JPS59182993A - Composite plating method - Google Patents

Composite plating method

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JPS59182993A
JPS59182993A JP5689383A JP5689383A JPS59182993A JP S59182993 A JPS59182993 A JP S59182993A JP 5689383 A JP5689383 A JP 5689383A JP 5689383 A JP5689383 A JP 5689383A JP S59182993 A JPS59182993 A JP S59182993A
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JP
Japan
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fluorine
copolymer
amount
plating
eutectoid
Prior art date
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Pending
Application number
JP5689383A
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Japanese (ja)
Inventor
Muneyori Matsumura
宗順 松村
Ken Araki
荒木 建
Tetsuo Otaka
大高 徹雄
Masumi Tanigawa
谷川 眞澄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Uemera Kogyo Co Ltd
C Uyemura and Co Ltd
Original Assignee
Uemera Kogyo Co Ltd
C Uyemura and Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

PURPOSE:To increase the extent of deposition without using a nonionic surfactant in the composite plating of a water insoluble org. polymer contg. fluorine by adding sulfamate ions and a cationic or amphoteric surfactant contg. fluorine to a plating soln. CONSTITUTION:A water insoluble org. polymer contg. fluorine is dispersed in a plating soln. contg. >=0.5mol sulfamate ions and a cationic surfactant contg. fluorine or an amphoteric surfactant contg. fluorine and showing cationic properties in the plating soln. Electroplating is carried out using the plating soln. Said polymer is polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, a tetrafluoroethylene-ethylene, copolymer, a chlorotrifluoroethylene-alkylene copolymer or the like. One or more kinds of such polymers may be dispersed.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロト
リフルオロエチレン、ポリ弗化ビニリデン、テトラフル
オロエチレンーヘキサフルオログロビレン共重合体、テ
トラフルオロエチレン−エチレン共重合体、クロロトリ
フルオロエチレン−アルキレン共重合体、弗化ビニリデ
ン−へキサフルオロプロピレン共重合体、弗化ビニリデ
ン−クロロトリフルオロエチレン共重合体、及び弗化ビ
二すデンーインタフルオロノロビレン共重合体から選ば
れる1種又は2種以上、よシ好適にはポリテトラフルオ
ロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリ弗
化ビニリデン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオ
ロプロピレン共重合体から選ばれる水不溶性フッ素系有
機関分子物質を複合めっきする方法に関し、更に詳述す
れば水不溶性有機高分子物質の共析量を増大させること
ができる複合めっき方法に関する。
Detailed Description of the Invention The present invention provides polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, tetrafluoroethylene-hexafluoroglobylene copolymer, tetrafluoroethylene-ethylene copolymer, chlorotrifluoroethylene copolymer, selected from fluoroethylene-alkylene copolymer, vinylidene fluoride-hexafluoropropylene copolymer, vinylidene fluoride-chlorotrifluoroethylene copolymer, and vinylidene fluoride-interfluoronorobylene copolymer One or more water-insoluble fluorinated organic molecular substances preferably selected from polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, and tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer. The present invention relates to a composite plating method, and more specifically, to a composite plating method that can increase the amount of eutectoid deposition of a water-insoluble organic polymer substance.

従来よシ、上述した如き水不溶性フッ素系有機高分子物
質を金属電気めっき被膜中に共析させることが知られて
いるが、その共析量を増大させることが重要な課題にな
っていた。即ち、前記水不溶性フッ素系有機高分子物質
を共析しためつき被膜は、潤滑性、耐摩耗性等、種々の
用途に適用され得るが、これらフッ素系有機高分子物質
の共析量が少ないと十分その効果を発揮し得ない場合が
あり、このためその共析量を多くすることが求められて
いた。
Conventionally, it has been known to eutectoid a water-insoluble fluorine-based organic polymer substance as described above into a metal electroplated film, but increasing the amount of eutectoid deposition has become an important issue. That is, the eutectoid coating of the water-insoluble fluorine-containing organic polymer substance can be applied for various purposes such as lubricity and wear resistance, but the amount of the fluorine-containing organic polymer substance eutectoid is small. Therefore, it has been required to increase the amount of eutectoid.

このために従来、カチオン性界面活性剤とノニオン性界
面活性剤とを併用してめっき液に添加し、前記フッ素系
有機高分子物質を共析させることが提案されているが、
この方法においては金属めっき被膜に共析されるフッ素
系有機高分子物質の共析量の最大は13容量チ程度であ
る。この場合、カチオン及びノニオン性界面活性剤の種
類や量、併用割合などを適宜選定してそれ以上の共析量
にすることは可能であるが、管理の厳密性が要求される
上、再現性に乏しく、現場生産上実際的でない問題があ
る。また、このようにカチオン性活性剤とノニオン性活
性剤とを併用することは、その各々の量及び両者の割合
を管理することがかなシ面倒であシ、更に上述したフッ
素系高分子物質を複合する従来の複合めっき方法におい
ては、めっき液の攪拌管理、被めっき物のラッキングの
仕方などの管理が面倒であった。即ち、複合めっきを行
なう場合、共析すべき有機高分子物質をめっき液中に均
一に分散させる必要があるが、活性剤量、その併用割合
が管理されていないと良好な複合めっきが行なわれない
場合があり、また特に従来のフッ素系高分子物質の複合
めっきにとっては攪拌の強さ、均一性が複合めっきの良
否に重大な影響があシ、攪拌が弱いと共析量が減少し、
強い攪拌を与えた場合でも、攪拌にむらがあると弱い攪
拌部分の共析量が少なくなり、このため1個の被めっき
物において強い攪拌が与えられた部分と弱い攪拌部分と
で共析量にかなりの相違か生じたシ、或いは1本のラッ
クに取シ付けられた上下の被めっき物量で、更にはめつ
き槽に対するラックの取シ付は位置などによって共析量
にむらが生じるなどの問題があった。
To this end, it has been proposed to add a combination of a cationic surfactant and a nonionic surfactant to the plating solution to co-deposit the fluorine-based organic polymer substance.
In this method, the maximum amount of the fluorine-based organic polymer substance eutectoided on the metal plating film is about 13 capacitances. In this case, it is possible to achieve a higher eutectoid amount by appropriately selecting the type, amount, and combination ratio of cationic and nonionic surfactants, but strict control is required and reproducibility is difficult. There is a problem that it is not practical in terms of on-site production. In addition, when using a cationic surfactant and a nonionic surfactant in combination, it is difficult to control the amount of each and the ratio of the two, and furthermore, it is difficult to control the amount of each and the ratio of the two. In the conventional composite plating method, it is troublesome to manage the stirring of the plating solution, how to rack the objects to be plated, etc. In other words, when performing composite plating, it is necessary to uniformly disperse the organic polymer substance to be eutectoid in the plating solution, but if the amount of the activator and the ratio of its combination are not controlled, good composite plating cannot be performed. In addition, especially for conventional composite plating of fluorine-based polymer materials, the strength and uniformity of stirring have a significant effect on the quality of composite plating.If the stirring is weak, the amount of eutectoid decreases,
Even when strong stirring is applied, if the stirring is uneven, the amount of eutectoid will be reduced in the weakly stirred area. Therefore, in one object to be plated, the eutectoid amount will be different between the strongly agitated area and the weakly stirred area. There may be a considerable difference in the amount of eutectoid, or there may be unevenness in the amount of eutectoid depending on the amount of objects to be plated on the upper and lower sides attached to one rack, or the position of the rack relative to the plating tank. There was a problem.

本発明者は、上述した水不溶性フッ素系有機高分子物質
の複合めっきに際し、その共析量を増大させることにつ
いて種々検討を重ねた結果、スルファミン酸イオンをめ
っき液中に0.5モル以上、よシ好ましくは0.8モル
以上含有させると共に、フッ素系カチオン性界面活性剤
もしくはめつき液中でカチオン性を示すフッ素系両性界
面活性剤をこのめっき液に添加し、この液から前記水不
溶性フッ素系有機高分子物質を複合めっきした場合、(
5) 共析量が増大すると共に、ノニオン性活性剤を添加せず
、フッ素系カチオン性界面活性剤のみを単独で使用した
場合でも共析量が増大した状態で良好な複合めっきを行
なうことができ、しかも従来法に比べて攪拌による共析
量への影響が少なく、従ってめっき管理が非常に簡単に
なるととを知見し、本発明をなすに至ったものである。
The present inventor conducted various studies on increasing the amount of eutectoid when performing composite plating with the water-insoluble fluorine-based organic polymer substance described above, and found that 0.5 mol or more of sulfamic acid ion was added to the plating solution. Preferably, the content is 0.8 mol or more, and a fluorine-containing cationic surfactant or a fluorine-containing amphoteric surfactant that exhibits cationic properties in the plating solution is added to the plating solution, and from this solution the water-insoluble When composite plating is performed with a fluorine-based organic polymer material, (
5) As the amount of eutectoid increases, it is possible to perform good composite plating with an increased amount of eutectoid even when only a fluorine-based cationic surfactant is used alone without adding a nonionic activator. The inventors have discovered that the amount of eutectoid deposited by stirring is less affected than in conventional methods, and that plating management is therefore extremely simple, leading to the present invention.

従って、本発明はスルファミン酸イオンを0.5モル以
上含有し、かつフッ素系カチオン性界面活性剤もしくは
めっき液中でカチオン性を示すフッ素系両性界面活性剤
を添加しためっき液に前記水不溶性フッ素系有機高分子
物質を分散させ、このめっき液を用いて電気めっきする
ことを特徴とする複合めっき方法を提供するものである
Therefore, the present invention provides a plating solution containing 0.5 mole or more of sulfamate ions and a fluorine-based cationic surfactant or a fluorine-based amphoteric surfactant that exhibits cationic properties in the plating solution. The present invention provides a composite plating method characterized by dispersing an organic polymer substance and performing electroplating using this plating solution.

以下、本発明につき更に詳しく説明する。The present invention will be explained in more detail below.

本発明に係る水不溶性フッ素系有機高分子物質の複合め
っき方法において、水不溶性フッ素系有機高分子物質と
しては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリ
フルオロエチレン、ポリ弗化ビニリデン、テトラフルオ
ロエチレン−ヘキサ(6) フルオログロビレン共重合体、テトラフルオロエチレン
−エチレン共重合体、クロロトリフルオロエチレン−ア
ルキレン共重合体、弗化ビニリデン−ヘキサフルオロノ
ロピレン共重合体、弗化ビニリデン−クロロトリフルオ
ロエチレン共重合体、及ヒ弗化ビニリデンーベンタフル
オロゾロビレン共重合体から選ばれる1 8i又は2棟
以上を使用するもので、これらフッ素系有機高分子物質
は粉末、短繊維などの形態で用いられ、本発明方法によ
シこれらフッ素系有機高分子物質が高い共析量において
複合めっきされる。この場合、上述したフッ素系有機高
分子物質のうちでは、ポリテトラフルオロエチレン、ポ
リクロロトリフルオロエチレン、ポリ弗化ビニリデン、
テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロノロピレン共
重合体が有効で、本発明によれはこれらの物質を高い共
析量で均一性良く複合めっきすることができる。なお、
前記フッ素系有機高分子物質の使用量はめっき液1!に
対して1〜500p、特に10〜200gとすることが
好ましい。
In the composite plating method for a water-insoluble fluorinated organic polymer material according to the present invention, the water-insoluble fluorinated organic polymer material includes polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, tetrafluoroethylene-hexane, (6) Fluoroglobylene copolymer, tetrafluoroethylene-ethylene copolymer, chlorotrifluoroethylene-alkylene copolymer, vinylidene fluoride-hexafluoronoropyrene copolymer, vinylidene fluoride-chlorotrifluoroethylene copolymer It uses 18i or 2 or more selected from polymers, vinylidene fluoride-bentafluorozolobylene copolymers, and these fluorine-based organic polymer substances are used in the form of powders, short fibers, etc. By the method of the present invention, these fluorine-containing organic polymer substances are composite plated in a high amount of eutectoid. In this case, among the above-mentioned fluorine-based organic polymer substances, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinylidene fluoride,
Tetrafluoroethylene-hexafluoronoropyrene copolymer is effective, and according to the present invention, composite plating can be performed using these substances with a high amount of eutectoid deposition and good uniformity. In addition,
The amount of the fluorine-based organic polymer substance used is 1 plating solution! It is preferably 1 to 500 p, particularly 10 to 200 g.

本発明は、前記フッ素系有機高分子物質を分散しためっ
き液を用いて電気めっきするものであるが、この場合め
っき液に添加される金属イオンとしては、ニラクル、コ
バルト、銅などが挙げられ、それに応じてニラクル複合
めっき、コバルト複合めっき、ニッケルーコバルト合金
複合めっき、銅複合めっきなどが行なわれる。なお、こ
れらの金属イオンのめっき液への添加量は、めっき液1
!当!?0.5〜3モル、特に1〜2,5モルとするこ
とが好ましい。
In the present invention, electroplating is performed using a plating solution in which the fluorine-based organic polymer substance is dispersed. In this case, metal ions added to the plating solution include niracle, cobalt, copper, etc. Accordingly, Niracle composite plating, cobalt composite plating, nickel-cobalt alloy composite plating, copper composite plating, etc. are performed. The amount of these metal ions added to the plating solution is as follows:
! Right! ? It is preferably 0.5 to 3 mol, particularly 1 to 2.5 mol.

本発明においては、前記めっき液にスルファミン酸イオ
ンを含有させることを必須とするものであるが、この場
合スルファミン酸イオンはめっき液1ノ中に0.5モル
以上、好ましくは0.8モル以上含有していることが必
要で、スルファミン酸イオンの含有量がめつき液1!中
に0.5モルよシも少ない場合には前記フッ素系有機高
分子物質の共析量を高める効果が十分発揮されず、本発
明の目的を達成し得ない。また、スルファミノ酸イオン
の上限は特に制限さnないが、3モル程度とすることが
好ましい。なお、スルファミン酸イオンはめっき液中に
スル7アミノ酸として加えるようにしてもよく(この場
合、金属イオンは硫酸塩、塩化物等として加えることが
できる。)、或いはスルフアミノ酸ニッケル等のスルフ
ァミノ酸金属塩として加えるようにしてもよく、更には
一部をスルファミン酸として、残りをスルファミノ酸金
属塩として加えることもできる。
In the present invention, it is essential that the plating solution contains sulfamic acid ions, and in this case, the sulfamic acid ions are contained in the plating solution in an amount of 0.5 mol or more, preferably 0.8 mol or more. It is necessary that the content of sulfamic acid ions is 1 in the plating solution! If the amount is less than 0.5 mole, the effect of increasing the eutectoid amount of the fluorine-based organic polymer substance will not be sufficiently exerted, and the object of the present invention will not be achieved. Further, the upper limit of the sulfamic acid ion is not particularly limited, but it is preferably about 3 moles. Note that the sulfamic acid ion may be added to the plating solution as a sulfamino acid (in this case, the metal ion can be added as a sulfate, chloride, etc.), or as a sulfamino acid such as nickel sulfamino acid. It may be added as a metal salt, or a portion may be added as a sulfamic acid and the remainder as a sulfamic acid metal salt.

前記めっき液には、更にフッ素系アニオン性界面活性剤
もしくはめっき液中でカチオン性を示すフッ素系両性活
性剤を添加することが必要であシ、このようにスルファ
ミノ酸イオンの0.5モル以上とフッ素系アニオン性も
しくは両性界面活性剤とを併用することにより、前記フ
ッ素系有機高分子物質の共析量を簡単に高めて良好な複
合めっきを行なうことができるものである。
It is necessary to further add to the plating solution a fluorine-based anionic surfactant or a fluorine-based amphoteric surfactant that exhibits cationic properties in the plating solution. By using a fluorine-based anionic or amphoteric surfactant in combination, the amount of the fluorine-based organic polymer substance eutectoid can be easily increased and good composite plating can be performed.

この場合、フッ素系カチオンもしくは両性界面活性剤と
しては、分子内にC−F結合を有する水溶性のもの、例
えば特開昭52−56026号、同54−159343
号公報に例示されたものの1種(9) 又は2種以上を使用し得る。具体的には、3M社のFC
−134、FC−172等が好適に用いられる。なお、
これら活性剤の添加量は、めっき液1ノ中に0.1〜1
097G、特に0.3〜5p値とすることが好ましい。
In this case, the fluorine-based cationic or amphoteric surfactant is a water-soluble one having a C-F bond in the molecule, such as JP-A-52-56026 and JP-A-54-159343.
One type (9) or two or more types of those exemplified in the above publication may be used. Specifically, 3M's FC
-134, FC-172, etc. are preferably used. In addition,
The amount of these activators added is 0.1 to 1 in 1 plating solution.
097G, particularly preferably 0.3 to 5p value.

活性剤添加量が上記範囲よりも少なすぎる場合には共析
量を十分高めることができず、また多すぎる場合には良
好な複合めっき被膜が得られない場合がある。
If the amount of activator added is too small than the above range, the amount of eutectoid cannot be sufficiently increased, and if it is too large, a good composite plating film may not be obtained.

本発明においては、上述したようにフッ素系カチオンも
しくは両性界面活性剤を使用するものであるが、これら
の活性剤はそれ単独で使用することができ、他の活性剤
、特にノニオン性界面、活性剤と必ずしも併用する必要
はない。即ち、従来より水不溶性フッ素系有機高分子物
質の複合めっきとして、カチオン性、両性イオン性、ノ
ニオン性界面活性剤のいず牡か1種を用いてめっきし得
ることは知られていたが、1種の活性剤のみを単独使用
する場合は共析量が少ないので、実際にはカチオン性活
性剤とノニオン性活性剤とを併用して複合めっきを行な
っていたものであるが、本発明(10) は前記フッ素系有機茜分子物質を複合めっきするに際し
、スルファミノ酸イオンとフッ素系カチオンもしくは両
性活性剤を組合せたことによシ、ノニオン性活性剤を併
用しなくとも従来法よりも共析量を増大させることがで
きたものである。
In the present invention, as mentioned above, a fluorine-based cationic or amphoteric surfactant is used, but these surfactants can be used alone or in combination with other active agents, especially nonionic surfactants, surfactants, etc. It is not necessary to use it together with other drugs. That is, it has been known that composite plating of water-insoluble fluorine-based organic polymer substances can be performed using one of cationic, amphoteric ionic, and nonionic surfactants; Since the amount of eutectoid is small when only one type of activator is used alone, composite plating is actually performed using a cationic activator and a nonionic activator in combination, but the present invention ( 10) When performing composite plating with the fluorine-based organic madder molecular substance, the combination of sulfamic acid ions and fluorine-based cations or amphoteric activators results in better eutectoid deposition than conventional methods even without the combined use of nonionic activators. It was possible to increase the amount.

なお、上述しためっき液には、更に必要により塩化ニッ
ケルや臭化ニッケル等の−・ロダン化物、ホウ酸等の緩
衝剤などを添加し得るほか、市販の光沢剤、その他の添
加剤を添加することができる。
In addition, to the above-mentioned plating solution, it is possible to further add rhodanides such as nickel chloride and nickel bromide, buffering agents such as boric acid, etc., as well as commercially available brighteners and other additives. be able to.

また、めっき液の−は酸性、特にニッケル複合めっき、
コバルト複合めっきの場合は3〜5の範囲に調整するこ
とが好ましい。
In addition, - of the plating solution is acidic, especially for nickel composite plating,
In the case of cobalt composite plating, it is preferable to adjust it to a range of 3 to 5.

本発明に係る複合めっき方法は、上述したようニ、金属
イオン及びスルファミン酸イオンを含有し、かつフッ素
系カチオンもしくは両性界面活性剤を添加し、上述した
水不溶性フッ素系有機高分子物質を分散させためつき液
を用いて電気めっきを行なうものであるが、そのめっき
条件としては温度20〜80℃、隘極電流密度0.1〜
100 A/dm2、特に1〜30A/dm2の条件と
することかできる。また、攪拌方式としては、ポンプに
よシ液を循環させることによる液流動方式、スターラー
による攪拌、カソードロッカー等が採用し得る。この場
合、本発明は攪拌による共析量への影響が従来法に比較
して少ないため、必ずしも強い攪拌を必要とはせず、丑
た被めっき物に対して攪拌が均等に与えらnるように配
慮する度合も従来法に比べて簡略化し得る。
As mentioned above, the composite plating method according to the present invention comprises dispersing the above-mentioned water-insoluble fluorinated organic polymer substance containing metal ions and sulfamic acid ions, and adding a fluorinated cation or an amphoteric surfactant. Electroplating is performed using a plating solution, and the plating conditions are a temperature of 20 to 80°C, and a polar current density of 0.1 to 80°C.
The conditions may be 100 A/dm2, particularly 1 to 30 A/dm2. Further, as the stirring method, a liquid flow method using a pump to circulate the liquid, stirring using a stirrer, a cathode rocker, etc. can be adopted. In this case, since the present invention has less influence on the eutectoid amount due to stirring than the conventional method, strong stirring is not necessarily required, and the stirring can be applied evenly to the object to be plated. The degree of consideration given to this can also be simplified compared to conventional methods.

本発明において、複合めっきされる被めっき物の材質は
特に制限されず、電気めっき可能なものであればいずれ
のものでもよく、金属、導電化されたグラスチック、繊
維などが挙げられる。壕だ、複合めっき被膜の膜厚は、
めっき製品の使用目的等によシ適宜選定されるが、通常
1〜50μmである。
In the present invention, the material of the plated object to be composite plated is not particularly limited, and may be any material that can be electroplated, such as metal, conductive glass, fiber, etc. The thickness of the composite plating film is
Although it is appropriately selected depending on the purpose of use of the plated product, it is usually 1 to 50 μm.

而して、本発明のめっき方法によれば、スルファミノ酸
イオンを0.5モル以上含有すると共に、フッ素系カチ
オンもしくは両性界面活性剤を添加し、かつ前記水不溶
性フッ素系有機高分子物質を分散しためっき液を用いた
ことによplこれらろ素糸有機高分子物質の共析量を増
大させることができ、通常10〜40容量係の共析量に
おいて安定した複合めっきを行なうことができる。特に
、スルファミン酸イオン含有量を0.5〜3モル、よシ
好−ましくは0.8〜3モルとし、フッ素系カチオンも
しくは両性界面活性剤添加量を0.1〜10gμとし、
かつ前記フッ素系有機高分子物質の添加量を10〜20
0 g/′eとしためつき液を用いるととによシ、確実
に15〜35容量チの共析量を達成することができるも
のであシ、このような高い共析量は従来法では安定して
達成し得なかったものである。しかも、本発明によれば
、このような高い共析量にもかかわらず、めっき被膜は
良好である。更に、本発明方法によれば、活性剤として
7ツ累系カチオンもしくは両性界面活性剤の1種を単独
で使用しただけでも、高共析量において良好な複合めっ
きが行なわれるので、めっき液の管理が簡単に行なわれ
、かつ攪拌の影響を受は難く、攪拌のむらによる共析量
のむらが生じ難いので、めっき作業管理も簡単である。
According to the plating method of the present invention, in addition to containing 0.5 mole or more of sulfamic acid ions, a fluorine-based cation or an amphoteric surfactant is added, and the water-insoluble fluorine-based organic polymer substance is dispersed. By using a plating solution, it is possible to increase the amount of the eutectoid organic polymer substance, and stable composite plating can be performed at an eutectoid amount of usually 10 to 40 volumes. In particular, the content of sulfamic acid ions is 0.5 to 3 mol, preferably 0.8 to 3 mol, and the amount of fluorine-based cation or amphoteric surfactant added is 0.1 to 10 gμ,
and the amount of the fluorine-based organic polymer substance added is 10 to 20
By using a tightening solution of 0 g/'e, it is possible to reliably achieve a eutectoid amount of 15 to 35 volumes, and such a high eutectoid amount cannot be achieved with conventional methods. This was something that could not be achieved consistently. Moreover, according to the present invention, the plating film is good despite such a high amount of eutectoid. Furthermore, according to the method of the present invention, good composite plating can be performed at a high eutectoid amount even if one type of 7-aryl cation or amphoteric surfactant is used alone as an activator. The plating work is easily managed and is not easily affected by stirring, and the amount of eutectoid is less likely to be uneven due to uneven stirring, so the plating work is easy to manage.

(13) そして、本発明方法によるめっき被膜を形成した製品は
、共析された水不溶性フッ素系有機高分子物質の種類等
に応じて種々の用途、例えば耐摩耗、低摩擦を目的とし
た車幅及び精密機械関連の全ての摺動部品、非粘着、離
型性を目的とした金属及び非金属成型金型或いは厨房器
具等、耐食及び変色防止を目的とした各種建築用及び日
用部品等に使用されるものであるが、本発明方法による
めっき被膜は、上述したように共析量が高いので、その
効果を有効に発揮するものである。
(13) Products with a plating film formed by the method of the present invention can be used for various purposes depending on the type of eutectoid water-insoluble fluorinated organic polymer material, such as automobiles intended for wear resistance and low friction. All sliding parts related to width and precision machinery, metal and non-metal molds or kitchen equipment for non-adhesive and releasable properties, various architectural and daily use parts for corrosion resistance and discoloration prevention, etc. However, since the plating film produced by the method of the present invention has a high amount of eutectoid as described above, it effectively exhibits its effect.

以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明す
るが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically explained by showing examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

〔実施例1、比較例1,2〕 下記組成のめっき液を用い、下記条件において10 c
m X 5 crnのみがき鋼板上に複合めっきを行な
った後、その共析量を測定し、下記に示した通シの結果
を得た。
[Example 1, Comparative Examples 1 and 2] Using a plating solution with the following composition, under the following conditions, 10 c
After composite plating was performed on a polished steel plate of m x 5 crn, the amount of eutectoid was measured, and the results shown below were obtained.

(14) ρp」液組成   実施例1 比較例1 比較例2ンシ
レシーrミン負受ニツクフレ   450 El/A 
        −−硫酸ニッケk       26
0 g/A  260 Vlt塩化塩化クツクル0  
 45   45ホ   ウ   酸   35   
    40       40カチオン性活性剤  
 1     1     1ノニオン性活性剤   
−一0.5 PTFE         30     50   
  50PH4,24,24,2 めっき条件 温    度     50℃    501C50C
陰極電流密度     4A/dm2 4A/dm2 
4人/dm2陽    極   含6−′・ケ″ 同左
    同左アノード 攪   拌  機械式攪拌 同左   同左めっき被膜 不均一な  不均一な 外    観   均一な灰白色 梨地状梨、状共 析
 量    35容是擾  5容量チ  9容量チ注:
 (1)  カチオン性活性剤としてはパー70ロアル
キルトリメチルアンモニウム塩を用いた。
(14) ρp” liquid composition Example 1 Comparative example 1 Comparative example 2 Receiving liquid composition 450 El/A
--Nickel sulfate K 26
0 g/A 260 Vlt chloride chloride 0
45 45 Boric acid 35
40 40 cationic activator
1 1 1 nonionic activator
-10.5 PTFE 30 50
50PH4,24,24,2 Plating condition temperature 50℃ 501C50C
Cathode current density 4A/dm2 4A/dm2
4 people/dm2 anode Contains 6-'・ke'' Same left Same left Anode stirring Mechanical stirring Same left Same left Plating film is non-uniform Non-uniform appearance Uniform grayish white Pear-like pear shape, eutectoid Volume 35 volumes = 5 volumes 9 Capacity Note:
(1) Per70-roalkyltrimethylammonium salt was used as the cationic activator.

(2)ノニオン性活性剤としては/−P−70ロアルキ
ルエチレンオキシド付加物を用いた。
(2) A /-P-70 loalkyl ethylene oxide adduct was used as the nonionic activator.

(3)  P T F Eはポリテトラフルオロエチレ
ンヲ示す。
(3) PTFE represents polytetrafluoroethylene.

以上の結果よシ、本発明に係るめっき方法を採用するこ
とによって共析量が増大することが知見された。
From the above results, it has been found that the amount of eutectoid increases by adopting the plating method according to the present invention.

〔実施例2、比較例3〕 実施例1及び比較例2と同じ組成のめっき液を用い、同
様の条件においてみがき鋼板上に複合めっきを行なった
後、その共析量を測定した。
[Example 2, Comparative Example 3] Composite plating was performed on a polished steel plate under the same conditions using a plating solution having the same composition as in Example 1 and Comparative Example 2, and then the amount of eutectoid was measured.

なお、めっき液は150tを使用し、10mX5ctn
のみがき鋼板6枚を図面に示すようにラックの両側にそ
れぞれ上中下の3段に取り付け、めっきを行なって、A
、B、Cの3枚のみがき鋼板への共析量を測定した(図
中1はラック、2はみがき鋼板である)。
In addition, 150t of plating solution was used, 10mX5ctn
As shown in the drawing, six polished steel plates were attached to each side of the rack in three stages, top, middle, and bottom, and plated.
The amount of eutectoid deposited on three polished steel plates of , B, and C was measured (in the figure, 1 is the rack and 2 is the polished steel plate).

共析量    実施例2    比較例3A     
   33容量チ      6.8容量チ8    
       35             8.5
C389,8 なお、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリ弗化ビニ
リデン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロ
ピレン共重合体も同様の結果であった。
Eutectoid amount Example 2 Comparative example 3A
33 capacity Chi 6.8 capacity Chi 8
35 8.5
C389,8 Note that similar results were obtained for polychlorotrifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, and tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer.

以上の結果より、本発明に係るめっき法は攪拌の影響を
受ける度合が少なく、高共析量でしかも均一な共析量に
おいて複合めっきし得ることが認められた。
From the above results, it was confirmed that the plating method according to the present invention is less affected by stirring and can perform composite plating with a high eutectoid amount and a uniform eutectoid amount.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面は複合めっき方法の実験に当って採用した被めっき
物(みがき鋼板)のラックに対する取付は状態を示す概
略側面図である。 出願人 上村工業株式会社 代理人 弁理士 小島隆司
The drawing is a schematic side view showing how the object to be plated (polished steel plate) used in the experiment of the composite plating method is mounted on a rack. Applicant Uemura Kogyo Co., Ltd. Agent Patent Attorney Takashi Kojima

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、スルファミン酸イオンを0.5モル以上含有し、か
つフッ素系カチオン性界面活性剤もしくはめっき液中で
カチオン性を示すフッ素系両性界面活性剤を添加し、ポ
リテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエ
チレン、ポリ弗化ビニリデン、テトラフルオロエチレン
−ヘキサフルオロ7’ロピレン共重合体、テトラフルオ
ロエチレン−エチレン共重合体、クロロトリフルオロエ
チレン−アルキレン共重合体、弗化ビニリデン−へキサ
フルオロプロピレン共重合体、弗化ビニリデン−クロロ
トリフルオロエチレン共重合体、及ヒ弗化ビニリチンー
ペンタフルオロプロピレン共重合体から選ばれる1橿又
は2種以上の水不溶性フッ素系有機高分子物質を分散さ
せてなるめっき液を用いて電気めっきすることを特徴と
する水不溶性有機高分子物質の複合めっき方法。 2、 水不溶性フッ素系有機高分子物質がポリテトラフ
ルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポ
リ弗化ビニリデン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフ
ルオロノロピレン共重合体から選ばれるものである特許
請求の範囲第1項記載の複合めっき方法。 3、フッ素系カチオン性界面活性剤もしくはめっき液中
でカチオン性を示すフッ素系両性界面活性剤の添加量が
めつき液1!中0.1〜1094である特許請求の範囲
第1項又は第2項記載の複合めっき方法。
[Scope of Claims] 1. Adding a fluorine-based cationic surfactant or a fluorine-based amphoteric surfactant that exhibits cationic properties in the plating solution, which contains 0.5 mole or more of sulfamate ions, Ethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, tetrafluoroethylene-hexafluoro7'ropylene copolymer, tetrafluoroethylene-ethylene copolymer, chlorotrifluoroethylene-alkylene copolymer, vinylidene fluoride One or more water-insoluble fluorinated organic polymer substances selected from hexafluoropropylene copolymer, vinylidene fluoride-chlorotrifluoroethylene copolymer, and vinylidene fluoride-pentafluoropropylene copolymer 1. A composite plating method for water-insoluble organic polymeric substances, characterized by electroplating using a plating solution in which is dispersed. 2. Claim 1, wherein the water-insoluble fluorine-based organic polymer substance is selected from polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, and tetrafluoroethylene-hexafluoronoropyrene copolymer. Composite plating method described in section. 3. The amount of fluorine-based cationic surfactant or fluorine-based amphoteric surfactant that shows cationic properties in the plating solution is 1! The composite plating method according to claim 1 or 2, wherein the average particle diameter is 0.1 to 1094.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4828332A (en) * 1971-08-20 1973-04-14
JPS495832A (en) * 1972-03-20 1974-01-19
JPS5723760A (en) * 1980-07-16 1982-02-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd Solar heat collector

Patent Citations (3)

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