JPS5934046Y2 - シヤドウマスク支持構体 - Google Patents
シヤドウマスク支持構体Info
- Publication number
- JPS5934046Y2 JPS5934046Y2 JP7027680U JP7027680U JPS5934046Y2 JP S5934046 Y2 JPS5934046 Y2 JP S5934046Y2 JP 7027680 U JP7027680 U JP 7027680U JP 7027680 U JP7027680 U JP 7027680U JP S5934046 Y2 JPS5934046 Y2 JP S5934046Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- bimetal
- support structure
- mask
- mask support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はシャドウマスク支持構体に関するものである。
シャドウマスク型カラー受像管は第1図に示す様に内面
に電子ビームの射突により赤、緑、青各色に発光する螢
光体層からなる螢光面1が被着形成されたパネル2と、
このパネル2にファンネル3を介して連接されたネック
4と、このネック4内に内装された電子銃5と、前記パ
ネル2に一定間隔をもって対設され多数の開孔6aを有
するシャウドマスク6とからなっている。
に電子ビームの射突により赤、緑、青各色に発光する螢
光体層からなる螢光面1が被着形成されたパネル2と、
このパネル2にファンネル3を介して連接されたネック
4と、このネック4内に内装された電子銃5と、前記パ
ネル2に一定間隔をもって対設され多数の開孔6aを有
するシャウドマスク6とからなっている。
このシャドウマスク6はマスクフレーム7に支持されて
おり、更にこのマスクフレーム7はシャドウマスク支持
構体9を介してパネル2の側壁部に植設されたパネルピ
ン8に連結支持されている。
おり、更にこのマスクフレーム7はシャドウマスク支持
構体9を介してパネル2の側壁部に植設されたパネルピ
ン8に連結支持されている。
電子銃5がら射出された電子ビーム10は加速偏向され
て(図示せず)シャドウマスク6の開孔部6aを介して
螢光面1の所望の螢光体層に射突し、カラー面像が再現
される。
て(図示せず)シャドウマスク6の開孔部6aを介して
螢光面1の所望の螢光体層に射突し、カラー面像が再現
される。
然るに通常シャドウマスク6の開孔部6aを通過する電
子ビーム10はシャドウマスク6の全有効面積に到達す
る全電子ビームの20乃至30%であり、他の電子ビー
ム、即ち、開孔6a部以外に射突する不要電子ビームは
シャドウマスク6及びマスクフレームを加熱し、これら
を熱膨張させることになり、シャドウマスク支持構体9
が単なるスプリング部材などからなる場合には第2図に
示す様にシャドウマスク6は61の位置、マスクフレー
ム7は7、の位置に、はぼ螢光面1に対して矢印11方
向、即ちほぼ平行方向に移動する。
子ビーム10はシャドウマスク6の全有効面積に到達す
る全電子ビームの20乃至30%であり、他の電子ビー
ム、即ち、開孔6a部以外に射突する不要電子ビームは
シャドウマスク6及びマスクフレームを加熱し、これら
を熱膨張させることになり、シャドウマスク支持構体9
が単なるスプリング部材などからなる場合には第2図に
示す様にシャドウマスク6は61の位置、マスクフレー
ム7は7、の位置に、はぼ螢光面1に対して矢印11方
向、即ちほぼ平行方向に移動する。
このため、例えばシャドウマスク加熱前には実線で示す
電子ビーム10は螢光面1の赤色に発光する螢光体層1
Rに射突していた場合、シャドウマスク6に射突する不
要電子ビームによる加熱により、シャドウマスクの開孔
部6aの位置が移動するので加熱前と同じ開孔部6aを
通過するためには点線で示す電子ビ−ム10. に実質
的に移動することとなる。
電子ビーム10は螢光面1の赤色に発光する螢光体層1
Rに射突していた場合、シャドウマスク6に射突する不
要電子ビームによる加熱により、シャドウマスクの開孔
部6aの位置が移動するので加熱前と同じ開孔部6aを
通過するためには点線で示す電子ビ−ム10. に実質
的に移動することとなる。
この結果螢光面1の緑色に発光する螢光体層16に射突
し、所謂ミスランディングによる色ずれを生じ、カラー
受像管の最も重要な特性の一つである忠実な色の再現が
不可能となる。
し、所謂ミスランディングによる色ずれを生じ、カラー
受像管の最も重要な特性の一つである忠実な色の再現が
不可能となる。
この色ずれを防止するために、従来マスクフレム7とパ
ネルピン8の間にバイメタルを含むシャドウマスク支持
構体9を設け、第3図に示すようにシャドウマスク6、
マスクフレーム7が熱膨張を生じたとき、この熱により
バイメタルを湾曲させ、矢印12の方向、即ち、螢光面
1にシャドウマスク6及びマスクフレーム7を近ずける
方向に移動させ、シャドウマスク6を6□の位置、マス
クフレーム7を72の位置に移動させるようにする。
ネルピン8の間にバイメタルを含むシャドウマスク支持
構体9を設け、第3図に示すようにシャドウマスク6、
マスクフレーム7が熱膨張を生じたとき、この熱により
バイメタルを湾曲させ、矢印12の方向、即ち、螢光面
1にシャドウマスク6及びマスクフレーム7を近ずける
方向に移動させ、シャドウマスク6を6□の位置、マス
クフレーム7を72の位置に移動させるようにする。
すなわち電子ビーム10はシャドウマスク6及び6□の
同一開孔部を通過し、螢光面1の例えば赤色に発行する
螢光体層りのみに射突し、ミスランディングによる色ず
れを防止するようにしているのが現状でありこのバイメ
タルを含むシャドウマスク支持構体に関してな種々提案
がなされている。
同一開孔部を通過し、螢光面1の例えば赤色に発行する
螢光体層りのみに射突し、ミスランディングによる色ず
れを防止するようにしているのが現状でありこのバイメ
タルを含むシャドウマスク支持構体に関してな種々提案
がなされている。
従来のカラーブラウン管に使用されるシャドウマスク支
持構体の簡略図を第4図及び第5図に示す。
持構体の簡略図を第4図及び第5図に示す。
即ち第4図においてシャドウマスク支持構体41は、バ
イメタル43とスプリング材44とがら樋底される。
イメタル43とスプリング材44とがら樋底される。
バイメタル43はフレーム43例の低膨張材43aとス
プリング部材44側の高膨張材43bとが貼り合わせた
構造を有している。
プリング部材44側の高膨張材43bとが貼り合わせた
構造を有している。
図中×印は溶接点を示す。
尚スプリング部材のパネルピンとの連結部は省略して示
していない。
していない。
また破線は電子ビームがシャドウマスクに射突して加熱
され、この熱によりシャドウマスク支持構体及びマスク
フレームが理想的に移動した状態を示す。
され、この熱によりシャドウマスク支持構体及びマスク
フレームが理想的に移動した状態を示す。
しかし乍らバイメタル43の低膨張材43aとマスクフ
レーム42とは溶接点47で固定されるが、上記者は面
接触であるために、バイメタルとしての機能が発揮され
た場合その一部は矢印49で示す外力となってあられれ
る。
レーム42とは溶接点47で固定されるが、上記者は面
接触であるために、バイメタルとしての機能が発揮され
た場合その一部は矢印49で示す外力となってあられれ
る。
この方向の外力は本質的に不所望なものであって、熱的
位置変化によってもも電子ビームに対して実質的に同一
のマスク開孔部となる本来の位置変化を妨げる方向に作
用する3またこのような外力49はバイメタル43とス
プリング部材44及びバイメタル43とマスクフレーム
42の取付精度によって異なるので変化の程度や方向に
は相当なばらつきを有する。
位置変化によってもも電子ビームに対して実質的に同一
のマスク開孔部となる本来の位置変化を妨げる方向に作
用する3またこのような外力49はバイメタル43とス
プリング部材44及びバイメタル43とマスクフレーム
42の取付精度によって異なるので変化の程度や方向に
は相当なばらつきを有する。
従ってこのような不所望な外力によるマスクの位置変化
は結果として色純度の劣化をもたらし、良好な色再現性
が得られないと言う欠点があった6本考案は上記欠点に
鑑みなされたもので、バイメタルに突起を設けることに
よってマスクフレームに不所望な外力が加わるのを防止
して、安定したバイメタル動作を行なわせることが可能
なシャドウマスク支持構体を提供することを目的とじて
いる。
は結果として色純度の劣化をもたらし、良好な色再現性
が得られないと言う欠点があった6本考案は上記欠点に
鑑みなされたもので、バイメタルに突起を設けることに
よってマスクフレームに不所望な外力が加わるのを防止
して、安定したバイメタル動作を行なわせることが可能
なシャドウマスク支持構体を提供することを目的とじて
いる。
次に第6図及び第7図により本考案のシャドウマスク支
持構体の一実施例を説明する。
持構体の一実施例を説明する。
即ち、シャドウマスク支持構体61は、パネルに所定間
隔をもって対設されるシャドウマスク66を保持するマ
スクフレーム62に一端部が固定されたバイメタル63
と、このバイメタルの他端部65に一端が固定され、他
端が前記パネルに植設されたパネルピン(図示せず)に
嵌合されたスプリング部材64とから樋底されている。
隔をもって対設されるシャドウマスク66を保持するマ
スクフレーム62に一端部が固定されたバイメタル63
と、このバイメタルの他端部65に一端が固定され、他
端が前記パネルに植設されたパネルピン(図示せず)に
嵌合されたスプリング部材64とから樋底されている。
ここで、マスクフレーム62とスプリング材64は低熱
膨張材63aと高熱膨張材63bよりなるバイメタル6
3によって支持固定させる。
膨張材63aと高熱膨張材63bよりなるバイメタル6
3によって支持固定させる。
このバイメタルには突起68(望ましくは円形状の突起
)を設けこの突起部分でバイメタルのマスクフレームに
対応する部分に支持固定させる。
)を設けこの突起部分でバイメタルのマスクフレームに
対応する部分に支持固定させる。
また必要に応じてスプリング部材に対応する部分に突起
68(望ましくは円形状の突起)を設けてバイメタルの
スプリング部材に対応する部分に接触固定させる。
68(望ましくは円形状の突起)を設けてバイメタルの
スプリング部材に対応する部分に接触固定させる。
図中×印は溶接点を示す。
また点線部分はシャドウマスクに電子ビームが照射され
、バイメタルが動作し、シャドウマスク支持構体が熱膨
張し位置変化を生じた状態を示す。
、バイメタルが動作し、シャドウマスク支持構体が熱膨
張し位置変化を生じた状態を示す。
またバイメタル63の低熱膨張材63aとしては例えば
64重量%の鉄及び36重量%のニッケルとからなるア
ンバー、高熱膨張ta3bとしては、例えば13重量%
のクローム及び8重量%としては、ニッケルを含有する
ステンレス鋼などが用いられる。
64重量%の鉄及び36重量%のニッケルとからなるア
ンバー、高熱膨張ta3bとしては、例えば13重量%
のクローム及び8重量%としては、ニッケルを含有する
ステンレス鋼などが用いられる。
また突起はプレス加工等で成形される。
本考案のシャドウマスク支持構体はバイメタルのマスク
フレームに対応する部分と、スプリング材に対応する部
分に突起68を設けているため、例えばマスクフレーム
62とバイメタル63とは突起68部の溶接点以外では
接触固定したい。
フレームに対応する部分と、スプリング材に対応する部
分に突起68を設けているため、例えばマスクフレーム
62とバイメタル63とは突起68部の溶接点以外では
接触固定したい。
従ってバイメタルが加熱により、点線のように移動する
場合、バイメタルとマスクフレーム62とは突起部以外
では接していないため大きな位置変化をさせることがで
き、バイメタル63による不所望な外力がマスクフレー
ム62に加わらないため、バイメタル63を動作させる
幅を大きくとることができる。
場合、バイメタルとマスクフレーム62とは突起部以外
では接していないため大きな位置変化をさせることがで
き、バイメタル63による不所望な外力がマスクフレー
ム62に加わらないため、バイメタル63を動作させる
幅を大きくとることができる。
またスプリング材84とバイメタル83の間にも突起を
設けると、バイメタル83の動作する幅を大きくとるこ
とができる。
設けると、バイメタル83の動作する幅を大きくとるこ
とができる。
即ちマスクフレーム82と接する側は、溶接点以外では
マスクフレーム82と接触することがなく、バイメタル
83に電子ビームによる熱膨張が起って低膨張材83a
と高膨張材83bの熱膨張の差による変形が起ってもバ
イメタル83とマスクフレーム82の接触点で外力が加
わることがなく、マスクフレーム82に取り付けられた
シャドウマスク(図示せず)に影響されることがない。
マスクフレーム82と接触することがなく、バイメタル
83に電子ビームによる熱膨張が起って低膨張材83a
と高膨張材83bの熱膨張の差による変形が起ってもバ
イメタル83とマスクフレーム82の接触点で外力が加
わることがなく、マスクフレーム82に取り付けられた
シャドウマスク(図示せず)に影響されることがない。
バイメタルに設けられる突起は、加工成形の点から円形
状が好ましくその大きさは、溶接点よりもやや大きめに
すると良い。
状が好ましくその大きさは、溶接点よりもやや大きめに
すると良い。
突起形状は円形状の他楕円、四角等種々の形状のものが
考えられるが何れの場合も円形の場合とばぼ同一の効果
を有する。
考えられるが何れの場合も円形の場合とばぼ同一の効果
を有する。
第9図、第10図は本考案のシャドウマスク支持構体の
他の実施例であり、バイメタルに設けた突起を線状に形
成したものである。
他の実施例であり、バイメタルに設けた突起を線状に形
成したものである。
なお全体の構成は第6図と同一であるので省略する。
この突起108はバイメタル103の端まで突き抜けて
いても同じ効果を有し、バイメタルな抵膨張材93a1
03a、高膨張材103bから出来ている。
いても同じ効果を有し、バイメタルな抵膨張材93a1
03a、高膨張材103bから出来ている。
また突起とマスクフレームまたはスプリング材と溶接す
るのも第7図の実施例と同様であり説明は省略する。
るのも第7図の実施例と同様であり説明は省略する。
以上のように本考案のシャドウマスク支持構体によれば
マスクフレームあるいはスプリング材ととの支持はバイ
メタルに設けられた突起によって戊されるので、バイメ
タルによる位置変化のうち不所望な位置変化を防止する
ことができると共にバイメタルの変化量を広範囲による
ことが可能であり、その工業的価値を極めて大である。
マスクフレームあるいはスプリング材ととの支持はバイ
メタルに設けられた突起によって戊されるので、バイメ
タルによる位置変化のうち不所望な位置変化を防止する
ことができると共にバイメタルの変化量を広範囲による
ことが可能であり、その工業的価値を極めて大である。
第1図はシャドウマスクを内装するカラー受像管の簡略
断面図、第2図は電子ビームのミスランディングの説明
図、図3図は電子ビームのミスランディングを防止する
ためにマスクフレームとシャドウマスクを移動した状態
を示す説明図、第4図は従来のシャドウマスク支持構体
の簡略断面図、第5図は従来のバイメタルの斜視図、第
6図は本考案のシャドウマスク支持構体の一実施例を示
す斜視図、第7図は第6図の一部であるバイメタルを示
す簡略断面図、第8図は本考案のシャドウマスク支持構
体の他の実施例を示す簡略断面図、第9図は本考案のシ
ャドウマスク支持構体に用いられるバイメタルの他の実
施例を示す斜視図、第10図は更に他の実施例を示す斜
視図である。 2・・・・・・パネル、6.46.66、86・・・・
・・シャドウマスク、7.42.62.82・・・・・
・マスクフレーム、43゜63、93.103・・・・
・・バイメタル、8・・・・・・パネルピン44、64
.84・・・・・・スプリング部材、9.41.61.
81・・・・・・シャドウマスク支持構体、68.88
,98,108−・・・・・突起
断面図、第2図は電子ビームのミスランディングの説明
図、図3図は電子ビームのミスランディングを防止する
ためにマスクフレームとシャドウマスクを移動した状態
を示す説明図、第4図は従来のシャドウマスク支持構体
の簡略断面図、第5図は従来のバイメタルの斜視図、第
6図は本考案のシャドウマスク支持構体の一実施例を示
す斜視図、第7図は第6図の一部であるバイメタルを示
す簡略断面図、第8図は本考案のシャドウマスク支持構
体の他の実施例を示す簡略断面図、第9図は本考案のシ
ャドウマスク支持構体に用いられるバイメタルの他の実
施例を示す斜視図、第10図は更に他の実施例を示す斜
視図である。 2・・・・・・パネル、6.46.66、86・・・・
・・シャドウマスク、7.42.62.82・・・・・
・マスクフレーム、43゜63、93.103・・・・
・・バイメタル、8・・・・・・パネルピン44、64
.84・・・・・・スプリング部材、9.41.61.
81・・・・・・シャドウマスク支持構体、68.88
,98,108−・・・・・突起
Claims (2)
- (1)パネルに所定間隔をもって対設されるシャドウマ
スクを支持し、前記シャドウマスクを保持するマスクフ
レームに一端部が固定されたバイメタルと、このバイメ
タルの他端部に一端が固定され、他端が前記パネルに植
設されたパネルピンに嵌合されたスピリング部材とから
なるシャドウマスク支持構体において、前記バイメタル
の前記マスクフレームまたはスプリング部材との固定部
のうち少くとも一方に突起を設け、この突起が前記マス
クフレームまたはスプリング部材と接触するよう固定さ
れることを特徴とするシャドウマスク支持構体。 - (2)前記突起は円形状であることを特徴とする実用新
案登録請求の範囲第1項記載のシャドウマスク支持構体
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7027680U JPS5934046Y2 (ja) | 1980-05-23 | 1980-05-23 | シヤドウマスク支持構体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7027680U JPS5934046Y2 (ja) | 1980-05-23 | 1980-05-23 | シヤドウマスク支持構体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56172249U JPS56172249U (ja) | 1981-12-19 |
JPS5934046Y2 true JPS5934046Y2 (ja) | 1984-09-21 |
Family
ID=29664144
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7027680U Expired JPS5934046Y2 (ja) | 1980-05-23 | 1980-05-23 | シヤドウマスク支持構体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5934046Y2 (ja) |
-
1980
- 1980-05-23 JP JP7027680U patent/JPS5934046Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56172249U (ja) | 1981-12-19 |
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