JPS59182994A - 複合めつき装置 - Google Patents
複合めつき装置Info
- Publication number
- JPS59182994A JPS59182994A JP5717183A JP5717183A JPS59182994A JP S59182994 A JPS59182994 A JP S59182994A JP 5717183 A JP5717183 A JP 5717183A JP 5717183 A JP5717183 A JP 5717183A JP S59182994 A JPS59182994 A JP S59182994A
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- JP
- Japan
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- particles
- tank
- plating
- plating soln
- soln
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
複合メッキ法で得られるメッキ皮膜は、単なるメッキ法
による皮膜に比べ、硬度、熱伝導、耐熱件、耐磨耗性に
優れ、特に部品の摺動部、電気接点などの複合メッキに
よる製造装置に関し、具体的には複合メッキ装置を提供
するものである。
による皮膜に比べ、硬度、熱伝導、耐熱件、耐磨耗性に
優れ、特に部品の摺動部、電気接点などの複合メッキに
よる製造装置に関し、具体的には複合メッキ装置を提供
するものである。
従来、複合メッキは、所定のめつき液中に、ある棟の粒
子を混入し、強制攪拌を行ないながらめっきするもので
ある。粒子は液中で攪拌されて一部は被めっき物に衝突
する。また電気化学的な電荷を帯ひて液中を泳動する。
子を混入し、強制攪拌を行ないながらめっきするもので
ある。粒子は液中で攪拌されて一部は被めっき物に衝突
する。また電気化学的な電荷を帯ひて液中を泳動する。
一般にメッキを量産する場合は、常に液の沢過を行うか
。活性炭濾過を行って、めっき液を清浄番こ保つ必要が
あるが複合メッキ法の場合は粒子が懸濁している為に、
それはバッチ方式すなわち、ある一定期間使用後に、ま
ず粒子を除去してから行なわなければならない。
。活性炭濾過を行って、めっき液を清浄番こ保つ必要が
あるが複合メッキ法の場合は粒子が懸濁している為に、
それはバッチ方式すなわち、ある一定期間使用後に、ま
ず粒子を除去してから行なわなければならない。
また、長時間にわたり粒子を液中番こ浸漬しておくと、
化学的な酸化還元反応（無電解めっき）が起こって、粒
子表面に薄く金属が析出する。これは、粒子の分散性を
悪化させ、複合メッキ皮膜の特性を損なう、従って適当
な期間にこの粒子を洗滌するか、取り代えなくてはなら
ない。この場合も上記の通り液全体をバッチ式的に処理
する必要がある。
化学的な酸化還元反応（無電解めっき）が起こって、粒
子表面に薄く金属が析出する。これは、粒子の分散性を
悪化させ、複合メッキ皮膜の特性を損なう、従って適当
な期間にこの粒子を洗滌するか、取り代えなくてはなら
ない。この場合も上記の通り液全体をバッチ式的に処理
する必要がある。
一方、添加する粒子の量は、全体液ｉとの濃度で表わさ
れるが、実際必要な粒子量は、それに比ベて少量のもの
で良く。更にメッキ基板の近傍に存在しているたけで良
い。しかし通常は液量に対して添加され、性資源から言
っても、不経済である。これはコストアップにつながる
。
れるが、実際必要な粒子量は、それに比ベて少量のもの
で良く。更にメッキ基板の近傍に存在しているたけで良
い。しかし通常は液量に対して添加され、性資源から言
っても、不経済である。これはコストアップにつながる
。
この発明は以上の事実に艦みてなされたもので混入する
粒子量を少なくし、複合メッキ液を構成する粒子の交換
、液の浄化が容易な複合めっき装置を提供するものであ
る。
粒子量を少なくし、複合メッキ液を構成する粒子の交換
、液の浄化が容易な複合めっき装置を提供するものであ
る。
本発明はメッキ液中に不溶性の粒子を懸濁させ、電解に
よって金属と懸濁粒子を同時に析出させる複合めっき装
置において、粒子とメッキ液から成る複合メッキ液を供
給する粒子槽とめつき液槽を多孔質の壁によって分離し
たことを特徴とする複合めっき装置を提供するものであ
る。
よって金属と懸濁粒子を同時に析出させる複合めっき装
置において、粒子とメッキ液から成る複合メッキ液を供
給する粒子槽とめつき液槽を多孔質の壁によって分離し
たことを特徴とする複合めっき装置を提供するものであ
る。
以下、この発明を実施例図面に基づいて説明する。図に
おいて１はメッキ液槽、２はこのメッキ液槽１を収容す
る加温槽でこの力１４温８（“１２とメッキ液槽１との
間に湯温を注ぐスペースろが形成されている。メッキ液
槽１にはさらに多孔質の壁４で形成された粒子槽５が収
容されている。メッキ液槽１には一例として硫酸ニッケ
ル、硫酸アンモニウムの如く金属を析出する電解質化合
物を成分としたメッキ液が供給きれ、粒子槽５にはこの
メッキ液と非電解質の粒子たとえばセラミックス、炭化
タングステンなどを成分とした複合メッキ液が４供給さ
れる。なお６はメッキ液槽１のメッキ液の洗浄する沢過
槓であり、たとえば活性炭などの吸着作用を利用したも
のが用いられる。この沢過檜６にはメッキ液槽１から導
出された往管７が連通し、さらにこのメッキ液槽１に導
入する複管８が連通している。９ａはメッキ液Ｗ１１に
設けられたプロペラ撹拌機、９ｂは粒子槽５に設けられ
たプロペラ撹拌機である。又１０はメッキ液槽１に設け
られた陽極であり、１１はメッキ基板１２で構成された
陰極である。
おいて１はメッキ液槽、２はこのメッキ液槽１を収容す
る加温槽でこの力１４温８（“１２とメッキ液槽１との
間に湯温を注ぐスペースろが形成されている。メッキ液
槽１にはさらに多孔質の壁４で形成された粒子槽５が収
容されている。メッキ液槽１には一例として硫酸ニッケ
ル、硫酸アンモニウムの如く金属を析出する電解質化合
物を成分としたメッキ液が供給きれ、粒子槽５にはこの
メッキ液と非電解質の粒子たとえばセラミックス、炭化
タングステンなどを成分とした複合メッキ液が４供給さ
れる。なお６はメッキ液槽１のメッキ液の洗浄する沢過
槓であり、たとえば活性炭などの吸着作用を利用したも
のが用いられる。この沢過檜６にはメッキ液槽１から導
出された往管７が連通し、さらにこのメッキ液槽１に導
入する複管８が連通している。９ａはメッキ液Ｗ１１に
設けられたプロペラ撹拌機、９ｂは粒子槽５に設けられ
たプロペラ撹拌機である。又１０はメッキ液槽１に設け
られた陽極であり、１１はメッキ基板１２で構成された
陰極である。
粒子槽５を構成する多孔質の壁４に形成された孔径は粒
子が粒子槽５からメッキ液槽１に流出するのを抑制する
孔に制限される。しかしこの孔径はメッキ液槽１内のメ
ッキ液及びこの液の成分として存在する各権イオンは十
分に通過できるものである。
子が粒子槽５からメッキ液槽１に流出するのを抑制する
孔に制限される。しかしこの孔径はメッキ液槽１内のメ
ッキ液及びこの液の成分として存在する各権イオンは十
分に通過できるものである。
この様な膜を使用することによって、電解中は必要なイ
オンは外部より供給される。またメッキ液中には粒子が
ほとんど浮遊していないので、必要時に活性炭の沢過檜
６を通すこと１こよって、めっき液は清浄化できる。一
方粒子は粒子槽５を引き上げ、容易に洗滌、変換ができ
る。従来ではメッキ液槽に必要な粒子を混入していたが
、これでは粒子槽５に必要量を入れるのみで良く、流加
蓋も自由に変えられる。
オンは外部より供給される。またメッキ液中には粒子が
ほとんど浮遊していないので、必要時に活性炭の沢過檜
６を通すこと１こよって、めっき液は清浄化できる。一
方粒子は粒子槽５を引き上げ、容易に洗滌、変換ができ
る。従来ではメッキ液槽に必要な粒子を混入していたが
、これでは粒子槽５に必要量を入れるのみで良く、流加
蓋も自由に変えられる。
なお、攪拌方法は、プロペラに限ったものではない。マ
グネティクスターラ、ジェットエアー等で粒子、液の攪
拌が十分番こ行なえる。
グネティクスターラ、ジェットエアー等で粒子、液の攪
拌が十分番こ行なえる。
この発明は以上の如く粒子の洗浄、メッキ液の洗浄が容
易に行うことができ、連続メッキに有効である。
易に行うことができ、連続メッキに有効である。
図はこの発明の一実施例に係る複合メッキ装置の断面図
である。 １・・・・・・・・・メツ皐液槽 ４・・・・・・・・・壁 ５・・・・・・・・・粒子槽 特許出願人 松下電工株式会社 代理人弁理士 竹 元 敏 丸 （ほか２名）
である。 １・・・・・・・・・メツ皐液槽 ４・・・・・・・・・壁 ５・・・・・・・・・粒子槽 特許出願人 松下電工株式会社 代理人弁理士 竹 元 敏 丸 （ほか２名）
Claims (1)
- （１）メッキ液中に不溶性の粒子を懸濁させ、電解によ
って金属と懸濁粒子を同時に析出させる複合めっき装置
において、粒子とメッキ液から成る複合メッキ液を供給
する粒子量とめっき液槽を多孔質の壁によって分離した
ことを特徴とする複合めっき装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5717183A JPS59182994A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 複合めつき装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5717183A JPS59182994A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 複合めつき装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59182994A true JPS59182994A (ja) | 1984-10-17 |
Family
ID=13048095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5717183A Pending JPS59182994A (ja) | 1983-03-31 | 1983-03-31 | 複合めつき装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59182994A (ja) |
-
1983
- 1983-03-31 JP JP5717183A patent/JPS59182994A/ja active Pending
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