JPS59172458A - ジスルフィド類の製造方法 - Google Patents
ジスルフィド類の製造方法Info
- Publication number
- JPS59172458A JPS59172458A JP1964984A JP1964984A JPS59172458A JP S59172458 A JPS59172458 A JP S59172458A JP 1964984 A JP1964984 A JP 1964984A JP 1964984 A JP1964984 A JP 1964984A JP S59172458 A JPS59172458 A JP S59172458A
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- JP
- Japan
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- mercaptan
- formula
- disulfide
- reacted
- disulfides
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はジスルフィド類の新規な製造方法に関する。更
に詳しくは本発明はアリールチオナイトライド類と、メ
ルカプタン類と全反応させることを特徴とする、香気成
分、染料、医薬、各種高分子添加剤等として有用なジス
ルフィド類の製造方法である。
に詳しくは本発明はアリールチオナイトライド類と、メ
ルカプタン類と全反応させることを特徴とする、香気成
分、染料、医薬、各種高分子添加剤等として有用なジス
ルフィド類の製造方法である。
従来、非対称ジスルフィドは、対称ジスルフィドと塩素
より得られるチオクロライドとメルカプタンとの反応に
よって得られていたが、工程が多く、対称ジスルフィド
と非対称ジスルフィドの混合物が得られ、収率が低い北
に、単離も事実上は不可能であった。
より得られるチオクロライドとメルカプタンとの反応に
よって得られていたが、工程が多く、対称ジスルフィド
と非対称ジスルフィドの混合物が得られ、収率が低い北
に、単離も事実上は不可能であった。
本発明者らは、アリールチオナイトライド類とメルカプ
タン類とを反応させると、対称、非対称、を問わず目的
とするジスルフィドが極めて高収率にかつ容易に得られ
ることを見ヲ））だし、本発明を完成した。
タン類とを反応させると、対称、非対称、を問わず目的
とするジスルフィドが極めて高収率にかつ容易に得られ
ることを見ヲ））だし、本発明を完成した。
即ち本発明は、
弐 几’−Ｓ Ｎ Ｏ印
なるチオナイトライド類と、
式 Ｒ２−８Ｒ（旧
なるメルカプタン類とを反応させることを特徴とする、
弐 Ｒ’−８−８−Ｒ２（４）（式中、Ｒ１
は印式のｆＬｌと Ｒ，２は（９）式のＲ２と同氏）な
るジスルフィド類の製造方法である。
は印式のｆＬｌと Ｒ，２は（９）式のＲ２と同氏）な
るジスルフィド類の製造方法である。
反応の機構は定かではないが、メルカプタン類が求核試
剤としてチオナイトライド類と反応し、２スルフイドが
生成するものと考えられる。
剤としてチオナイトライド類と反応し、２スルフイドが
生成するものと考えられる。
前記式（１）、車中、Ｒ’としては、例えば、フェニル
、ナフチル、アンスラニル、ビフェニル基等の７リール
基、及びこれらのアリフル基にアルキル基、ハロゲン等
の置換基がついた置換アＩＪ ／し基などが挙げられ
る。
、ナフチル、アンスラニル、ビフェニル基等の７リール
基、及びこれらのアリフル基にアルキル基、ハロゲン等
の置換基がついた置換アＩＪ ／し基などが挙げられ
る。
置換アリール基における置換基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素等のノ・ロゲン基等が挙げられる。
ル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素等のノ・ロゲン基等が挙げられる。
また、前記式（４）及びｌ中、几２としては、例えば、
メチル、エチル、ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、２−
エチルヘキシル、ドデシル等のアルキｚ＋ｚ基、シクロ
プロビル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチル、シクロオクチル、ビシクロ［３，３，０１オク
チル、ビシクロ〔４，４，０〕デカニル、ビシクロ〔３
，１１１〕ヘプチル、ビンクロ〔２゜２．２〕オクチル
、ビシクロＣ３，，３，１〕ノノーニルアダマンチル、
ステロイド基等のシクロアルキル基、フェニル、ナフチ
ル、アンスラニル、ビフェニル基等のアリール基、ベン
ジル、フェネチル、フェニルプロピル、トリフェニルメ
チル基等のアラルキル基が楯げられ、また、アルキル置
換アリール基のアルキル基外覧、メチル基、エチル基、
プロピル基等の低級アルキル基が挙げられる。゛本発明
は例えば次のようにして容易に実施することができる。
メチル、エチル、ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、２−
エチルヘキシル、ドデシル等のアルキｚ＋ｚ基、シクロ
プロビル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘ
プチル、シクロオクチル、ビシクロ［３，３，０１オク
チル、ビシクロ〔４，４，０〕デカニル、ビシクロ〔３
，１１１〕ヘプチル、ビンクロ〔２゜２．２〕オクチル
、ビシクロＣ３，，３，１〕ノノーニルアダマンチル、
ステロイド基等のシクロアルキル基、フェニル、ナフチ
ル、アンスラニル、ビフェニル基等のアリール基、ベン
ジル、フェネチル、フェニルプロピル、トリフェニルメ
チル基等のアラルキル基が楯げられ、また、アルキル置
換アリール基のアルキル基外覧、メチル基、エチル基、
プロピル基等の低級アルキル基が挙げられる。゛本発明
は例えば次のようにして容易に実施することができる。
例えば、アリールチオナイトライド類を要すれば溶媒に
溶解若しくは懸濁し、−３０℃〜１０℃に保ち、理論量
のメルカプタン類を加え、数秒〜数時間反応する。反応
終了後は、希アルカリ水溶液等で洗浄する等の処理によ
り、未反応のメルカプタン類を除き、硫酸マグネシウム
等で乾燥後、要すれば溶媒を留去することにより、目的
とするジスルフィドを容易に得ることができる。
溶解若しくは懸濁し、−３０℃〜１０℃に保ち、理論量
のメルカプタン類を加え、数秒〜数時間反応する。反応
終了後は、希アルカリ水溶液等で洗浄する等の処理によ
り、未反応のメルカプタン類を除き、硫酸マグネシウム
等で乾燥後、要すれば溶媒を留去することにより、目的
とするジスルフィドを容易に得ることができる。
又、出発物質のアリールチオナイトライド類（ｄ、例え
ば、アリールメルカプタンを要すれば溶媒に溶解若しく
は懸濁し、−３０℃〜１０℃に保ち、理論量のＮｚ０４
ｆ、１加え数秒〜１時間反応させれば容易に得られる。
ば、アリールメルカプタンを要すれば溶媒に溶解若しく
は懸濁し、−３０℃〜１０℃に保ち、理論量のＮｚ０４
ｆ、１加え数秒〜１時間反応させれば容易に得られる。
アリールチオナイトライドａは単離しても、又、そのま
まメルカプタン七を加え本発明の反応を行ってもよい。
まメルカプタン七を加え本発明の反応を行ってもよい。
アリールチオナイトライド類は非常に活性な化合物であ
り、低温、遮光下で処理するのが好ましい。
り、低温、遮光下で処理するのが好ましい。
本発明において要すれば用いられる溶剤（は、通常非プ
ロトン性溶剤であり、反応温度で液状であり、出発物質
のチオナイトライド類と反応しないものが好筐しく用い
られ、例えば、ヘキサノ、オクタン等の飽和炭化水素類
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素加、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレン
クリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルイン
ブチルケトン、アセチルアセト７等のケトン類、アセト
酢酸゛エチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニト
リル、インブチロニトリル等のニトリル類、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロルエチレン等
のハロゲン化炭化水素翻、ジメチルホルムアミド、ニト
ロメタン等の含窒素化合物、二硫化炭素等の含硫黄化合
物等が挙げられる。これらの溶剤全単独で用いても、又
数種混合して用いても良い。
ロトン性溶剤であり、反応温度で液状であり、出発物質
のチオナイトライド類と反応しないものが好筐しく用い
られ、例えば、ヘキサノ、オクタン等の飽和炭化水素類
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素加、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、アニソール、エチレン
クリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルイン
ブチルケトン、アセチルアセト７等のケトン類、アセト
酢酸゛エチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニト
リル、インブチロニトリル等のニトリル類、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロルエチレン等
のハロゲン化炭化水素翻、ジメチルホルムアミド、ニト
ロメタン等の含窒素化合物、二硫化炭素等の含硫黄化合
物等が挙げられる。これらの溶剤全単独で用いても、又
数種混合して用いても良い。
即ち本発明方法では、アリールチオナイトライド類とメ
ルカプタン類とを種々選択し反応−させること（（より
、極めて容易にかつ定量的に望みの各種ジスルフィドが
得られる。従って通常は精製、単離等の操作も特に必要
とせず、とりわけ非対称ジスルフィドの製造方法として
極めて優れた画期的な方法である。
ルカプタン類とを種々選択し反応−させること（（より
、極めて容易にかつ定量的に望みの各種ジスルフィドが
得られる。従って通常は精製、単離等の操作も特に必要
とせず、とりわけ非対称ジスルフィドの製造方法として
極めて優れた画期的な方法である。
以上述べた様に、本発明方法は、香気成分、染料、医薬
、各種高分子添加剤等として有用なジスルフィド類を極
めて容易に提供する等、斯業に貢献する処極めて太きい
。
、各種高分子添加剤等として有用なジスルフィド類を極
めて容易に提供する等、斯業に貢献する処極めて太きい
。
参考例ｌ
Ｎ２Ｏ４／四塩化炭素溶Ｋ１．（２，Ｏｍ ｍｏｌ ／
２００ｔｔ（１）をチオフェノ−／ｌ／ ２２０ ”
；ｌ ／ エーテ／ｌ／ ３０ ｍｌ中Ｋ、−１０℃で
遮光して加える。フェニルチオナイトライドの収率は液
体クロマトグラフィー（充填剤：ポリスチレン、カラム
；９６２πｍ、４６ｃｒｎ、流出剤；メタノール、１５
０〜２００ ｋ！？／（ｉＬ）より定量的であった。又
、チオフェノール、ジフェニルジスルフィド等に相当す
る他のピークは全く認められなかった。
２００ｔｔ（１）をチオフェノ−／ｌ／ ２２０ ”
；ｌ ／ エーテ／ｌ／ ３０ ｍｌ中Ｋ、−１０℃で
遮光して加える。フェニルチオナイトライドの収率は液
体クロマトグラフィー（充填剤：ポリスチレン、カラム
；９６２πｍ、４６ｃｒｎ、流出剤；メタノール、１５
０〜２００ ｋ！？／（ｉＬ）より定量的であった。又
、チオフェノール、ジフェニルジスルフィド等に相当す
る他のピークは全く認められなかった。
ＩＲ（ＣＣＩ４）−コノ）＝ １ ９ １ ０ 〜１
９００，１６７０゜１５６５〜１５５０儂 ＵＶ （ＣＣｌ４ ）：λｍａｘ （ε）＝ ５７０
（４２） 、５３０（２７）、３８０（２６０，ｂｒｏ
ａｄ）＋２６１ｎｍ（＞ １０３） 同様てして、以下のチオナイトライド類を得る。
９００，１６７０゜１５６５〜１５５０儂 ＵＶ （ＣＣｌ４ ）：λｍａｘ （ε）＝ ５７０
（４２） 、５３０（２７）、３８０（２６０，ｂｒｏ
ａｄ）＋２６１ｎｍ（＞ １０３） 同様てして、以下のチオナイトライド類を得る。
ｐ−トリルチオナイトライド
ＩＲ（ＣＣ１４）： ν＝１９１０ ．１６０５
。
。
１５９５．１５４３ｃＩｒＬ
Ｕ’Ｖ’（ＣＣ１４）： λｍａｘ（εｌ＝５７４
（３５） ＋５３３（２１）、２６１ｎｍ （’
）１０３）ｐ−クロロフェニルチオナイトライド ■几（Ｃ，ＣＩ４ ） ニジ＝１９１０〜１．８８０
。
（３５） ＋５３３（２１）、２６１ｎｍ （’
）１０３）ｐ−クロロフェニルチオナイトライド ■几（Ｃ，ＣＩ４ ） ニジ＝１９１０〜１．８８０
。
１５９０〜１５４０ＣＴＬ
ＵＶ （ＣＣｌ４ ） ：λｍａｘ（ε）＝＝５６６
、５２６ 。
、５２６ 。
３８０ ｎｍ
実施例１゜
参考例１にて得たフェニルチオナイトライド四塩化炭素
溶液（２ｍ ｍｏｌ ７２０ ｍｌ ）中に、−１０℃
〜−５°Ｇで遮光し、ｔ−ブチルメルカプタン１８０ｍ
９（２，ｍｍｏｌ ） ／四塩化炭素１０ｍ１’＜加え
、数分攪拌後、フェニルチオナイトライドの暗赤色が消
えたら、５係炭酸水素ナトリウム水ｍ液で洗浄し、乾燥
し、啓媒を留去してフェニルｔ−ブチルジスルフィド３
２６ｍ９’（収率９８’％ ） ’＆得る。別途合成シ
たフェニルｔ−ブチルジスルフィドのガス２０マドグラ
フイー（充填剤：５Ｅ３０、カラム９６２ｍｍ ２
ｍ 、 １ｎｊｅｃｔｉｏｎ 、 ｄｅｔｅｃｔｏｒ
２４０℃。
溶液（２ｍ ｍｏｌ ７２０ ｍｌ ）中に、−１０℃
〜−５°Ｇで遮光し、ｔ−ブチルメルカプタン１８０ｍ
９（２，ｍｍｏｌ ） ／四塩化炭素１０ｍ１’＜加え
、数分攪拌後、フェニルチオナイトライドの暗赤色が消
えたら、５係炭酸水素ナトリウム水ｍ液で洗浄し、乾燥
し、啓媒を留去してフェニルｔ−ブチルジスルフィド３
２６ｍ９’（収率９８’％ ） ’＆得る。別途合成シ
たフェニルｔ−ブチルジスルフィドのガス２０マドグラ
フイー（充填剤：５Ｅ３０、カラム９６２ｍｍ ２
ｍ 、 １ｎｊｅｃｔｉｏｎ 、 ｄｅｔｅｃｔｏｒ
２４０℃。
キャリヤーガスＮ２）のピークと一致した。同様にして
第１表のジスルフィドを得た。
第１表のジスルフィドを得た。
第１表
収率は単離収率。
生成したジスルフィドはすべて別途合成した同定用標準
品のガスクロマトグラフィーと一致しれ特許出願人 和
光純薬工業株式会社
品のガスクロマトグラフィーと一致しれ特許出願人 和
光純薬工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 式 ｒｔ’−８ＮＯ印 なるチオナイトライド類と、 式 ■上２− Ｓ Ｈ（旧ガるメルカプ
タン類とを反応さ゛せることを特徴とする、 弐Ｒ’ −Ｓ −Ｓ ＝ Ｒ２１［ （式中、Ｒ１は印式の几１と、Ｒ２は〔旧式のＲ２と同
じ。）なるジスルフィド類の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1964984A JPS59172458A (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | ジスルフィド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1964984A JPS59172458A (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | ジスルフィド類の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2115377A Division JPS53108906A (en) | 1977-02-28 | 1977-02-28 | Preparation of organic thionitrites |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59172458A true JPS59172458A (ja) | 1984-09-29 |
| JPS6254785B2 JPS6254785B2 (ja) | 1987-11-17 |
Family
ID=12005085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1964984A Granted JPS59172458A (ja) | 1984-02-06 | 1984-02-06 | ジスルフィド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59172458A (ja) |
-
1984
- 1984-02-06 JP JP1964984A patent/JPS59172458A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6254785B2 (ja) | 1987-11-17 |
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