JPS5918549A - カラ−ブラウン管 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はカラーブラウン管に係り、特にビユリティドリ
フトを改善するようになされたカラーブラウン管に関す
るものである。

〔発明の技術的背景とその問題点〕

カラーブラウン管は通常第１図に示すような構造からな
る。

即ち、内面に赤、緑、青各色に発光する螢光体層がドツ
ト状やストライプ状に形成された螢光面（２）が被着形
成されてなるパネル（１）と、この螢光面（２）に所定
間隔（ｑ値）をもって配設されたシャドウマスク（３）
と、このシャドウマスク（３）のスカート部０１）を支
持すると共にシールド（５）の固定されたマスクフレー
ム（４）と、このマスクフレーム（４）をパネルビン（
２）に支持するバイメタル（８）及びホルダ（９）から
なるマスク支持構体と、パネル（１）にファンネル（６
，）を介して連接されたネック（６，）内に設けられた
電子銃（７）から構成されている。

このようなカラーブラウン管においては電子銃（力から
射出される電子ビームＨＱ３）のうち、電子ビームＵＪ
は偏向ヨークにより偏向されシャドウマスり（３）に射
突し、一部はシャドウマスク（３）に穿設された電子ビ
ーム通過孔部を通り螢光面（２）に射突され所定の螢光
体層を発光させるが大部分はシャドウマスク（３）に射
突し、このシャドウマスク（３）を加熱する。また過偏
向された電子ビーム←濁はシールド（５）に当たりこの
シールド（５）を加熱すると共にファンネル（６，）側
に反射される。

ピユリティドリフトは電子ビームα２１σ樽の射突する
シャドウマスク（３）及びシールド（５）が発熱・膨張
し、更にこの熱がスカート（１１）、マスクフレーム（
４）、バイメタル（８）、ホルダ（９）と伝わっていく
ため、各部分で温度差が発生し、そのため部品の変形が
発生し電子ビームα匂がンヤドウマスク（３）の電子ビ
ーム通過孔部を介して螢光体層を射突する位置が移動し
、色ずれや色むらを発生する現象でおる。

次に、このピユリティドリフトの発生機構を第２図乃至
第６図により説明する。

先ず、第２図は各部品の時間と温度上昇を示すグラフで
なり、曲線（イ）はシャドウマスク（３）、曲線（２Ｌ
）はスカート部（１１）、曲線Ｑ禮はマスクフレーム（
４）、曲線（ハ）はバイメタル（８）であり、シャドウ
マスク（３）から離れるにしたがって温度の安定時間が
長くなって行くことを示している。

第３図はピユリティドリフトの第１段階を示すものであ
り、シャドウマスク（３）の発熱膨張時を示し、シャド
ウマスク（３）のみが膨張し破線（３□）、即ち、矢印
（３ａ）に示すようにパネル（１）側に変形した状態を
示しておりこの場合拡大図である（ｂ）図に示すように
シャドウマスク（３）の電子ビーム通過孔部の移動によ
り螢光面（２）の例えば赤色螢光体層（２Ｒ）に射突す
る電子ビーム（１２Ｒ）も破線で示す（１２：ａ、）位
置、即ちパネル（１）の中央部よりに移動しランディン
グ位置が変化することになる。

第４図はスカートａυマスクフレーム（４）の膨張時で
あり、この場合先ずシャドウマスク（３、）の熱はスカ
ートａυに伝導し、第４図（ａ）のようにスカート部Ｉ
を破線（１１１）で示す位置に移動する。この場合シャ
ドウマスク（３１）は矢印（３ｂ）方向に移動し、破線
で示すほぼ最初のシャドウマスク（３，）の位置まで変
化する。更にマスクフレーム（４）に熱が伝わると第４
図（ｂ）のようにマスクフレーム（４）は破線で示す位
置（４，）まで矢印（４ａ）のように移動する。

これら４図に示す状態では電子ビームα旙の移動方向は
第３図の時と逆になる。

次Ｖｒ−第５図及び第６図に示すようにノ（イメタル（
８）に熱が伝達すると、シャドウマスク（３８）とマス
クフレーム（４１）Ｕバイメタル（６）の働きにより全
体的に螢光面（１）方向に移動し、電子ビームは矢印（
３ｃ）方向に移する。

これら第３図乃至第６図の電子ビームランディングの変
化をグラフに示すと第７図に示すようになる。図におい
て（０）は設定時のランディング点、（−）ハパネルの
中心にずれている時、（＋）はノ（ネルの周辺にずれて
いる時で各部品によるビームランディング変化であり、
シャドウマスク（３）は曲線ＯＩ）、スカート部ａυは
曲線曽、マスクフレーム（４）は曲線（ハ）、バイメタ
ル（９）は曲線に）でありこれらを総合した全体の変化
は最小Ａ（ハ）最大点（至）の差をビュリテづドリフト
とし、スイッチ閉後収来した点６？ｌまでの時間を有す
る曲線−のようになっている。

このような構造において、バイメタル（８）の動きは矢
印（８ａ）方向であり、パネルピン（１０１を支点にし
てホルダ（９）が回転し、フレーム（４１）をフレーム
（４ｇ）に移動させるものでおるがホルダ（９）とパネ
ルピン舖の滑りが悪い場合、移動がスムーズに行かず間
欠的になり、これが原因してビームランディングの補正
が均一に行なわれガかったり、また熱がバイメタル（８
）１．で伝わるまでに時間がかかり安定化が遅くなる問
題点がある。

し発明の目的〕 本発明は前述した従来の問題点に鑑み万されたものであ
り、ホルダとフレームの間に設けられたバイメタルを除
去しこのバイメタルで行なっていた補正をシャドウマス
クとフレームの間に波形の高膨張支持帯を設け、この高
膨張支持帯とシャドウマスク及びフレームとを交互に一
定の距離をおいて溶接することにより、熱膨張時にシャ
ドウマスクとフレームとの間隔を大とし、ピユリティド
リフトを調整し得るようドしたカラー受像管を提供する
ことを目的としている。

〔発明の概要〕

即ち、本発明はシャドウマスクとマスクフレーム間の所
望部に所定の間隔でシャドウマスクとマスクフレームに
交互に溶接固定された高熱膨張率を有するほぼ波形の支
持帯を介在させたことを特徴としており、この支持帯の
一部をシールドニ使用する構造、この支持帯を水平軸に
沿う方向及びまたは垂直軸に沿う方向に介在させる構造
、水平軸に沿う方向及びまたは垂直軸に沿う方向に分割
して介在妊せる構造でちり、この支持帯の熱膨張を利用
してシャドウマスクを螢光面に近すけ、ピユリティドリ
フトを短時間に補正することが可能なカラーブラウン管
である。

〔発明の実施例〕

次ニ本発明のカラーブラウン管の一実施例の要部を第８
図乃至第１３図により説明する。

即ち、シャドウマスク（４１）は本体（４１１）スカー
ト部（’ｉ　１　Ｊ及びフランジ（４１ｍ）からなり、
この７ランジ（４１１）とマスクフレーム（４′ｊＩ間
には高熱膨張率を有する波形の支持帯（４埠が介在され
、最初７ランジ（４１８）に溶接点（イ）で溶接したの
ちマスクフレーム（４り上に載置しこのフランジ（４１
ｍ）に設けられた開孔部（４１ａ）を使用してマスクフ
レーム（４■に溶接点（４ηで溶接される。この場合、
溶接点（４７）と溶接点（４６）の間隔（４印は管種、
補正量などにより異なるがこれに適した所定の等間隔に
なるようになされている。

マタマスクフレーム（４■はホルダ０→、パネルビン（
４つを介してパネルの側壁部（１□）に係止されるよう
になっている。

この様な構造にすることにより支持帯（４２１の熱膨張
率をシャドウマスク（４Ｉ）及びマスクフレーム（４３
）より大きくシ、また間隔（４匂を変えることによりピ
ユリティドリフトの変化量を自由に選ぶことができるの
で、従来のバイメタルは不用となり安定までの時間を短
縮できる。

即ち、第１１図のように第１０図を模式化し、シャドウ
マスク（４υのフランジ（４１ｓ）とマスクフレーム（
４３１の線膨張率を１．５Ｘ１０．支持帯（口の線膨張
率を１１．５　Ｘ　１０　、冷却時と動作時の温度差を
８０“０１７ランジ（４１Ｓ）とマスクフレームの間隔
（４坤を１．０譚Ｌ１溶接点Ｈ（３）の管軸方向の間隔
（４８１を１５ｍｍとすると、引算によればフランジ（
４１３）即ちシャドウマスク＠０の２点鎖線の位置まで
の移動量−は約０１７非となる。

このように従来バイメタルで行われていた調整が支持帯
で行なわれることに力る。

次に本実施例の構造による各部品の時間と温度上昇曲線
を第１２図により説明する。図中破線は従来例の場合を
示す。

即ちシャドウマスクの温度上Ｒは曲線槌のように従来と
ほぼ同様でおるがスカート部の温度上昇は曲線６荀に示
すように従来よりも速く、マスクフレームの温度上昇は
曲線Ｇつに示すように従来よりも遅くなる。これは熱の
伝導が従来はシャドウマスクとマスクフレームを直接溶
接し、本実施例の場合は支持帯が介在されているためで
ある。ｔたバイメタルの温度上昇の曲線（ト）は支持帯
の温度上昇の曲ｉｐ′？）を対比してもわかるように本
実施例の方カ速く安定するので、ピユリティドリフトを
早期ＶＣ補正することができるし更に支持帯を管軸方向
に突出させシールドを兼ねさせることにより曲線６１１
０のように更に速くすることが可能である。

次に、第１２図は本実施例と従来例のビームランディン
グを対比して示す図であり、シャドウマスクは曲線６し
ｊ−ト部は曲線−、マスクフレームは曲線＠）、支持帯
は曲線（ホ）でありこれらを総合した全体の変化は曲線
（６３）のようになり、従来例の曲線（至）と異なる曲
線を画くし、最小点なども従来例より低くすることが可
能となった。

次に、本発明のカラーブラウン管の他の実施例を第１４
図及び第１５図により説明する。

即ち、第１４図はマスクフレーム（６）の水平軸（Ｘ−
Ｘ）に沿う方向に斜線で示す支持帯（６４）を介在させ
た例でおり、これは垂直軸（Ｙ−Ｙ　）に沿う方向に介
在させてもよいしまた両方に介在させてもよい。

第１５図はマスクフレーム（６７）の水平軸（Ｘ−Ｘ）
に沿う方向及び垂直軸（Ｙ−Ｙ）に沿う方向に分割して
それぞれ斜線で示す支持帯（６６）を分割して介在させ
た例であり、これも垂直軸（Ｙ−Ｙ）に沿う方向のみ、
または水平軸（Ｘ−Ｘ）′ＶＣ沿う方向のみに介在させ
てもよい。

〔発明の効果〕

上述のように本発明のカラーブラウン管１￥ヤドウマス
クとマスクフレーム間の所望部に所定の間隔でシャドウ
マスクとマスクフレームＫ［互に溶接固定された高熱膨
張率を有するほぼ波形の支持帯を介在させることにより
ピユリティドリフトを早期に安定することが可能となる
のでその工業的価値は極めて犬である。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第７図は従来のカラーブラウン管の一例を示
す図であり、＠１図は要部説明図、第２図は各部品の温
度上昇曲線図、第３図はビユリティドリフトの第１段階
を示す図でおり、（ａ）図はシャドウマスクのみか発熱
膨張した状態を示す説明図、（ｂ）図は（ａ）図におけ
る電子ビームのランディング位置の変化を示す説明図、
第４図（ａ）はシャドウマスクのスカート部迄加熱され
た状態を示す説明図、第４図（ｂ）はマスフッ１／−ム
迄加熱ｅｌｌ） ４６．４７・・・溶接点 された状態を示す説明図、第５図はバイメタル動作時の
各部の動きを示す説明図、第６図は第５図の要部断面図
、第７図は各部の加熱によるビームランディングの変化
を示す曲線図、第８図乃至第１３図は本発明のカラーブ
ラウン管の一実施例の要部を示す図であり第８図は開路
説明図、第９図は斜視図、第１θ図は断面図、第１１図
は支持帯の熱膨張によるシャドウマスクとマスクフレー
ムとの間隔の広がりを示す模式図、第１２図は各部品の
温度上昇曲線図、第１３図は各部の加熱によるビームラ
ンディングの変化を示す曲線図、第１４図及び第１５図
は本発明のカラーブラウン管のそれぞし仙ノ実施例に使
用するマスクフレームと支持帯の関係を示す説明図であ
る。 ２・・・・・・螢　光　面　　２Ｒ・・赤色螢光体層３
．３．．３意、３．．４１・・・シャドウマスク４、４
．、４３．６５．６７・・・マスクフレーム５・・・・
シールド　　　８・・・・・・バイメタル９．４４・・
・ホ　ル　ダ　１０，４５・・パネルビン１１、４１２
・・・スカート部４２．６４．６６・・・支持帯峻 代理人　弁理士　井　上　−男 −÷剣

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）　　シャドウマスクとマスクフレーム間の所望部
   に所定の間隔で前記シャドウマスクと前記マスクフレー
   ムに又互に溶接固定された高熱膨張率を有するケ１ば波
   形の支持帯を介在させたことを特徴とするカラーブラウ
   ン管
2. （２）支持体が所定寸法だけ管軸方向に突出しているこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のカラーブラ
   ウン管
3. （３）　　支持帯を水平軸に沿う方向及びまたは垂直軸
   に沿う方向に介在させたことを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載のカラーブラウン管（４）支持帯を水平軸
   に沿う方向及びまたは垂直軸に沿う方向に分割して介在
   させたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のカ
   ラーブラウン管