JPS59173277A - 金属表面の腐蝕および/または金属表面上へのスケ−ル沈積を抑制する方法 - Google Patents
金属表面の腐蝕および/または金属表面上へのスケ−ル沈積を抑制する方法Info
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- JPS59173277A JPS59173277A JP4121284A JP4121284A JPS59173277A JP S59173277 A JPS59173277 A JP S59173277A JP 4121284 A JP4121284 A JP 4121284A JP 4121284 A JP4121284 A JP 4121284A JP S59173277 A JPS59173277 A JP S59173277A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属表面の腐蝕および/または金部表面上のス
ケール沈積を抑制する方法に関する。
ケール沈積を抑制する方法に関する。
イキリス国特許出願第21’12370A号において、
本出願人は、水性糸をそれに接触している釡属、特に鉄
系金属の腐蝕を抑制するためにおよび/または水性系か
らのスケール沈積を押韻1するために処理する方法であ
って、 水性糸に次式: で表わされる2−ヒドロキ7−ホスホノ酢酸マたはその
水浴性塩01ないしsooooppm’i添加すること
からなる方法を占ピ載してクレームとした。
本出願人は、水性糸をそれに接触している釡属、特に鉄
系金属の腐蝕を抑制するためにおよび/または水性系か
らのスケール沈積を押韻1するために処理する方法であ
って、 水性糸に次式: で表わされる2−ヒドロキ7−ホスホノ酢酸マたはその
水浴性塩01ないしsooooppm’i添加すること
からなる方法を占ピ載してクレームとした。
本発明者は、いま、ある釉の2−アミノ−ホスホノ酢酸
化合物を、金網表面と接触した水性糸に癌加したとき、
また腐蝕またはスケーリング環境と接触する前に笠楓表
面に前処理として使用したとき、該化合物が腐蝕抑制剤
および/またはスケール沈積抑制剤として効果的である
ことを見い出した。
化合物を、金網表面と接触した水性糸に癌加したとき、
また腐蝕またはスケーリング環境と接触する前に笠楓表
面に前処理として使用したとき、該化合物が腐蝕抑制剤
および/またはスケール沈積抑制剤として効果的である
ことを見い出した。
したがって、本発明は、
金属表面特に鉄、銅(またはそれらの合金)表面の腐蝕
を抑制するためにおよび/−または金夙表面上へのスケ
ール沈積葡抑j+jllするために金属表向を状態調節
する方法であって、 前記金部表面を、 A)腐蝕またはスケーリング環境と接触する前において
、 1)次式1: 〔式中、 R1および鳥は同一または異なってそれぞれ水素原子、
炭素原子数1ないし12の直鎖マタは分枝鎖アルキル基
であって随意に1またはそれ以上のヒドロキシおよび/
またはカルホキノル基で置換されたものおよび/または
随意に1またはそれ以上の酸素原子で中断されたもの、
炭素原子数5ないし12の直鎖または分枝鎖アルケニル
基、炭素原子数7ないし15のアルアルキル基または−
cH2PO8H,を表オつす力1、ヨエはR3によび搗
は、それらがそれぞれ結合している窒素原子とともに、
1咀意に置換された複素環式環を形成してもよく、 鳥は水素原子、炭素原子数1ないし12の直鎖または分
枝鎖アルキル基または随意に置換された炭素j京子数6
ないし10のアリール基を表わし、そして R1は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わす。〕 で表わされる化合物またはその水溶性塩(または部分エ
ステルもしくは塩);および随意に 11)金鳩イオン成分でろって、i11記式Iの化合物
および該金属イオンによって個々に機能う゛る状態調節
作用を相乗的に高めるものb)、 で処理し、および/または B)金属表面を腐蝕させ侍るまたは金属表面上へスケー
ルを沈積させ得る水性系と接触している間において、 al Mil記式Iの化合物またはその水溶性塩(−
1:たは部分塩);および随意に b)前記11)において定義した一7属イオン、で処理
してなる、MiJ記金属表面を状態調節する方法を提供
するものである。
を抑制するためにおよび/−または金夙表面上へのスケ
ール沈積葡抑j+jllするために金属表向を状態調節
する方法であって、 前記金部表面を、 A)腐蝕またはスケーリング環境と接触する前において
、 1)次式1: 〔式中、 R1および鳥は同一または異なってそれぞれ水素原子、
炭素原子数1ないし12の直鎖マタは分枝鎖アルキル基
であって随意に1またはそれ以上のヒドロキシおよび/
またはカルホキノル基で置換されたものおよび/または
随意に1またはそれ以上の酸素原子で中断されたもの、
炭素原子数5ないし12の直鎖または分枝鎖アルケニル
基、炭素原子数7ないし15のアルアルキル基または−
cH2PO8H,を表オつす力1、ヨエはR3によび搗
は、それらがそれぞれ結合している窒素原子とともに、
1咀意に置換された複素環式環を形成してもよく、 鳥は水素原子、炭素原子数1ないし12の直鎖または分
枝鎖アルキル基または随意に置換された炭素j京子数6
ないし10のアリール基を表わし、そして R1は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基を表わす。〕 で表わされる化合物またはその水溶性塩(または部分エ
ステルもしくは塩);および随意に 11)金鳩イオン成分でろって、i11記式Iの化合物
および該金属イオンによって個々に機能う゛る状態調節
作用を相乗的に高めるものb)、 で処理し、および/または B)金属表面を腐蝕させ侍るまたは金属表面上へスケー
ルを沈積させ得る水性系と接触している間において、 al Mil記式Iの化合物またはその水溶性塩(−
1:たは部分塩);および随意に b)前記11)において定義した一7属イオン、で処理
してなる、MiJ記金属表面を状態調節する方法を提供
するものである。
処理・AおよびBは処理すべき金属表面を陰極分極させ
ることによって、たとえば慣用の接触圧a +、技術(
たとえばChap’ter 11. ”Corrosi
on7L、L、 5hreir、 Newnes −B
utterworth 1976)によって有オリに適
用され侍る。
ることによって、たとえば慣用の接触圧a +、技術(
たとえばChap’ter 11. ”Corrosi
on7L、L、 5hreir、 Newnes −B
utterworth 1976)によって有オリに適
用され侍る。
炭素原子数1ないし12の直鎖または分枝鎖アルキル基
(随意にヒドロキシまたはカルボキン置換されたもの)
としてのR,および/または)工2の例としてはメチル
、エチル、n−プロピル、インプロヒル、n−ブチル、
インブチル、1−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキンル
、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル、n−ランチ
シルおよびn−ドデンル基;2−ヒドロキシエチル、2
−ヒドロキン70ビル、2−ヒドロキシブチルおよヒ2
,3−ジヒドロキシグロビル基;およびカルホキジメチ
ル、2−カルホキジエチル、2−カルホキジプロピル、
6−カルホキシブナルおよび1,2−ジカルホキシエチ
ル基ヲ包谷する。
(随意にヒドロキシまたはカルボキン置換されたもの)
としてのR,および/または)工2の例としてはメチル
、エチル、n−プロピル、インプロヒル、n−ブチル、
インブチル、1−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキンル
、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル、n−ランチ
シルおよびn−ドデンル基;2−ヒドロキシエチル、2
−ヒドロキン70ビル、2−ヒドロキシブチルおよヒ2
,3−ジヒドロキシグロビル基;およびカルホキジメチ
ル、2−カルホキジエチル、2−カルホキジプロピル、
6−カルホキシブナルおよび1,2−ジカルホキシエチ
ル基ヲ包谷する。
炭素原子悲3ないし12の直鎖または分枝鎖アルケニル
基としてのR,′j6よび/またはへの例トシテはプロ
ペ−2−エニル、n−ブチ−2−エニル、2−メfルー
プロペー2−エニル、n−ペンテ−2−エニル、n−ヘ
キセ−2−エニル、n−へキサ−2,4−ジェニル、n
−グセ−10−エニルオ、J: ヒn−ドデセー12−
エニルを包宮する。
基としてのR,′j6よび/またはへの例トシテはプロ
ペ−2−エニル、n−ブチ−2−エニル、2−メfルー
プロペー2−エニル、n−ペンテ−2−エニル、n−ヘ
キセ−2−エニル、n−へキサ−2,4−ジェニル、n
−グセ−10−エニルオ、J: ヒn−ドデセー12−
エニルを包宮する。
炭素原子数7ないし15のアルアルキル基R8および/
またはR2としてはベンジル、α−メチルベンジル、α
、α−ジメチル−ベンジル、α−オヨヒβ−フェニルエ
チル、ペンスヒトリル、またはナフチルメチル基を包含
する。
またはR2としてはベンジル、α−メチルベンジル、α
、α−ジメチル−ベンジル、α−オヨヒβ−フェニルエ
チル、ペンスヒトリル、またはナフチルメチル基を包含
する。
R1およびR7が、それらがそれぞれ結合している窒素
原子とともに、随意に置換された複素環式環を形成する
とさ、これらはたとえばビaリドン、ピペリジン、モル
ホリンまたは2,5−ジメチルモルホリン環であっても
よい。
原子とともに、随意に置換された複素環式環を形成する
とさ、これらはたとえばビaリドン、ピペリジン、モル
ホリンまたは2,5−ジメチルモルホリン環であっても
よい。
炭素原子数1ないし4の直鎖または分枝鎖アルキル基R
3としてはたとえばメチル、エチル、n −フロビル、
イソプロピル、n−ブチルまたはt−ブチル基でめり;
そして随意に置換された炭素原子数6fX、いし10の
アリール基R8はフェニル、トリル、キシリル、クミル
、ブチルフェニルおよびナフチル基を包含する。
3としてはたとえばメチル、エチル、n −フロビル、
イソプロピル、n−ブチルまたはt−ブチル基でめり;
そして随意に置換された炭素原子数6fX、いし10の
アリール基R8はフェニル、トリル、キシリル、クミル
、ブチルフェニルおよびナフチル基を包含する。
式■の好ましい化合物はR3およびR2が水素原子また
は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、R5が
水素原子を表わしそしてR4が水素原子を表わすもので
、ろる。
は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、R5が
水素原子を表わしそしてR4が水素原子を表わすもので
、ろる。
式Iの化合物の水浴性塩または部分塩はたとえばリチウ
ム、ナトリウムおよびカリウム塩のようなアルカリ金P
AD;カルシウム、マクネンウム、ストロンチウムおよ
びバリウムのようなアルカリ土類金楓塩;コバルト、鉄
、亜鉛、クロム、ニッケル、マンガン、カドミウムおよ
びセ17ウム(Mイオンのような他の省楓イオン:アン
モニア;および炭素原子数1ないし20のアルキルアミ
ン!(II意に1ないし6個のヒドロキシ基で置換され
たもの)たとえばメチルアミン、エチルアミン、n−プ
ロピルアミン、トリメチルアばン、トリエチルアミン、
n−ブチルアミン、n−ヘキシルアミン、オクチルアミ
ン、エタノールアミンおよびトリエタノールアミンの塩
である。
ム、ナトリウムおよびカリウム塩のようなアルカリ金P
AD;カルシウム、マクネンウム、ストロンチウムおよ
びバリウムのようなアルカリ土類金楓塩;コバルト、鉄
、亜鉛、クロム、ニッケル、マンガン、カドミウムおよ
びセ17ウム(Mイオンのような他の省楓イオン:アン
モニア;および炭素原子数1ないし20のアルキルアミ
ン!(II意に1ないし6個のヒドロキシ基で置換され
たもの)たとえばメチルアミン、エチルアミン、n−プ
ロピルアミン、トリメチルアばン、トリエチルアミン、
n−ブチルアミン、n−ヘキシルアミン、オクチルアミ
ン、エタノールアミンおよびトリエタノールアミンの塩
である。
式1の化合物の多くは新規でありそして、それ目体、本
発明の対象を形成する。しかしながら、式IにおいてR
,、R,、R,sよびR4がいずれも水素原子を表わす
化合物は日産化学工業株式安社によって日本国特許第5
408027号に記載されている。
発明の対象を形成する。しかしながら、式IにおいてR
,、R,、R,sよびR4がいずれも水素原子を表わす
化合物は日産化学工業株式安社によって日本国特許第5
408027号に記載されている。
したがって、本発明の他の対象は次式に〔式中、
R1および鴇は同一または異なってそれぞれ水素原子、
炭素原子叡1ないし12の直鎖または分枝鎖アルキル基
でろって随意に1またはそれ以上のヒドロキシおよび/
またはカルボキシル基で置換されたものおよび/または
随意に1またけぞn以上の酸素原子で中断されたもの、
炭素原子数5ないし12の直鎖または分枝鎖アルケニル
基、炭素原子数7ないし15のアルアルキル基または−
CH2PO3H2−i表わすか、またはR8および鴇は
、それらがそ11それ軸合している窒素原子とともに、
随意に置換さ7″1.た複素環式環を形成してもよく、 R3は水素原子、炭素原子数1ないし12の直鎖または
分枝鎖アルキル基または随意に置換された炭素原子酸6
ないし10のアリール基を表わし、そして R4は水素原子または直鎖もしくけ分枝鎖炭素原+61
ないし4のアルキル基を表わし、ただし、R,、R2,
RsおよびRイが同日芹ぺ水素原子を表わさない。〕 で表わされる化合物またはその水浴性地(または部分エ
ステルもしくは一塩)である。
炭素原子叡1ないし12の直鎖または分枝鎖アルキル基
でろって随意に1またはそれ以上のヒドロキシおよび/
またはカルボキシル基で置換されたものおよび/または
随意に1またけぞn以上の酸素原子で中断されたもの、
炭素原子数5ないし12の直鎖または分枝鎖アルケニル
基、炭素原子数7ないし15のアルアルキル基または−
CH2PO3H2−i表わすか、またはR8および鴇は
、それらがそ11それ軸合している窒素原子とともに、
随意に置換さ7″1.た複素環式環を形成してもよく、 R3は水素原子、炭素原子数1ないし12の直鎖または
分枝鎖アルキル基または随意に置換された炭素原子酸6
ないし10のアリール基を表わし、そして R4は水素原子または直鎖もしくけ分枝鎖炭素原+61
ないし4のアルキル基を表わし、ただし、R,、R2,
RsおよびRイが同日芹ぺ水素原子を表わさない。〕 で表わされる化合物またはその水浴性地(または部分エ
ステルもしくは一塩)である。
具体的態様におけるR、 、 R2,R,およびR4の
特定の意味は前記のものと同一である。
特定の意味は前記のものと同一である。
式Iの新規化合物はたとえば下記反応経路で概要を示す
方法によって製造することができる:(1) この場合、R,、R,およびR3は前記意味を表わし、
R4は水素原子またはアルキル基を表わし、そしてルお
よび鳥は同一または異なってそれぞれ水素原子、アルキ
ル基、アリール基またはアルアルキル基を表わす。随意
に行なわれる慣用の加水分解技術は、各種中間体エステ
ルとして、R4,R,およびR6が水素原子以外のもの
を表スフすとき、適用される。必要な各種触媒は鉱酸た
とえばHC,I、 有機酸またはルイス酸たとえばAl
Cl3、ZnCl2またけBI”。
方法によって製造することができる:(1) この場合、R,、R,およびR3は前記意味を表わし、
R4は水素原子またはアルキル基を表わし、そしてルお
よび鳥は同一または異なってそれぞれ水素原子、アルキ
ル基、アリール基またはアルアルキル基を表わす。随意
に行なわれる慣用の加水分解技術は、各種中間体エステ
ルとして、R4,R,およびR6が水素原子以外のもの
を表スフすとき、適用される。必要な各種触媒は鉱酸た
とえばHC,I、 有機酸またはルイス酸たとえばAl
Cl3、ZnCl2またけBI”。
であり祷る。
この独の慣用技術はり、 Redmore によって
J、 Org、Chem、45.992 (197a)
に記載されている: 2) この場合、R,、R,、R,および鳥は前記意味を表わ
し、そして爬は水素原子、アルキル基、アルアルキル基
またはアリール基を表わす。
J、 Org、Chem、45.992 (197a)
に記載されている: 2) この場合、R,、R,、R,および鳥は前記意味を表わ
し、そして爬は水素原子、アルキル基、アルアルキル基
またはアリール基を表わす。
この技術u 01eksyszyn およびGrus
zeekaに1−) でTetrabedron Le
tters 36.3537(1981)に記載され
ている: 3) この場合R1,R2および鴇は前記意味を表わす。
zeekaに1−) でTetrabedron Le
tters 36.3537(1981)に記載され
ている: 3) この場合R1,R2および鴇は前記意味を表わす。
カルボニル反応体としてホルムアルデヒドを使用:2て
予備反応にのみ利用される、この方法は、実質的にMo
edritzerおよびIraniによってJ、Org
、Chem、31.1603 (1966)に記載され
ている: (1) この場合、R4は前記意味を表わし、R8はHまたは炭
素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、そしてXは
C1またFiBrf表わす。適する塩基は水酸化ナトリ
ウムもしくはカリウムまたはトリエチルアミンのような
第三アミンである。
予備反応にのみ利用される、この方法は、実質的にMo
edritzerおよびIraniによってJ、Org
、Chem、31.1603 (1966)に記載され
ている: (1) この場合、R4は前記意味を表わし、R8はHまたは炭
素原子数1ないし4のアルキル基を表わし、そしてXは
C1またFiBrf表わす。適する塩基は水酸化ナトリ
ウムもしくはカリウムまたはトリエチルアミンのような
第三アミンである。
5)式IにおいてRおよび/またはRが−CH2PO3
H2(ホスホノメチレン)を表わす化合物は、Moed
ritzer およびIraniによッテJ、(Jrg
Chemjl、 1603 (1966) に記載
されているように、式IにおいてR1およびR7がそれ
ぞれ水素原子を表わす化合物をホルムアルデヒドおよび
亜燐酸と反応させることによって製造してもよい。
H2(ホスホノメチレン)を表わす化合物は、Moed
ritzer およびIraniによッテJ、(Jrg
Chemjl、 1603 (1966) に記載
されているように、式IにおいてR1およびR7がそれ
ぞれ水素原子を表わす化合物をホルムアルデヒドおよび
亜燐酸と反応させることによって製造してもよい。
項目い)で行なわれる処理に関して、処理すべき金属表
面を、たとえば式Iの化合物(またはその水溶性塩)の
水浴液と、随意に金属イオン成分特に式Iの化合物と組
合せたとき腐蝕抑制および/またはスケール抑制につい
て相乗効果を祷る金属イオンb)と組合せて、接触させ
てよい。
面を、たとえば式Iの化合物(またはその水溶性塩)の
水浴液と、随意に金属イオン成分特に式Iの化合物と組
合せたとき腐蝕抑制および/またはスケール抑制につい
て相乗効果を祷る金属イオンb)と組合せて、接触させ
てよい。
接触圧流れ技術の好ましい施用態様でなされる処理A)
の幾つかの典型的な用途としては、腐蝕雰囲気たとえば
大7にさらされる金属表面の一時的保護、後に塗装され
る金属表面の前処理;ホスフェート化螢楓表面をゾール
するための共処理;および式Iの化合物(またはその塩
)および随意に雀属イオン成分b)を官有するペイント
を配合し、次いで該ペイントを状態調節すべき金属表面
に、たとえば噴霧、はけ塗り、浸漬、または陰極電着に
よって施用すること;を包含する。
の幾つかの典型的な用途としては、腐蝕雰囲気たとえば
大7にさらされる金属表面の一時的保護、後に塗装され
る金属表面の前処理;ホスフェート化螢楓表面をゾール
するための共処理;および式Iの化合物(またはその塩
)および随意に雀属イオン成分b)を官有するペイント
を配合し、次いで該ペイントを状態調節すべき金属表面
に、たとえば噴霧、はけ塗り、浸漬、または陰極電着に
よって施用すること;を包含する。
処理Nの典型的な用途の各場合において、金属表面たと
えばホスフェート化軟鋼表面を、随意に金属イオン成分
b)を含有する、式Iの化合物(またはその水浴性塩)
のm液に浸漬するか、または該溶液ケ前配ホスフェート
化金楓表面に塗装もしくは噴霧し傅る。
えばホスフェート化軟鋼表面を、随意に金属イオン成分
b)を含有する、式Iの化合物(またはその水浴性塩)
のm液に浸漬するか、または該溶液ケ前配ホスフェート
化金楓表面に塗装もしくは噴霧し傅る。
項目A)または均としての本発明による処理において、
金属イオン成分は独立した金属塩としてもしくは式lの
化合物の予備形成塩として、または両者の組合せとして
、使用し倚る。
金属イオン成分は独立した金属塩としてもしくは式lの
化合物の予備形成塩として、または両者の組合せとして
、使用し倚る。
過する金属イオン成分すとしては、たとえばコバルト、
鉄、バリウム、カルシウム、吐鉛、クロム、ニッケル、
ストロンチウム、マンカン、カドミニウム、セリウム(
Mおよびマグネシウムイオンを色名する。これらの金槁
イオンの幾つか、たとえばカルシウムおよびバリウムは
、それ目体では腐蝕抑制またはスケール制#を付与しな
いものである。
鉄、バリウム、カルシウム、吐鉛、クロム、ニッケル、
ストロンチウム、マンカン、カドミニウム、セリウム(
Mおよびマグネシウムイオンを色名する。これらの金槁
イオンの幾つか、たとえばカルシウムおよびバリウムは
、それ目体では腐蝕抑制またはスケール制#を付与しな
いものである。
不発明の状態調節方法にて使用さfLる腐蝕および/ま
たはスケール抑制組成物について用いられる、゛式Iの
化合物(その水溶性基)と金属イオン成分b)との比は
、たとえば100: 1ないし1:100、さらに好ま
しくは10:1ないし1:10重量部の広範囲にて変更
し倚る。
たはスケール抑制組成物について用いられる、゛式Iの
化合物(その水溶性基)と金属イオン成分b)との比は
、たとえば100: 1ないし1:100、さらに好ま
しくは10:1ないし1:10重量部の広範囲にて変更
し倚る。
夷除上、たとえば添加すべき組成物を金属表面に接触す
る水性糸に冷加することによって金践衣面を処理するた
めに使用する、式Iの化合物および金属イオンからなる
組成物の量は、組成物が来たすべき保護機能に依存して
変化されるべきである。随意にスケール抑制処理と組合
わされる、腐蝕抑制保護処理のためには、水性糸に添加
される組成物の量は、水性糸に基づいてcLlないし5
0000 ppm (または0.00001ないし5重
量%)好ましくは1ないし500ppn(またはo、o
oiないし0.5重量%)の範囲が都合艮い。抗スケー
ルのみが目的である場合、組成物の使用量は水性糸に基
ついて1ないし200ppm好ましくは1ないし30
ppmが都合艮い。
る水性糸に冷加することによって金践衣面を処理するた
めに使用する、式Iの化合物および金属イオンからなる
組成物の量は、組成物が来たすべき保護機能に依存して
変化されるべきである。随意にスケール抑制処理と組合
わされる、腐蝕抑制保護処理のためには、水性糸に添加
される組成物の量は、水性糸に基づいてcLlないし5
0000 ppm (または0.00001ないし5重
量%)好ましくは1ないし500ppn(またはo、o
oiないし0.5重量%)の範囲が都合艮い。抗スケー
ルのみが目的である場合、組成物の使用量は水性糸に基
ついて1ないし200ppm好ましくは1ないし30
ppmが都合艮い。
本発明によって処理される水性糸、特に腐蝕抑制および
スケール防止の組合せ処理において重曹なものは、冷却
水系、蒸気発生糸、海水魚@器、静水かま、ガス洗浄系
、閉回路加熱糸、水性冷却系および立Fり井戸系でめり
;腐蝕抑制処理のみの場合、特に重要な水性系としては
水性機嫌加工流体配合物(たとえばホーリング、ミリン
グ、リーマ−仕上、ブローチング、延伸、スヒニング、
旋削、切81」、のこ引き、研削およびねじ切削加工用
、または延伸もしくは圧延における非切削造形加工用)
、水性梢練系、水性グリコール凍結防止糸を苫ひエンジ
ンクーラント、水/クリコール圧媒液:および水性ポリ
マー表面塗装糸または全課性ポリマー系たとえばテトラ
ヒドロフラン、ケトンまたはアルコキシアルカノールを
含有するもの;を包含する。
スケール防止の組合せ処理において重曹なものは、冷却
水系、蒸気発生糸、海水魚@器、静水かま、ガス洗浄系
、閉回路加熱糸、水性冷却系および立Fり井戸系でめり
;腐蝕抑制処理のみの場合、特に重要な水性系としては
水性機嫌加工流体配合物(たとえばホーリング、ミリン
グ、リーマ−仕上、ブローチング、延伸、スヒニング、
旋削、切81」、のこ引き、研削およびねじ切削加工用
、または延伸もしくは圧延における非切削造形加工用)
、水性梢練系、水性グリコール凍結防止糸を苫ひエンジ
ンクーラント、水/クリコール圧媒液:および水性ポリ
マー表面塗装糸または全課性ポリマー系たとえばテトラ
ヒドロフラン、ケトンまたはアルコキシアルカノールを
含有するもの;を包含する。
本発明によって使用される相乗抑制剤組成物は単独でま
たは水性糸の処理において有用な他の公知化合物と一緒
に使用し祷る。
たは水性糸の処理において有用な他の公知化合物と一緒
に使用し祷る。
完全な水性である糸、たとえば冷却水系、空気調節糸、
蒸免元生糸、海水蒸発系、静水かま、忘よび閉回路加熱
または冷却系の処理において、他の腐蝕抑制剤としては
、たとえば、水浴性辿鉛塩:ホスフエート;ポリホスフ
ェート、ホスホン酸およびその塩、たとえばアセトジホ
スホン酸、ニド110トリスメチレンホスホン戯および
メチルアミノジメチレンホスホン酸;2−ヒドロキシー
不スホノ酢酸または他のホスホノカルホン酸およびその
塙、たとえばドイツ特許公翔公−@第265277a号
に記載されたもの、2−不スホノフタンー1.2,4−
トリカルホン酸および英国特許第1572406 号
に開示さtしたもとえは亜硝酸ナトリウム;モリブデン
酸、たとえばモリブデン酸ナトリウム:ノリケート、た
とえば畦醗ナトリウム;ヘンシトリアゾール、ビス−ベ
ンゾトリアゾールまたは銅奪活化ベンゾトリアゾールま
たはトリトリアゾール8導°″体またはそのマンニッヒ
塩基誘導体;N−アシルサルコ7ン、N−アシルアミノ
ジ酢酸;エタノールアミン;脂肪アミン:およびポリカ
ルボン酸、たとえばポリマレイン酸およびポリアクリル
酸、ならびにこれらのアルカリ金織塩、マレイン醗無水
物のコポリマー、アクリル酸のコポリマー、Jdよびポ
リマレイン酸、ポリアクリル酸およびそれらのコポリマ
ーの置換誘導体、のようなものを使用し祷る。
蒸免元生糸、海水蒸発系、静水かま、忘よび閉回路加熱
または冷却系の処理において、他の腐蝕抑制剤としては
、たとえば、水浴性辿鉛塩:ホスフエート;ポリホスフ
ェート、ホスホン酸およびその塩、たとえばアセトジホ
スホン酸、ニド110トリスメチレンホスホン戯および
メチルアミノジメチレンホスホン酸;2−ヒドロキシー
不スホノ酢酸または他のホスホノカルホン酸およびその
塙、たとえばドイツ特許公翔公−@第265277a号
に記載されたもの、2−不スホノフタンー1.2,4−
トリカルホン酸および英国特許第1572406 号
に開示さtしたもとえは亜硝酸ナトリウム;モリブデン
酸、たとえばモリブデン酸ナトリウム:ノリケート、た
とえば畦醗ナトリウム;ヘンシトリアゾール、ビス−ベ
ンゾトリアゾールまたは銅奪活化ベンゾトリアゾールま
たはトリトリアゾール8導°″体またはそのマンニッヒ
塩基誘導体;N−アシルサルコ7ン、N−アシルアミノ
ジ酢酸;エタノールアミン;脂肪アミン:およびポリカ
ルボン酸、たとえばポリマレイン酸およびポリアクリル
酸、ならびにこれらのアルカリ金織塩、マレイン醗無水
物のコポリマー、アクリル酸のコポリマー、Jdよびポ
リマレイン酸、ポリアクリル酸およびそれらのコポリマ
ーの置換誘導体、のようなものを使用し祷る。
さらに、この完全な水性系において、本発明によって使
用される抑制剤は、他の分散剤および/または限界処理
剤、たとえば重合性アクリル酸(またはその塩)、ホス
フィノーポリカルボン師(英国特許第1458235号
に記載されそしてクレームされたよりなもの)、加水分
解されたポリアクリロニトリル、重合性メタクリル酸お
よびその堪、ポリアクリルアミドおよびそのアクリルお
よびメタクリル酸とのコポリマー、リグニンスルホン感
およびその塙、タンニン、ナフタレンスルホン戯/ホル
ノ、アルテヒド縮合生成物、スターチおよびその誘導体
、セルロース、アクリル酸/ fa Mアルキルヒドロ
キンアクリレートコポリマーたとえばアメリカ合衆国特
許明細書第4029577号に記載されたもの、スルホ
ン化スチレン/マレイン酸無水物コホリマー、スチレン
/マレインm無水物コポリマーおよびスルホ/化スチレ
ンホモポリマーたとえばアメリカ合衆国特許明細書第4
374733号に記載さf″Lだものおよびその組合せ
、と−緒に使用してもよい。たとえば、2−ホスホノブ
タy −i、2.4−トリカルボン酸、アセトジホスホ
ン酸、加水分解されたポリマレイン酸無水物およびその
堪、アルキルホスホン酊、1−アミノアルキル−1,1
−ジホスホン酸およびその塩、およびアルカリ金属ポリ
ホスフェートのような、特殊な限界処理剤を、使用して
もよい。
用される抑制剤は、他の分散剤および/または限界処理
剤、たとえば重合性アクリル酸(またはその塩)、ホス
フィノーポリカルボン師(英国特許第1458235号
に記載されそしてクレームされたよりなもの)、加水分
解されたポリアクリロニトリル、重合性メタクリル酸お
よびその堪、ポリアクリルアミドおよびそのアクリルお
よびメタクリル酸とのコポリマー、リグニンスルホン感
およびその塙、タンニン、ナフタレンスルホン戯/ホル
ノ、アルテヒド縮合生成物、スターチおよびその誘導体
、セルロース、アクリル酸/ fa Mアルキルヒドロ
キンアクリレートコポリマーたとえばアメリカ合衆国特
許明細書第4029577号に記載されたもの、スルホ
ン化スチレン/マレイン酸無水物コホリマー、スチレン
/マレインm無水物コポリマーおよびスルホ/化スチレ
ンホモポリマーたとえばアメリカ合衆国特許明細書第4
374733号に記載さf″Lだものおよびその組合せ
、と−緒に使用してもよい。たとえば、2−ホスホノブ
タy −i、2.4−トリカルボン酸、アセトジホスホ
ン酸、加水分解されたポリマレイン酸無水物およびその
堪、アルキルホスホン酊、1−アミノアルキル−1,1
−ジホスホン酸およびその塩、およびアルカリ金属ポリ
ホスフェートのような、特殊な限界処理剤を、使用して
もよい。
アルカリ金属オルト−ホスフェートおよびカルボネート
のような沈殿剤:アルカリ金属スルフイツトおよびヒド
ラジンのような酸素脱除剤:ニトリロトリ酢酸およびそ
の塩のような蛍属イオン封鎖剤;7リコーンのような消
泡剤、たとえばポリジメチルシロキサン、ジステアリル
セバクアミド、ジステアリルアジプアミドおよびエチレ
ンオキシドおよび/またはプロピレンオキシド縮合から
詩碑される関連生成物、さらにカプリルアルコールおよ
びそのエチレンオキシド縮合物のような脂肪アルコール
;および殺生剤、たとえばアミン、第四級アンモニウム
化合物、クロロフェノール、スルホンのような硫黄含有
化合物、メチレンビスチオンア坏−トおよびカルバメー
ト、インチアゾロン、臭素化プロピオンアミド、トリア
ジン、ホスホニウム化合物、塩素および塩素放出剤およ
びトリフチル錫オキシドのような有機金属化合物を使用
してもよい。
のような沈殿剤:アルカリ金属スルフイツトおよびヒド
ラジンのような酸素脱除剤:ニトリロトリ酢酸およびそ
の塩のような蛍属イオン封鎖剤;7リコーンのような消
泡剤、たとえばポリジメチルシロキサン、ジステアリル
セバクアミド、ジステアリルアジプアミドおよびエチレ
ンオキシドおよび/またはプロピレンオキシド縮合から
詩碑される関連生成物、さらにカプリルアルコールおよ
びそのエチレンオキシド縮合物のような脂肪アルコール
;および殺生剤、たとえばアミン、第四級アンモニウム
化合物、クロロフェノール、スルホンのような硫黄含有
化合物、メチレンビスチオンア坏−トおよびカルバメー
ト、インチアゾロン、臭素化プロピオンアミド、トリア
ジン、ホスホニウム化合物、塩素および塩素放出剤およ
びトリフチル錫オキシドのような有機金属化合物を使用
してもよい。
本発明方法によって処理すべき系が完全な水性でない、
たとえば水性機械加工流体配合物である場合、それはた
とえば水で希釈され得る切削または研削流体であり倚る
。
たとえば水性機械加工流体配合物である場合、それはた
とえば水で希釈され得る切削または研削流体であり倚る
。
本発明の水性機械加工流体配合物は、たとえば金属加工
配合物であってもよい。「金鵬カロエ」という飴は、「
リーマ刀U工、フ′ローテンク・延伸、スピニング、切
削、研削、穿孔、微粉砕、旋削、のこ引き、非切削造形
または圧延」を意味する。腐蝕抑制組成物を含浸させて
もよい、水で希釈され倚る切削または研削流体の例とし
ては下記のものを包含する: a)本発明による1種以上の腐蝕抑制剤、および所望に
より1種以上の劇厚耗性伶加剤からなり、通常摩砕流体
として1:50ないし1:100の希釈度で使用される
水性濃厚物;b)殺生物剤、本発明による腐蝕抑制剤お
よび劇摩耗性除刀0剤を含有し、切削操作用として1:
20ないし1:40の希釈度で、また摩砕用として1:
60ないし1:80の希釈度で使用されるポリグリコー
ル: C) 上記b)と類似する流体であって、さらに、水で
希釈すると半透明な生成物となる、光分な乳化剤を伴な
った10ないし25%油を首肩する半合成切削用流体; d)たとえば乳化剤、本発明による腐蝕抑制剤高圧/耐
M粍性冷加剤、殺生物剤、消泡剤、カップリング剤など
を含有する乳化性鉱油峡厚物。これらは通常、水により
1:10ないし1:50の割合で希釈されて不透明な白
色エマルジョンとされる。
配合物であってもよい。「金鵬カロエ」という飴は、「
リーマ刀U工、フ′ローテンク・延伸、スピニング、切
削、研削、穿孔、微粉砕、旋削、のこ引き、非切削造形
または圧延」を意味する。腐蝕抑制組成物を含浸させて
もよい、水で希釈され倚る切削または研削流体の例とし
ては下記のものを包含する: a)本発明による1種以上の腐蝕抑制剤、および所望に
より1種以上の劇厚耗性伶加剤からなり、通常摩砕流体
として1:50ないし1:100の希釈度で使用される
水性濃厚物;b)殺生物剤、本発明による腐蝕抑制剤お
よび劇摩耗性除刀0剤を含有し、切削操作用として1:
20ないし1:40の希釈度で、また摩砕用として1:
60ないし1:80の希釈度で使用されるポリグリコー
ル: C) 上記b)と類似する流体であって、さらに、水で
希釈すると半透明な生成物となる、光分な乳化剤を伴な
った10ないし25%油を首肩する半合成切削用流体; d)たとえば乳化剤、本発明による腐蝕抑制剤高圧/耐
M粍性冷加剤、殺生物剤、消泡剤、カップリング剤など
を含有する乳化性鉱油峡厚物。これらは通常、水により
1:10ないし1:50の割合で希釈されて不透明な白
色エマルジョンとされる。
e)上記d)に類似する生成物であって、1:50ない
し1:100の範囲の希釈度で切削または摩砕操作用の
透明なエマルジョンとされる、上記d)の流体に比して
より少ない油およびより多い乳化剤を官有する生成物。
し1:100の範囲の希釈度で切削または摩砕操作用の
透明なエマルジョンとされる、上記d)の流体に比して
より少ない油およびより多い乳化剤を官有する生成物。
水性系成分が水性機械加工流体配合物でめる、これらの
部分的水性糸において、本発明の抑制剤は、単独で、ま
たは他の癌加剤たとえば公知の他の腐蝕抑制剤および/
または極圧絵加剤と混合して使用し得る。
部分的水性糸において、本発明の抑制剤は、単独で、ま
たは他の癌加剤たとえば公知の他の腐蝕抑制剤および/
または極圧絵加剤と混合して使用し得る。
こt)らの水性糸において本発明に係る抑制剤組成物と
ともに使用さf′L傅る他の腐蝕抑制剤の例としては、
F記載を包含する: a)有機酸、そのエステルまたはアンモニウム、アミン
、アルカノールアミンおよび金属塩、たとえば、安息香
師、p−第三ブチル安息香醸、セバシン酸二ナトリウム
、ラウリン師トリエタノールアミン、イン−ノナンW、
(p−トルエンスルホンアミド カプロン酸のトリエ
タノールアミン塩、ペンセンスルホンアミドカプロン酸
のトリエタノールアミン塩、欧州特許出ra第4192
7号に記載された5−ブトカルボン酩訪導体のトリエタ
ノールアミン塩、N−ラウロイルサルコシン飯ナトリウ
ムまたはノニルフェノキシ酢酸; b)下記種類のような窒素含有物質二゛脂肪師アルカノ
ールアミド:イミダシリン、たとえば1−ヒドロキン−
エチル−2−オレイル−イミダシリン;オキサゾリン;
トリアゾール、たとえばベンゾトリアゾール;またはそ
れらのマンニッヒ塩基誘導体、トリエタノールアミン、
脂肪アミン;および無機塩、たとえば硝酸ナトリウム: C)下記種類のような燐含有物質:燐酸アミン、ホスホ
ン酸または無慎塩、たとえば燐酸水素ナトリウムまたは
燐酸亜鉛; d)下記種類のような硫黄含有化金物:石油スルホン醇
ナトリウム、カルシウムもしくはノ(リウム、または俵
素環式化合物、たとえばナトリウムメルカブトベンゾチ
アンール。
ともに使用さf′L傅る他の腐蝕抑制剤の例としては、
F記載を包含する: a)有機酸、そのエステルまたはアンモニウム、アミン
、アルカノールアミンおよび金属塩、たとえば、安息香
師、p−第三ブチル安息香醸、セバシン酸二ナトリウム
、ラウリン師トリエタノールアミン、イン−ノナンW、
(p−トルエンスルホンアミド カプロン酸のトリエ
タノールアミン塩、ペンセンスルホンアミドカプロン酸
のトリエタノールアミン塩、欧州特許出ra第4192
7号に記載された5−ブトカルボン酩訪導体のトリエタ
ノールアミン塩、N−ラウロイルサルコシン飯ナトリウ
ムまたはノニルフェノキシ酢酸; b)下記種類のような窒素含有物質二゛脂肪師アルカノ
ールアミド:イミダシリン、たとえば1−ヒドロキン−
エチル−2−オレイル−イミダシリン;オキサゾリン;
トリアゾール、たとえばベンゾトリアゾール;またはそ
れらのマンニッヒ塩基誘導体、トリエタノールアミン、
脂肪アミン;および無機塩、たとえば硝酸ナトリウム: C)下記種類のような燐含有物質:燐酸アミン、ホスホ
ン酸または無慎塩、たとえば燐酸水素ナトリウムまたは
燐酸亜鉛; d)下記種類のような硫黄含有化金物:石油スルホン醇
ナトリウム、カルシウムもしくはノ(リウム、または俵
素環式化合物、たとえばナトリウムメルカブトベンゾチ
アンール。
窒素首肩物質、特にトリエタノールアミンがy干ましい
。
。
本発明によって処理される糸に存在させ得る極圧研加剤
の例としては、硫黄および/または燐および/またはハ
ロゲノ含有物質、たとえば硫黄化マツコラ油、硫黄化脂
肪、リン酸トリトリル、塩素化パラフィンまたはエトキ
シル化)々醇エステルを包含する。
の例としては、硫黄および/または燐および/またはハ
ロゲノ含有物質、たとえば硫黄化マツコラ油、硫黄化脂
肪、リン酸トリトリル、塩素化パラフィンまたはエトキ
シル化)々醇エステルを包含する。
トリエタノールアミンを本発明によって処理される水性
系に存在させる場合、抑制剤組成物とトリエタノールア
ミンとの比が2=1ないし1:20となるような量で存
在させることが好ましい。
系に存在させる場合、抑制剤組成物とトリエタノールア
ミンとの比が2=1ないし1:20となるような量で存
在させることが好ましい。
不発明方法によって処理される部分的水性糸は水性表面
塗布組成物、たとえば全域基質用のエマルジョンペイン
トおよび水性粉末an−c hり侍る。
塗布組成物、たとえば全域基質用のエマルジョンペイン
トおよび水性粉末an−c hり侍る。
水性表面塗布組成物は、午属基負ケ塗装するだめの、た
とえばスチレン−アクリルコポリマーエマルジョンペイ
ントのようなペイント、樹脂、ラテックス、または他の
水性ポリマ表面塗装系である。本発明により使用さrし
る抑!1tll剤組成物は表囲塗装の旋用中における金
属基質の流出錆(flash rusting )を
防止するために、そして塗装された金属の使用中におけ
るその後の腐蝕を防止するために利用され得る。
とえばスチレン−アクリルコポリマーエマルジョンペイ
ントのようなペイント、樹脂、ラテックス、または他の
水性ポリマ表面塗装系である。本発明により使用さrし
る抑!1tll剤組成物は表囲塗装の旋用中における金
属基質の流出錆(flash rusting )を
防止するために、そして塗装された金属の使用中におけ
るその後の腐蝕を防止するために利用され得る。
不発明方法によって処理される水性表向塗装組by、物
において、抑制剤組成物は単独で、または他の添加剤た
とえば公知の腐蝕抑制剤、殺生剤、乳化剤および/また
は顔料と混合して使用され倚る。
において、抑制剤組成物は単独で、または他の添加剤た
とえば公知の腐蝕抑制剤、殺生剤、乳化剤および/また
は顔料と混合して使用され倚る。
1史川され傅る他の公知腐蝕抑制剤は、たとえば前述し
た頬a)、b)、C)およびd)のものである。
た頬a)、b)、C)およびd)のものである。
式Iの化合物とともに、これらの水性系に使用され得る
殺生剤の例としては、下記のものを包含する: フェノール、ならびにアルキル−にヨヒノ\ロゲン化フ
ェノール、たとえばペンタクロロフェノール、0−フェ
ニルフェノール、0−フェノキンフェノールおよび塩素
化0−フェノキンフェノール;サリチルアニリド、ジア
ミン;トリアジン;および有機錫化合物、たとえば有機
水銀化合物および有機錫化合物。
殺生剤の例としては、下記のものを包含する: フェノール、ならびにアルキル−にヨヒノ\ロゲン化フ
ェノール、たとえばペンタクロロフェノール、0−フェ
ニルフェノール、0−フェノキンフェノールおよび塩素
化0−フェノキンフェノール;サリチルアニリド、ジア
ミン;トリアジン;および有機錫化合物、たとえば有機
水銀化合物および有機錫化合物。
式Iの化合物とともに、これらの水性糸に使用され祷る
顔料の例としては、二鉛チタン、クロム酸亜鉛、懸化鉄
およびフタロシアニンのような有機顔料を包含する。
顔料の例としては、二鉛チタン、クロム酸亜鉛、懸化鉄
およびフタロシアニンのような有機顔料を包含する。
下記実施例によって本発明をさらに詳述する。
実lイ鵠汐り 1 ニ
ジエチルアミン塩酸塩16,6重量部、オルト亜燐酸1
66重量部およびクリオキノル@(50%水溶液)29
6重量部金18%塩酸50容前部の中に含翁してなる溶
液を18時間還流加熱する。
66重量部およびクリオキノル@(50%水溶液)29
6重量部金18%塩酸50容前部の中に含翁してなる溶
液を18時間還流加熱する。
次いで、揮発性物質を減圧蒸留によって除去し、残留油
をアセトンですり砕いて不純物を除去する。この結果、
ド記車量分析値を有する2−ジエチルアミノホスホノ酢
酊塩醇塩:水化9勿28重量部を傅る: 実測値:Pll、54%; it :#−1直(C6H,2NO,P、 HCl、H
,U) : P 11.67%さらに、 P−nmrス
ペクトルにおいて(水中))13PO4よりも15.8
ppmダウンフィールドのシグナル(Jp−CH=18
H2)を認める。
をアセトンですり砕いて不純物を除去する。この結果、
ド記車量分析値を有する2−ジエチルアミノホスホノ酢
酊塩醇塩:水化9勿28重量部を傅る: 実測値:Pll、54%; it :#−1直(C6H,2NO,P、 HCl、H
,U) : P 11.67%さらに、 P−nmrス
ペクトルにおいて(水中))13PO4よりも15.8
ppmダウンフィールドのシグナル(Jp−CH=18
H2)を認める。
実施例2:
アセトアミド11.8重量部およびオルト亜燐酸16.
4重量俤を無水酢飯40容童部の甲に含有してなる浴液
を攪拌しながら45℃に加熱する。
4重量俤を無水酢飯40容童部の甲に含有してなる浴液
を攪拌しながら45℃に加熱する。
この浴液に、クリオキシル酸水化物22.2g量部ケ1
5分かけて、数(ロ)に分けて、添加する。反応温度は
添加中に80℃まで上昇し、同温を外部加熱によってさ
らに5時間維持する。無水酢酸を減圧下にて留去し、粘
性残留物を製塩@100容量部の中に溶解させる。溶液
を4時間還流加熱し、次いで蒸発乾固させると褐色の結
晶固体を侍、該固体を60%水性メタノール600容量
部甲に溶解させ、絖いて酸化プロピレンを冷加すると、
195℃で分解を伴なって融解し、かつF記事量元素分
析値を有する2−アミノホスホノ酢酸−水化物93重量
部を侍る: 夷側値: C1i2 ; H4,57; N 7.97
; P 17.79%訂算値(C2H,No、P、 H
,01: C1A88 ; H4,66;N’8.10
; P 17.90% 実施例3: クリオキシル帥水化物9.2重量部、モルホ1787重
量部およびオルト亜燐酸32重量部を18%塩醇100
容量部の甲に含有してなる溶液を実施例1と同様な手順
で処理すると、2−N−モルホリノホスホノ酸[24,
5重量部を傅る。
5分かけて、数(ロ)に分けて、添加する。反応温度は
添加中に80℃まで上昇し、同温を外部加熱によってさ
らに5時間維持する。無水酢酸を減圧下にて留去し、粘
性残留物を製塩@100容量部の中に溶解させる。溶液
を4時間還流加熱し、次いで蒸発乾固させると褐色の結
晶固体を侍、該固体を60%水性メタノール600容量
部甲に溶解させ、絖いて酸化プロピレンを冷加すると、
195℃で分解を伴なって融解し、かつF記事量元素分
析値を有する2−アミノホスホノ酢酸−水化物93重量
部を侍る: 夷側値: C1i2 ; H4,57; N 7.97
; P 17.79%訂算値(C2H,No、P、 H
,01: C1A88 ; H4,66;N’8.10
; P 17.90% 実施例3: クリオキシル帥水化物9.2重量部、モルホ1787重
量部およびオルト亜燐酸32重量部を18%塩醇100
容量部の甲に含有してなる溶液を実施例1と同様な手順
で処理すると、2−N−モルホリノホスホノ酸[24,
5重量部を傅る。
* ’P −nmr スペクトル(水中)においてH3
PO4より@ 13.8 ppmダウンフィルドのシグ
ナル(JP−CH−18■′L!、)を認める。
PO4より@ 13.8 ppmダウンフィルドのシグ
ナル(JP−CH−18■′L!、)を認める。
実施例4:
実施例1と同様の手順で、サル37789重−M部およ
びオルト亜燐(l’a2点量部を18う塩帥100重量
部の中に含有してなる浴液を反応させ、蒸発させること
によって、゛P−nmrスペクトルにおいて水中にてH
,PO,よりも165匣ダウンフイールドのシグナル(
JP−CH= 18Hz )を有する薄黄色の無定形固
体として2−(N−メチル−N−力ルボキシメチルアミ
ン)ホスホノ酢酸塩酸塩258N量部を得る。
びオルト亜燐(l’a2点量部を18う塩帥100重量
部の中に含有してなる浴液を反応させ、蒸発させること
によって、゛P−nmrスペクトルにおいて水中にてH
,PO,よりも165匣ダウンフイールドのシグナル(
JP−CH= 18Hz )を有する薄黄色の無定形固
体として2−(N−メチル−N−力ルボキシメチルアミ
ン)ホスホノ酢酸塩酸塩258N量部を得る。
実施例5:
2− ’7’ミノホスホノ酢@ 7.8重量部、p−ホ
ルムアルデヒド4.5重重部およびオルト亜燐酸8.2
g童部を濃塩酸40容量部の甲に含有してなる溶液を8
時間還流加熱する。溶媒奮90℃/12WHrでの減圧
蒸留によって除去すると、 P−rrrnrスペクトル
が2−(N、N−ビスホスホノメチレンアミン)ホスホ
ノ酢飯の構造に合致して、H,PO,に対して9.7
ppmダウンフィールド(三重項J=13Hz)および
14.6ppmタウンフィールド(二重項J−18Hz
)の二つのピークを有する暗赤色の粘性油16.2M量
部を得る。
ルムアルデヒド4.5重重部およびオルト亜燐酸8.2
g童部を濃塩酸40容量部の甲に含有してなる溶液を8
時間還流加熱する。溶媒奮90℃/12WHrでの減圧
蒸留によって除去すると、 P−rrrnrスペクトル
が2−(N、N−ビスホスホノメチレンアミン)ホスホ
ノ酢飯の構造に合致して、H,PO,に対して9.7
ppmダウンフィールド(三重項J=13Hz)および
14.6ppmタウンフィールド(二重項J−18Hz
)の二つのピークを有する暗赤色の粘性油16.2M量
部を得る。
実施例6:
式Iの活性化合物の腐蝕抑制剤活性を、次のように配合
される標準腐蝕水: Ca5U、 H2H2U 20 S’絢SO
4・7H2015f NaHCO,4,69 CaCI2・6H,07,7? 蒸留水 205 l を用いて、アエレイティド・ノリューション・ホトル試
験(Aerated 5olution Bottl
eTest) によるF配子j−で立証する。
される標準腐蝕水: Ca5U、 H2H2U 20 S’絢SO
4・7H2015f NaHCO,4,69 CaCI2・6H,07,7? 蒸留水 205 l を用いて、アエレイティド・ノリューション・ホトル試
験(Aerated 5olution Bottl
eTest) によるF配子j−で立証する。
軽石でスクラビングした軟鋼片(5GdX2.5濡)を
塩酸中に1分間浸l責し、次いで水洗し、乾燥し、そし
て秤量する。
塩酸中に1分間浸l責し、次いで水洗し、乾燥し、そし
て秤量する。
所望割合の冷加組成物を標準腐蝕水20〇−千に溶解さ
せる。二つの軟鋼片を溶液中にて(1)下け1全体を温
度調節器のイ閉ホルト中にて40℃で保管する。保管期
間中、エアをsoom/分で浴液の中に通す。この場合
、エアの通路は軟鋼片から遮蔽し:蒸発の減水分Fi追
加蒸留水で補償される。
せる。二つの軟鋼片を溶液中にて(1)下け1全体を温
度調節器のイ閉ホルト中にて40℃で保管する。保管期
間中、エアをsoom/分で浴液の中に通す。この場合
、エアの通路は軟鋼片から遮蔽し:蒸発の減水分Fi追
加蒸留水で補償される。
64時I11佐、軟鋼片を取出し、軽石なしでスクラビ
ングし、ヘキサミン1重量うで抑制された#Am中に1
分間浸漬し、仄いで水洗し、乾燥し、そして再秤量する
。一定の重量損失が生じるであろう。空試験すなわちい
かなる潜在的腐蝕抑制剤も存在させない試験水中におけ
る軟鋼片の浸漬を、一連の各試験について行なう。腐蝕
率を撰失重量ミリグラム/平方デシメータ/日(以下、
m、d、 d、という。)で算出するが、使亘上、結果
を下記のように定義した保nφパーセントとして示す: 保護ノー 空試験における腐蝕率(m、 d、 d、)× 100 腐蝕抑制剤として式Iの化合物を使用してなる一連の試
験にて祷られた結果を表1に示す。
ングし、ヘキサミン1重量うで抑制された#Am中に1
分間浸漬し、仄いで水洗し、乾燥し、そして再秤量する
。一定の重量損失が生じるであろう。空試験すなわちい
かなる潜在的腐蝕抑制剤も存在させない試験水中におけ
る軟鋼片の浸漬を、一連の各試験について行なう。腐蝕
率を撰失重量ミリグラム/平方デシメータ/日(以下、
m、d、 d、という。)で算出するが、使亘上、結果
を下記のように定義した保nφパーセントとして示す: 保護ノー 空試験における腐蝕率(m、 d、 d、)× 100 腐蝕抑制剤として式Iの化合物を使用してなる一連の試
験にて祷られた結果を表1に示す。
表1
標準腐蝕水中に8ける式Iの化合物の軟[Jli蝕抑側
抑制917:
下記溶液tal、 tblおよび(C1を調製する:硝
酸カルシウム四水化物1.a70fを脱イオン水中に溶
解させ、溶液を11とする;炭量ナトリウム0.646
?f脱イオン水中に溶解させ、溶液を11とする: 実施例2で侍られた2−アミノ−ホスホノ酢酸−水化物
を水中に溶解させ、有効成分をiQOOppm含有する
浴液とする。
酸カルシウム四水化物1.a70fを脱イオン水中に溶
解させ、溶液を11とする;炭量ナトリウム0.646
?f脱イオン水中に溶解させ、溶液を11とする: 実施例2で侍られた2−アミノ−ホスホノ酢酸−水化物
を水中に溶解させ、有効成分をiQOOppm含有する
浴液とする。
6P[カルシウム浴液50 +x/s をねじ込みキャ
ップで施蓋された1202用ガラス壜中に入れる。
ップで施蓋された1202用ガラス壜中に入れる。
この浴紗に、試験溶液の最終容量(10’Om)中に、
それぞれ、5 ppm 、 7.5 ppm または1
0 ppmの2−アばノーホスホノ酢酸−水化物嬢度を
得るために必女な容量の溶液telを添加する(たとえ
ばα1%帛液(cl 1. Omlの場合試験浴液中に
おいて2−アミノ−ホスホノ酢酸−水化物の濃度が10
ppmとなる。)。浴液b)50−を重加し、混合物を
撮る。試験溶液を、25℃に維持された恒温浴中にて2
4時間保保管る。
それぞれ、5 ppm 、 7.5 ppm または1
0 ppmの2−アばノーホスホノ酢酸−水化物嬢度を
得るために必女な容量の溶液telを添加する(たとえ
ばα1%帛液(cl 1. Omlの場合試験浴液中に
おいて2−アミノ−ホスホノ酢酸−水化物の濃度が10
ppmとなる。)。浴液b)50−を重加し、混合物を
撮る。試験溶液を、25℃に維持された恒温浴中にて2
4時間保保管る。
試験溶液25−5を取り出し、PattoHおよびRe
ader’s Reagent (2−ヒトI:Iキシ
−1−(2−ヒドロキシ−4−スルホ−1−ナフチルア
ソ)−6−ナフトエ酸〕の結晶、絖いて水酸化ナトリウ
ムの二つのベレットを冷加する。生成浴液をエチレンジ
アミンテトラ酢酸二ナトリウム塩の001M標準浴液で
滴定する。
ader’s Reagent (2−ヒトI:Iキシ
−1−(2−ヒドロキシ−4−スルホ−1−ナフチルア
ソ)−6−ナフトエ酸〕の結晶、絖いて水酸化ナトリウ
ムの二つのベレットを冷加する。生成浴液をエチレンジ
アミンテトラ酢酸二ナトリウム塩の001M標準浴液で
滴定する。
下記表4に示した結果においては、空試験(すなわち2
−アミノ−ホスホノ酢酸を含有しないもの)に対する炭
酸カルシウムの沈殿抑制%として表わす。
−アミノ−ホスホノ酢酸を含有しないもの)に対する炭
酸カルシウムの沈殿抑制%として表わす。
天施例簡定量−空試験滴定賃
抑制%ニー −×1007、78−全
試験滴定量 なお、数値[7,78jは100 %抑制における最大
rJJ能滴定餉である。
試験滴定量 なお、数値[7,78jは100 %抑制における最大
rJJ能滴定餉である。
特許出願人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)蛍属衣面腐蝕を抑制するためにおよび/または蛍
属表面上へのスケール沈積を抑制するために骸属表■を
状態調如する方法であって、前記金橋表向を、 A)腐蝕またはスケーリング環境と接触する前において
、 I)次式I: 〔式中、 R5および鳥は同一または異なってそれぞれ水素原子、
炭素原子敬1ないし12の面卸または分仮頚アルキル基
であって随意に1またはそれ以上のヒドロキン−および
/またはカルホキフル基で置換されたものおよび/また
は随意に1またはそれ以上の酸素原子で中断されたもの
、炭素原子数6ないし12の直鎖まだは分枝鎖アルケニ
ル基、炭素原子数7ないし15のアルアルキル基または
−C)i2P03H2を表わすか、またはR1および為
は、それらがそれぞれ結合している窒素原子とともに、
随意に置換された抜素坤式環を形カ又してもよく、 R3は水素原子、炭素原子数1ないし12の直鎖または
分枝鎖アルキル基または随意に置換さi″した炭素原子
数6ないし10のアリール基全表わし、そして R4は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル
基金表わす。〕 で表わされる化合物またはその水浴外地(または部分エ
ステルもしくは一塩);および随意に ii)釜彌イオン成分であって、前記式■の化合物およ
び該金属イオンによって個々に機能する状態調節作用を
相乗的に高めるものb)、 で処理し:および/または B)金属表面を腐蝕さを得るまたは金編表面上へスケー
ルを沈積させ得る水性系と接触している間において、 ≧)前記式Iの化合物またはその水溶性塩(または部分
塩):および随意に b)前記II)において定義した金属イオン、で処理し
てなる、前記金属表面を状態調節する方法。 +21 R,およびへがそれぞれ水素原子または炭素
原子数1ないし4のアルキル基を表わし、R3およびR
4がそれぞれ水素ノ示子を表わす特許請求の範囲第1項
記載の方法。 (3) 鉄、銅、(またはそれらの合金)表口を処理
する特許請求の範囲第1項記載の方法。 (4)処理すべき金属表面が陰極分極される特許請求の
範囲第1項記載の方法。 (5)予め腐蝕環境と接触する前の金属表面を、式Iの
化合物の水浴液(またはその水溶性fIiA)でおよび
随意に金属イオン成分b)で処理する特許請求の範囲8
1項記載の方法。 (6)式1の化合物全組合せて相乗的な腐蝕抑制および
/またはスケール抑制作用を与える全編イオンを提供す
る、金属塩を使用する%許請求の範囲第5項記載の方法
。 (7)腐蝕雰囲気にさらされる金属表面の一時的保膿:
塗装される金属表面の前処理;ホスフェート化金属表闇
をシールするための共処理;または式Iの化合物(また
はその水溶性塩)および随意に金属イオン成分b)を含
有するペイントを配合し、次いで該ペイントを状態調節
すべき釜属表向上に施用すること;に笑施する特許請求
の範囲第5項記載の方法。 :8J 金編表面を、成分b)としての、1またけそ
れ以上のコバルト、鉄、バリウム、カルンウム、+−m
、クロム、ニッケル、ストロ7ff)ム、マンガン、カ
ドミニウム、セリウム(IVI tたはマグイ・シウム
イオン、と接触させる特許請求の範囲第1s)4記載の
方法。 (91式1の化合物(またはその水浴性塩)と午楓イオ
ン成分b)との比を100 : 1 ないし1:10
0の範囲内にする特許5、請求の範囲第1項記載の方法
。 00 式Iの化合*(またはその水溶性塩)と成分b
)との比を10:1ないし1°10にする特許請求の範
囲第9項記載の方法。 av 成分a)およびb)からなる抑制剤組成物を水
性系にて、腐蝕抑制および随意にスケール抑制保護処理
を要求する金属表面と接触させて、水性糸に基ついて1
ないし50i] ppmの創で、使用する特許請求の範
囲第1Jj4記載の方法。 0力 成分a)およびb)からなる抑制剤組成物を水性
糸に基づいて1ないしioo ppm (D量で添加す
る特許請求の範囲第11項記載の方法。 0、慟 成分a)およびb)からなる抑制剤組成物を
水性糸に、ヌケール抑制処理のみを要求する金属表(3
)と接触させて、水性糸に基づいて1−200ppmの
重で、咋加する特許請求の範囲第1項記載の方法。 q41 成分a)およびb)からなる抑制剤組成物全
水性系に、水性系に基づいて1ないし30ppmの量で
冷加する特許請求の範囲第13項記載の方法。 θe 水性糸がm蝕抑制系のみを要求する釜属表(8)
と接触されるものでめっ、て、水性機械加工流体、水性
稍枕糸、水性グリコール凍結防止糸、水/グリコール圧
媒液または水性表面塗料である特許請求の範囲第16J
A記載の方法。 (ici 水性機械加工流体配合物が水で希釈され倚
る切削または研削流体である特許請求の範囲第15項記
載の方法。 助 水性糸が脂蝕抑制および抗スケールの組合せ処理を
要求する金属表面と接触されるものでるって、帝却水系
、蒸気発生系、海水蒸発器、静水かま、ガス洗浄系、閉
回路加熱糸、水性冷却系または立下り井戸系である特許
請求の範囲81項記載の方法。 (ト)成分a)およびb)からなる抑制剤組合物を単独
にまたは全体的もしくは部分的水性系の処理にて有用で
ある他の公知化合物と一緒に使用する特許請求の範囲第
1項記載の方法。 αリ 水性系が完全な水性系であって、冷却水系、 (
4)空気調節系、蒸気発生系、海水蒸発器、静水かま、
ガス洗浄系または閉回路加熱もしくは り冷却系でアリ
、かつ、成分a)によびb)からなる抑制剤組成物が1
またはそれ以上の他の腐蝕抑制剤、分散および/または
限界(threshold)処理剤、沈殿剤、酸素脱除
剤、金楓イオン封 い鎮剤および消泡剤ならびに殺生
剤とともに使用される特許請求の範囲第18項記載の方
法。 (4)部分的水性系が水性表向塗料であり、かつ、成分
a)およびb)からなる抑制剤組成物が1またはそれ以
上の禍触抑制剤、殺生剤、乳化剤および/または顔料と
一緒に使用される特許請求の範囲第18項記載の方法。 侃υ 水性糸が部分的にのみ水性であって、水性模様加
工流体であり、かつ、成分a)およびb)からなる抑制
剤配合物が1またはそれ以上の地の腐蝕抑IIIJ剤お
よび/f*は極圧冷加剤と一緒に使用される特許請求の
範囲第18項記載の方法。 他の腐蝕抑制剤がトリエタノールアミンでるる特許請求
の範囲第21項記載の方法。 トリエタノールアミンを、成分a)およびb)からなる
抑制剤組成物とトリエタノールアミンとの比が2=1な
いし1:20になる量で存在させる特許請求の範囲第2
2項記載の方法。 次式I: 〔式中、 R,および搗は同一または異なってそれぞれ水素原子、
炭素原子数1ないし12の直鎖または分枝鎖アルキル基
であって随意に1またはそれ以上のヒドロキシ−および
/またはカルボキシル基で置換されたものおよび/また
は随意に1またはそれ以上の酸素原子で中断されたもの
、炭素原子数3ないし12の直鎖または分枝鎖アルケニ
ル基、炭素原子数7ないし15のアルアルキル基または
−CH,、PO,H。 を表わすか、または R,および為は、それらがそれぞれ結合し、ている窒素
原子とともに、随意に置換された複索環式環を形成して
もよく、 R8は水素原子、炭素原子叡1ないし12の直鎖または
分枝鎖アルキル基または随意に置換された炭素原子#3
.6ないし10のアリール4を表わし、そして R4は水素原子または直鎖もしくは分枝鎖炭素原子数1
ないし4のアルキル基を表わし、ただし、R,、R,、
R,およびR4が同時に水素原子を表わすことはない。 〕 で表わされる化合物またはその水浴性塩(または部分エ
ステルもしくは一塩)。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB838305933A GB8305933D0 (en) | 1983-03-03 | 1983-03-03 | Process of inhibiting corrosion of metal surfaces |
GB8305933 | 1983-03-03 | ||
GB8316711 | 1983-06-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59173277A true JPS59173277A (ja) | 1984-10-01 |
JPH0420440B2 JPH0420440B2 (ja) | 1992-04-02 |
Family
ID=10538958
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4121284A Granted JPS59173277A (ja) | 1983-03-03 | 1984-03-03 | 金属表面の腐蝕および/または金属表面上へのスケ−ル沈積を抑制する方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59173277A (ja) |
GB (2) | GB8305933D0 (ja) |
ZA (1) | ZA841588B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007505738A (ja) * | 2003-09-22 | 2007-03-15 | バックマン・ラボラトリーズ・インターナショナル・インコーポレーテッド | 水系におけるマンガン析出を阻害するためのセリウム塩の使用 |
JPWO2015093542A1 (ja) * | 2013-12-17 | 2017-03-23 | ニッソーファイン株式会社 | 気化性防錆剤組成物 |
JP2020033520A (ja) * | 2018-08-31 | 2020-03-05 | Jxtgエネルギー株式会社 | 熱媒体液及び工作機械の温度を制御する方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5634693A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-06 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | Preparation of alpha-aminophosphonoacetates |
-
1983
- 1983-03-03 GB GB838305933A patent/GB8305933D0/en active Pending
- 1983-06-20 GB GB838316711A patent/GB8316711D0/en active Pending
-
1984
- 1984-03-02 ZA ZA841588A patent/ZA841588B/xx unknown
- 1984-03-03 JP JP4121284A patent/JPS59173277A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5634693A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-06 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | Preparation of alpha-aminophosphonoacetates |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007505738A (ja) * | 2003-09-22 | 2007-03-15 | バックマン・ラボラトリーズ・インターナショナル・インコーポレーテッド | 水系におけるマンガン析出を阻害するためのセリウム塩の使用 |
JPWO2015093542A1 (ja) * | 2013-12-17 | 2017-03-23 | ニッソーファイン株式会社 | 気化性防錆剤組成物 |
JP2020033520A (ja) * | 2018-08-31 | 2020-03-05 | Jxtgエネルギー株式会社 | 熱媒体液及び工作機械の温度を制御する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB8305933D0 (en) | 1983-04-07 |
JPH0420440B2 (ja) | 1992-04-02 |
GB8316711D0 (en) | 1983-07-20 |
ZA841588B (en) | 1984-10-31 |
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