JPS59172484A - キラルアルデヒド類の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、キラル（ｃｈｉｒａｌ　）アルデヒド類、す
式中、Ｒ８およびＲ４は各々独立に水素または低級アル
キルを表わすか、あるいは−緒になって低級アルキレン
を表わす、 のキラルアルデヒド類の製造方法に関する。この方法は
、一般式 式中、Ｒ３およびＲ４は上に定義した意味を有する、 のラクトンをアルカリ金属メタ過ヨウ素酸塩と反応させ
ることから々る。

上記の方法において使用する一般式Ｂのラクトン出発物
質は新規な化合物である。これらの新規なラクトン類を
使用することにより、一般式１のアルデヒド類は簡単な
方法でかつすぐれた収率で得られる。後者は抗微生物的
に活性なβ−ラクタム類の合成およびまたキラルグリセ
リンまたはそのアセトニドおよびそれらの類似体の製造
において有用である。後者の生成物は、たとえば、ロイ
コトリｘ：ｙ　（Ｎａｃｈｒ、　Ｃｈｅｍ、　Ｔｅｃｈ
ｎ、　Ｌａｂ。

３１．１９８３、Ａｉ、　２、ｐ、　１１７−２０）、
”Ｐｌａｔｅ−ｌｅｔ　Ａｇｒｒｅｇａｔｉｏｎ　Ｆａ
ｃｔｏｒｓ　”　（血小板凝固因子）　（Ｅｅｌｖ、　
Ｃｈｉｍ、　Ａｃｔａ、　１９８２、ｐ、１０５９−８
４）または（Ｒ）−γ−アミノーβ−ヒドロキシ酪酸（
Ｊ、　Ａｍ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ　、、　１９８０．
１０２、ｐ、６３０４−１１）の合成において有用であ
る。

「低級アルキル」という語は、最高５個までの炭素原子
を含有する直鎖状または分枝鎖状の飽和炭化水素基、た
とえば、メチル、エチル、イソプロピルなどを意味する
。「低級アルコキシ」という語は、単独であるいは「低
級アルコキシカルボニル」のような組み合わせにおいて
、類似の意味を有する。「低級アルキレン」という語は
、最高６個までの炭素原子を含有する直鎖状または分枝
鎖状の炭化水素基（たとえば、テトラメチレンまたは、
好１しくは、ペンタメチレン）を意味する。

「低級アルケニル」という語は、直鎖状または分枝鎖状
であることができかつ好ましくは８個まで、ことに４偏
重での炭素原子を含有するオレフィン系炭化水素、たと
えば、ビニル、２−プロペニル（７１Ｊル）、１−７’
ロペニル、インプロペニル、２−メタリル、１−または
２−ブテニル、１−または２−ヘキセニル、１−または
２−へブテニル、１−または２−オクテニルなどを意味
する。「低級アルカノイル」という語は、最高４個まで
の炭素原子を含有する直鎖状または分枝鎖状の飽和脂肪
酸から誘導されるアルカノイル基、たとえば、ホルミル
およびアセチルを意味する。

５、．６−イツプロビリデンーＬ−グロノラクトン（Ｂ
　ｓおよびＲ′の両者がメチルを表わす弐Ｈのラクトン
）を、本発明による方法において使用することが好まし
い。式■のラクトン出発物質とアルカリ金属過ヨウ素酸
塩との反応は好ましくは水相中において実施し、メタ過
ヨウ素酸ナトリウムヲ、ことに−１０６Ｃ〜＋４０℃に
おいて添加する。この反応の前に、式Ｂのラクトンは、
必要に応じて、該ラクトンを開裂させるために、アルカ
リ金属水酸化物（たとえば水性水酸化ナトリウムまたは
水酸化カリウム）で（約０〜１０℃において）処理する
。得られる一般式 式中、Ｒ３およびＲ４は上において定義した意味を有し
、そしてＭはアルカリ金属のカチオンである、 の開環構造体を、たとえば、水性鉱酸（たとえば、塩酸
）で中和し、次いで、上のように、アルカリ金属メタ過
ヨウ素酸塩と反応させる。

本発明による方法のさらに別の実施態様に従えば、上記
において得られる式■のキラルアルデヒドは、一般式 式中、Ｒ１は切り離し容易な保護基を表わし、７？ｌＪ
：ペンソルオキシカルがニルアミノ、アジド、フタルイ
ミドまたは基 ＲＩＩＲ６Ｃ＝ＣＲ７−Ｎｉ１−を表わし、ここでＲ５
は低級アルカノイル、低級アルコキシカルボニルまたは
ベンゾイルを表わし、Ｒ６は水素、低級アルキル、低級
アルカノイル、低級アルコキシカルがニルまたはシアン
を表わし、そしてＢ”ｒは水素または低級アルキルを表
わし、そしてＲ３およびＲ４は各々独立に水素または低
級アルキルを表わすか、るるいは−緒になって低級アル
キレンを表わす、 のキシルβ−ラクタムに転化される。この方法は、上記
の方法で得られる式ｌのアルデヒドを、一般式 ％式％ 式中、Ｒ１は上に定義した意味を有する、のアミンと反
応させ、そしてかくして得られる一般式 式中、Ｒ１、Ｒ３およびＲ４は上に定義した意味を有す
る、 の化合物を、塩基の存在下に、一般式 ％式％ 式中、Ｒ２は上に定義した意味を有する、のカルボ／酸
の反応性誘導体と反応させることからなる。

Ｒが低級アルキルを衣わす基ＲＯＣＯ−ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ
，）−ＮＥ−は、基Ｒ５Ｒ”　Ｃ＝ＣＲ７−ＮＢ−の亜
群である。

式ＩＬ’の７ミンの例は、Ｒ′が次の基ニー２．４−ま
たは３，４−ソ（低級ア ルコキシ）ペンツル；　　　　　　　（α）−ノー〔４
−（低級アルコキシ）フェ ニルコメチル；（ｂ） −４−（低級フルコキシ）−フェニル；　（Ｃ）−低級
−２−アルケニル；　　　　　　（カー　ＣＨ２−ＣＨ
（ＯＲ８）　２：　　　　　　　　　（１１）式中、Ｒ
８は低級アルキルを表わし、そしてｎは数０または１を
表わす、 ０１つを表わす弐■のアミンである。低級アルキルは好
ましくはメチルであシ、そして低級アルコ乙。

式■のアルデヒドと式■のアミンとの反応は、好ましく
は約０℃ないし室温において、有機／水性２相系（たと
えば、塩化メチレン／水、クロロホルム／水、ベンゼン
／水など）中で実施する。

式Ｉのアルデヒドの前の製造過程を水相中で実施したと
き、アルデヒドを単離する必要がなく、直接水相中で実
施できるので、この手順はことに適当である。他方にお
いて、弐Ｉのアルデヒドを単離する場合、これは式ｈｌ
のアミンと有機溶媒中で水の不存在下に、たとえば、ハ
ロケ゛ン化炭化水素、タトえば、塩化メチレン、クロロ
ホルム、ｌ、２−ソクロロエタンなど中で、あるいは炭
化水素たとえばベンゼンなと中で反応させることもでき
る。

反応中に形成する水は好ましくは連続的に、たとえば、
水除去剤（たとえば、適当なモレキュラシーグ）の存在
下に、あるいは他の常用の乾燥剤、たとえば、硫酸ナト
リウム、硫酸マグネシウムなどの存在下に、好ましくは
室温において実施することによって、除去する。

弐■のカルボン酸の反応性誘導体と得られた式■の化合
物との反応は、よ〈知られている環付加（ｃｙｃｌｏａ
ｄｄｉｔｉｏｎ　）である。Ｒ２がアンド、フタルイミ
ドまたは基ＲＯＣＯ−ＣＨ＝Ｃ（Ｃ１１３）　−ＮＨ−
を表わす式■の化合物の反応性誘導体を使用するとき、
この反応性誘導体は好ましくは対応するカルがン酸ノ・
ロケ゛ン化物、ことにカルボン酸クロライド、対応する
カルボン酸無水物または混合無水物（たとえば、トリフ
ルオロ酢酸、メシチレンスルホン酸、クロロギ酸エチル
エステル、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸などとの混合
無水物）、対応するカルボン酸イミダゾリドなどである
。Ｒ２が基Ｒ５Ｒ１ＩＣ＝ＣＲτ−Ｎｌｌ−を表わすと
き、弐■の化合物のカルボン酸塩、ことにアルカリ金属
塩（たとえば、カリウム塩）まだは第三アミンから誘導
されたアンモニウム塩を、反応性有機スルホン酸誘導体
、ことに一般式 ＲＱ−５０２−Ｘ　　　　　　　　Ｍｌ＋式中、Ｘはハ
ロゲンまたは基−ＯＳ　０２−Ｒｇを表わし、ここでＲ
Ｑはフェニル、（低級アルキル）−フェニル、ハローフ
ェニル、低級アルキルまたはハロー（低級アルキル）を
表わす、 の反応性スルホン酸誘導体と一緒に、使用することがで
きる。Ｘがハロヶ゛ン、ことに塩素を表わし、そしてＲ
ｇがフェニル、（低級アルキル）−フェニルまたけハロ
ーフェニルを表わす弐Ｍｌの化合物、たとえば、ｐ−ト
ルエンスルボニルクロライド、ｐ−クロロベンゼンスル
ホニルクロライドおよびベンゼンスルホニルクロライド
ハ、好マシいスルホン酸誘導体である。

Ｒ２がペンヅルオキシ力ルポニルアミノを表わすとき、
式■の化合物のアルカリ金属塩、ことにカリウム塩を、
一般式 ％式％ 式中、Ｒ９は上に定義した意味を有する、のスルホン酸
クロライドと一緒に使用することができる。

式■のスルホン酸クロライドとして、好ましくＩｄ−ｐ
−１日ロベンゼンスルホニルクロライトヲ使用し、これ
よシ好ましさに劣るが、ｐ−トルエンスルホニルクロラ
イドまたはメタンスルホニルクロライドを使用する。

式Ｖの化合物を式■のカルボン酸の反応性誘導体と反応
させるとき、この反応は塩基、たとえば、第三アミン、
たとえば、トリエチルアミンまたはソプロピルエチルア
ミンの存在下に、便利には有機溶媒、ことにエーテル、
たとえば、テトラヒドロフラン、ヅエチルエーテル、ｔ
−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、エチレングリコ
ールヅメチルエーテルなど、ハロケ゛ン化炭化水素、た
とえば、塩化メチレン、クロロホルム、ｌ、２−ソクロ
ロエタンなど、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド
など中で実施する。

弐■の化合物の反応性誘導体と弐■の光学的に均一な化
合物との反応は、アセチヅノン環の３−および４−位置
における置換基が互いに対してシスー位確に存在する化
合物を期待するように生成する。しかしながら、上の環
付加反応において式■の光学的に活性な化合物を使用す
ると、驚ろくべきことに、２つの新らしい光学的中心を
高い光学的収率で、すなわち、高いノアステレオ選択率
で詰発して、２種類の可能なジアステレオマー生成物の
うちの１種類のみを生成することが見出された。得られ
る生成物において、実際に得られる生成物に対してノア
ステレオマ−であるであろう。

第２の可能なシスー環付加反応生成物は検出できなかっ
た。

前述のように、得られるキラルβ−ラククム類は、たと
えば、下の反応図Ｉおよび■に従う、抗微生物的に活性
なβ−ラクタム類の製造において使用することができる
。

Ｆｔニアタルイミド ＤＭＢ＝２．４−ジメトキシベンジル（この基の代わり
に他の保護基Ｒ１を使用できる）ＴｓＯＨ＝ｐ−トルエ
ンスルホン酸 ＴＨＦ＝テトラヒドロンラン ＤＭＦ＝ジメチルホルムアミド ｐｖ＝ピリジン ｐｙ、５ｏ３＝三酸化イオウ−ピリジニウム錯体ＣＯＸ
、＝カルボン酸の反応性誘導体（たとえば、酸無水物、
酸アミド、活性エステル、たとえばベンズチアゾリルエ
ステル） Ｒ１０＝水素、低級アルキル（たとえば、メチル）、保
護されたカルボキシ−（低級アルキル）（たとえば、保
護されたカルボキシ−メチル、保護された１−メチル−
１−カルボキシ−エチル）。保護ベンジル（たとえば、
水素および）くラジウム−炭素で切シ離し可能）、２−
（）ＩＪメチルシリル）−エテル（たとえば、フッ化テ
トラメチルアンモニウムで切り離し可能） Ｒ五°０＝水素、低級アルキル（たとえば、メチル）、
カルボキシ−（低級アルキル）（たとえば、カルボキシ
メチル、１−メチル−１−カルボキシ−エチル） Ｃｂｚ−カルボベンズオキシ（ベンジルオキシカルボニ
ル） ＲＩ′＝カルバモイル、カルノ（モイルオキシメチル。

ＤＭＢ　　Ｎ−保護基お工びＮ−保護基Ｒ１として上に
述べた基（α）、（６）および（Ｃ）の切シ離しは、便
利にはおだやかな酸化により実施する。適当な酸化剤は
、硝酸セリウムアンモニウムでおる（水性アセトニトリ
ルまたは水性アセトン中において）。２．４−および３
．４−ジ（低級アルコキシ）ベンジルならびにジ〔４−
（低級アルコキシ）−フェニルコメチル基は、同様に緩
衝された。ベルオキソジサルフエート（たとえば、アン
モニウムペルオキフシサルフェート／アンモニアまたは
カリウムペルオキフジサルフェート／リン酸水素二ナト
リウム）を用いて切シ離すことができる。ジー［４−（
低級アルコキシ）−フェニル〕−メチル基は、加酸分解
的に（αｃｉｄｏｌｙ−、ｔｉｃａｌｌｙ　）　、たと
えばトリフルオロ酢酸、ギ酸または塩化アルミニウムを
不活性有機溶媒、たとえば塩化メチレンまたはアニンー
ル中で作用させることによシ、切シ離すこともできる。

Ｎ−保護基Ｒ１として上に述べた基（ｄ）、（ｅ）およ
び（ｆ）は、それ自体切り離し可能ではないが一次のよ
うにして切シ離すことができる：（ｄ）Ｒ′＝低級２−
アルケニルは、低級ｌ−アルケニルに転化することがで
きる（たとえば、−ＣＨ，−ＣＥ、、、ＣＨ，→−ＣＨ
＝ＣＨ−ＣＨ８）。

この異性化は、有利には、異性化触媒、たとえし ばパラジウ〉クライトたとえば二塩化パラジウム、）　
ＩＪ　ス（）　Ｉ）フェニルホスフィン）−ロジウム（
１）ハライドたとえば対応する塩化物またはパラジウム
−炭素およびプロトン酸たとえば塩酸またはリン酸を用
いて実施する。異性化は有利には不活性有機溶媒、たと
えば、エタノール、塩化メチレンまたはそれらと水との
混合物中で約５０℃ないし反応混合物の沸点の温度にお
いて実施する。

低級１−アルケニル基（たとえば、１−プロペニルまた
はビニル）は、酸化的に、ことにアルカリ金属過マンガ
ン酸塩、たとえば過マンガン酸カリウム、好ましくは過
マンガン酸カリウムの水溶液で処理することによシ切シ
離される。必要に応じて、酸化はアルカリ金属過ヨウ素
酸塩（たとえば、過ヨウ素酸カリウム）の助けによシ、
触媒量の前述のアルカリ金属過マンガン酸塩の存在下に
実施することができる。この反応は水性緩衝媒質中で、
ことにｐＨ７〜８に緩衝された水性媒質中で実施するが
、水混和性有機溶媒、たとえばアセトン、ジメトキシエ
タン、ジオキサンまたはテトラヒドロフラン中で、ピリ
ジンのような弱有機塩基を添加して、あるいはこれらの
溶媒の１種と前述の水性緩衝剤との混合物中において実
施するとともできる。必要に応じて、この反応は転相触
媒のもとで、すなわち、水相または非水相、たとえば上
の水性緩衝剤ならびに水不混和性不活性有機溶媒、たと
えば、塩化メチレンまたはベンゼンの存在下に実施する
こともできる。普通の物質、ことに有機第四アンモニウ
ムハライドたとえば塩化ベンジルトリエチルアンモニウ
ム、臭化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムおよび臭化セ
チルトリメチルアンモニウムを転相触媒として使用する
ことができる。１−アルチニル基の酸化的切シ離しは、
好ましくは約θ℃〜２５℃の範囲の温度において実施例 （ｇ　）　二Ｒ”＝−ＣＥ、−ＣＨ（ＯＲ’）２−＋　
−ＣＢ、−ＣＢＯ−＋−ＣＯ−ＣＨ（ＯＨ）２ 第１工程は好ましくはトリ（低級アルキル）ヨードシラ
ン、ことにトリメチルヨードシラン、またはｐ−トルエ
ンスルホン酸を用いて実施する。

この反応は好ましくは不活性有機溶媒、たとえばアセト
ニトリルおよび約００Ｃ〜５０℃の温度にお実施例 第２工程（酸化）は好ましくは二酸化セレンを用いて酸
性条件（たとえば、酢酸の存在下に）実施する。この反
応は、好ましくは、不活性有機溶媒、たとえば、ジオキ
サン中で室温ないし反応混合物の沸点の温度において実
施する。

ジヒドロキシアセチル基は、好ましぐは、水性強塩基（
たとえば、水性アンモニアまたは水性アルカリ水酸化物
）を用いて不活性有機溶媒（たとえは、ハロゲン化炭化
水素、たとえば、クロロホルム、四塩化炭素または塩化
メチレン）中で約Ｏ℃〜＋５０℃の温度において実施す
る。

第１工程、すなわちフェニルチオエチル基のフェニルス
ルフィニルエチル基への酸化ハ、有機マたは無機の酸化
剤で処理することにより実施する。

酸化剤として、酸素を容易に生成する種々の化合物、た
とえば、有機過酸化物、たとえば、−置換有機過酸化物
たとえばＣ，−Ｃ，アルキルもしくはアルカノイルヒド
ロペルオキシド（例、ｔ−−７チルヒドロベルオキシド
、過ギ酸および過酢酸）ならびにこれらのヒドロペルオ
キシドのフェニル置換誘導体（例、クメンヒドロペルオ
キシドおよび過安息香酸）を使用することができる。必
要に応じて、フェニル置換基はそれ以上の低級アルキル
基（９１Ｃｔ−Ｃ＜アルキルまたはアルコキシ）、ハロ
ゲンまたはカルボキシ（例、４−メチル過安息香酸、４
−メトキシ過安息香酸、３−クロロ過安息香酸およびモ
ノ過フタル酸）を有することができる。また、酸化剤と
して、種々の無機酸化剤、たとえば、過酸化水素、オゾ
ン、過マンガン酸塩、たとえば過マンガン酸カリウムま
たは過マンガン酸ナトリウム、塩亜塩素酸塩、たとえば
、次亜塩素酸のナトリウム塩、カリウム塩またはアンモ
ニウム塩およびペルオキシモノ硫酸およびベルオキシジ
硫酸を使用することもできる。３−クロロ過安息香酸の
使用は好ましい。酸化は、有利には、不活性溶媒、たと
えば、非プロトン溶媒、たとえば、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、酢酸エチ
ルまたはアセトン中において、あるいはプロトン溶媒、
たとえば、水、低級アルカノール（例、メタノール捷た
はエタノール）またはハロゲン化されていてもよい低級
アルカンカルボン酸（例、ギ酸、酢酸またはトリフルオ
ロ酢酸）中において実施される。反応温度は、とくに約
−２０℃〜＋７５℃の範囲内である。

フェニルスルフィニルエチル基のビニル基への分解は、
便利には、約ｉｏｏ〜２００℃に、好筐しくは非プロト
ン有機溶媒、たとえば、ヘキサメチレンリン酸トリアミ
ド、ジメチルスルホキシドまたはジメチルホルムアミド
、ベンゼンまたはトルエン中において、加熱することに
より実施する。

この反応は、反応中に形成するフェニルスルホン酸のた
めの受容体の添加により、加速することができ、ことに
適当な受容体はトリメチルホスファイトまたはプロピオ
ール酸（ｐｒｏｐｉｏｌｉｃ　ａｃｉｄ）エステル、た
とえば、メチルプロピオレートチある。

ビニル基は（ｄ）において上に記載したようにして切シ
離される。

反応図■に記載した反応工程は、次のようにし実施例 式１の化合物を、式■αの化合物のおだやかな酸性加水
分解により得る。弐ｍａの化合物の加水分解は、たとえ
ば、式■αの化合物を酸で水および必要に応じて水混和
性溶媒たとえばアセトン、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドな
どの存在下に処理することによシ実施することができる
。酸として、たとえば鉱酸たとえば塩酸および硫酸、ま
たは有機酸たとえばｐ−トルエンスルポン酸、ピリジニ
ウムｐ−トルエンスルホネートナト、スルホン化イオン
交換体などが考えられる。用いる条件に依存して、ジオ
キンラン環もこの反応中に切勺離され、式２の化合物が
得られる。

式１または２の化合物を、基Ｃｂｚ生成剤で処理するこ
とにょシ、式３または４の化合物が得られる。たとえば
、ベンジルクロロホルメートは、適当なＣｂｚ生成剤で
ある。この反応は、便利には、不活性有機溶媒、たとえ
ば、ハロゲン化炭化水素たとえば塩化メチレン、クロロ
ホルムなど中で、便利には酸結合剤たとえばブチレンオ
キシド、トリエチルアミン、キヌクリジンなどの存在下
に実施する。この反応は便利には室温において実施する
。

式３の化合物の式４の化合物への加水分解は、好４しく
はおだやかな酸性条件下に実施する。好ましい実施態様
において、−所望の反応は、低級アルコールたとえばメ
タノールまたはエタノール中で適当な酸性触媒の存在下
にアセタール交換することにより実施される。適当な触
媒は、たとえば、スルホン化イオン交換体、ピリジニウ
ムｐ−トルエンスルホネート、ｐ−１ルエンスルホン酸
などである。この反応は好ましくは室温において実施す
る。しかしながら、加水分解は水および水混和性溶媒た
とえばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスル
ホキシド、ジメチルホルムアミドなどの存在下に実施す
ることもできる。

式４の化合物中のジオール基の切り離しは、それ自体既
知で６．Ｃかつ尚業者によく知られている方法に従い実
施され、そして、たとえば、水中で過ヨウ素酸ナトリウ
ムを用いて達成することができる。必要に応じて、この
反応は可溶化剤、たとえば、テトラヒドロフ２ン、ジオ
キサン、メタノール、エタノールなどの存在下に実施で
きる。この反応は式５のアルデヒドを生成する。

式５のアルデヒドの式６の第一アルコールヘノ還元は、
また、それ自体既知でありかつ当業者によく知られてい
る方法に従い、たとえば、低級アルコールたとえばエタ
ノール、インプロパツールなど中においてホウ水素化ナ
トリウムで処理することによシ、実施される。

式６の化合物とクロロスルホニルインシアネートとを不
活性溶媒中で反応させることにより、式７の化合物が得
られる。適当な溶媒の例は、エーテルたとえばジエチル
エーテル、ｔ−ブチルメチルエーテルおヨヒエチレンク
リコールジメチルエーテル、ハロゲン化炭化水素たとえ
ば塩化メチレンおよびクロロホルム、アセトニトリル、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセト
ンなどである。この反応は好ましくは約ｏ℃ないし約室
温の温度範囲において実施する。

ＤＭＢで表わされる保護基（または他の保護基Ｒ１）を
式７の化合物から切シ離すことによシ、式８の対応する
化合物が得られる。この切シ離しは前述の条件下で実施
する。

Ｒ１１がカルバモイルを表わす式８の化合物は、式５の
アルデヒドをそれ自体既知の方法に従い酸化して式■の
カルボン酸を生成し、弐■のカルボン酸を、たとえばヨ
ウ化メチルで炭酸カリウムの存在下にエステル化し、Ｄ
ＭＢで表わされる保換基を前述の方法で式１２の得られ
た化合物から切シ離し、そして式１３の得られた化合物
をアンモニアで処理することにより、得ることができる
。

しかしながら、Ｒ６がカルバモイルを表わす式８の化合
物は、式５の化合物をヒドロキシルアミンで処理し、式
１４の得られたオキシムをそれ自体既知の方法で式１５
のニトリルに転化し、ＤＭＢで表わされる保護基を前述
のようにそれから切シ離し、そして式１６の得られた化
合物中のニトリル基をそれ自体既知の方法でカルバモイ
ル基にけん化することにより、得ることもできる。

弐８の化合物を三酸化イオウまたは三酸化イオウの適当
な錯体で処理することにより、式８の化合物が得られる
。適当な三酸化イオウの錯体は、たとえば、ピリジン、
トリメチルアミン、ピコリン、ジメチルホルムアミドな
どとの錯体である。

ジオキサン、ピリジン、アセトニトリル、ジメチルホル
ムアミドなどのようなエーテルは溶媒として便利に使用
される。好ましい溶媒はアセトニトリルでるる。この反
応は好ましくは約０℃〜８０℃の温度において実施する
。

式９の化合物からＣｂｚで表わされる保護基を切り離す
ことによシ、式１０の化合物が得られる。

ベンジルオキシカルボニル基Ｃｂｚは、たとえば、加水
素分解的に、たとえば炭素担持パラジウムの存在下に元
素状水素で処理することによシ、切シ離すことができる
。

式１０の化合物を、一般式 １ ＼０Ｒ１Ｏ 式中Ｒ１Ｇは上に定義した意味を有する、のカルボン酸
の反応性官能誘導体でアシル化し、セしてＲ１０上に存
在しうる保護基を切シ離すことによシ、式１８の所望の
目的化合物が最終的に得られる。式Ｘの化合物は、式１
８中のＲ１００が水素またはカルボキシ−（低級アルキ
ル）を意味するとき、適当に保護されなくてはならない
。保護基は、アシリル化の完了後に、除去される。式Ｘ
の化合物の反応性官能誘導体として、たとえば、対応す
る酸無水物、混合無水物、ペンズチアゾリルチオエステ
ルなどを使用できる。

式１８の目的化合物は、感染性疾患の抑制および予防の
ための人間の医薬中に使用できる、抗微生物活性を有す
る価値ある抗生物質である。

Ｒ２がベンジルオキシカルボニルアミノを表わ。

す式■の化合物の抗微生物的に価値あるβ−ラクタム抗
生物質への転化は、たとえば、欧州特許出願第８２．１
０７７９０．６号（公開第００７３０６１号）および欧
州特許出願第８３．１０７９１０．８号（公開第１０１
５９８号）に記載されている。

Ｒ１が「ベンジル」の意味を有するＲ１の切り離は、必
然的にＲ１が「２，４−または３，４−ジ（低級アルコ
キシ）ベンジル」を表わすときと同一方法で、すなわち
、酸化的に、緩衝されたベルオキソジサルフエートたと
えばカリウムペルオキソジサルフエート／硫酸水素二カ
リウムの助けにより実施される。しかしながら、ベンジ
ル基は還元的に液体アンモニア中でアルカリ金属（例、
ナトリウムまたはリチウム）を作用させることによシ、
切シ離すこともできる。

本発明による方法のそれ以上の実施態様に従えば、上で
得られた弐Ｉのキラルアルデヒドを、キラルグリセリン
またはそのアセトニドまたはそれらの類似体、すなわち
、一般式 式中Ｒ′２およびＲ１３の各々は個々に水素を表わすか
、あるいは−緒に基う−で４を表わし、ここでＲ３およ
びＲ４の各々は個々に水素または低級アルキルを表わす
か、あるいは−緒に低級アルキレンを表わし、そしてさ
らにＲ１４はヒドロキシル保護基を表わす、 の化合物に転化する。この方法は、上の方法において得
られた式ｌのアルデヒドをアルカリ金属ホウ水素化物と
反応させ、保繰基Ｒ１４を導入し、そことからなる。

アルカリ金属ホウ水素化物として、ホウ水素化ナトリウ
ムまたはホウ水素化カリウムを使用することが好ましい
。この反応は好ましくは水相中において約θ℃ないし室
温において実施する。

一般式 式中Ｒ３およびＲ４は上に定義した意味を有する、 のアルコール中に、ヒドロキシ保護基はここで導入され
る。したがって、まず次の基が考慮される２２０個まで
の炭素原子をもつアルカノイル基、たとえば、アセチル
、ミリスチル、／クルシミチル、ステアリル、アラキル
；２０個までの炭素原子をもつアルキル基、たとえば、
メチル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−オ
クタデシル、ｎ−エイコシル；またはコリン−ホスホリ
ル基。これらの基は対応する酸／・ロゲニド、好ましく
は塩化物、または対応するアルキル、ノ・ロゲニド、と
くに臭化物または塩化物の助けによシ導入され、６るい
は、コリン−ホスホリル基の場合において、　　、三塩
化リンおよびコリンとの反応により導入される。必要に
応じて、基Ｒａ１４を、引き続いて、たとえばｐ−トル
エンスルホン酸、塩酸または硫酸で水相中において、必
要に応じて水混和性の不活性有機溶媒たとえばテトラヒ
ドロフランまたはジオキサンと混合して、加水分解する
ことができる。

上の式■のラクトン出発物質は、簡単なかつ効率的な方
法でＬ−アスコルビン酸から、たとえば、後者を接触的
に水素化する（たとえば、パラジウム−炭素の存在下に
）ことにより、製造することができる。得られたＬ−グ
ルロン酸γ−ラクトンを、式■の所望のラクトンに、一
般式 式中Ｒ８およびＲ４は上に定義した意味を有し、そして
Ｒ”は低級アルキルを意味する、 のケクールまたはアセタールとの反応によシ、転化する
。５，６−イツプロピリデンーＬ−グｏ／ラクトン（Ｒ
３およびＲ４の両者がメチルを表わすラクトン）を製造
する好ましい方法は、Ｌ−グロン酸γ−ラクトンヲイン
プロペニルメチルエーテルまたは２，２−ジメトキシ−
プロパンと反応させることからなる。Ｌ−グロン酸γ−
ラクトンの式■のラクトン出発物質への転化は、酸（た
とｊｊｔハ、ｐ−）ルエンスルホン酸）の添加により触
媒される。この反応は好ましくは低温（たとえば、約θ
〜１５℃）において実施する。

次の実施例により本発明をさらに説明する。

実施例１ かきまぜ機、温度計、滴下漏斗、ガラス嶋極および冷却
浴（−１５℃、氷−メタノール）を備える＋０２答のス
ルホン化７２２３円の１０００ｄの水中ｖ（，２１ｓｔ
の５．６−イングロビリデンーＬ−グロノラクトンを懸
濁させる。１４０−の５０チの水酸化カリウム水浴液を
＋３℃において３０分以内に加える。水浴を除去し、そ
してこの混合物を室温において１５分間かきませる。Ｃ
ｐＢを垣汝性に保持し、そして反応の完結を博Ｊ−クロ
マトグラフィーによりコントロールする）。かっ色溶液
を水で冷却しながら水性塩酸でｐＨ７，０に調歪する。

得られた黄色浴液を一１θ℃に冷却し、３０ＱＯｄの水
中の４２７２のメタ過ヨウ素酸ナトリウム（２，０モル
）の浴液で１時間以内で滴々処理する。処理の間、温度
を＋１０℃より高くならないようにする。ｐＥを飽和炭
酸ナトリウム水溶液の添加により５．０に保持する。存
在するかもしれない微量のヨウ素をチオ硫酸ナトリウム
の添加により分解する。添加の終りにおいて、７）Ｅｋ
飽和重炭酸ナトリウム水浴液で７．０に一４整する。

得られた晦液は粗＜Ｓ＞　　−グリセルアルデヒドアセ
トニドを含有する。それを＋１２℃において１０００　
ｍｌの塩化メチレンでアルゴン雰囲気中で処理し、その
間２５０ゴの塩化メチレン中の１５５ｒ（０，９３モル
）の２，４−ジメトキシベンジルアミンの浴液とともに
激しくかき捷ぜる。室温において３０分＋＋ａ静置した
後、相を分離し、水相を１０００ｄの塩化メチレンで抽
出する。合わせた肩恢相を１５０２のむな酸マグネシウ
ムで乾燥する。

有機浴液を濾過し、乾燥剤を３００ｒｎｌの塩化メチレ
ンで洗浄する。合わせた有機浴液を約ｘｔに３７°Ｃ／
　０．８　ｒａｎ　ＩＩ　ｇにおいて蒸発させる。この
溶液を、かきまぜ機、温度計、塩化カルシウム管、滴下
漏斗および氷−メタノール冷却浴を備えるｚ５を容のス
ルホン化フラスコに入れる。１７４ｍ１（１２４，４ｆ
　；　１．２３−Ｅ：ｋ）　ノ）リエチルアミンを加え
る。０℃に冷却後、３００ｍｇの４６化メチレン中の２
０７．５５’の塩化フタロイルグリシル（０゜９３モル
）の溶液を４５分以内に滴下し、ここで温度がｌ＋１０
℃より筒くならないようにする。ここで混付物を室温に
おいて２時＋Ｗｊ　ｖ＞さ′１．ぞる。この混合物を分
液漏斗に移し、１００ｍの水で３回、３００ｄの水性ｌ
Ｎ塩酸で１回、３００ＷＬｌの飽和重炭酸ナトリウム溶
液で２回、５００−の水で１回、最後に５００ゴの飽４
ｉＩ塩化ナトリウム水浴液で１同順次に洗浄する。有機
相を１５０２の硫酸ナトリウムで乾燥し、沖過し１、Ｆ
液を蒸発乾固する。得ら７’した暗黄色の粘稠な泡状油
ｉ８θ０Ｐｎｅの酢酸エチル中に浴かす。浴液を部分的
に（約５００ゴに）真綿し、冷時に結晶化させた。２３
７？（５３チ）のＡ’−（（３，５，４，Ｓ）　　−シ
ス−１−（２，４−ジメトキシベンジル）−４−［（Ｒ
）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イ
ル〕−２−オキソー３−アゼチジニル〕−フタルイミド
が融点１５５℃の淡黄色味結晶として得られる。

出発、ダＪ負として使用する５、６−イングロビリデン
ーＬ−グルロノラクトンは、次のようにして製造するこ
とができる。

１　？　００ｄの水中の２３１２の結晶質Ｌ（＋）−ア
スコルビン酸ｋ、３を容フラスコ内で接触的に水素化す
る（７５？の１０係のＰｄ／Ｃ：６５℃；４バールの〃
、の圧力；３０時間）。溶液を濾過し、ｐ液を５０℃７
１２順Ｂｇにおいて蒸発乾固する。得られた結晶質残留
物を２００　ｍｌの沸とうするメタノール中に懸濁させ
る。この懸濁液を冷却し、？濾過する。２２１．６　ｆ
　（９４，８％）のＬ−グロン酸γ−ラクトンが融点１
８３〜１８４℃の無色結晶として倚られる。母液を１０
０　ｍｌの酢酸エチルで希釈し、冷時１２時間静置する
。さらに１７の生成物が得られ、こうして合計の収積は
２２２．６Ｆ（９５，３％）である。

かきませ恒、温度計、滴下漏斗、塩化カルシウム管およ
び水浴を備える３、５を容のスルホン化フラスコ内で、
２０００１〃Ｊのジメチルホルムアミド中の２２１．６
　ｆのＬ−グロン酸γ−ラクトンの溶液を１０℃に冷却
し、１．８ｒのｐ−トルエンスルホン酸−水オｌｌＩ物
で処理する。この浴液を＋１０℃において１１６．６　
？　　（１５４，５＊ＪＨ１，６１モル）のル［らしく
蒸留したイングロペニルメチルエーテルで滴々処理する
。得られた透明浴液を２５℃において２４時ＩＭＩかき
なぜる。このようにして得られた無色ｍ液を２２０２の
炭酸ナトリウムで処理し、生ずる懸濁液を２時間かきま
ぜる。ｊ′１七濁液を許過し、得られた溶液を４０°Ｃ
１０，２，Ｈｇにおいて濃縮する。得られた淡黄色味結
晶質残留物を３００　ｍｅのトルエンで処理し、水冷し
なからス・ぐチュラでかきまぜる。形成した結晶葡吸引
濾過し、少欲のエタノールおよび大量のｔ↓−ヘキサン
で洗浄し、室温において高度の減圧下に乾燥する。１９
１．６ｒ（７０，９％）の５．６−イングロビリデンー
Ｌ−グロノラクトン、ｔａ点１６７〜１６８℃、が得ら
れる。

実施例２ ４３．６ｒ（０，２モル）の５．６−インブロピリデン
ーＬ−グロノラクトンを２００ゴの水中に分散し、ｐＨ
のコントロールのもとに３０分以内に８５．５１Ｆ（０
，４モル）のメタ過ヨウ素酸ナトリウムで少しずつ処理
する（飽和炭酸ナトリウム水溶液の添加によりｐＨ５，
５）。得られたＷｉｆ、濁液を室温において２時間処理
し、塩化ナトリウムで捕和芒せ、沈殿したヨウ木酸す）
　ＩＪウムを濾過により除去する。Ｆ液のｐＢを７．０
にＨ”Ｊ整する。　＜Ｓ＞−グリセルアルデヒドアセト
ニドの水＠液は、実施例１に記載するようにさらに処理
することができ、あるいは次のように単離することがで
きる：この水市欣を各回２００ｍ１の塩化メチレンで５
回、仄いで各回２００　ｒｎｅ、の酢酸メチルで４同順
次に抽出する。ばわせたノ内−（戎餅液を硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、蒸発させる。残留＠／］ｌ−蒸貿しく３
５ｒｔｍｌｉ　ｇＩＣオケルｍＡ　＝　６４〜６６°Ｃ
）、ｚ６７ｒの純度約８４チの＜Ｓ＞　　−グリセルア
ルデヒドアセトニドおよび１６．１　Ｆの純度９８％の
（Ｓ）−グリセルアルデヒドアセトニドが侍られる。合
計の収斌は純粋なくＳ）　　−グリセルアルデヒドアセ
トニドの１８ｒ（０，１３８モル、６９％）である。

実施例 ２１．８ｒ（０，ｘモル）の５．６−イングロピリデン
ーＬ−グロノラクトンをｌ　ＯＯｍｅの水中に分散δぜ
、０℃においてｉ　５　ｍｔ、の５０係の水性水酸化ナ
トリウムで処理する。１５分間かきまぜた後、この耐液
＠　ａ　ｔＶの水性塩酸でｐＨ７に中オロし、引き秩い
て一１Ｏ°Ｃに冷却する。このｉ゛科液４００−の水中
の４４．９　ｒ　　（０，２１モル）のメク過ヨウ素酸
ナトリウムの的液で処理する。１時ｔＪ］後、ｐＢを飽
和重炭酸ナトリウム水溶液の添加により７にｗａ４する
。このυ液！−、ｔ（５）　　−グリセルアルデヒドを
含有しそして、濾過後、直接処理する：得られた浴液を
７００　ｎｔの水中の１６．１２　Ｆ（０，４モル）の
ホウ水素化ナトリウムの溶液で滴滴処理する。温此を氷
冷ｌこより２０℃に保持する。

６時間かきまぜた後、過剰のホウ水素化ナトリウムを２
００ｍのアセトンのゆっくりした添加により分解する。

２０分後、過剰のアセトンを減圧蒸発により除去し、得
られた水相を１００　ｍｌの塩化す）　リウムで３回抽
出する。南機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発する。

６．９Ｆ、（５２％）の（Ｒ）　　−グリセリンアセト
ニドが得られ、これを、精製のため、１７０℃／４０Ｗ
ｒＩｎＢｇにおいて蒸留する。５．３ｒ（４０，１饅）
の純粋な（Ｒ）　　−グリセリンアセトニドが得られる
。〔α〕ｒ　＝−１ｏ。

９°（ｃ＝１．メタノール）。

実施例４ ３．４−ジメトキシベンジルアミン（ベラトリルアミン
）を実施例１において２，４−ジメトキシベンジルアミ
ンの代わりに使用すると、それ以外は同一条件下におい
て、＃−［（３５，４Ｓ）−シス−１−（３，４−ジメ
トキシペンツル）−４−Ｌ　　（１−２，２−ジメチル
−１，３−ジオキソラン−４−イル〕−２−オキソー３
−アゼチジニル〕−フタルイミドが得られる。ＩＲスペ
ク）ル　（ｆＢｒ）　　：　　１７６６．１７２０ｃｒ
ｎ−’　　。

ベンジルアミンを実施例１において２，４−ジメトキシ
ベンジルアミンの代わりに使用すると、それ以外同一条
件下において、Ａ’−（（ａ、５．４５）−シス−１−
ベンジル−４−〔（Ｒ）’−２゜２−ツメチル−１，３
−ジオキソラン−４−イルツー２−オキンー３−アゼチ
ソニル〕−フタルイミド、融点１２８〜１２９℃、が得
られる。

４−メトキシアニリン（ｐ−アニシジン）を実施例１に
おいて２．４−ジメトキシベンジルアミンの代わりに使
用すると、それ以外同一条件下において、ｔｖ−〔（３
，５，４，５）　　−シス−１−・　（４−メトキシフ
ェニル）−４−（（１０−２，２−ジメチル−１：３−
ジオキソラン−４−イル〕−２−オキンー３−アゼチジ
ニル〕−フタルイミド、融点６４．７℃、が得られる。

〔α〕２ぜ＝＋２０．３゜（Ｃ震１、メタノール）。

４−メトキシベンジルアミンを実施例１において２．４
−ジメトキシベンジルアミンの代わりに使用すると、そ
れ以外同一条件において、Ｎ−（（ａ、Ｓ、４．５）　
　−シス−１−（４−メトキシベンジル）−４−［（Ｒ
）−２，２−ジメチル−１゜３−ジオキソラン−４−イ
ル〕−２−オキソー３−アゼチジニル〕−フタルイミド
が得られる。ＩＲスペクトル（ＫＢデ）：１７６６．１
７２１ｃｒｎ−”Ｈ［α：ｌ”、；’＝＋６３．８°（
Ｃ＝１．クロロホルム）。

元素分析： 側１１ｉ値：　Ｃ６６，０５；　Ｈ５，５４；　ＩＶ　
６．４２％実測値：Ｃ６５，８２ＨＢｓ、６１　ｉ、Ｉ
Ｖ６．２９チ実施例５ ａ）１２ｆ　（９２，，１６ミリモル）の（Ｓ）−グリ
セルアルデヒドアセトニド’ｉ２００ｒｎｌの塩化メチ
レン中に溶かし、まず硫酸マグネシウムで処理し、次い
で１０分間にわたり５０−の塩化メチレン中の５．２６
Ｆ（９１１６ミリモル）の３−アミノ−１−グロペンで
嫡々処理し、そしてこの懸濁液を室温において５時間か
きまぜる。硫酸マグネシウムを沖過し、この透明な無色
の酢液を回転蒸発器で蒸発させる。１４．６　Ｆ　、（
８６，３ミリモル；９＆６％）の純粋な（Ｓ）　　−グ
リセルアルデヒドアセトニドアリルイミンが得られる。

６）ａ６４ｆ’　　（５１，１ミリモル）の（Ｓン　−
グリセルアルデヒドアセトニドアリルイミンを４００ゴ
の塩化メチレン中に醇解し、まず１０．３２　Ｆ（１０
２−２ミリモル）のトリエチルアミンで処理し、次いで
１０．７９９（５１，１ミリモル）のｙ−（１−ノー１
−ルー２−メトキシカルアトニルビニル）アミノ酢酸カ
リウムで処理し、この懸濁液を０℃に冷却し、５分以内
に５０ｍ１の塩化メチレン中の９．７４Ｆ（５１，１ミ
リモル）ノ塩化ｐ−トルエンスルホニルで滴々処理する
。冷却浴を除去し、この混合物を室温において８時１０
１かきませ、２００ｄの水で処理し、有磯相を分離し、
蒸発させる。

粗生成物をシリカゲルのクロマトグラフィーにかけ、ヘ
キサン／酢酸エチル（８：２）で溶離する１１３、Ｏｆ
　（４０，０ミリモル；７８％）のメチル（Ｚ）−３−
（［（３５，４５）−１−アリル−２−［（Ｒ）　　−
２，２−ジメチル−ｉ、ａ−ジオキンラン−４−イルツ
ー４−オキンー３−アゼチジニル〕アミノ〕−２−ブテ
ノエートがγ山として得られる。この油は静置すると固
化する。

実施例６ １．７ｙ　（１０ミリモル）の（Ｓ）−グリセルアルデ
ヒドアセトニドアリルイミンを８０ｍの塩化メチレン中
に浴解し、まず３．０３１Ｆ（３０ミリモル）のトリエ
チルアミンで処理し、次いでＺ６ｔ（１０ミリモル）の
７−　（ｌ−メチル−２−ベンゾイルビニル）−アミノ
酢噛カリウムで処理し、そしてこの懸濁液を０℃に冷却
する。ｌＯ−の塩化メチレン中の２．８５ｆ（１５ミリ
モル）の塩化ｐ−トルエンスルホニルをそれへ滴々加工
、この混合物を室温において５時間かきまぜ、ＬＯＯｍ
ｌの水で洗浄し、蒸発させる。粗製生成物をシリカゲル
でａ製し、溶離にヘキサン／酢酸エチル（７：３）を使
用する。１５ｒ（４，０４ミリモル；４０％）の（３５
，４５）　−２，２−ツメチル−１゜３−ジオキソラン
−４−イル〕−２−アゼチジノンが純粋な油として得ら
れ、これはエーテルとヘキサンとの混合物から結晶化す
ると、１５４〜１５６℃の融点を有する。

実施例７ １．７ｒ（１０ミリモル）の＜Ｓ＞　　−グリセルアル
デヒドアセトニドアリルイミンを８０ｍの塩化メチレン
中に溶解し、まず１０３ｔ（３０ミリモル）のトリエチ
ルアミンで処理し、次いでＬｅｔ（１０ミリモル）のｆ
ｆ−（２，２−ジメトキシカルがニル）アミン酢酸カリ
ウムで処理する。次いで２０ｒｎｌの塩化メチレン中の
２．８５Ｆ（１５ミリモル）　（７）ｔｍ化ｐ−）ルエ
ンスルホニル’に氷冷１，７’ｃこの醇液へ滴々加え、
この混合物を室温において５時間かきまぜる。この混合
物を引き続いて１００１Ｆ１１！！の水で況浄し、有機
相を蒸発させそして粗製生成物音シリカケ゛ルのクロマ
トグラフィーにかけ、ヘキサン／酢酸エチル（７：　３
）で溶離する。１゜１５？　（２，９ミリモル；２９％
）の純粋カシェチル［（［（２Ｓ、ａＳ）−１−アリル
−２−〔（ハ）−２，２−ヅメチル−１，３−ジオキソ
ラン−４−イルシー４−オキソ−３−アゼチソニル〕ア
ミン〕メチレン〕−マロネートが油として得られる。

ＪＲスペクトル（フィルム）　：帯、なかでも、１７５
５．１７４０．１７００．１６６０および１６００副−
１゜ 実施例８ ３．７５９　　（１３，４４ミリモル）の（Ｓ）−グリ
セルアルデヒドアセトニド（２，４−ジメトキシベンジ
ル）イミン［（Ｓ）　　−グリセルアルデヒドアセトニ
ドおよび２，４−ソメトキシベンジルアミンから実施例
１α）に類似する方法で得た〕を１５０ｍの塩化メチレ
ン中に溶かし、３．２５Ｆ（３２，２５ミリモル）のト
リエチルアミンで処理する。３．４０ｒ（１６，１２ミ
リモル）のＡ−（１−メチル−２−メトキシカルボニル
ビニル）アミン酢酸カリウムを加え、とのＦ［［液を０
℃に冷却する。５０ｍ１の塩化メチレン中の３．４ｏｆ
（１ａ１２ミリモル）の塩化ｐ−トルエンスルホニルを
それへ５分以内に加え、この混合物を室温において１５
時間かきまぜる。１００ｄの水で洗浄し、有機相を蒸発
させた後、残留物をシリカゲルのクロマトグラフィーに
かけ、高離剤としてヘキサン／酢酸エチル（７：３）を
用いる。３．４５Ｆ（７゜９４ミリモル；５９％）の純
粋なメチル（Ｚ）　−３−［（（３Ｓ、４．５）−１−
（２，４−ジメトキシベンジル）−２−（（Ｒ）−２，
２−ジメチル−１，３−ジオキン２ンー４−イル〕−４
−オキソ−３−アゼチジニル〕アミン〕−２−ブタノエ
ートが油として得られ、これはゆっくり固化する。エー
テル／ヘキサンから結晶化すると、生成物は１２１℃の
融点を有する。

実施例９ Ｚ８Ｆ（１０ミリモル）の（Ｓ）　　−グリセルアルデ
ヒドアセトニド（２，４−ジメトキシペンツル）イミン
を１２５−の塩化メチレン中に溶解し、まず３．０３ｆ
（３０ミリモル）のトリエチルアミンで処理し、次いで
Ｒ６ｆ’（１０ミリモル）のＷ−（１−メチル−２−ベ
ンゾイルビニル）アミノ酢酸カリウムで処理し、そして
この懸濁液を０℃において強くかきまぜる。５ｏ−の植
化メチレン中の２．８５？　（１５ミリモル）の塩化ｐ
−１ルエンスルホニルをそれへゆっくシ滴々加え、この
混合物を室温において５時間がきまぜる。この混合物を
１００　ｍｌの水で洗浄し、蒸発させる。残留物をシリ
カゲルのクロマトグラフィーにかけ、ヘキサン／酢酸エ
チル（７：　３）を溶離剤として使用する。１．４９（
Ｚ９１ミリ％Ａ／；２９％）の純粋な（ａ、５，４Ｓ）
−３−［［（Ｚ）　　−２−ベンゾイル−１−メチルビ
ニル〕アミン：）−１−（２゜４−ジメトキシベンジル
）−４１（Ｒ）−２゜２−ジメチル−１，３−ジオキソ
ラン−４−イルツー２−アゼテソノンが得られ、これは
エーテル／ヘキサンから再結晶化すると、１７７〜１７
９℃の融点を有する。

実施例１０ ６．４８Ｆ（２０ミリ−１１ニル）　（Ｄ）ｆ−ルＣＺ
）　　−３−ＥＣ（３Ｓ、４Ｓ）−１−アリル−２−（
：（７？）−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン
−４−イル〕−４−オキソー３−アゼチソニル〕アミン
〕−２−ブテノエートを４０ｍ／のアセトン中に溶かし
、２０ｍ１のアセトン中の３．８０ｒ（２０ミリモル）
のｐ−トルエンスルホン酸−水和物で処理する。消浄な
溶液上室温において１５分間かきまぜ、次いで１２０ｍ
１！のエーテルでゆっくり処理する。沈殿した生成物を
濾過し、乾燥する。６．４ｒ（１５，３ミリモル；７７
％）の純粋な（３５゜４５）　　−シス−３−アミノ−
１−アリル−４−［（Ｒ）−２，２−ヅメチル−１，３
−ジオキソラン−４−イル〕−２−アゼチジノンｐ−ト
ルエンスルホネート、融点１６５℃、が得られる。

（３Ｓ、４５）−１−アリル−３−４［：（Ｚ）−２−
ベンゾイル−１−メチルビニルコアミノ〕−４−［（Ｒ
）　−２，２−ツメチル−１，３−ジオキソラン−４−
イル〕−２−アゼチジノンおよびジエチル［［［（３，
５，４Ｓ）−１−アリル−２−［（Ｒ）−２，２−ジメ
チル−１，３−ジオキンラン−４−イル〕−４−オキソ
ー３−アゼチジニル〕アミノ〕メチレン〕マロイ・−１
・を同一反応条件に暴露すると、同一生成物が得られる
。収率は７５％〜８０％である。

実施例１１ ３０Ｆの無水硫酸マグネシウムおよび１７．７？（７１
，６ミリモル）のカリウム六−カルボベンズオキシグリ
シネートを、４００ｍｅの塩化メチレン中に分散させる
。２０ｍ／！（１４３ミリモル）のトリエチルアミンを
加えた後、倚られた懸濁液を室温において１．５時間撒
しくかきまぜ、引き続いて５℃に冷却する。この懸濁液
’１（１０，０ｒ（３５゜８ミリモル）の（Ｓ）　　−
グリセルアルデヒドアセトニド（２，４−ソメトキシペ
ンジルンイミン〔２０ｍ／！の塩化メチレン中で２，４
−ジメトキシベンジルアミンおよび（，５）　　−グリ
セルアルデヒドアセトニドから調製した〕で処理する。

５０ｍの塩化メチレン中の１５．１Ｆ（７１，６ミリモ
ル）の塩化ｐ−クロロベンゼンスルホニルを引き続いて
５℃において４５分以内に滴々加える。この懸濁液を室
温において３時１…がきまぜ、濾過する。

ν液を蒸発させ、得られた黄かっ色油′ｆｒ３００ｄの
酢酸エチル中に解がし、１胆次に１００ｄのＩＡの水性
塩酸で２回、１ｏｏ−の５％の重炭酸ナトリウム水峙赦
で２回、そして１００ｍの塩化ナトリウム水溶液で１回
洗浄する。有情相を蒸発させ、油状黄色残留物を０℃に
おいて３００−のエーテルの添加にょｐ結晶化させる。

１０．５ｆ（６２％）のベンジル（３，５、４，５）　
　−シ、＜−１−（２、４−ジメトキシペンツル）−４
−［（Ｒ）　　−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソ
ラン−４−イルクー２−オキソ−３−アゼチジンカルバ
メート、融点１１３〜１１４°Ｃ１が得られる。

実施例１２ アリルアミンを実施例１１において２．４−ジメトキシ
ベンジルアミンの代わルに使用すると、同一の方法で、
シリカゲル（０，０４０〜０．０６３簡）のクロマトグ
ラフィー後、７．０５ｙ　（６７％）のペンツル（３，
５，４，５ン　−シス−１−アリル−４−（（Ｒ）−２
，２−ヅメチル−１，３−ジオキンラン−４−イルクー
２−オキソ−３−アゼチジンカルバメート、融点９４〜
９６℃、が得られる。

第１頁の続き ２０５１００ ３１７１００　） （Ｃ０７Ｄ　４０５／１４ ０５１００ ０９１００ ３１７１００　） （Ｃ０７Ｄ　４０７１０４ ０７１００ ３１７１００　） 優先権主張　＠１９８４年１月５日［相］スイス（ＣＨ
）■３３７８４−４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 式中、Ｒ３およびＲ４は各々独立に水素咬たは低級アル
   キルを表わすか、あるいは−緒になって低級アルキレン
   を表わす、 のラクトンをアルカリ金属メタ過ヨウ素酸塩と反応させ
   ることを特徴とする一般式 式中、Ｒ３およびＲ＋はこの特許請求の範囲において前
   に定義した意味を有する、のキラルアルデヒド類の製造
   方法。 ２一般式 式中、Ｒ３およびＲ４は各々独立に水素オたは低級アル
   キルを表わすか、あるいは−緒になって低級アルキレン
   を表わす、 のアルデヒドを、一般式 ％式％ 式中、７？ｌけ切シ離し容易な保護基を表わす、 のアミンと反応させ、そしてかくして得られる一般式 式中、Ｒ１、Ｒ３およびＲ４はこの特許請求の範囲にお
   いて前に定義した意味を有する、 の化合物を、塩基の存在下に、一般式 ％式％ 式中、Ｒ２はベンジルオキシカルざニルアミノ、アヅド
   、フタルイミドまだは基 Ｒ５Ｒ６Ｃ＝ＣＲ７−Ｎ１３−を表わし、ここで、Ｒ５
   は低級プルカメイル、低級アルコキシカルボニルまたは
   ベンゾイルを表わし、Ｒ６は水素、低級アルキル、低級
   アルカノイル、低級アルコキシカルボニルまたはシアン
   を表わし、そしてＲ７は水素または低級アルキルを表わ
   す、 のカルボン酸の反応性誘導体と反応させることを特徴と
   する一般式 式中、Ｒ’　、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はこの特許請求の範
   囲において前に定義した意味を有する、 のキラルβ−ラククム類の製造方法。 ３、　Ｒ２がアヅド、フタルイミドまたは基ＲｏＣｏ−
   ｃＨ＝ｃ（ｃｍ、＞−ｎＨ−を表わし、ここでＲが低級
   アルキルを表わす弐■のカルボン酸の反応性誘導体を使
   用する特許請求の範囲第２項記載の方法。 ４．５．６−イツプロビリデンーＬ−グロノラクトンを
   一般式Ｈの出発物質として使用する特許請求の範囲第１
   〜３項のいずれかに記載の方法。 ５、式■のキラルアルデヒドと弐■のアミンとの反応を
   有械／水性２相系において実施する特許請求の範囲第２
   〜４項のいずれかに記載の方法。 ６、塩化メチレンと有ｅ＆／水性２相系の有機成分とし
   て使用する特許請求の範囲第５項記載の方法。 ７、　Ｒ１が次の基ニ ー２．４−または３，４−ヅ（低級ア ルコキシ）ベンジル；　　　　　　　（α）−ノー〔４
   −（低級アルコキシ）フェ ニルコメチル；（ｂ） −４−（低級アルキル）−フェニル；　（Ｃ）−低級２
   −アルケニル；　　　　　　　（カＣＲ２（：’　Ｈ（
   ＯＲ８）　ｔ　：　　　　　　　　　（ｇ）式中、Ｒ８
   は低級アルキルを表わし、そしてｎは数０または１を表
   わす、 ０１つを表わす式■のアミンを使用する特許請求の範囲
   第２〜６項のいずれかに記載の方法。 ８、式■のカルボン酸の酸塩化物を使用する特許請求の
   範囲第３〜７項のいずれかに記載の方法。 ９、　フタロイルグリシンの反応性誘導体を使用する特
   許請求の範囲第３〜８項のいずれかに記載の方法。 １０、一般式 式中、Ｒ３およびＲ４は各々独立に水素または低級アル
   キルを表わすか、あるいは−緒になって低級アルキレン
   を表わす、 のアルデヒドをアルカリ金属水素化ホウ素化物と反応さ
   せ、保護基Ｒ′４を導入し、そして必要に応３Ｒ４ じて、基　×　を加水分解することを特徴とする特許 式中、Ｒ１２およびＲ１３の各々は個々に水素を表わす
   か、あるいは−緒になって４Ｒ′を表わし、ここでＲＡ
   およびＲ４はこの特許請求の範囲において前に定義した
   意味を有し、そしてさらにＲ”はヒト°ロキシル保脆基
   を表わす、 のキラルアルコール類の製造方法。 式中、Ｒ３およびＲ４は各々独立に水素または低級アル
   キルを表わすか、あるいは−緒になって低級アルキレン
   を表わす、 の゛アルデヒドをアルカリ金属水素化ホウ素イし物と反
   応させることを特徴とする一般式 式中、Ｒ３およびＲ４はこの特許請求の範囲において前
   に定義した意味を有する、のキラルアルコールの製造方
   法。 １ｚ　一般式 式中、Ｒ３およびＲ４の各々は個々に水素または低級ア
   ルキルを表わすか、あるいは−緒になって低級アルキレ
   ンを表わす、のラクトン。 １３．５．６−（ソプロビリデンーＬ−グロノラクトン
   である特許請求の範囲第１２項記載のラクトン。