JPS59170574A - 液圧制御弁 - Google Patents
液圧制御弁Info
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- JPS59170574A JPS59170574A JP59042234A JP4223484A JPS59170574A JP S59170574 A JPS59170574 A JP S59170574A JP 59042234 A JP59042234 A JP 59042234A JP 4223484 A JP4223484 A JP 4223484A JP S59170574 A JPS59170574 A JP S59170574A
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- Japan
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- control
- passage
- pressure
- control piston
- control valve
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K11/00—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves
- F16K11/02—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit
- F16K11/06—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only sliding valves, i.e. sliding closure elements
- F16K11/065—Multiple-way valves, e.g. mixing valves; Pipe fittings incorporating such valves with all movable sealing faces moving as one unit comprising only sliding valves, i.e. sliding closure elements with linearly sliding closure members
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F15—FLUID-PRESSURE ACTUATORS; HYDRAULICS OR PNEUMATICS IN GENERAL
- F15B—SYSTEMS ACTING BY MEANS OF FLUIDS IN GENERAL; FLUID-PRESSURE ACTUATORS, e.g. SERVOMOTORS; DETAILS OF FLUID-PRESSURE SYSTEMS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- F15B13/00—Details of servomotor systems ; Valves for servomotor systems
- F15B13/02—Fluid distribution or supply devices characterised by their adaptation to the control of servomotors
- F15B13/04—Fluid distribution or supply devices characterised by their adaptation to the control of servomotors for use with a single servomotor
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K39/00—Devices for relieving the pressure on the sealing faces
- F16K39/04—Devices for relieving the pressure on the sealing faces for sliding valves
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/86493—Multi-way valve unit
- Y10T137/86574—Supply and exhaust
- Y10T137/8667—Reciprocating valve
- Y10T137/86694—Piston valve
- Y10T137/86702—With internal flow passage
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/8593—Systems
- Y10T137/87169—Supply and exhaust
- Y10T137/87177—With bypass
- Y10T137/87185—Controlled by supply or exhaust valve
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- Safety Valves (AREA)
- Multiple-Way Valves (AREA)
- Fluid-Driven Valves (AREA)
- Valve Device For Special Equipments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は特許請求の範囲1項の前段部分に記載した種類
の制御弁に関するものである。
の制御弁に関するものである。
ドイツ特許公報(DE−PS)2,152,880の第
12・1図から既知のこの種の制御弁では、各制御位置
で1制御弁は圧力入口から放出出口への連絡を妨げ、そ
のため圧力媒体の流れはゼロ圧力貫流の平面に対して位
置ずれしている作動平面内で制御ピストンを通して所望
圧力で送られる。圧力入口において、圧力媒体は制御ピ
ストンの周囲表面に全作動圧力を及ぼす一方、反対の放
出出口はゼロ圧力にある。特に、もしこの種の制御弁が
高圧液圧システムに使用されると、制御ピストンの動き
は主としてゼロ圧力貫流の平面内における不満足な圧力
1・・補償によって妨げられる。制御ピストン用の改良
された圧力補償はドイツ特許公報(DE−PS)2.1
52.880の第6図に示す配置により求められる。そ
の場合、ゼロ圧力貫流は1つの同じ軸線平面内でお互に
平行に制御ピストンを通って延びる1・2つの通路を通
して送られ圧力媒体は反対の流れ方向に前記2つの通路
を通って流れる。この結果、構造が極めて複雑になる。
12・1図から既知のこの種の制御弁では、各制御位置
で1制御弁は圧力入口から放出出口への連絡を妨げ、そ
のため圧力媒体の流れはゼロ圧力貫流の平面に対して位
置ずれしている作動平面内で制御ピストンを通して所望
圧力で送られる。圧力入口において、圧力媒体は制御ピ
ストンの周囲表面に全作動圧力を及ぼす一方、反対の放
出出口はゼロ圧力にある。特に、もしこの種の制御弁が
高圧液圧システムに使用されると、制御ピストンの動き
は主としてゼロ圧力貫流の平面内における不満足な圧力
1・・補償によって妨げられる。制御ピストン用の改良
された圧力補償はドイツ特許公報(DE−PS)2.1
52.880の第6図に示す配置により求められる。そ
の場合、ゼロ圧力貫流は1つの同じ軸線平面内でお互に
平行に制御ピストンを通って延びる1・2つの通路を通
して送られ圧力媒体は反対の流れ方向に前記2つの通路
を通って流れる。この結果、構造が極めて複雑になる。
更に、ゼロ圧力貫流に対して望1しくない高い流動抵抗
が生じる。更に圧力補償は不満足な状態が絖〈。という
のは制御−・1゜ピストンが制御位置でトルクを受ける
からである。゛もし複数の制御ピストンが共通の制御弁
ハウジングの個別の穴内に配置されると、圧力補償効果
は、異なった制御ピストンを同時に作動させた場合には
無効にされる。
が生じる。更に圧力補償は不満足な状態が絖〈。という
のは制御−・1゜ピストンが制御位置でトルクを受ける
からである。゛もし複数の制御ピストンが共通の制御弁
ハウジングの個別の穴内に配置されると、圧力補償効果
は、異なった制御ピストンを同時に作動させた場合には
無効にされる。
制御ピストンは、放出出口で周囲表面に作用する反対向
きの圧力の無い状態では周囲表面に作用する作動圧力に
よって動かなくなるらしいということが常に考えられて
きた。ドイツ特許公報(DE−PSJ2.910,02
9から既知の制御弁では、10ハウジング穴の壁はそれ
故圧力入口の正反対位置に凹所を形成され、前記凹所は
有効圧力面積を補償するように圧力入口に連絡している
。制御位置では、圧力入口にある圧力は反対方向ではあ
るが凹所内にもアク、従って圧力補償効果は実際に期I
5待されるべきである。しかしながら、ゼロ圧力貫流の
平面内で、満足な圧力補償はまだ行なわれないことが見
出された。これは多分法の事実、即ち高品質の材料と高
仕上精度の使用にもかかわらず、圧力媒体は制御ピスト
ンの周囲表面とハウジング2.。
きの圧力の無い状態では周囲表面に作用する作動圧力に
よって動かなくなるらしいということが常に考えられて
きた。ドイツ特許公報(DE−PSJ2.910,02
9から既知の制御弁では、10ハウジング穴の壁はそれ
故圧力入口の正反対位置に凹所を形成され、前記凹所は
有効圧力面積を補償するように圧力入口に連絡している
。制御位置では、圧力入口にある圧力は反対方向ではあ
るが凹所内にもアク、従って圧力補償効果は実際に期I
5待されるべきである。しかしながら、ゼロ圧力貫流の
平面内で、満足な圧力補償はまだ行なわれないことが見
出された。これは多分法の事実、即ち高品質の材料と高
仕上精度の使用にもかかわらず、圧力媒体は制御ピスト
ンの周囲表面とハウジング2.。
穴壁の間に分布し、この結果実質的に均等な圧力□が圧
力入口の区域を含む制御ピストンの全周囲表面上に存在
することに因る。ゼロ圧力放出出口の有効面積のみはこ
の圧力を及ぼされず、この結果単一方向の刀が制御ピス
トンをハウジング穴内で動かなくする傾向をもつ。
力入口の区域を含む制御ピストンの全周囲表面上に存在
することに因る。ゼロ圧力放出出口の有効面積のみはこ
の圧力を及ぼされず、この結果単一方向の刀が制御ピス
トンをハウジング穴内で動かなくする傾向をもつ。
それ故、本発明の目的は、特にゼロ圧力貫流の平面内で
の圧力補償がこの種の既知の制御弁に比して実質的に改
良されている如き前述の種類の制御弁を提供することに
ある。
の圧力補償がこの種の既知の制御弁に比して実質的に改
良されている如き前述の種類の制御弁を提供することに
ある。
この目的は特許請求の範囲1項中の特徴股部分に記載し
た特徴によって達成される。
た特徴によって達成される。
圧力入口にある圧力がいずれにしても制御ピストンの全
周囲表面上に分布していて、放出出口の有効面積にのみ
存在しないとの仮定の下で、特許1・請求の範囲1項記
載の特徴は、圧力平衡が放出出口に対向する圧力逃し区
域と放出出口自身において行なわれるという結果をもた
らす。単一方向の力の発生は驚くほど簡単な仕方で防止
される。かくして制御ピストンは、たとえ高流量及び/
又は、。
周囲表面上に分布していて、放出出口の有効面積にのみ
存在しないとの仮定の下で、特許1・請求の範囲1項記
載の特徴は、圧力平衡が放出出口に対向する圧力逃し区
域と放出出口自身において行なわれるという結果をもた
らす。単一方向の力の発生は驚くほど簡単な仕方で防止
される。かくして制御ピストンは、たとえ高流量及び/
又は、。
高システム圧力の場合でも、その制御位置から簡l単に
シフトすることができる。
シフトすることができる。
制御ピストン用の圧力補償は好適には、制御弁の基礎構
造を変えることなくまた製造コストヲ大きく増すことな
しに達成すべきである。このこと□は特許請求の範囲2
項によって容易に行なわれる。
造を変えることなくまた製造コストヲ大きく増すことな
しに達成すべきである。このこと□は特許請求の範囲2
項によって容易に行なわれる。
穴の内壁面の凹所及びこの凹所を放出出口に連絡するみ
その形成は簡単な、安価な仕方で行なうことができる。
その形成は簡単な、安価な仕方で行なうことができる。
制御ピストンの構造の変更は必要ない0
これに関連して重要なことは特許請求の範囲3項に記載
している通り、逃し区域が、制御ピストンの変位の結果
として制御弁の適切な働きに必要とされる流れ経路と交
差しないことを確実ならしめる構成である。
している通り、逃し区域が、制御ピストンの変位の結果
として制御弁の適切な働きに必要とされる流れ経路と交
差しないことを確実ならしめる構成である。
他の実施例は特許請求の範囲4項に記載する通りである
。この実施例では、制御ピストンの働きを妨害せずかつ
制御ピストンの長さを最適結果を得るように減少せしめ
られる如く制御ピストンの小さな変更全必要とするに過
ぎない。 2、特許請求の範囲5項記載の構
成により、凹所が□ハウジング中の流れ経路に交差する
ことが避けられる。
。この実施例では、制御ピストンの働きを妨害せずかつ
制御ピストンの長さを最適結果を得るように減少せしめ
られる如く制御ピストンの小さな変更全必要とするに過
ぎない。 2、特許請求の範囲5項記載の構
成により、凹所が□ハウジング中の流れ経路に交差する
ことが避けられる。
これに関連して重要なことは特許請求の範囲6項記載の
構成である。放出出口に而する貫通通路の開口の拡大に
よって、圧力入口が既に閉じたときに貫通通路と放出出
口間にはまだ開放連結が存在し、その結果貫通通路内の
圧力は出口みぞ内の圧力レベルに減少することができ、
このために逃し区域も圧力逃しされるということが保証
される。1・・特許請求の範囲7mは本発明の制御弁の
他の有利な実施例を規定している。これによれば、前記
制御弁は、作動流体制御装置の制御用のポンプ連結通路
と、少なくとも1つの消費部連結通路と、制御ピストン
中に形成した流れみそと、前記消費1部連結通路に関連
した戻し通路を具えている。この型式の制御弁では、戻
し通路はゼロ圧力にあるか、又は制御ピストンの下流側
でゼロ圧力貫流通路と夫々連絡する。夫々の戻し通路と
凹所との連結によって、逃し区域のゼロ圧力状態は簡単
に得、。
構成である。放出出口に而する貫通通路の開口の拡大に
よって、圧力入口が既に閉じたときに貫通通路と放出出
口間にはまだ開放連結が存在し、その結果貫通通路内の
圧力は出口みぞ内の圧力レベルに減少することができ、
このために逃し区域も圧力逃しされるということが保証
される。1・・特許請求の範囲7mは本発明の制御弁の
他の有利な実施例を規定している。これによれば、前記
制御弁は、作動流体制御装置の制御用のポンプ連結通路
と、少なくとも1つの消費部連結通路と、制御ピストン
中に形成した流れみそと、前記消費1部連結通路に関連
した戻し通路を具えている。この型式の制御弁では、戻
し通路はゼロ圧力にあるか、又は制御ピストンの下流側
でゼロ圧力貫流通路と夫々連絡する。夫々の戻し通路と
凹所との連結によって、逃し区域のゼロ圧力状態は簡単
に得、。
られる。
特許請求の範囲8項は本発明の制御弁の他の有利な実施
例を開示している。これによれば、ハウジング穴の端は
消費部連結通路に関連したかつ制御ピストンの端面によ
って消費部連結通路に対し゛てシールされる戻し通路を
形成する。凹所は戻し通路と絶えず連絡しており、従っ
て逃し区域はゼロ圧力状態に保たれる。
例を開示している。これによれば、ハウジング穴の端は
消費部連結通路に関連したかつ制御ピストンの端面によ
って消費部連結通路に対し゛てシールされる戻し通路を
形成する。凹所は戻し通路と絶えず連絡しており、従っ
て逃し区域はゼロ圧力状態に保たれる。
この型式の現存の制御弁では、ハウジングと制御ピスト
ンは非常に長さが短く、また重なり範囲1畦・も短い。
ンは非常に長さが短く、また重なり範囲1畦・も短い。
特許請求の範囲9項の有利な実施例では制御弁のこの現
存の構造は保持される。というのは、逃し区域も同様に
軸線方向長さが短いからである。
存の構造は保持される。というのは、逃し区域も同様に
軸線方向長さが短いからである。
本発明の制御弁の他の有利な実施例は特許請求1−・の
範囲10項に記載している。これによれば、ハウジング
中のゼロ圧力貫流の平面内に各消費部連結通路は、ハウ
ジング穴を貫通しかつ夫々の消費部連結通路と共通の平
面内に変位した連続戻しみぞに関連している。制御ピス
トン内に形成されてい−・・る流れみそは消費部連結通
路を制御ピストンの各゛制御位置で関連した戻しみそに
連結するのに適用される。この結果、短い長さのハウジ
ングと、短い長さの制御ピストンが得られ、すべての戻
しみその簡単な連結が、複数の制御弁をバッテリー配−
・置で組合わせる場合に得られる。特許請求の範囲10
項の特徴を有する制御弁では、制御ピストンのだめの圧
力補償がその構造を実質的に複雑にすることなしに達成
される。このためには、逃し区域の補償が行なわれる仕
方で放出出口に対向する1・・ハウジング穴に開口する
戻しみぞの口を単に形成するだけで十分である。
範囲10項に記載している。これによれば、ハウジング
中のゼロ圧力貫流の平面内に各消費部連結通路は、ハウ
ジング穴を貫通しかつ夫々の消費部連結通路と共通の平
面内に変位した連続戻しみぞに関連している。制御ピス
トン内に形成されてい−・・る流れみそは消費部連結通
路を制御ピストンの各゛制御位置で関連した戻しみそに
連結するのに適用される。この結果、短い長さのハウジ
ングと、短い長さの制御ピストンが得られ、すべての戻
しみその簡単な連結が、複数の制御弁をバッテリー配−
・置で組合わせる場合に得られる。特許請求の範囲10
項の特徴を有する制御弁では、制御ピストンのだめの圧
力補償がその構造を実質的に複雑にすることなしに達成
される。このためには、逃し区域の補償が行なわれる仕
方で放出出口に対向する1・・ハウジング穴に開口する
戻しみぞの口を単に形成するだけで十分である。
本発明の有用な実施例は特許請求の範囲11項に記載し
ている。逃し区域の効果を補償するこの区域の構成は、
もし複数のかかる制御弁が直列に1連結されかつ下流側
の制御弁の1つがその制御位置にあり、このために同じ
圧力、即ち作動圧力がその上流側のすべての制御弁の圧
力入口及び放出出口中に存在すれば、補償区域は、戻し
通路に向う圧力逃しのおかげで、圧力逃しされる逃し区
域、1、を補償する結果となp、その効果は別のやり方
で、゛制御ピストンの中立位置から制御位置への変位を
妨げるように制御ピストンに作用する単一方向の力を生
じることをもたらす。この逃し区域は制御ピストンの短
いストローク長さにわたってのみ、″即ち中立位置から
制御位置に向っての最初の移動中に、有効にならなけれ
ばならない。その後、即ち補償区域が戻し通路と連絡し
ないときには、それは制御ピストンの変位には何らの効
果をもたない。
ている。逃し区域の効果を補償するこの区域の構成は、
もし複数のかかる制御弁が直列に1連結されかつ下流側
の制御弁の1つがその制御位置にあり、このために同じ
圧力、即ち作動圧力がその上流側のすべての制御弁の圧
力入口及び放出出口中に存在すれば、補償区域は、戻し
通路に向う圧力逃しのおかげで、圧力逃しされる逃し区
域、1、を補償する結果となp、その効果は別のやり方
で、゛制御ピストンの中立位置から制御位置への変位を
妨げるように制御ピストンに作用する単一方向の力を生
じることをもたらす。この逃し区域は制御ピストンの短
いストローク長さにわたってのみ、″即ち中立位置から
制御位置に向っての最初の移動中に、有効にならなけれ
ばならない。その後、即ち補償区域が戻し通路と連絡し
ないときには、それは制御ピストンの変位には何らの効
果をもたない。
構造上、この目的は特許請求の範囲12項記載の如く最
も簡単な仕方で達成することができる。2つの凹所が円
錐形の横断面形状の盲穴として簡単に形成することがで
きる。それらを戻し通路と重ならせることによって、圧
力逃し状態にある逃し1゜区域の有効面積が、中立位置
において補償されることが保証される。
も簡単な仕方で達成することができる。2つの凹所が円
錐形の横断面形状の盲穴として簡単に形成することがで
きる。それらを戻し通路と重ならせることによって、圧
力逃し状態にある逃し1゜区域の有効面積が、中立位置
において補償されることが保証される。
特許請求の範囲13項は本発明の他の有用な実施例を開
示している。この場合には、少なくとも1つの周囲の圧
力補償みぞが夫々の消費部連結通路2.。
示している。この場合には、少なくとも1つの周囲の圧
力補償みぞが夫々の消費部連結通路2.。
て穴壁に設けられる。これらの圧力補償みぞは制御ピス
トンの周囲表面と穴の内壁面間に生じる最初に述べた圧
力を虹に均等に分布させることを意図しており、同時に
低圧を受けている他の部分から高圧金堂けている制御ピ
ストンの周囲表面の軸線方向の部分全精密に絶縁するこ
とを意図している。逃し区域と補償区域との協働に際し
ては、補償凹所の効果が制御ピストンの変位中、圧力補
償みぞが補償凹所と重なった状態において、減少せl・
・しめられるという結果が生じる。
トンの周囲表面と穴の内壁面間に生じる最初に述べた圧
力を虹に均等に分布させることを意図しており、同時に
低圧を受けている他の部分から高圧金堂けている制御ピ
ストンの周囲表面の軸線方向の部分全精密に絶縁するこ
とを意図している。逃し区域と補償区域との協働に際し
ては、補償凹所の効果が制御ピストンの変位中、圧力補
償みぞが補償凹所と重なった状態において、減少せl・
・しめられるという結果が生じる。
以下、本発明の実施例を図に基づき詳述する。
第1.2図に示す制御弁1は穴2をもち、この大円で非
回転の制御ピストン3が中立位置Nと第−及び第二の制
御位置Iと■の間を夫々シフトせ1しめられる。
回転の制御ピストン3が中立位置Nと第−及び第二の制
御位置Iと■の間を夫々シフトせ1しめられる。
いわゆるゼロ圧力貫流の平面ではく第1図〕、ハウジン
グ穴2に開口した圧力人口6に通じる圧力みぞ内に圧力
P′が存在する。圧力人口6の正反対位置で放出量ロア
が戻し流れシステムRに連結・、。
グ穴2に開口した圧力人口6に通じる圧力みぞ内に圧力
P′が存在する。圧力人口6の正反対位置で放出量ロア
が戻し流れシステムRに連結・、。
した又はゼロ圧力にある放出みぞ5に通じている。1制
御ピストン8は貫通通路8を形成され、中立位置Nで圧
力人口6と放出量ロア間を連絡せしめる。
御ピストン8は貫通通路8を形成され、中立位置Nで圧
力人口6と放出量ロア間を連絡せしめる。
ハウジング穴2の壁は穴2の長手軸線の方向に対称的に
配列されて圧力人口6の両側に放出出口″7に対向した
凹所9が形成される。ハウジング]に形成したみぞ]0
は各凹所9を放出量ロア又は放出通路5と夫々連絡せし
める。
配列されて圧力人口6の両側に放出出口″7に対向した
凹所9が形成される。ハウジング]に形成したみぞ]0
は各凹所9を放出量ロア又は放出通路5と夫々連絡せし
める。
この実施例では、ハウジング穴2の端は制御ピストン3
の端面]3で閉ざした戻し通路RとしてIn形成する。
の端面]3で閉ざした戻し通路RとしてIn形成する。
破線で示す如く、戻し通路Rは放出通路5と連絡可能で
らる。別法として、別個の放出ダクト全戻し通路のため
12に備えることができる。
らる。別法として、別個の放出ダクト全戻し通路のため
12に備えることができる。
第1図に11で示す破線では別の実施例として1・の流
れ連結部を示し、これは戻し通路Rに凹所9を連絡させ
るためにみぞ1oの代りに任意に備えることができる。
れ連結部を示し、これは戻し通路Rに凹所9を連絡させ
るためにみぞ1oの代りに任意に備えることができる。
制御弁の作動平面(第2図)は90’の角度だけゼロ圧
力貫流平面(第1図)から位置ずれしてい−,1゜る。
力貫流平面(第1図)から位置ずれしてい−,1゜る。
作動平面において、ポンプ連結通路はハウジング穴
口通路4は前記ポンプ連結通路12から分岐している。
通路12はポンプ圧力Pを有して、ポンプ連結みぞ12
と正反対に位置し、判御ピストン3の長手方向でそれか
ら位置がずれており、ハウジング1は消費部連結通路V
−1とv2を形成されており、これらの通路は適当な消
費部(図示せず)に通じている。
と正反対に位置し、判御ピストン3の長手方向でそれか
ら位置がずれており、ハウジング1は消費部連結通路V
−1とv2を形成されており、これらの通路は適当な消
費部(図示せず)に通じている。
作動平面においては、制御ピストン3はポンブト・連結
通路12に面する流れチャンバ14を形成され、第二の
流れチャンバ]4′f:それの正反対位置に形成され、
前記両流れチャンバ14は2つの流れみぞ15によって
お互に連結される。貫通通路8は2つの流れみぞ15間
にこれらと直角に交差1するように配置される。
通路12に面する流れチャンバ14を形成され、第二の
流れチャンバ]4′f:それの正反対位置に形成され、
前記両流れチャンバ14は2つの流れみぞ15によって
お互に連結される。貫通通路8は2つの流れみぞ15間
にこれらと直角に交差1するように配置される。
凹所9は第2図に破線で示される。これらの凹所は通路
10を経て図面に垂直に廷びる放出通路5と連絡する。
10を経て図面に垂直に廷びる放出通路5と連絡する。
第1.2図においては、ポンプ連結みぞ12の・、。
圧力は両流れチャンバ14内に存在する。圧力媒゛体は
圧力みぞ4に入り、通路8を経て放出通路5に流入し、
ポンプ圧力は逃される。同時に、凹所9は通路10又は
11を経て圧力を逃される。
圧力みぞ4に入り、通路8を経て放出通路5に流入し、
ポンプ圧力は逃される。同時に、凹所9は通路10又は
11を経て圧力を逃される。
制御ピストン3が図中で上向きに制御位置工に′・シフ
トされると直ちに、その周囲表面が圧力入口6をシール
するが、放出通路5は圧力逃し状態に留まる。この結果
、ポンプ連結みぞ】2内の圧力は急速に増大する。第2
図の右側の流れチャンバ14を通して、圧力媒体は消費
部連結通路v1に1(・流れる。同時に制御ピストン8
の下端面は消費部連結みぞv2の口から離れ、このため
圧力媒体はそこから下方戻し通路Rに流入できる。
トされると直ちに、その周囲表面が圧力入口6をシール
するが、放出通路5は圧力逃し状態に留まる。この結果
、ポンプ連結みぞ】2内の圧力は急速に増大する。第2
図の右側の流れチャンバ14を通して、圧力媒体は消費
部連結通路v1に1(・流れる。同時に制御ピストン8
の下端面は消費部連結みぞv2の口から離れ、このため
圧力媒体はそこから下方戻し通路Rに流入できる。
制御位置工でに、圧力は圧力入口6に作用し、制御ピス
トンの周囲表面に沿ってそのみちをさがI・す0これは
圧力が制御弁の全周にわたって分布する傾向にあること
を意味する。放出量ロアの位置でのみ、圧力は有効にな
らない。その理由は・この区域は圧力逃がしされている
からである。同様にして、圧力は凹所9では有効になら
ない。その2,1理由はこれらの凹所は圧力逃しされて
いるからで1ある。2つの凹所9(第2図)は従って放
出量ロアのゼロ圧力区域を補償するのに有効な制御ピス
トン8の周囲表面にゼロ圧力逃し区域を作り、そのやり
方は、制御ピストンの周囲表面に作用する圧力が単一方
向の力になることができないようなものとする。この結
果、制御ピストンはその制御位置からの変位に対して小
さな抵抗力を与える。
トンの周囲表面に沿ってそのみちをさがI・す0これは
圧力が制御弁の全周にわたって分布する傾向にあること
を意味する。放出量ロアの位置でのみ、圧力は有効にな
らない。その理由は・この区域は圧力逃がしされている
からである。同様にして、圧力は凹所9では有効になら
ない。その2,1理由はこれらの凹所は圧力逃しされて
いるからで1ある。2つの凹所9(第2図)は従って放
出量ロアのゼロ圧力区域を補償するのに有効な制御ピス
トン8の周囲表面にゼロ圧力逃し区域を作り、そのやり
方は、制御ピストンの周囲表面に作用する圧力が単一方
向の力になることができないようなものとする。この結
果、制御ピストンはその制御位置からの変位に対して小
さな抵抗力を与える。
第8図の実施例では、凹所9′(上方のものだけを示す
〕は軸線方向に狭い幅の弓状スロットとしl・・て形成
され、ハウジング穴壁の一部上で日間方向に延びる。こ
れらの凹所9′によって形成された全逃し区域は実質的
に放出量ロアの有効面積と同じ寸法をもつ。第1図の実
施例の如く、凹所9′はみぞ10を経て放出出口と連絡
でき、又は別法とし1てみぞ11を経て戻し通路と連絡
できる。
〕は軸線方向に狭い幅の弓状スロットとしl・・て形成
され、ハウジング穴壁の一部上で日間方向に延びる。こ
れらの凹所9′によって形成された全逃し区域は実質的
に放出量ロアの有効面積と同じ寸法をもつ。第1図の実
施例の如く、凹所9′はみぞ10を経て放出出口と連絡
でき、又は別法とし1てみぞ11を経て戻し通路と連絡
できる。
第4図の実施例では、ハウジング穴壁は凹所16を形成
され、これらの凹所はハウジング穴の端に接近して放出
出口の正反対側に位置し、ハウジング穴の内部に向って
かつ戻し通路Rに向って開口、。
され、これらの凹所はハウジング穴の端に接近して放出
出口の正反対側に位置し、ハウジング穴の内部に向って
かつ戻し通路Rに向って開口、。
しており、従ってこれらは常に圧力逃しされていする。
第5図の実施例では、ハウジング穴2内を摺動案内され
る制御ピストン3′の外周は凹所17を形成され、これ
は端面18まで延び、ハウジング穴゛・壁に向って開口
する。同様の凹所は制御ピストン8′の他端に設けてい
るが、図示はしていない。この実施例では、2つの凹所
17は放出量ロアの有効面積を補償するための逃し区域
を形成する。
る制御ピストン3′の外周は凹所17を形成され、これ
は端面18まで延び、ハウジング穴゛・壁に向って開口
する。同様の凹所は制御ピストン8′の他端に設けてい
るが、図示はしていない。この実施例では、2つの凹所
17は放出量ロアの有効面積を補償するための逃し区域
を形成する。
第6図の実施例では・放出量ロアの正反対にあILIる
制御ピストン8“の周囲表面部分はポケット形凹所18
を形成され、これはみぞ19を経て貫通通路8と連絡し
、この貫通通路8に圧力逃しされることによって放出量
ロアのゼロ圧力有効面積を補償するための逃し区域を形
成する。制御ピストン1′。
制御ピストン8“の周囲表面部分はポケット形凹所18
を形成され、これはみぞ19を経て貫通通路8と連絡し
、この貫通通路8に圧力逃しされることによって放出量
ロアのゼロ圧力有効面積を補償するための逃し区域を形
成する。制御ピストン1′。
がその制御位置の1つに行ったり離れたりして変位する
ときに貫通通路8自身の確実な圧力逃し全保証するため
に、放出量ロアに面する貫通通路の開口21は円錐形端
ぐシ20によって拡大され、貫通みぞ8と放出みぞ5間
の連絡は夫々貫通通路1.18と圧力入口みぞ4間の連
絡の設定前とその連絡□の中断後に、常に設定されるか
又は中断される。
ときに貫通通路8自身の確実な圧力逃し全保証するため
に、放出量ロアに面する貫通通路の開口21は円錐形端
ぐシ20によって拡大され、貫通みぞ8と放出みぞ5間
の連絡は夫々貫通通路1.18と圧力入口みぞ4間の連
絡の設定前とその連絡□の中断後に、常に設定されるか
又は中断される。
第7図の実施例では、制御ピストンの周囲表面に形成し
た凹所18は貫通通路8及び放出量ロアに、制御ピスト
ンの周囲表面の反対側に開口して一部いる通路19とこ
の周囲表面に形成した軸線方向に廷びたみぞ22を経て
絶えず連絡している。もし制御弁lがバッテリー型配置
をなして同様な制御弁と組合わされるならば上記配置は
特に有効となる。上記バッテリー型配置では、少なくと
もゼI・・ロ圧力貫通通路はそのように組合わせたすべ
ての制御弁を通って延びる。もしこの場合下流方向で最
後の制御弁がその制御位置の1つにあれば、放出量ロア
と圧力入口5仁すべて全作動圧力を受ける。しかしこの
圧力は凹所18内に作用し、その1・ため夫々の制御ピ
ストンは圧力補償され、これらのピストン全中立位置か
ら小さな力でシフトされるようになす。
た凹所18は貫通通路8及び放出量ロアに、制御ピスト
ンの周囲表面の反対側に開口して一部いる通路19とこ
の周囲表面に形成した軸線方向に廷びたみぞ22を経て
絶えず連絡している。もし制御弁lがバッテリー型配置
をなして同様な制御弁と組合わされるならば上記配置は
特に有効となる。上記バッテリー型配置では、少なくと
もゼI・・ロ圧力貫通通路はそのように組合わせたすべ
ての制御弁を通って延びる。もしこの場合下流方向で最
後の制御弁がその制御位置の1つにあれば、放出量ロア
と圧力入口5仁すべて全作動圧力を受ける。しかしこの
圧力は凹所18内に作用し、その1・ため夫々の制御ピ
ストンは圧力補償され、これらのピストン全中立位置か
ら小さな力でシフトされるようになす。
第8.9図は制御弁を示し、そのハウジング1“は戻し
みぞ27.29を形成されており、この戻・、・しみぞ
も/・ウジフグ穴2を通って延びている。放1出出ロア
の正反対の、ノ・ウジング穴壁の側に戻しみぞ27はノ
・ウジ/グ穴2に開口する円錐形又は円筒形の端ぐりz
5を形成されており、この端ぐり25の横断面積は第8
図にノ・ツチングした環状コ区域で示す如く、ノ・ウジ
ング穴壁の反対I11の戻しみそ部分29の開口の横断
面積より太きい。こうして、逃し区域が放出量ロアのゼ
ロ圧力有効区域を補償するために形成される。
みぞ27.29を形成されており、この戻・、・しみぞ
も/・ウジフグ穴2を通って延びている。放1出出ロア
の正反対の、ノ・ウジング穴壁の側に戻しみぞ27はノ
・ウジ/グ穴2に開口する円錐形又は円筒形の端ぐりz
5を形成されており、この端ぐり25の横断面積は第8
図にノ・ツチングした環状コ区域で示す如く、ノ・ウジ
ング穴壁の反対I11の戻しみそ部分29の開口の横断
面積より太きい。こうして、逃し区域が放出量ロアのゼ
ロ圧力有効区域を補償するために形成される。
戻しみぞ27,29のこの配置はノ1ウジングと1+1
制御ピストン8“の構造を所望の短い長さにすることを
可能にする。各消費部連結通路(消費部連結通路■1の
みを図示している)を制御ピストン3″′の制御位置で
戻しみぞ27,29と確実に連絡させるために、制御ピ
ストンはゼロ圧力貫流の1′・平面に貫通通路23を形
成されまた分岐通路24を形成され、この分岐通路は前
記貫通通路から延びかつ制御ピストン3″″の制御位置
で消費部連結通路■]と整列しており、その結果圧力媒
体はそこから戻し通路に流入できる。戻し通路27.2
9!、。
制御ピストン8“の構造を所望の短い長さにすることを
可能にする。各消費部連結通路(消費部連結通路■1の
みを図示している)を制御ピストン3″′の制御位置で
戻しみぞ27,29と確実に連絡させるために、制御ピ
ストンはゼロ圧力貫流の1′・平面に貫通通路23を形
成されまた分岐通路24を形成され、この分岐通路は前
記貫通通路から延びかつ制御ピストン3″″の制御位置
で消費部連結通路■]と整列しており、その結果圧力媒
体はそこから戻し通路に流入できる。戻し通路27.2
9!、。
(281
は作動平面に直角をなして延びるゼロ圧力貫流の゛平面
内に配置される(第8図)。
内に配置される(第8図)。
もしハウジングが第9図に示す如く貫通して延びる戻し
通路セクション27.29を形成されかつ制御弁が2つ
の消費部連結通路を、従って2つ・のかかる戻し通路を
更に備えれば、各逃し区域F26の寸法は放出量ロアの
有効面積のそれの半分を必要とするに過ぎない。もし、
他方では、唯1つの消費部連結通路と1つの戻し通路を
備えていれば、逃し区域F26は放出量ロアの有効面積
1・・と同じ寸法をもたねばならない。
通路セクション27.29を形成されかつ制御弁が2つ
の消費部連結通路を、従って2つ・のかかる戻し通路を
更に備えれば、各逃し区域F26の寸法は放出量ロアの
有効面積のそれの半分を必要とするに過ぎない。もし、
他方では、唯1つの消費部連結通路と1つの戻し通路を
備えていれば、逃し区域F26は放出量ロアの有効面積
1・・と同じ寸法をもたねばならない。
制御弁が他の戻し通路セクション29を備えることなし
に戻し通路セクション27のみをもてば、ハウジング穴
壁中の戻し通路27の開口面積は、もし唯】つのかかる
戻し通路と1つの消費部連結1・通路があるのであれば
、放出出口の有効面積と同じ寸法をもたなければならず
、又はもし2つの消費部連結通路と2つの戻し通路があ
れば、夫々放出出口の有効面積の半分の寸法をもたなけ
ればならない。
に戻し通路セクション27のみをもてば、ハウジング穴
壁中の戻し通路27の開口面積は、もし唯】つのかかる
戻し通路と1つの消費部連結1・通路があるのであれば
、放出出口の有効面積と同じ寸法をもたなければならず
、又はもし2つの消費部連結通路と2つの戻し通路があ
れば、夫々放出出口の有効面積の半分の寸法をもたなけ
ればならない。
(24を
第10図はハウジング]“を通るゼロ圧力貫流1千面で
とった制御弁の一実施例の縦断面図である。
とった制御弁の一実施例の縦断面図である。
入口通路4を通って入る圧力媒体は放出通路5に向う方
向に制御ピストン31Vに形成された通路8を流れる。
向に制御ピストン31Vに形成された通路8を流れる。
制御ピストン31Vはハウジング穴2内1を摺動案内さ
れ、中立位置、即ちゼロ圧力貫流位置にある状態で第1
0図に示されている。制御ピストンに形成した流れチャ
ンバ14はも51つの貫通通路15に連絡する。消費部
連結通路Vl 。
れ、中立位置、即ちゼロ圧力貫流位置にある状態で第1
0図に示されている。制御ピストンに形成した流れチャ
ンバ14はも51つの貫通通路15に連絡する。消費部
連結通路Vl 。
■2と整列した状態に、制御ピストン31Vは更に貫1
0通通路35を形成され、この通路35はゼロ圧力貫流
平面に垂直をなす平面内で圧力補償する働きをする。ハ
ウジング穴2は拡大端部分80i形成される。ハウジン
グ1は更に戻し通路Rを形成され、この戻し通路は拡大
端部分3oに隣接してハ(・ウジフグ穴2に交差してい
て、内部縁84を形成している。この目的については後
述する。各消費部連結通路v1 、 V2に隣接して、
ハウジング穴壁は周囲の圧力補償みぞ31を形成されて
いる。
0通通路35を形成され、この通路35はゼロ圧力貫流
平面に垂直をなす平面内で圧力補償する働きをする。ハ
ウジング穴2は拡大端部分80i形成される。ハウジン
グ1は更に戻し通路Rを形成され、この戻し通路は拡大
端部分3oに隣接してハ(・ウジフグ穴2に交差してい
て、内部縁84を形成している。この目的については後
述する。各消費部連結通路v1 、 V2に隣接して、
ハウジング穴壁は周囲の圧力補償みぞ31を形成されて
いる。
制御ピストンの周囲表面に形成されかつ放出量2・、ロ
ア用の補償区域として働く凹所18は傾斜通路□32を
経て制御ピストンの端面に連絡し、従って凹所]8Ff
、常に戻し通路圧力をもつ。凹1vV18と正反対にか
つ制御ピストンの端面に向う方向でそれに対して僅かに
位置がずれて、制御ピストンの周囲表面は逃し区域を補
償する区域を形成する凹所33を形成されている。前記
凹所は外方に開いた円錐彫金なす。制御ピストンの中立
位置では各凹所83は関連した戻し通路Rによって形成
される縁84に重なり、かくして制御ピストンの中立1
・・位置で放出量ロアに向って夫々の縁84から延びる
前記補償区域全形成する。それ故これらの区域は戻し通
路Rが夫々の凹所83の円周に重なることによって形成
されるレンズ形の区域を全円から除去した形状をもつ。
ア用の補償区域として働く凹所18は傾斜通路□32を
経て制御ピストンの端面に連絡し、従って凹所]8Ff
、常に戻し通路圧力をもつ。凹1vV18と正反対にか
つ制御ピストンの端面に向う方向でそれに対して僅かに
位置がずれて、制御ピストンの周囲表面は逃し区域を補
償する区域を形成する凹所33を形成されている。前記
凹所は外方に開いた円錐彫金なす。制御ピストンの中立
位置では各凹所83は関連した戻し通路Rによって形成
される縁84に重なり、かくして制御ピストンの中立1
・・位置で放出量ロアに向って夫々の縁84から延びる
前記補償区域全形成する。それ故これらの区域は戻し通
路Rが夫々の凹所83の円周に重なることによって形成
されるレンズ形の区域を全円から除去した形状をもつ。
特にもし複数のかかる制御弁のハウジング】“がバッテ
リー型配置に組合わされるならば、この配置では整列し
たみそ4.5が連続したゼロ圧力貫流通路を形成し、整
列した戻し通路Rが連続した戻し通路全形成しているが
、下流の制御弁の変位−、・は通路4.5を生じ、その
上流は全作動圧力にあlる。上記の如く、この作動圧力
は上流の制御弁中の制御ピストンの周囲に沿って成る程
度分布する。
リー型配置に組合わされるならば、この配置では整列し
たみそ4.5が連続したゼロ圧力貫流通路を形成し、整
列した戻し通路Rが連続した戻し通路全形成しているが
、下流の制御弁の変位−、・は通路4.5を生じ、その
上流は全作動圧力にあlる。上記の如く、この作動圧力
は上流の制御弁中の制御ピストンの周囲に沿って成る程
度分布する。
凹所18によって形成される逃し区域は戻し通路に連絡
し、それ故圧力逃しされるので、この圧力゛・は凹所1
8の反対側で制御ピストンに作用する単一方向の力を生
じ、この力は中立位置から制御位置への制御ピストンの
変位を著しく妨げるのに有効となる。実験において、こ
うして動かなくなった制御ピストンの変位は、特に中立
位置からのそ1゜の変位の第一段階中に、制御ピストン
の微細調節を妨げる比較的大きな脱出力を必要とするこ
とが分かった。しかしながらこの望ましくない効果は凹
所18の区域が戻し通路と連絡する凹所33により補償
され、それ故に圧力逃しされることによ1、って補償さ
れることによって避けられる。この結果、制御ピストン
に作用する単一方向の力は生じることが防止され、この
ため制御ピストンをその中立位置からシフトさせるのに
小さな力を必要とすることになる。中立位置からの制御
ピストンの、1゜初期変位の後、凹所33の1つが夫々
の戻し通路゛と連絡することは中断される。しかしこの
ことは重要なことではない。というのは制御ピストンの
その後の変位はもはや過度の力を必要としないからであ
る。
し、それ故圧力逃しされるので、この圧力゛・は凹所1
8の反対側で制御ピストンに作用する単一方向の力を生
じ、この力は中立位置から制御位置への制御ピストンの
変位を著しく妨げるのに有効となる。実験において、こ
うして動かなくなった制御ピストンの変位は、特に中立
位置からのそ1゜の変位の第一段階中に、制御ピストン
の微細調節を妨げる比較的大きな脱出力を必要とするこ
とが分かった。しかしながらこの望ましくない効果は凹
所18の区域が戻し通路と連絡する凹所33により補償
され、それ故に圧力逃しされることによ1、って補償さ
れることによって避けられる。この結果、制御ピストン
に作用する単一方向の力は生じることが防止され、この
ため制御ピストンをその中立位置からシフトさせるのに
小さな力を必要とすることになる。中立位置からの制御
ピストンの、1゜初期変位の後、凹所33の1つが夫々
の戻し通路゛と連絡することは中断される。しかしこの
ことは重要なことではない。というのは制御ピストンの
その後の変位はもはや過度の力を必要としないからであ
る。
図示の実施例では凹所18は通路32と連絡する盲穴と
して形成される。制御ピストンの長手方向のスペースを
少なくするために凹所は第3図の実施例のスロット9に
類似したものとして形成するか又は複数の小さな半径方
向の盲穴を周囲方向1・・に並べて配置して、所望の補
償区域を形成するのに十分の大きさの組合せ断面損金も
つようにすることによって形成することができる。これ
らの盲穴のすべては通路32との接続流れ連結部をもつ
。
して形成される。制御ピストンの長手方向のスペースを
少なくするために凹所は第3図の実施例のスロット9に
類似したものとして形成するか又は複数の小さな半径方
向の盲穴を周囲方向1・・に並べて配置して、所望の補
償区域を形成するのに十分の大きさの組合せ断面損金も
つようにすることによって形成することができる。これ
らの盲穴のすべては通路32との接続流れ連結部をもつ
。
第1図は制御弁の第一実施例の縦断面図;第2図1−j
90°の角度向わした第1図の制御弁の断面図; 第3図は他の実施例の部分断面図; 第4図は更に他の実施例の部分縦断面図;、、1第5図
は別の実施例の部分縦断面図; ゛第6図は他の
実施例の部分縦断面図; 第7図は更に他の実施例の部分縦断面図;第8図は第2
図に示したものと一致した制御弁の実施例の部分縦断面
図: 第9図は90’の角度向わした第8図の制御弁の部分縦
断面図; 第10図は更に他の実施例の断面図である。 l・・制御弁 2・・・穴 3・・・制御ピストン 4・・・圧力みぞ
105・・・放出みぞ 6・・・圧力入ロア
・・・放出出口 8・・・貫流通路9・・・凹
所 lO・・・みぞ12 、14・・・流
れチャンバ15・・流れみぞ16 、17 、18・・
・凹所 19・・・通路21・・・開口
24・・・分岐通路27 、29・・・戻しみぞ
30・・・拡大端部分81・・・圧力補償みぞ 33
・・・凹所8Φ・・・内部縁。 Fig、 I Fig、2Fig、3
Fig、4Fig、IO −433−
90°の角度向わした第1図の制御弁の断面図; 第3図は他の実施例の部分断面図; 第4図は更に他の実施例の部分縦断面図;、、1第5図
は別の実施例の部分縦断面図; ゛第6図は他の
実施例の部分縦断面図; 第7図は更に他の実施例の部分縦断面図;第8図は第2
図に示したものと一致した制御弁の実施例の部分縦断面
図: 第9図は90’の角度向わした第8図の制御弁の部分縦
断面図; 第10図は更に他の実施例の断面図である。 l・・制御弁 2・・・穴 3・・・制御ピストン 4・・・圧力みぞ
105・・・放出みぞ 6・・・圧力入ロア
・・・放出出口 8・・・貫流通路9・・・凹
所 lO・・・みぞ12 、14・・・流
れチャンバ15・・流れみぞ16 、17 、18・・
・凹所 19・・・通路21・・・開口
24・・・分岐通路27 、29・・・戻しみぞ
30・・・拡大端部分81・・・圧力補償みぞ 33
・・・凹所8Φ・・・内部縁。 Fig、 I Fig、2Fig、3
Fig、4Fig、IO −433−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 L 複数の制御弁がバッテリー型配置をなして組合わさ
れており、ハウジング穴(2)’に形成されたハウジン
グ(1,1’、1’Jと、制御ピストン(a、a’、f
’ 、s”、 s”、 5lv)k異見、前記制御ピス
トンは作動媒体流を制御するためのゼロ圧力質流のため
の中立位置と少なくとも1つの制御位置間で前記ハウジ
ング大円を案内され、また前記ハウジング大円に開口す
る圧力入口(4)と、前記圧力入口に整列せしめられる
前記制御ピストン中の貫流通路(8)と、ゼロ圧力貫流
位置で前記貫流通路を経て前記圧力入口と連絡する放出
出口(5)を具えている、特に高圧液圧システムに使用
する液圧制御弁において、実質的に前記放出出口(5)
の正反対位置に、前記放出出口(5)の有効面積を補償
するため前記制御ピストンの周囲表面のために少なくと
も1つの逃し区域(9゜9’、16,17,18.F2
6)が設けられシ前記逃し区域の有効面積は前記放出出
口(7)の有効面積と実質的に同じ大きさとすることを
特徴とする液圧制御弁。 2、特許請求の範囲1記載の制御弁において、□前記放
出出口(7)の正反対側にハウジング穴壁は前記ハウジ
ング穴(2)の長手方向に対称的に位置ずれしたかつ前
記ハウジング穴(2)に向って開口する2つの凹所(9
)を形成されており、前記凹所(9)は前記ハウジング
(1)1・・に形成した通路(lO)を経て前記放出出
口(7)に連絡していることを特徴とする制御弁。 & 特許請求の範囲1又は2記載の制御弁において、前
記圧力入口(6)とハウジング穴壁に形成した各前記凹
所(9,9’)間の軸線方向短l・離は前記中立位置(
N)と各前記制御位置(T。 ■〕間の前記制御ピストン(3)のストロークより大き
いことを特徴とする制御弁。 4− 特許請求の範囲1記載の制御弁において、前記制
御ピストン(3)の周囲表面は前記制御、。 ピストンに形成した通路(19,22)’に経て゛前記
貫通通路(8)と連絡する凹所(18)を形成されてい
ることを特徴とする制御弁。 五 特許請求の範囲4記載の制御弁において、前記制御
ピストン(8)の中立位置において、゛前記圧力入口(
6)に面する前記貫通通路(8)の開口と前記制御ピス
トンの周囲表面に形成した前記凹所(1,6、17、1
8)の各々間の軸線方向距離は前記中立位置(N)と各
制御位置(+、I+)間の前記制御ピストン(3,3つ
のス10トロークより大きいことを特徴とする制御弁。 & 特許請求の範囲1.4及び5の何れか1つに記載の
制御弁において、前記放出出口(7つに面する前記貫通
通路(8)の開口(21)は前記圧力入口(6)に面す
る前記貫通通路(8)のl)開口より大きな軸線方向幅
をもつことを特徴とする制御弁。 フ、 特許請求の範囲1乃至6の何れか1つに記載の制
御弁において、作動流体制御手段を含み、前記作動流体
制御手段は、前記ハウジン2・・グ穴(2)に開口する
ポンプ連結通路(12)とき前記制御ピストンに形成し
た流れみぞ(14゜]5)と、各消費部連結通路に関連
した戻し通路(R)を含み、前記凹所(9,9’、16
.18)が隣接した戻し通路(R)と連絡していること
を特徴とする制御弁。 8、 特許請求の範囲1乃至7の何れか1つに記載の制
御弁において、前記消費部連結通路(Vl 、V2)に
関連した前記戻し通路(R)は@記ハウジング穴(2)
の端部分によって形1・・成され、前記戻し通路は前記
制御ピストン(8)の端位置(18)によって前記消費
部連結通路からしゃ断されるようになっており、前記ハ
ウジング穴(2)中に形成した凹所(]6)は前記ハウ
ジング穴(2〕の端位置に連絡するlか又は前記制御ピ
ストン(3)の周囲表面に形成した凹所(17,18)
は前記制御ピストンの隣接した端位置(18)と又は関
連した戻し通路と夫々連絡することを特徴とする制御弁
。 9、 特許請求の範囲1乃至8の何れか1つに記−、。 載の制御弁において、各凹所(9,18,lはハウジン
グ穴壁の又は前記制御ピストンの周囲表面の大部分にわ
たり延在する減少した軸線方向幅の周囲スロットとして
夫々形成されるか、又は複数の小半径の穴からなること
を特′徴とする制御弁。 10、 特許請求の範囲1乃至9の何れか1つに記載
の制御弁において、前記ハウジング(1′〕のゼロ圧力
貫流平面内において、各消費部連結通路(■1)は前記
消費部連結通路と同じ軸lO線線面面内前記ハウジング
穴(2)を通して延在する連続した戻し通路(27)と
関連しており、前記制御ピストン(3″′つは前記制御
ピストンの各制御位置で消費部連結通路を前記戻し通路
と連絡させる流れ通路(28,24)を1へ形成されて
おジ、前記放出出口(7)の正反対に位置した前記ハウ
ジング穴(2)への前記戻し通路(27)の開口(25
)は逃し区域(F26)によって前記放出出口(7)と
同じ側に位置した前記ハウジング穴内の前記戻し通路(
29) !、・の開口より大きく、前記逃し区域(F2
f3)の□大きさは唯1つの戻し通路を具えた場合には
放出出口(7)の有効面積に一致し、また2つの戻し通
路を2つの消費部連結通路と組合わせて具えた場合には
前記放出出口(7)の有効□面積の半分に一致すること
を特徴とする制御弁。 ■L %許請求の範囲1乃至10の何れか1つに記載
の制御弁において、ハウジング穴(2)又に前記制御ピ
ストン(3)の周囲表面は前記逃し1・・区域(9,9
’、16,17,18.lの有効面積を補償するための
かつそれの正反対に位置した補償区域(A38)全形成
されており、前記補償区域は前記制御ピストン(3)の
少なくとも中立位置CN)において前記戻し通路(R)
中1に存在する圧力を供給されることを特徴とする制御
弁。 1区 特許請求の範囲11記載の制御弁において、前記
補償区域は前記制御ピストンの周囲表面の開放した凹所
の形をなしており、前記凹所−、・は前記制御ピストン
の中立位置で前記戻し通゛路に重なっていることを特徴
とする制御弁。 1& 特許請求の範囲1乃至12の何れか1つに記載の
制御弁において、少なくとも1つの周囲方向に延びる圧
力補償みぞ(81〕が各消費′部連結通路(Vl 、V
2)と前記ポンプ連結通路間でハウジング穴壁に形成さ
れておりかつ前記消費部連結通路にずっと接近して位置
しており、前記逃し区域を形成する前記制御ピストンの
周囲表面の凹所並びに前記補償区域10を形成する前記
制御ピストンの周囲表面の凹所は制御位置に向う前記制
御ピストンの変位中に少なくとも1つの前記圧力補償み
ぞ(31)上を通る制御ピストンの周囲表面上の軸線方
向の位置まで延在することを特徴とする制(I111X
弁。
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---|---|
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