して磁気ディスクを作った。
実施例1,2の磁気ディス〃を用いて線届度3oOoO
FB、PI、トラック¥17i1500〜3tJOOT
PIを得ることが出来た。
実施例3 実施例1と同様にして得られたこ、ケル−燐合金層上第
4図の装置を用いて、第4図の口兄明で述べた方法にて
サーボ情報用磁気すじ惰媒体3とデータ情報用磁気記憶
媒体4をそれぞれ膜厚o、iμm。
(1,05μmにて被覆しだ。該媒体の上に保護膜とし
てB、Cをイオンブンーティンダ法によりO,OSμm
の厚さに被覆して磁気ディスクを作った。
なお本発明は連続薄膜磁性媒体を有する磁気記憶体につ
いてのべたが、針状の鉄酸化物、鉄窒化物、Cr O2
微粒子又はFe、Co、Ni反びそれらの合金微粒子等
の磁性体微粒子を付根バインダー中に分散させた不連続
磁性媒体においても磁場中で前記磁性体微粒子をサーボ
用媒体は半径方向に、又データ用媒体は円周方向に分散
配向させることにより、使用出来ることは明らかて゛あ
る。また斜め蒸着法の他にも磁場中蒸着又は磁場中スパ
ッタリングによっても半径方向及び円周方向に磁化容易
軸を有するザーボ用反ひデータ用媒体を作ることが出来
る。
【図面の簡単な説明】
図   哀 第p千よσづ図は磁気記憶体の〜r面図である。 この図で 1・・・非磁性基体、2・−・非磁性層、3・・サーボ
情報用磁気記録媒体、4・・・データ情報用磁気記録媒
体、5・・保護膜、 第3図(bj 、 (Mjは斜め蒸着法に用いる装置の
概1113図である。 第3図(の’)’ 、 (Q)′’ は磁気ディスクの
斜視図。 この図で 6・・・ルツボ、7.7’・・シールド、8・・・蒸気
流、9・・−ディスク、IO・−蒸気流入射方向、11
・・・ディスク回転方向、13・・・サーボ情報用磁気
記録媒体の単位時間当りの付着領域、14−・データ情
報用磁気記録媒体の単位時間当りの付着領域、第4図(
し)は別の斜め蒸着装置の概略図である。 第4図(a)′  は磁気ディスクの斜視図である。 この図で 6・・・サーホ情報用破気記録媒体被覆用ルツボ、6′
・・・データ情報用磁気記録媒体扱覆用ルソホ、7・・
・シールド、8,8′・・・蒸気流、9・・・ディスク
、。 10 、10’・・・蒸気流入射方向、11・・ディス
ク回転方向、l 2 、 l 2’・・・シャッター、
13・・・サーボ情報用磁気記録媒体の単位時間当りの
付着領域、14・・・データ情報用磁気記録媒体の単位
時間当りの付着領域、 第5図(、) 、 (b)はサーボ情報用及びデータ情
報用磁気記録媒体のヒステリシス特性。 21 囚 才 2 圀 第3図 (a)              (C)(b  )
                        (
dノオ μ 閃 (0) (b)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基体上に被覆された磁気記憶体の面内単一方向に
    磁化容易軸を有するサーボ情報用磁気記憶媒体と該媒体
    の上に被覆される該サーボ情報用磁気記1・居媒体の磁
    化容易軸に対し直角方向に16化容易軸を有するデータ
    情報用磁気記憶媒体とを具備してなることを特徴とする
    磁気記憶体。
  2. (2)サーボ情報用磁気記憶媒体の磁化容易軸が面内半
    径方向にあり、データ情報用磁気Se憶媒体の磁化容易
    軸か面内円周方向にある特許31::求の範囲第1項記
    載の磁気記憶体。
  3. (3)サーボ情報用磁気記憶媒体の磁化容易軸か面内円
    周方向にあり、データ情報用磁気記憶媒体の磁化容易軸
    が面内半径方向にある特許請求の範囲第1項記載の磁気
    記憶体。
  4. (4)基体上に形成される磁気記憶体の単一方向に蒸気
    の入射方向を倚する斜め蒸着により面内単一方向に磁化
    容易軸を有するサーボ情報用磁気記憶媒体を形成し、該
    媒体の上に該媒体の磁化容易軸に直角方向に蒸気の入射
    方向を有する斜め蒸着により前記サーボ情報用磁気記憶
    媒体の磁界容易軸と直角方向に磁化容易軸を有するデー
    タ情報用磁気記憶媒体を形成せしめることを特徴とする
    磁気記憶体の製造方法。
  5. (5)磁気記憶体の半径方向に蒸気の入射方向を有する
    斜め蒸着により面内半径方向に磁化容易軸を有するサー
    ボ情報用磁気記憶媒体を扱覆し、該媒体上に磁気記憶体
    の円周方向に蒸気の入射方向を倚する斜め蒸着により面
    内円周方向に磁゛化容易軸を有するデータ情報用磁気記
    憶媒体を被覆する特許請求の範囲第4項配戦の磁気記憶
    体の製造方法。
  6. (6)磁気記憶体の円周方向に蒸気の入射方向を存する
    斜め蒸滝により面内円周方向に磁化容易軸を有するサー
    ボ情報用磁気記憶媒体を被覆し、該媒体上に磁気記憶体
    の面内半径方向に蒸気の入射方向を侍する斜め蒸着によ
    り面内半径方向に磁化容易軸を有するデータ情報用磁気
    記憶媒体を被覆する特許請求の範囲第4〕貝6己載の磁
    気記憶体の製造方法。
JP6584283A 1983-04-14 1983-04-14 磁気記憶体とその製造方法 Pending JPS59191134A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009055826A (ja) * 2007-08-31 2009-03-19 Iseki & Co Ltd コンバインの刈取穀稈搬送装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5321905A (en) * 1976-08-12 1978-02-28 Fuji Photo Film Co Ltd Preparation of magnetic recording material
JPS57127925A (en) * 1981-01-30 1982-08-09 Sekisui Chem Co Ltd Magnetic recording medium

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