JPS5917412B2 - カラ−拡散転写法用写真要素 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ０ 本発明はカラー拡散転写法用写真要素に関し、更に
詳細にはポリマーラテックスから形成された中和タイミ
ング層を有するカラー拡散転写法用（ＤＴＲカラー）写
真要素に関する。

従来、カラー拡散転写法においては、水性アル５ カリ
現像液に基ずく高ｐＨの状態を所定の時間継続して、色
像形成物質を媒染層に拡散転写せしめた後、中和層の酸
によつて感光層等のｐＨを低下せしめて、色像の形成を
停止させることが行なわれている。

更に、カラー拡散転写用写真要素には、中和システムと
して、実際に処理される温度に応じて高ＰＨ持続時間を
調節するためのタイミング層が中和層と組合せて設けら
れている（Ｗ．Ｔ．ＨａｎｓＯｎ，．Ｊｒ．著、「Ｐｈ
ＯｔＯｇｒａｐｈｉｃＳｃｉ．＆Ｅｎｇ．」 誌第２０
巻１５５頁、１９７６年）。例えば特開昭４８−３３８
２６号公報、米国特許第３９２９７６０号、同３９３１
１４４号、同３９３２３８１号明細書に記載されている
ような、はじめは非拡散性であるが現像主薬の酸化生成
物との酸化還元反応またはカツプリング反応により拡散
性色素を放出するタイプの色素像供与物質を用いるカラ
ー拡散転写法に於ては、低温でのハロゲン化銀の現像の
遅れ及び上記の酸化還元反応の遅れ、色素の拡散の遅れ
による転写色像の濃度低下を高ＰＨ持続時間の延長によ
つて補正し、現像、並びに色素の放出と転写が可能な時
間を延長する“温度補償”機能を有するタイミング層を
設ける事が望ましい。このタイプのタイミング層として
は、米国特許３３６２８１９号に記載のポリビニルアル
コールからなるタイミング層や特開昭４９−２２９３５
号に記載のものや１９７６年１１月に発行の「Ｒｅｓｅ
ａｒｃｈＤｉｓｃｌＯｓｕｒｅ（リサーチ ディスクロ
ーシャー）」誌８６頁に記載されているもの（即ちメチ
ルアクリレート一塩化ビニリデン−イタコン酸共重合体
、やアクリロニトリル一塩化ビニリデン−アクリル酸共
重合体のラテツクスから形成されるタイミング層）があ
げられる。

しかし、特開昭４９−２２９３５号に記載のタイミング
層では低温側における滲透性の低下の程度が低く、十分
に現像おくれを補償できない。

また前記の「ＲｅｓｅａｒｃｈＤｉｓｃｌＯｓｕｒｅ」
誌に記載のタイミング層では、人体に有害な化学物質で
ありしかも低沸点であつてポリマーラテツクスの製造に
あたり特別の設備を要する塩化ビニリデンを用いなけれ
ばならないので製造コストが上昇するという欠点がある
。さらに、高速大量生産に適したヒートシール加工によ
つて、中和システムを有するカバーシートと、支持体上
に順次塗設された受像要素および感光要素とから成る感
光シートとを積層一体型のフイノレム．ユニツトＷ［ナ
一迅春 ？１ｒイｗ迫７ｆ船〜＼イ少々乱暴に取り扱わ
れると、フイルム・ユニツトのヒートシール部分が破壊
して、該感光要素とカバーシートの間に延展された処理
液がユニツトの外へ漏れ出る故障が起りやすい。

多くの場合、この原因となるヒートシール部分の剥離は
タイミング層と隣接層との密着不良に起因していること
が多い。本発明の目的は、第１に他の層との密着が低温
においても良好なタイミング層を提供することにある。

第２に、ヒートシール加工された箇所に於るフイルムユ
ニツトの剥離が起らないカラー拡散転写法用写真要素を
提供することにある。第３に、従来公知のタイミング層
用ラテツクスよりも、製造が安全でかつ低コストである
タイミング層用ターポリマ一・ラテツクスを提供するこ
とにある。上記の目的は、下記のポリマー・ラテツクス
、ラテツクス・タイミング層及び写真要素によつて、効
果的に達成できる。水性アルカリ現像液のＰＨを低下さ
せるための中和システム〔この中和システムは中和層と
タイミング層を含み、このタイミング層は前記の現像液
がタイミング層を経由して前記の中和層に到達するよう
な位置関係で該中和層に直接または間接に重ね合わせて
配置されている。

〕を有するカラー拡散転写法用写真要素において、前記
タイミング層が下記のＡ群、Ｂ群およびＣ群より選ばれ
たそれぞれ少くとも＝種のモノマーを互いに乳化重合し
て得られるポリマーラテツクスから形成されたものであ
ることを特徴とするカラー拡散転写法用写真要素。
３囚 群：下記の一般式（）で表わされるモノマー
（約０．５〜４０重量％が適当）一般式（１） 〔式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わす。

Ｔは水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はアルケ
ニル基を表わす。Ｑは−ＣＨ２ＯＣＯＲＯＣ−Ｃ−Ｃ−
Ｃ−Ｒ６基又は−ＣＨ２Ｎ−ＣＯ＼ノ基を表わす。

ＲＯはアルキル基又はアリール基を表わす。ＲｌａとＲ
ｌｂは同じでも異つていてもよく、それぞれアルキル基
又は置換アルキル基を表わし、又互いに連結して５〜６
員の含窒素ヘテロ環を形成してもよい。Ｒ２は水素原子
、アルキル基、置換アルキル基又はアルケニル基を表わ
す。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は同じでも異つてい
てもよく、水素原子又は−ＣＨ２ＯＲ２基を表わすが、
Ｒ３〜Ｒ７の全てが同時に水素原子となる場合は除く。
ｗは炭素数が３〜５のアルキレン基を表わす。〕（Ｂ）
群：遊離のカルボン酸基もしくはリン酸基又はそれらの
塩を少くとも１つ有する重合性エチレン系不飽和モノマ
ー （約１〜１２重量％が適当）（０群：Ａ群及びＢ群
と共重合可能なＡ群及びＢ群以外のエチレン系モノマー
。

（約４８〜９９重量％が適当）更に詳しく説明すると、
一般式（１）のＲ。

の脂肪族基としては例えばアルキル基であり、中でも低
級アルキル基が好ましい。ＲｌａとＲｌｂの脂肪族基は
例えばアルキル基（好ましくは低級アルキル基）や置換
アルキル基（置換基としてはヒドロキシ基、アルコキシ
基など）であり、又これらによつて形成される環は例え
ば５ご６員環であつて、酸素原子などのヘテロ原子を含
むヘテロ環であつてもよい。ＴおよびＲ２の脂肪族基は
例えば直鎖状、分岐状又は脂環式のアルキル基（炭素数
が１〜１８が適当であり、更に１〜６が好ましい）、置
換アルキル基（置換基としてはフエニル基などのアリー
ル基や塩素などのハロゲン原子など）、アルケニル基（
アリル基など）などである。このアルキル基の具体例と
しては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル
基、Ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基などである。ｗの
原子群としては、例えばＦＣＨ２＋３基や÷ＣＨ２＋５
基などである。ＱがＣ−Ｃ−Ｃ−Ｃ−Ｒ６基であるとき
はジアセト龜●ンアクリルアミド類もしくはジアセトン
メタクリルアミド類のメチロール化体又はその前駆体を
表わす。

当該メチロール化体には、モノ一、ジ一、トリ一、テト
ラ一およびペンタメチロール体が挙げられる。例えばト
リメチロール体とは、置換位置が異なり且つ置換度が３
の置換体を主成分とし、部分的に置換度が１、２、４お
よび５のメチロール体を含む混合物で平均メチロール化
度が約３であるメチロール誘導体を意味する。一般式（
１）に属する化合物の具体例を挙げると、Ｎ−ヒドロキ
シメチルアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリル
アミド、Ｎ−エトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−Ｔｅ
ｒｔ−ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキ
シメチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルメタク
リルアミド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ
−エトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチ
ルメタクリルアミド、ヒドロキシメチル化度が約０．５
から４．５までのヒドロキシメチル化ジアセトンアクリ
ルアミドなど、その他［Ｍａｋｒ′０ｍ０１ｅｃｕ１ａ
ｒｅＣｈｅｍｉｅ］誌第５７巻、２７〜５１頁（１９６
２年）に記載のアクリルアミド又はメタクリルアミドの
誘導体が挙げられる。

共重合成分（８）のうち好ましいモノマーとしては、次
の＝般式（１１）で表わされる不飽和酸又はその塩を挙
げることができる。一般式（３） 〔式中、Ｒ８は水素原子又はメチル基を表わす。

Ｌ及びＭは同じでも異つていてもよく、それぞれ水素原
子、カルボキシ基、カルボキシアルキレン基（ここでア
ルキレン基としては炭素数が１〜３のものが好ましい）
、アルコキシカルボニル基（ここでアルキル部分は炭素
数が１〜８のものが好ましく、直鎖状、分岐状又は脂環
式のものであつてもよい）、又は−ＣＯＯ−Ｗ−０Ｐ０
３Ｈ２基（ここでＲ′は直鎖状又は分岐状アルキレン基
であつて、炭素数が１〜１２のものが好ましい）を表わ
す。またＬとＭはカルボキシ基、カルボキシアルキレン
基又は−ＣＯＯ−ＲＩ−０Ｐ０３Ｈ２基とアルカリ金属
イオン（好ましくはＮａ＋やＫ＋）又はアンモニウムイ
オンとが塩を形成したものであつてもよい。また、Ｌと
Ｍの少くとも一つは、カルボキシ基、カルボキシアルキ
レン基、ＣＯＯ−Ｒ′−０Ｐ０３Ｈ２基又はこれらが塩
を形成したもの（上に述べたように）である。

〕一般式０１）のモノマーの具体例としては、次の化合
物を挙げることができる。

アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、
クロトン酸、イタコン酸モノアルキル（たとえばイタコ
ン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モ
ノブチルなど）、マレイン酸モノアルキル（たとえばマ
レイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン
酸モノブチル、マレイン酸モノオクチルなど）、シトラ
コン酸、アクリル酸ナトリウム、アクリル酸アンモニウ
ム、メタクリル酸アンモニウム、アクリロイルオキシア
ルキルホスフエート（たとえばアクリロイルオキシエチ
ルホスフエート、３−アクリロイルオキシプロピル−２
−ホスフエート、など）、メタクリロイルオキシアルキ
ルホスフエート（たとえばメタクリロイルオキシエチル
ホスフエート（アシツドホスホオキシエチルメタクリレ
ート）、３−メタクリロイルオキシプロピル一２−ホス
フエートなど）、３−クロロ−２−アシツドホスホオキ
シプロピルメタクリレート。

共重合成分（０は、当業界で公知のエチレン系モノマー
の中から自由に選ぶ事ができるが、次の一般式叫で表わ
されるモノマーが特に有効である。

一般式（代）〔式中、Ｘは水素原子、メチル基、または
−ＣＯＯＲｌ基を表わす。

Ｙは水素原子、メチル基または ＣＣＨ２）ｎ−ＣＯＯＲｌＯ基を表わす。

ｚはアリール基、−ＣＯＯＲｌｌ基、シアノ基、ハロゲ
ン原子または−０Ｃ−Ｒｌｌ基を表わす。

Ｒ９、ＩＲｌＯ、Ｒｌｌはそれぞれ同じでも異つていて
もよく、脂肪族基またはアリール基を表わす。

ｎはＯ〜３の整数を表わす。

〕Ｒ９〜Ｒｌｌの脂肪族基としては直鎖または分岐アル
キル基（環状のものも含む）および置換アルキル基を含
み、アルキル基の炭素数としては、１〜１２が好ましい
。

置換アルキル基の置換基としては、アルコキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、アリールアルキレンオキシ
基、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基、アルキルカル
ボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、アミノ
基（置換アミノ基も含み、置換基としてはアルキル基、
アリール基など。

置換基の数は１〜２である）、ヒドロキシ基、アルコキ
シアルキレンオキシ基、ヘテロ環残基（ヘテロ原子とし
ては、例えば酸素原子、窒素原子、硫黄原子など。環の
員数としては５〜６が好ましく、また環は不飽和でも飽
和でもよい。ヘテロ環には更に芳香環が縮合していても
よい。）などを挙げることができる。また、Ｒ９〜Ｒｌ
ｌのアリール基は、もちろん置換されたフエニル基やナ
フチル基を含み、置換基としては、置換アルキル基に関
して先に挙げた置換基の他にアルキル基などを挙げるこ
とができる。

共重合成分Ωのモノマー類としては、たとえばアクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、クロトン酸エステ
ル、ビニルエステル、マレイン酸ジエステル、フマル酸
ジエステル、イタコン酸ジエステル、スチレン類、アク
リロニトリル、塩化ビニルなどがあげられる。更に、具
体的なモノマーを示すならば、アクリル酸エステル、た
とえばメチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−
プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ
−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、Ｓｅ
ｃ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシ
ルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２
クチルアクリレート、Ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート
、２−フエノキシエチルアクリレート、２−クロロエチ
ルアクリレート、２−プロモエチルアクりレート、４−
クロロブチルアクリレート、シアノエチルアクリレート
、２−アセトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノ
エチルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシ
ベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアク
リレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、シ
クロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、
テトラヒドロフルフリルアクリレート、フエニルアクリ
レート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、２・２
−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２
−メトキシエチルアクリレート、３−メトキシブチルア
クリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−１
ｓ０−プロポキシエチルアクリレート、２−ブトキシエ
チルアクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチ
ルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチル
アクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリ
レート、１・１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリ
レートなど：メタクリル酸エステル、例えばメチルメタ
クリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタ
クリレート、イソフロピルメタクリレート、ｎ−ブチル
メタクリレート、イソブチルメタクリレート、Ｓｅｃ−
ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシ
ルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ベ
ンジルメタクリレート、クロロベンジルメタクリレート
、オクチルメタクリレート、Ｎ−エチル−Ｎ−フエニル
アミノエチルメタクリレート、２（３−フエニルプロピ
ルオキシ）エチルメタクリレート、フルフリルメタクリ
レート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フエ
ニルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒド
ロキシブチルメタクリレート、トリエチレングリコール
モノメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレー
ト、３−メトキシブチルメタクリレート、２−アセトキ
シエチルメタクリレート、アセトアセトキシエチルメタ
クリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−
１ｓ０プロポキシエチルメタクリレｉト、２−ブトキシ
エチルメタクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）
エチルメタクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）
エチルメタクリレート、２−（２ブトキシエトキシ）エ
チルメタクリレート、など；ビニルエステル、例えばビ
ニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレ
ート、ビニルイソブチレート、ビニルジメチルプロピオ
ネート、ビニルエチルブチレート、ビニルバレレート、
ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニル
ジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニ
ルブトキシアセテート、ビニルフエニルアセテート、ビ
ニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル一β
−フエニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキ
シレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル
安息香酸ビニル、テトラクロル安息香酸ビニル、ナフト
エ酸ビニルなど；スチレン類、たとえば、スチレン、メ
チルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン
、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルス
チレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘ
キシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、
クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルスチレン、
エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、
メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレン
、ジメトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチ
レン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチレン、ペ
ンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロムスチレ
ン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリフルオル
スチレン、２−ブロム−４トリフルオルメチルスチレン
、４−フルオル３−トリフルオルメチルスチレン、ビニ
ル安息香酸メチルエステルなど：クロトン酸エステル、
例えばクロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、グリセ
リンモノクロトネートなど；イタコン酸ジエステル、例
えばイタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコ
ン酸ジブチルなど；マレイン酸ジエステル、例えばマレ
イン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブ
チルなど：フマル酸エステル、例えばフマル酸ジエチル
、フマル酸ジヘキシル、フマル酸ジブチルなどである。

本発明で使用しうるラテツクスの共重合体組成には、次
のような諸観点で望ましい共重合体組成が存在する：ラ
テツクスの製造が安価で容易であること、ラテツクスが
長期の貯蔵安定性を示すこと、ラテツクスから成膜され
るタイミング層が適度のアルカリ水溶液透過性を有しか
つその透過性に所望の温度依存性のあること、ラテツク
スタイミング層が塗設される隣接層（場合によつてはポ
リマーの有機溶剤溶液を塗布して成膜された比較的疎水
性の層）と、広い温度範囲にわたり、良好な密着強度を
有すること。本発明者らは、次の如き好ましい共重合体
の成分とその組成を見出した：成分（４）として、Ｎ−
ヒドロキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチ
ルメタクリルアミド、又は、特に好ましくは、Ｎ−アル
コキシメチルアクリルアミド、Ｎ−アルコキシメチルメ
タクリルアミドの約０．５ないし４０重量％；成州Ｂ）
として、アクリル酸、メタクリル酸又はイタコン酸の約
１ないし１２重量％、特に好ましくは約２ないし８重量
％；成分（Ｃ）として前記一般式叫で表わされる少くと
も１種のエチレン系モノマーの約４８ないし９９重量％
、特に好ましくは約７７ないし９８重量％。

成分（Ｃ）としては、所望に応じ、２種類以上の共重合
成分を併用することができる。

例えば、適当な最低成膜温度（後に詳細に述べる）を有
するラテツクスを得るために、硬い共重合成分と軟かい
共重合成分とを適当な比率で混合して使用してもよい。
この場合、硬い共重合成分としては、そのホモポリマー
におけるガラス転移温度が５０℃以上の一般式叫に属す
るエチレン系モノマーが好ましく、具体的には、スチレ
ン、アクリロニトリル又はメチルメタクリレートが挙げ
られる。また硬い共重合成分としては、そのホモポリマ
ーにおけるガラス転移温度が４０℃以下の一般式のエチ
レン系モノマーが好ましく、その具体例としては、置換
または無置換のアルキルアクリレート（アルキル基の置
換基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子など）があ
る。本発明のタイミング層を塗設するのに使用して、好
ましい水性ラテツクスの共重合体の代表的な具体例を次
に列挙する。

（１）スチレン−ｎ−ブチルアクリレート−アクリル酸
−Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド共重合体
（重量比５０：４０：３：７）（２）スチレン−ｎ−
ブチルアクリレート−アクリル酸−Ｎ−ヒドロキシメチ
ルアクリルアミド共重合体 （重量比６１：２７
：４：８）（３）メチルメタクリレート−ｎ−ブチルア
クリレート−アクリル酸−Ｎ−ヒドロキシメチルアクリ
ルアミド共重合体（重量比３２：５８：４：６） （４）メチルメタクリレート−ｎ−ブチルアクリレート
−アクリル酸−Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド共
重合体（重量比６３：２８：３：６） （５）メチルメタクリレート−アクリル酸−Ｎ−ヒドロ
キシメチルアクリルアミド共重合体（重量比９２：４：
４） （６）ブチルメタクリレート−アクリル酸−Ｎ−ヒドロ
キシメチルアクリルアミド共重合体（重量比９０：４：
６） （７） Ｓｅｃ−ブチルメタクリレート−アクリル酸Ｎ
−ブトキシメチルアクリルアミド共重合体（重量比７J
メF３：２０）（８）エチルメタクリレート−イタコン
酸−ヒドロキシメチル化ジアセトンアクリルアミド（ヒ
ドロキシメチル化度２、５）共重合体（重量比９５：２
．５：２．５） （９） ２−アセトキシエチルメタクリレート−アクリ
ル酸−Ｎ−エトキシメチルアクリルアミド共重合体
（重量比８７：３：１０）（代）エチルアクリ
レート−メタクリル酸−Ｎ−ブトキシメチルアクリルア
ミド共重合体（重量比８８：６：６） （自）プロピルメタクリレート−マレイン酸−Ｎメトキ
シメチルアクリルアミド共重合体（重量比９０：２：８
） （代）スチレン−ｎ−ブチルアクリレート−２−メタク
リロイルオキシエチルホスフエート一Ｎブトキシメチル
アクリルアミド共重合体（重量比５０：４０：２：８） （自）スチレン−エトキシエチルアクリレート−アクリ
ル酸−Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド共重合体
（重量比４３：４３：４：１０）（自）スチレン−ｎ−
プロピルアクリレート−イタコン酸−Ｎ−メトキシメチ
ルメタクリルアミド共重合体 （重量比４０：３８：
８：１４）σ９スチレン−ｎ−ブチルアクリレート−ア
クリル酸−ヒドロキシメチル化ジアセトンアクリルアミ
ド（ヒドロキシメチル化度２．５）共重合体（重量比５
１．７：４１．８：２：４．５）（自） メチルメタク
リレート−ブチルアクリレートアクリル酸−Ｎ−ヒドロ
キシメチルアクリルアミド共重合体（重量比３６．１：
５３．９：２：８） ０７） ｎ−ブチルメタクリレート−アクリロニトリル
−アクリル酸−Ｎ−エトキシメチルアクリルアミド共重
合体（重量比７８：６：４：１２）Ａ８） ｎ−ブチル
メタクリレート−アクリロニトリル−イタコン酸−Ｎ−
ヒドロキシメチルメタクリルアミド共重合体（重量比７
９：５：２：１４） ０９）スチレン−ｎ−ブチルアクリレート−アクリル酸
−Ｎ−アセトキシメチルアクリルアミド共重合体
（重量比５０：４０：３：７）（至）スチレン−ｎ−
ブチルアクリレート−アクリル酸−Ｎ−（モルホリノメ
チル）メタクリルアミド共重合体 （重量比４８：４０
：４：８）前記の重量比はポリマーラテツクス合成時の
各モノマーの添加重量比である。

本発明で用いるポリマー・ラテツクスの合成には、特公
昭４７−２９１９５号、特開昭４８３７４８８号、同４
８−７６５９３号、同４８９２０２２号、同４９−２１
１３４号、同４９１２０６３４号、特願昭５１−１４８
５８９号、英国特許第１２１１０３９号、同９６１３９
５号、米国特許第２７９５５６４号、同第２９１４４９
９号、同第３０３３８３３号、同第３５４７８９９号、
同第３２２７６７２号、同第３２９０４１７号、同第３
２６２９１９号、同第３２４５９３２号、同第２６８１
８９７号、同第３２３０２７５号、カナダ国特許第７０
４７７８号、ジヨン、シ一、ペトロプーロスら著「オフ
イシアル、ダイジエスト」（ＪＯｈｎＣ．ＰｅｔｒＯｐ
ＯｕｌＯｓｅｔａｌ：０ｆｆｉｃｉａ１Ｄｉｇｅｓｔ）
走旦、７１９〜７３６（１９６１）、林貞男著「エマル
ジヨン入門］（１９７０）、室井宗一著「高分子ラテツ
クスの化学」（１９７０）、本山卓彦著「ビニルエマル
ジヨン］（１９６５）、マイク、シヤイダ一、ジユアン
グら著「ジヤーナル・オブ・サイエンス、ポリマー・ケ
ミストリ一・エデイシヨン」（ＭｉｋｅＳｈｉ−Ｄｅｒ
Ｊｕａｎｇｅｔａｌ：ＪＯｕｍａｌＯｆＰＯｌｙｍｅｒ
Ｓｃｉｅｎｃｅ，．ＰＯｌｙｍｌｅｒＣｈｅｍｉｓｔｒ
ｙＥｄｉｔｌＯｎ）１４、２０８９〜２１０７（１９７
６）などに記載の方法を参考にして行なうと好都合であ
る。

目的に応じて、重合の開始剤、濃度、重合温度、反応時
間などを幅広く、かつ、容易に変更できることはいうま
でもない。例えば、重合は、一般に２０〜１８０℃、好
ましくは４０〜１２０℃で行なわれる。

重合反応は、通常重合すべき単量体にたいし０．０５〜
５重量％のラジカル重合開始剤と必要に応じて０．１〜
１０重量％の乳化剤を用いて行なわれる。重合開始剤と
しては、アゾビス化合物、パーオキサイド、ハイドロパ
ーオキサイド、レドツクス触媒など、たとえば過硫酸カ
リウム、過硫酸アンモニウム、Ｔｅｒｔ−ブチルパーオ
クトエート、ベンゾイルパーオキサイド、イソプロピル
パーカーボネート、２・４−ジクロロベンゾイルパーオ
キサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、クメン
ハイドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ア
ゾビスイソブチロニトリル、２−２′−アゾビス（２−
アミジノプロパン）ハイドロクロライドなどがある。乳
化剤としてはアニオン性、カチオン性、両性、ノニオン
性の界面活性剤の他、水溶性ポリマーなどがある。

たとえばラウリン酸ソーダ、ドデシル硫酸ナトリウム、
１−オクトキシカルボニルメチル一１−オクトキシカル
ボニルメタンスルホン酸ナトリウム、ラウリルナフタレ
ンスルホン酸ナトリウム、ラウリルベンゼンスルホン酸
ナトリウム、ラウリルリン酸ナトリウム、セチルトリメ
チルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアン
モニウムクロライド、Ｎ−２−エチルヘキシルピリジニ
ウムクロライド、ポリオキシエチレンノニルフエニルエ
ーテル、ポリオキシエチレンゾルビタンラウリルエステ
ル、ポリビニルアルコール、特公昭５３−６１９０号に
記載の乳化剤、水溶性ポリマーなどがある。本発明のタ
イミング層用ラテツクスの粒子サイズは平均で０．０５
〜０．４μ程度が好ましく特に好ましくは０．０５〜０
．２μである（この平均粒子サイズは慣用の方法で顕微
鏡で粒子の直径を測定し、これらを数平均したものであ
る。

）。本発明のタイミング層用ポリマーラテツクスを更に
改質してもよい。

即ち、下記の方法によつて、ポリマーラテツクスの貯蔵
安定性などを更にいつそう向上させる事ができる。１ポ
リマーラテツクスに親水性基を導入する方法。

前記の一般式（１）において、Ｑが−ＣＨ２ＯＨ基に該
当するモノマーを用いて得られたポリマーラテツクスに
、親水性基を導入する。

具体的にはポリマーラテツクスに例えば亜硫酸水素ナト
リウムを添加する事によつて行いうる。これによつてメ
チロール基が下記の反応式に従つて変化する。その他の
具体例としては、Ｃ．Ｅ． Ｓｃｈｉｌｄｋｎｅｃｈｔ著「ＰＯｌｙｍｅｒＰｒＯｃ
ｅｓｓ（ポリマー プロセス）」、Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅ
ｎｃｅ（１９６５年）３４０頁などに記載の方法に従つ
て行う事ができる。

２前記の（４）群及び（Ｂ）群のモノマー並びに０群の
モノマーのうち、先に列記したようなモノマーと更にス
ルホン酸含有モノマーの全部で少くとも四種類のモノマ
ーを共重合させて、ポリマーラテツクスをつくる方法。

このスルホン酸含有モノマーとしては、例えばスチレン
スルホン酸、ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホ
ン酸、アクリロイルオキシアルキルスルホン酸（例えば
、アクリロイルオキシメチルスルホン酸、アクリロイル
オキシエチルスルホン酸、アクリロイルオキシプロピル
スルホン酸、アクリロイルオキシブチルスルホン酸など
）、メタクリロイルオキシアルキルスルホン酸（例えば
メタクリロイルオキシメチルスルホン酸、メタクリロイ
ルオキシエチルスルホン酸、メタクリロイルオキシプロ
ピルスルホン酸、メタクリロイルオキシブチルスルホン
酸など）、アクリルアミドアルキルスルホン酸（例えば
２−アクリルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、２
−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２
−アクリルアミド２−メチルブタンスルホン酸など）、
メタクリルアミドアルキルスルホン酸（例えば２−メタ
クリルアミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−メタ
クリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−メ
タクリルアミド−２−メチルブタンスルホン酸など）を
挙げることができる。

一般に、スルホン酸基などの親水性基の、ポリマーラテ
ツクスへの導入率はＮ−メチロール基などの架橋基全体
の０．１〜８０モル％の範囲で変化させる事ができる。
本発明のタイミング層は、前述の方法で製造したポリマ
ーラテツクスの少くとも一種をそのままの濃度で又は水
で適宜希釈して中和層上に直接または間接に塗布して設
ける事ができる。

ここで、［間接に」とは、その他のタイミング層（例え
ばセルロースアセテート層）や密着改良層などの層を介
して中和層土に本発明のタイミング層を塗布する事を意
味する。密着改良層の例としては、ゼラチンやポリビニ
ルアルコールなどの親水性コロイドを含む層が挙げられ
る。

また、本発明の前記反応性ラテツクスを約０．１〜１μ
の厚さに塗布して密着改良層として用い、更に公知のラ
テツクスタイミング層を塗設することもできる。

前述の、その他のタイミング層としては、米国特許第４
０２９８４９号、同４０５６３９４号明細書に示されて
いるセルロースアセテートに無水マレイン酸共重合体、
例えばスチレン一無水マレイン酸共重合体やメチルビニ
ルエーテル−無水マレイン酸、酢酸ビニル−無水マレイ
ン酸共重合体などを混合して塗布したタイミング層、又
は、特公昭５２−４６４９６号明細書に示されているヒ
ドロキシエチルアクリレートやヒドロキシエチルメタク
リレートのホモポリマーあるいはこれらと他のビニル系
モノマーとの共重合体からなるタイミング層などの使用
が好ましい。

本発明の写真要素としては、［感光要素」を覆うための
カバーシート（但し、本発明の中和システムが組込まれ
ている。

）であつてもよいし、また、支持体上に順次塗設された
「受像要素］および「感光要素」からなる感光シート並
びに本発明の中和システムを有する「カバーシート」お
よび該感光要素とカバーシートの間に延展されるべく「
処理要素」が一体となつている（但し、これらの要素は
必要に応じて剥離できるものであつてもよい。）、いわ
ゆる積層一体型のフイルム・ユニツトであつてもよいが
、このようなフイルム・ユニツトである事が好ましい。
また、本発明の写真要素は、支持体上に塗設された受像
要素と、支持体上に中和層、タイミング層（この層は二
つ以上でもよく、本発明によるタイミング層を含む）、
感光要素の順に塗設された部材との間に現像処理液を延
展する、いわゆる剥離可能でネガ利用できる型のフイル
ム・ユニツトであつてもよい。

更に、あまり好ましい態様ではないが、本発明の中和シ
ステムは受像要素中にあつてもよい。

本発明のタイミング層用ラテツクスは、公知の方法、例
えばスパイラル・ロツド（ＳｐｉｒａｌｒＯｄ）コータ
ー エクストルージヨン・コーター、デイツプ・コニタ
一、エアナイフ・コーターなどを用いた方法により塗設
できる。このラテツクス中には目的に応じて当業界公知
の種々の添加剤を混入することができ、その具体例は、
「ＰｒＯｄｕｃｔＬｉｃｅｎｓｉｎｇＩｎｄｅｘ」、第
９２巻（１９７１年１２月）報文９２３２に記されてい
る。

上記添加剤としては上記文献の１０７〜１０８頁に記載
されている塗布の際ぬれをよくするための界面活性剤、
製膜を容易にさせるための溶剤（例えばメチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、シクロヘキサノン、トルエンな
ど）、製造時や使用時の接着故障をおこさないために用
いる、粉末シリカやビーズ状ポリマーなどのマツト剤、
皮膜の強度を向上させるための充テン剤（例えばコロイ
ド状シリカ、二酸化チタン、カーボンブラツク、ケイソ
ウ土など）、皮膜の柔軟性を向上させるための可塑剤（
例えばジブチルフタレート、ジヘキシルフタレートなど
のフタル酸エステル類、トリアルキルホスフエート、ト
リクレジルフオスフエートなどのリン酸エステル類）、
などを目的に応じて用いることが望ましい。

上記添加剤の使用量は目的に応じてえらばれるが、ラテ
ツクスポリマー固形分当り好ましくは０．１〜２０％（
重量）、特に好ましくは１〜１０％（重量）である。但
し、前記のぬれをよくするための界面活性剤の使用量は
０．０５〜０．５％程度が好ましい範囲である。反応性
基であるＮ−ヒドロキシメチル基あるいはその前駆体で
あるアルコキシメチル基などを有する、本発明のポリマ
ー・ラテツクス液を塗布する際に、この反応性基の縮合
触媒を使用してもよい。一般に塗布液のＰＨが低い程上
記の反応性基の活性は高いが、逆に塗布液の貯蔵安定性
は低下する。この官能基をアルキルエーテル化など前１
駆ノ体化することによつて安定性の向上が図られる。

好ましい塗布液のＰＨは約１〜６．５、特に好ましくは
約２〜５である。反応性基の縮合触媒として、ｐ−トル
エンスルホン酸や塩酸など有機又は無機の強酸を添加す
ると勝れた効果が得られる。またこれら強酸のアンモニ
ウム塩を反応性基の縮合触媒として使用することは、塗
布液のＰＨを低下させずに、かつ層間密着の勝れたラテ
ツクス・タイミング層が得られる点で特に好ましい。無
機又は有機の強酸のアンモニウム塩の具体例としては、
塩化アンモニウム、臭化アンモニウム、ヨウ化アンモニ
ウム、硝酸アンモニウム、ｐ−トルエンスルホン酸アン
モニウム塩などが挙げられる。添加量としては、好まし
くは固形分１００ｙに対して約０．１〜１００ミリモル
、特に好ましくは約１ないし１０ミリモルである〇本発
明のタイミング層の厚さは、好ましくは０．５〜２０μ
、特に好ましくは２〜８μであるが、タイミング層の使
用目的に応じて自由にえらぶことができ特に制限はない
。

ラテツクス・タイミング層を、共重合組成の異つた２種
類以上のラテツクスの混合物から形成せしめてもよい。

これには最低成膜温度の異つたラテツクスをブレンドす
るのも一方法である。すなわち最低成膜温度が３５℃以
下のポリマーラテツクス（Ｉ群）と最低成膜温度が３５
℃を越えるラテツクス（群）の混合物を塗布することに
よつて、プロツキング故障の起りにくいラテツクス・タ
イミング層を塗設することができる。ここで述べる最低
成膜温度（ＭＦ′Ｔ）とは当業界の技術に精通する者に
は公知の特性値であつて、アメリカ基準局の標準試験法
ＡＴＳＭ−Ｄ２３５４−６８によつて、２５℃以下の研
゛Ｔを有するラテツクスについて容易に測定することが
できる。また２５℃を越えるＭＦＴを有するラテツクス
については、［ＪＯｕｒｎａｌＯｆＡｐｐｌｌｅｄＰＯ
ｌｙｎｌｅｒＳｃｉｅｎｃｅ（ジヤーナル オブ アプ
ライド ポリマー サイエンス）」、第巻第１０号、８
１〜８５頁（１９６０）に記載の方法に準じて、温度勾
配を所望の温度迄設けることによつて、そのＭＦＴを測
定することができる。ＭＦＴが３５℃を越えるラテツク
スの例としては、（Ｃ）成分としてスチレンを６５重量
％以上、あるいはメチルメタクリレートを６９重量％以
上共１ソ重合成分として含有する本発明のポリマーラテ
ツクスが挙げられる。

ＭＦＴが３５℃以下のラテツクスの例としては、ｎ−ブ
チルアクリレートを３６重量％以上共重合成分として含
む本発明のポリマーラテツクスが含まれる。またプロツ
キング故障とは、ラテツクス・タイミング層が支持体上
に最外層として塗布されたフイルムの巻き取り後、この
タイミング層がフイルムの裏面と接着する故障や、ＤＴ
Ｒカラー写真フイルムユニツトの形成後にラテツクス・
タイミング層が感光要素の表面と好ましくない接着を起
すことを意味する。

１１両群のポリマーラテツクスの混合比としては、固形
分重量比でＩ：＝９５：５ないし２０：８０であり、特
に好ましくは、３０：７０〜７０：３０である。

本発明のタイミング層を塗設する際の乾燥方式としては
赤外線、超短波など電磁波を用いる方式、熱ドラムを用
いる方式などの接触伝熱方式、熱風による方式などが好
んで用いられるが、何れの方式をとるにせよラテツクス
から透明な膜を作り、存する水分その他の揮発成分を必
要な加熱を行って放散させるのがのぞましい。

本発明に用いるタイミング層は中和層によるアルカリ吸
収の速度をコントロールすることができる他、本発明に
用いるタイミング層を基準にしてハロゲン化銀乳剤層と
反対側にある層内の物質のハロゲン化銀乳剤側への拡散
移動をコントロールすることができる。

この反対側にある層としては、例えば中和層、或いは中
和層とラテツクス・タイミング層の間に塗設したセルロ
ースアセテート・タイミング層が挙げられる。現像初期
にハロゲン化銀層に達していると不都合な化学作用をす
る添加剤（例えば現像抑制剤やその前駆体（現像抑制剤
放出型のカプラーや・・イドロキノンなどやその他、仏
国特許２２８２１２４に記載のあるような加水分解によ
り現像抑制剤を放出する化合物）、或いは光退色防止用
の還元剤など）を予め中和層あるいは上記のセルロース
アセテートタイミング層に混入しておく事が好ましい。
本発明のタイミング層の塗設により、このような添加剤
を現像初期にはハロゲン化銀乳剤層に達しない様にカバ
ーシート中に隔離して組み込んで現像が十分すすんだ後
にはじめて作用する様にすることができる。ノもちろん
これら添加剤の作用に所望の温度依存性を持たせること
ができる。

例えば中和層あるいは上記のセルロースアセテートタイ
ミング層に、過剰の現像を抑制するための現像抑制剤ま
たはその前駆体を混入しておくと、いずれの温度におい
ても現像開始時には現像抑制をすることなく現像が適当
にすすんだときにはじめて現像を抑制してついには停止
させることができる。これによつて過剰の現像によるス
テイン発生や画像濃度の増大などを防ぐことができる。
特に現像温度が高いとき、現像速度が非常にはやく現像
過剰によるスティン発生がおこりやすいので、このよう
な場合に温度上昇と共に滲透性が非常に大きくなる性質
をもつことに特色のある本発明のラテツクス・タイミン
グ層を用いると、上記不都合を防止するのに好適である
。現像抑制剤放出型カプラー（ＤＩＲカプラー）として
は、たとえば米国特許３２２７５５４号、同３６１７２
９１号、同３７０１７８３号、同３７９０３８４号、同
３６３２３４５号、西独特許出願（０ＬＳ）２４１４０
０６号、同２４５４３０１号、同２４５４３２９号、英
国特許９５３４５４号、特開昭５２−６９６２４号に記
載されたものが使用できる。

現像にともなつて現像抑制剤を放出するその他の化合物
としては、例えば米国特許３２９７４４５号、同３３７
９５２９号、西独特許出願（０ＬＳ）２４１７９１４号
に記載のものが使用できる。

本発明のラテツクス・タイミング層を用いると、低温側
における高ＰＨ持続効果が特に顕著であり、従来起りが
ちであつた転写画像濃度の低下をほぼ完全に補正できる
。また、本発明のタイミング層の水滲透性が温度上昇と
共に著しく大きくなるため、測定温度範囲を室温から高
温側へ変化させると温度が１０℃上昇する毎に水の透過
速度を約２．５倍増大させうるという効果が得られる。
本発明のタイミング層を用いるとこの効果によつて、高
温では処理液が本発明に用いるタイミング層を通過して
中和層に到達しやすくなるので、処理液のＰＨが速く低
下して過度の現像が抑制される、つまり過剰の転写画像
濃度が得られる事が防止できる、という利点がある。従
つて、本発明のタイミング層を用いると、処理温度の変
化にかかわらず、一定の転写画像濃度が得られるという
゜゜温度補償効果″″が得られる。

また本発明に用いるタイミング層は皮膜強度および隣接
層との密着が大きく改良されているため、例えばヒート
シール加工品が外部からの機械的作用を受けた際にも層
内はもちろん隣接層との界面付近で皮膜が切断されるこ
とがない。従つて製造工程中あるいは撮影後処理液展開
時に剥離をおこしたりしないフイルム・ユニツトが得ら
れる。また本発明のタイミング層はホツトメルト型接着
剤を用いてヒートシール加してもヒートシール後の接着
強度が室温はもちろんＯ′ｃ付近の低温に至るまで高い
ので、ヒートシール加工システムを利用したフイルムユ
ニツトを高速大量生産する際に本発明のタイミング層が
特に有用である。前記のホツトメルト型接着剤としては
通常知られているホツトメルト型接着剤ならば何れを用
いてもよい。この場合、ホツトメルト型接着剤を塗布し
た支持体と、本発明の写真要素のタイミング層側とを合
わせ、加熱された金属プロツクの間にはさんでヒートシ
ール加工が行われる。ホツトメルト型接着剤としてはポ
リエチレン酢酸ビニル系接着剤などの他「Ｒｅｓｅａｒ
ｃｈＤｉｓｃｌＯｓｕｒｅ（リサーチ デスクローシャ
ー）」１９７７年６発行の１５８巻黒１５８３９号に記
載された接着剤などを、ポリエチレンテレフタレートフ
イルム、ポリカーボネートフイルム又はトリアセチルセ
ルロースフイルムなどの土に塗布して用いるのが特に有
利である。

ヒートシール後の剥離強度は通常の引つ張り試験器など
により容易に行うことができる。また、本発明で用いる
ラテツクスの製造にあたつては、安価な原料を用い、ま
た簡単な設備を用いて製造できるため製造コストが安い
という利点が得られる。

温度上昇と共に水滲透性が著しく上昇する本発明のタイ
ミング層の有用性の評価は、写真現像の温度変化と水滲
透性の温度変化との対応によりすることができる。

タイミング層の水滲透性は、実用上タイミング層中をア
ルカリ性処理液が透過しそのＰＨが中和層にアルカリが
吸収されることにより低下するに要する所要時間を尺度
として議論するのがのぞましい。

この場合ＰＨが１０（このＰＨは当業界で写真ＺＺ現像
が実質的に停止すると認識されている。

）に達するまでの所要時間を測定し、その温度による変
化率と転写画像濃度の温度変化との対応をとつてみると
非常によい対応関係があることがわかつた。ＰＨが１０
に達するまでの所要時間はアルカリ性条件下で分解しな
いＰＨ指示薬色素を用いて測定するのが好適である。特
に後で実施例に記載した様なＰＨ指示薬としてＰＨｌＯ
で変色する色素であるチモールフタレインを用いる方法
により測定するのが好適である。チモールフタレインを
用い本発明の実施例で示す方法でアルカリ処理液のＰＨ
が１０まで低下する時間の温度変化率を、本発明に用い
るタイミング層と他の先行技術によるタイミング層につ
いて測定し転写画像濃度の温度変化と対応をとつてみた
ところ明らかな相関関係がみられた。

測定温度を通常人間が住むに好適な２５℃とやや低めの
１５℃の２点に定め、ＰＨが１０に達するまでの所要時
間の変化率、即ちＴｌ５／Ｔ２５（Ｔｌ５、Ｔ２５は各
々１５℃、２５℃におけるＰＨｌＯまで達する所要時間
）を尺度にして、本発明のタイミング層の好ましい範囲
を規定するのが好適である。実施例１の方法に従つて測
定したＴｌ５／Ｔ２５の値が２５０〜６００％であるも
のが好ましく、特に好ましくは３００〜５００％である
。本発明に使用するハロゲン化銀乳剤は、塩化銀、臭化
銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀もしくはこれらの
混合物の親水性コロイド状分散物であつて、ハロゲン組
成は感光材料の使用目的と処理条件に応じて選択される
が、沃化物含量が１モル％から１０モル％（塩化物含量
が３０モル％以下であり）、残余が臭化物であるような
沃臭化銀ないし塩沃臭化銀乳剤が特に好ましい。

本発明には粒子表面に潜像を形成し易い乳剤も用いるこ
とができるが、米国特許２４９７８７５、同２５８８９
８２、同３４５６９５３、同 ３７６１２７６、同３２０６３１３、同 ３３１７３２２、同３７６１２６６、同 ３８５０６３７、同３９２３５１３、同 ３７３６１４０、同３７６１２６７、同 ３８５４９４９号に記載されているような内部潜像型直
接反転乳剤を用いることが好ましい。

本発明に使用する写真乳剤と組合せて用いる拡散転写法
用色像供与物質としては、例えば米国特Ｚ５許３２２７
５５１号、３２２７５５４号、３４４３９３９号、３４
４３９４０号、 ３６５８５２４号、３６９８８９７号、 ３７２５０６２号、３７２８１１３号、 ３７５１４０６号、３９２９７６０号、 ３９３１１４４号、３９３２３８１号、 英国特許８４０７３１号、９０４３６４号、１０３８３
３１号、西独特許公開（０ＬＳ）１９３０２１５号、２
２１４３８１号、２２２８３６１号、２２４２７６２号
、 ２３１７１３４号、２４０２９００号、 ２４０６６２６号、２４０６６５３号、特開昭４９−１
１４４２４号、４９−１２６３３２号、４８−３３８２
６号、４９−１２６３３１号、５０−１１５５２８号、
５１−１１３６２４号、５１−１０４３４３号、５１−
１１４９３０号、５２−８８２７号、５３−２３６２８
号、特願昭５２−５８３１８号、５２−６４５３３号、
５２６４５３３号、５２−７４６０１号、５２１３１２
７８号などに記載の化合物を用いる事ができるが、なか
でもはじめは非拡散性であるが現像主薬の酸化生成物と
の酸化還元反応後、開裂して拡散性色素を放出するタイ
プの色像供与物質（以下ＤＲＲ化合物と略す）の使用が
好ましい。

ＤＲＲ化合物の具体例としては、上記特許明細書に記さ
れているものの他、マゼンタ染料像形成物質としては１
−ヒドロキシ−２−テトラメチレンスルフアモイル一４
−〔３′−メチル−４′一（７ヒドロキシ一４″−メチ
ルーデーヘキサデシルオキシフエニルスルフアモイル）
−フエニルアゾ〕ナフタレン、イエロ一染料像形成物質
としては１−フエニル一３−シアノ−４＋３′＋７ーヒ
ドロキシ一４″−メチル−５１′℃２″′・４′７ージ
一ｔ−ペンチルフエノキシアセトアミノ）−フエニルス
ルフアモイル〕フエニルアゾ｝−５−ピラゾロンなどが
あげられる。本発明においてＤＲＲ化合物を用いる場合
、これをクロス酸化できるものであれば、どのようなハ
ロゲン化銀現像薬でも使用することができる。

このような現像薬は、アルカリ性処理組成物（処理要素
）の中に含ませてもよいし、感光要素の適当な層に含ま
せてもよい。本発明において使用しうる現像薬の例をあ
げるの次の通りである。ハイドロキノン、アミノフエノ
ール、例えば、Ｚ４Ｎ−メチルアミノフエノール、１−
フエニル一３ーピラゾリドン、１−フエニル一４・４−
ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フエニル一４−メチ
ル−４−オキシメチル−３−ピラゾリドン、Ｎ・Ｎ−ジ
エチル−ｐ−フエニレンジアミン、３−メチル−Ｎ−Ｎ
−ジエチル−ｐ−フエニレンジアミン、３−メトキシ−
Ｎ−エトキシ−ｐ−フエニレンジアミンなど。

ここにあげたもののなかでは、一般に受像層（媒染層）
のステイン形成を軽減する性質を具えている白黒現像剤
が、特に好ましい。

本発明で使用する直接反転写真乳剤は像露光後、カブら
し剤の存在下で現像処理するかまたは米国特許２４５６
９５３（ＫｎＯｔｔとＳｔｅｖｅｎｓ）に記載されてい
るように像露光後、表面現像処理中に一様露光（高照度
短時間露光、即ち１０−２秒よりも短い露光、でも低照
度長時間露光でもよい）をあててカブらせる事によつて
、直接ポジ像を得ることができる。

カブらせる程度を容易に調節できるという点で、カブら
し剤を使用する方が好ましい。カブらし剤は感材中に含
有させてもよいし、現像液中に添加してもよいが、感材
中に含有させる方が好ましい。この型の乳剤のカブラせ
剤としては、米国特許２５８８９８２号、同２５６８７
８５号に記載されたヒドラジン類、同３２２７５５２号
に記載されたヒドラジドとヒドラゾン、英国特許１２８
３８３５号、特公昭４９３８１６４号、米国特許３７３
４７３８号、同３７１９４９４号、同３６１５６１５号
に記載された四級塩化合物が代表的なものである。

ここで使用されるカブらし剤の量は、所望とする結果に
応じて広範囲に変えることができる。

このカブらし剤の濃度は、一般に、感光材料中に添加さ
れる場合、使用するカブらせ剤によつて異なるが、０．
１ｍｇ〜１５００η／１モルＡｇ、好ましくは０．５即
〜７００即／１モルＡｇの範囲で使用される。カブらし
剤を処理液中に加える場合には、一般に現像液１１につ
いて約０．０５ないし５Ｖ（好ましくは０．１〜１ｙ）
である。

カブらし剤を感光材料中のいずれかの層に含ませる場合
、そのカブらし剤を耐拡散性にすることが有効である。
耐拡散性にする手段としてはカプラーで通常用いられて
いるバラスト基をカブらし剤に結合するのが有効である
。さらに、米国特許３２２７５５１号、 ３２２７５５４号、同３３６４０２２号に記載されてい
るようなＤＩＲ反転乳剤方式、あるいは英国特許９０４
３６４号に記載されて〜・るような溶解物理現像による
反転乳剤方式によつても、転写ポジ像を得ることができ
る。

米国特許３２２７５５０号および同３２２７５５２号、
英国特許１３３０５２４号などに、カラー拡散転写画像
を得るための一連のプロセスが記載されている。

本発明で拡散性色素放出型カプラー（ＤＤＲカプラー）
を用いる場合のカラー現像主薬としては、米国特許３２
２７５５２号、同２５５９６４３号および同３８１３２
４４号に記載されているパラフエニレンジアミン誘導体
が代表的なものである。

さらに特開昭４８−２６１３４に記載されているが如き
ｐ−アミノーフエノール誘導体も有利に使用できる。受
像要素は米国特許３１４８０６１号に記載されたポリ−
４−ビニルピリジンーラテツクス（特にポリビニルアル
コール中の）、米国特許３００３８７２号記載のポリビ
ニルピロリドン、米国特許３２３９３３７号、同３５４
７６４９号、同３７０９６９０号、同３９５８９９５号
、同３７７０４３９号、同３８９８０８８号、西独特許
出願（０ＬＳ）２２６４０７３号などに記載されている
ような、四級アンモニウム塩またはフオスフオニウム塩
を含むポリマーなどの媒染剤から成るような媒染層を有
することが必須である。

媒染剤としては、米国特許２８８２１５６号、同３６２
５６９４号、同３７０９６９０号などに記載の塩基性ポ
リマーも有効である。その他米国特許２４８４４３０号
、同３９５８９９５号、同３２７１１４７号、同３１８
４３０９号、同３２７１１４７号などに記載された媒染
剤も有効である。本発明のＤＴＲカラー用写真要素は処
理中に著しい寸度変化を起さない支持体を有する。

かかる支持体の例としては、通常の写真感光材料に用い
られているセルロースアセテートフイルム、ポリスチレ
ンフイルム、ポリエチレンテレフタレートフイルム、ポ
リカーボネートフイルム等があげられる。そのほかに、
支持体として有効なのは、たとえば紙および表面をポリ
エチレンのような水を透さないポリマーでラミネートし
た紙などである。本発明に使用する中和層を構成する好
ましい酸性物質としては、米国特許２９８３６０６号、
同２５８４０３０号、同３３６２８１９号、同３７６５
８８５号、同３８１９３７１号、フランス特許２２９０
６９９号などに記載されているものが代表的である。具
体的には、ポリメタクリル酸、アクリル酸とメタクリル
酸との種々の共重合比の共重合体、アクリル酸あるいは
メタクリル酸と他のビニル系モノマー（例えばアクリル
酸エステル類、メタクリル酸エステル類、ビニルエーテ
ル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類など）と
の種々の共重合比（好ましくはアクリル酸もしくはメタ
クリル酸含量が５０〜９０モル％）の共重合体などが挙
げられ、なかでもポリアクリル酸、アクリル酸−アクリ
ル酸ブチル共重合体の使用が推奨される。中和層にはこ
れらの酸性物質の外に、セルローズ・ナイトレート、ポ
リ酢酸ビニルの如きポリマーを含有させることができ、
米国特許３５５７２３７号に記載されているように可塑
剤を含有させることもできる。ドイツ特許出願（０ＬＳ
）２０３８２５４号に記されているように酸性物質はミ
クロカプセル化してフイルムユニツトに組入れることが
できる。本発明に使用する処理組成物は、ハロゲン化銀
乳剤の現像と拡散転写色素像の形成とに必要な処理成分
を含有した液状組成物であつて、溶媒の主体は水であり
、他にメタノール、メチルセロソルプの如き親水性溶媒
を含むこともある。

処理組成物は、乳剤層の現像を起させるに必要なＰＨを
維持し、現像と色素像形成の諸過程中に生成する酸（例
えば臭化水素酸等の・・ロゲン化水素酸、酢酸等のカル
ボン酸等）を中和するに足りる量のアルカリを含有して
いる。アルカリとしては水酸化リチウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム分散物、水酸
化テトラメチルアンモニウム、炭酸ナトリウム、リン酸
３ナトリウム、ジエチルアミン等のアルカリ金属もしく
はアルカリ土類金属塩、又はアミン類が使用され、好ま
しくは室温において約１２以上のＰＨをもつ、特にＰＨ
ｌ４以上となるような濃度の苛性アルカリを含有させる
ことが望ましい。さらに好ましくは処理組成物は高分子
量のポリピニルァルコール、ヒドロキシエチルセルロー
ズ、ナトリウムカルボキシメチルセルローズの如き親水
性ポリマーを含有している。これらのポリマーは処理組
成物に室温で１ポイス以上、好ましくは数百（５００〜
６００）乃至１０００ポイス程度の粘度を与え、処理時
の組成物の均一な展開を容易にするばかりでなく、処理
の過程で感光要素と受像要素に水性溶媒が移動して処理
組成が濃縮されたときには非流動性の膜を形成して、処
理後のフイルムユニツトが一体化するのを助ける。この
ポリマー膜は、拡散転写色素像の形成が実質的に終了し
たのちには、それ以上の着色成分の受像層への移動を抑
制して画像の変化を防止するのに役立てることもできる
。処理組成物はこの他に、処理中にハロゲン化銀乳剤が
外部光によつてカブるのを防止するためにＴｉＯ２、カ
ーボンブラツク、ＰＨ指示色素のような吸光性物質や、
米国特許３５７９３３３号に記載されているような減感
剤を含有していることが場合によつては有利である。

さらに処理液組成物中にはベンゾトリアゾールの如き現
像抑制剤を添加することができる。上記の処理組成物は
、米国特許２５４３１８１号、同２６４３８８６号、同
２６５３７３２号、同２７２３０５１号、同３０５６４
９１号、同３０５６４９２号、同３１５２５１５号等に
記載されているような破裂可能な容器に入れて使用する
ことが好ましい。

本発明の写真要素が写真フイルムユニツト、すなわち、
一対の並置された押圧部材の間にそのフイルムユニツト
を通過せしめることにより処理を行ない得るようにされ
ているフイルムユニツトである場合、それは、下記の要
素：（ａ）支持体上に、色像供与物質と組み合わさつた
少くとも１つの感光性ハロゲン化銀乳剤層（感光要素）
、（ｂ）受像層（受像要素）、 （ｃ）アルカリ性処理組成物、好ましくはフイルムユニ
ツト内の破壊可能な容器中に含有されており、かつ・・
ロゲン化銀現像剤を含有している組成物、（ｄ）該アル
カリ処理組成物を中和するための中和層および本発明に
よるラテツクス・タイミング層との組合せ（中和システ
ム）から成る事が好ましい。

実施例 １ 厚さ１００μのポリエチレンテレフタレートフイルム上
に下記の（１）に示した処方で中和層を塗布し、その上
に下記（ｎ）に示した処方でセルロースアセテートを含
むタイミング層を塗布した。

更にその上に表Ａを示した様にポリマーラテツクスを塗
布し７０℃で３分間乾燥した後１２０℃で５分間乾燥し
て本発明に用いるタイミング層を形成させた。（１）中
和層の塗布 平均分子量５００００のアクリル酸一ブチルアクリレー
ト（モル比８：２）共重合体の２０％溶液（溶媒はアセ
トン一水３：１（体積比））１１＜ｇに対し、５−Ｃ２
−シアノエチルチオ）１フエニルテトラゾールを３．８
ｙ溶解する。

この液をエクストルージヨンコータ一により一平方メー
トルあたり１１０ｔ塗布し風速毎秒５ｍ１温度１２０゜
Ｃ、露点５゜Ｃの乾燥風により５分間乾燥し厚さ約２０
μの膜を得た。（［［）セルロースアセテートタイミン
グ層の塗布酢化度５２，１％（加水分解により放出され
る酢酸の重量が試料１ｙあたり０．５２１７のもの）の
セルロースアセテート（ダイセル株式会社製ＬＭ−７０
）５５ク、及び平均分子量１００００のスチレン一無水
マレイン酸（モル比１：１）共重合体５ｙをアセトン−
シクロヘキサノン３：１（体積比）混合溶媒に溶解する
。

この液を（１）に示した方法で塗設した中和層の上にエ
クストルージヨンコータ一により１平方メートルあたり
５０ｙ塗布し、風速毎秒４ｍ、温度８０℃、露点５゜Ｃ
の乾燥風により乾燥し厚さ約２．６μの膜を得た。この
カバーシート黒１〜６について下記の両に示したような
処方でつくつたＰＨ指示薬塗布フイルムと向いあわせ、
その間に下記の（代）で示した調製法により得たアルカ
リ性粘稠液を液厚み１２０μに展開した。

次にＰＨ指示薬塗布フイルムの側から濃度測定して、チ
モールフタレインの高ＰＨ色（青）の反射濃度が中和に
より減少し半減するに要する所要時間（この時間をＰＨ
ｌＯに達する時間と判断する）を２５℃と１５℃につい
て測定した。テスト結果を表Ｂに示す。（１１） ＰＨ
指示薬塗布フイルムの作製厚さ１８０μのポリエチレン
テレフタレートフイルム上にゼラチン１７あたり２８．
５ワのチモールフタレインを含む７％ゼラチン液（溶媒
は水−メタノール体積比４：１混合溶媒）を１平方メー
トルあたり１００７塗布し、乾燥厚み約６．５μ膜を作
る。

その上にゼラチン１７あたり二酸化チタン９７の比で混
合した二酸化チタン分散液（固形分濃度１０％）を一平
方メートルあたり３００７塗布して乾燥厚み約９μの白
色膜をつくる。更にその上に前記と同様のチモールフタ
レイン含有ゼラチン液を同様に塗布、乾燥して工程を完
了した。個 アルカリ性粘稠液の調製 ヒドロキシエチルセルロース（ハーキユレス社製Ｎａｔ
ｒＯｓＯｌ２５Ｏ−ＨＲ）を３０７、水酸化ナトリウム
３０ｙを９４０ｆの水に撹拌しながら溶解し、脱泡して
使用した。

表Ｂの値の比較から明らかなように、本発明のタイミン
グ層を使用した場合にもアルカリ透過性の温度依存性は
比較用と実質的に差がないことがわかる。

実施例 ２ 実施例１において作製した写真要素（カバーシート）（
黒１〜６）を以下に示す感光シート（支持体上に受像要
素と感光要素とが一体となつて塗設されている）と処理
液（処理要素）とを用いて処理温度ラチチユードをしら
べた。

感光シートの作製 厚み１８０μの透明なポリエチレンテレフタレート支持
体の上に、順に次の層を設けた：（１）下記の媒染剤（
３．０７／Ｒｒｌ）とゼラチン（３．０ｙ／Ｍ゜）を含
む層（２）二酸化チタニウム（２０Ｖ／７７１″）およ
びゼラチン（ ２．０Ｖ／ ｍ”）を含む層（３）カー
ボンブラツク（２．５ｙ／イ）およびゼラチン（ ２．
５ｙ／ ７７１″）を含む層（４）下記シアン色像供与
物質（ ０．５０Ｖ／ ７７１″）ジエチルラウリルア
ミド（０．２５ｙ／７７！″）およびゼラチン（ １．
１４ｙ／ ７７！″）を含む層（５）赤感性の内部潜像
型直接反転沃臭化銀乳剤（ハロゲン化銀中のハロゲン組
成：沃素が２モル％、銀の量で１．９Ｖ／ ７７１″、
ゼラチン１．４Ｖ／７７１″）、次式で示されるかぷら
せ剤（０．０２８ｙ／ｍ”）およびペンタデシルハイド
ロキノンスルホン酸ナトリウム（ ０．１３Ｖ／ ７７
１″）を含む層（６）ゼラチン（ ２．６Ｖ／ ｄ ）
と２・５−ジオクチ ，ルハイドロキノン（ １．０ｙ
／ｍ″）を含む層（７）下記のマゼンタ色像供与物質（
０．４５ｙ／イ）、ジエチルラウリルアミド（ ０．１
０ｙ／ Ｔｒｌ）、２・５−ジ一 ｔ −ブチルハイド
ロキノン（０．００７４Ｖ／ｍ”）、およびゼラチン（
０．７６ｙ／ ７７１″）を含む層（８）緑感性の内
部潜像型直接反転沃臭化銀乳剤（沃臭化銀の・・ロゲン
組成：沃素が２モル％、銀の量で１，４ｙ／ＴＩ、ゼラ
チン１，０７／Ｍ２）、層（５）に添加したと同じかぶ
らせ剤（０．０２４７／ｗｌ）およびペンタデシルハイ
ドロキノンス ５ルホン酸ナトリウム（０．１１７／Ｍ
２）を含む層（９）ゼラチン（２．６７／イ）、２・５
−ジオクチルハイドロキノン（１．０７／Ｔｒｌ）を含
む層１０）下記のイエロ一色像供与物質（０．７８ｙ／
ｍ”）、ジエチルラウリルアミド（０，１６ｙ／Ｍ２）
、２・５−ジ一ｔ−ブチルハイドロキノン（０．０１２
ｙ／Ｔｒｌ）およびゼラチン（０．７８７／Ｔｒｌ）を
含む層（自）青感性の内部潜像型直接反転沃臭化銀乳剤
（沃臭化銀のハロゲン組成：沃素が２モル％、銀の量で
２．２ｔ／イ、ゼラチン１．７ｙ／ｍ″）、層（５）に
添加したと同じかぶらせ剤（０．０２０ｆ／Ｍ２）およ
びペンタデシルハイドロキノンスルホン酸ナトリウム（
０．０９４ｒ／イ）とを含む層（自）ゼラチン（０．９
４７／Ｒｌｌ）を含む層上記組成の処理液を０．８７ず
つ圧力で破壊可能な容器に充填した。

処理工程 前記のテスト用カバーシートと上記感光シートを重ね合
わせ、カバーシートの側からカラーテストチヤートを露
光したのち、両シートの間の、上記処理液を８５μの厚
みになるように展開した（展開は加圧ローラーの助けを
かりて行つた）。

処理は、２５℃と１５℃でそれぞれ行つた。処理後、感
光シートの透明支持体を通じて、受像層に生成した青濃
度、緑濃度、赤濃度をマグヘス反射濃度計によつて測定
した。（画像濃度が平衡に達するに充分な時間経過して
濃度を測定した。）一定の光学濃度に達したときの最高
転写濃度の値を表Ｃにあげる。表Ｃから明らかなごとく
、各カバーシート共、１５℃と２５℃の間での転写濃度
の差は実質的にない。また人物などをモデルとして実技
撮影した場合でも本願発明に用いるカバーシートの場合
は処理温度ラチチユードは充分であつた。

（気温１５〜３５゜Ｃ）実施例 ３ 実施例１により作製したカバーシート黒１〜６につき、
下記（至）の方法で作製したヒートシール用フイルム（
支持体にホツトメルト型接着剤を塗布したもの）の接着
剤面とカバーシートのラテツクスタイミング層塗布面と
を合わせ、１２０℃に加熱した二本の金属プロツクの間
に１ｋ９／Ｃｔ！ｉの圧力で１秒間はさんでヒートシー
ルした後、５０℃相対湿度８０％に設定した老化試験室
に１日入れた後のものについてＯ℃で剥離試験器を用い
て接着強度テストを行つた。

（７） ヒートシール用フイルムの作製 厚さ１００μのポリエチレンテレフタレートフイルム上
に下記組成を有するポリマー混合物を熱溶融したのちラ
ミネートし、１イ当り１３．５７のホツトメルト型接着
剤層を形成した。

〈ホツトメルト型接着剤組成物〉得られた結果を表Ｄに
示す。

表の数値から明らかなように、比較用カバーシート黒６
では老化後のＯ℃での剥離強度が著しく低く、同じく比
較用カバーシート工５では、やや剥離強度が改良されて
いるが、実用上充分とは言えなかつた。

剥離個所はセルロースアセ ！テートタイミング層とラ
テツクスタイミング層の間であつた。これに対して本発
明のラテツクスタイミング層を用いたカバーシート黒１
から４では老化試験後もＯ℃で実用に耐える強度を有し
ていた。これは、ラテツクスの架橋基とし ：てグリシ
ジル基を導入したときよりもヒドロキシメチル基を含有
するときの方が、ラテツクスから生成される膜自身の強
度および膜の隣接層との密着が良好であることを示す。
以下に本発明の好ましい実施態様を列挙するが、，これ
らのみに限定されるものではない。

１．特許請求の範囲の写真要素に於て、一般式（１）の
モノマーが、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミドであ
る事。

２．特許請求の範囲の写真要素に於て、Ａ群の一般式（
１）のモノマーが、下記の一般式（１ａ）で表わされる
モノマーである事。

一般式（１ａ） ＣＨ２ＯＲ２ｌ基（ここでＲ２ａは炭素数１〜６のアル
キル基）又は― Ｃ−Ｃ−Ｃ Ｃ Ｒ６基 （ここでＲ３〜Ｒ７は一般式（）のそれらと同義）であ
る。

Ｒ１がメチル基のとき、Ｑ，は−ＣＨ２ＯＲ２基又は−
Ｃ−Ｃ−Ｃ−Ｃ−Ｒ６基（ここでＲ２〜Ｒ７は一般式（
１）のそれらと同義）である。

〕Ｓ．特許請求の範囲の写真要素に於て、Ｂ群のモノマ
ーが、前記の一般式（ｎ）のモノマーである事。目．特
許請求の範囲の写真要素に於て、Ｃ群のモノマーが前記
の一般式両のモノマーである事。）．実施態様１の写真
要素に於て、Ｂ群のモノマーがアクリル酸、メタクリル
酸又はイタコン酸であり、Ｃ群のモノマーが前記の一般
式画のモノマーである事。 ゛１．実施
態様２の写真要素に於て、Ａ群のモノマーがＮ−ヒドロ
キシメチルメタクリルアミド、Ｎ−アルコキシメチルア
クリルアミド、又はＮアルコキシメチルメタクリルアミ
ドであり、Ｂ群のモノマーがアクリル酸、メタクリル酸
又はイタコン酸であり、Ｃ群のモノマーが前記の一般式
叫のモノマーである事。

１．実施態様３、４又は５の写真要素に於て、一般式匣
のモノマーがそのホモポリマーのガラス転移点が５０℃
以上のもの（硬い共重合成分）と４０′Ｃ以下のもの（
軟い共重合成分）との混合物である事。

３．実施態様７の写真要素に於て、硬い共重合成分がス
チレン、アクリロニトリル又はメチルメタクリレートで
あり、軟い共重合成分が置換もしくは無置換のアルキル
アクリレートであること。

）．実施態様３の写真要素に於て、一般式叫のモノマー
の一つが、ブチルメタクルレートである事。

０．実施態様８の写真要素に於て、硬い共重合成Ｏソ分
がスチレン又はメチルメタクリレートであり、軟い共重
合成分がブチルアクリレートである事。

１１．実施態様１、２又は３の写真要素に於て、Ａ群、
Ｂ群及びＣ群のモノマーの組成比（重量％）が順次約０
．５〜４０、約１〜１２及び約４８〜９９である事。

１２．特許請求の範囲の写真要素がカバーシートである
事。

１３．特許請求の範囲の写真要素が、支持体上に順次塗
設された受像要素および感光要素とからなる感光シート
並びに上記支持体より最外側にある層を覆う透明なかつ
中和システムを有するカバーシートおよび該感光要素と
カバーシートの間に延展されるべく処理要素とが一体と
なつている（但し、必要に応じてこれらの要素は剥離で
きるようになつていてもよい。

）積層一体型フイルム・ユニツトである事。１４．実施
態様１３において、感光要素は色素像供与物質と組合わ
されたハロゲン化銀写真乳剤層を少くとも一層有する事
。

１５．実施態様１４において、色素像供与物質が該写真
乳剤層と隣接する層に含有されている事。

１６．実施態様１４において、該色素像供与物質が４Ｕ
現像主薬の酸化生成物により酸化され゛Ｃ拡散性色素を
放出する化合物である事。

１７．実施態様１４において、該写真乳剤が直接反転写
真乳剤である事。

１８．実施態様１７において、直接反転写真乳剤が内部
潜像型直接反転写真乳剤である事。

１９．実施態様１８において、内部潜像型乳剤がコア／
シエル型内部潜像乳剤である事。

２０．実施態様１６における色素像供与物質が直接反転
写真乳剤層と組合わされている事。

２１．特許請求の範囲の写真要素において、タイミング
層用ラテツクスを製造する際およびタイミング層をラテ
ツクスから形成する際、ラテツクス合成時の乳化剤ある
いは塗布助剤として用いる界面活性剤以外の水溶性物質
を含ませない事。

２２．特許請求の範囲の写真要素において、該中和シス
テムが、実施例１に示された試験法により測定したＴｌ
５／Ｔ２５（１５℃、２５℃においてアルカリ処理剤の
ＰＨを１０まで低下させるのに要する時間の比）の値で
２５０％から６００％の範囲にある事。

２３．実施態様２２の写真要素において、Ｔｌ５／Ｔ２
５の値が３００％から５００％の範囲にある事。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 水性アルカリ現像液のｐＨを低下させるための中和
   システム〔この中和システムは中和層とタイミング層を
   含み、このタイミング層は前記の現像液がタイミング層
   を経由して前記の中和層に到達するような位置関係で該
   中和層に直接または間接に重ね合わせて配置されている
   。 〕を有するカラー拡散転写法用写真要素において、前記
   タイミング層が下記のＡ群、Ｂ群およびＣ群より選ばれ
   たそれぞれ少くとも一種のモノマーを互いに乳化重合し
   て得られるポリマーラテックスから形成されたものであ
   ることを特徴とするカラー拡散転写法用写真要素。（Ａ
   ）群：下記の一般式（ I ）で表わされるモノマー。 一般式（ I ）▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わす。 Ｔは水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はアルケ
   ニル基を表わす。Ｑは−ＣＨ＿２ＯＣＯＲ＿０基、▲数
   式、化学式、表等があります▼基、−ＣＨ＿２ＯＲ＿２
   基、▲数式、化学式、表等があります▼基又は▲数式、
   化学式、表等があります▼基を表わす。 Ｒ＿０はアルキル基又はアリール基を表わす。Ｒ＿１＿
   ａとＲ＿１＿ｂは同じでも異つていてもよく、それぞれ
   アルキル基又は置換アルキル基を表わし、又互いに連結
   して５〜６員の含窒素複素環を形成してもよい。Ｒ＿２
   は水素原子、アルキル基、置換アルキル基又はアルケニ
   ル基を表わす。Ｒ＿３、Ｒ＿４、Ｒ＿５、Ｒ＿６、Ｒ＿
   ７は同じでも異つていてもよく、水素原子又は−ＣＨ＿
   ２ＯＲ＿２基を表わすが、Ｒ＿３〜Ｒ＿７の全てが同時
   に水素原子となる場合は除く。Ｗは炭素数が３〜５のア
   ルキレン基を表わす。〕（Ｂ）群：遊離のカルボン酸基
   もしくはリン酸基又はその塩を少くとも一つ有する重合
   性エチレン系不飽和モノマー。 （Ｃ）群：前記の（Ａ）群及び（Ｂ）群のモノマーと共
   重合可能で、（Ａ）群及び（Ｂ）群のモノマーと異るエ
   チレン系モノマー。