JPS59168354A - 容量式薄膜湿度センサの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、′容量式薄膜湿度センサの製造方法に関し、
さらに詳細には金属化合物薄膜、特にアルミナ薄膜をイ
オンブレーティング法にヨッて電極上に形成させる容量
式薄膜湿度センサの製造方法に関するものである。

最近のエレクトロニクスの発達に伴ない、各棟のセンサ
の開発が盛んに行なわれている。湿ｌ１ｉｌＩ］ｌｊ御
の面から考慮すると、工業分野だけでなく医療分野、家
峨を含め住宅、ビルディングの分野にまで拡張さｎつつ
ある。

使用さｎる材料から大別すると、電解質系。

有機物系および金属酸化物系に分けらｎｌ、それぞれの
材料の湿度による電気的な変化を利用したものが多い。

電解質系としては、塩化リチウムを用いるものがあり、
有機物系では高分子材料の吸湿性を利用したものがあげ
られる。金属酸化物系は上記材料と比べると物理的、化
学的に比較的安定していると考えられているが、どれも
長所、短所があり、解決しなければならない問題は多い
。

一般に電気湿度計は、湿度条件の変化による電気的特性
の変化を相対湿度として表示する一種のトランスジュー
サとして理解され、その基本原理としては磁気抵抗の変
化を利用するものと、静電容量の変化を測定するものと
の二種類に大別される。このうち後者の静電容量式、す
なわち感湿部が吸湿したときの静電容量の変化を測定し
て湿度を求める型式の湿度センサでは、従来より陶磁器
板やガラス繊維、アルマイ）ｄ板を特殊加工したもの等
が誘電体として用いられているが、測定感度が劣るため
実用化上問題があるとされている。また、感湿部として
機能する誘電体として有機高分子膜を使用する湿度セン
サが近年提案されており、この種の技術は、例えば特開
昭４９−７４５８８号、ｌ侍開昭５５−６６７４９号及
び米国特許第３４５０９４１号明細書に開示さｎ、てい
る。

ところで一般に、有機高分子膜からなる誘電体を感湿層
として使用する場合、この誘電体は湿度に対する応答性
に優れると共に反復再現性が良好であシ、また湿度対容
量の相対関係が極めて直線的に表われるので測定精度が
向上する等の利点を有する。しかしながら他方では、前
記有機高分子膜ｇ電体け、過ばの乾燥条件下、高湿度条
件下に長時間晒されると基板からの剥落等を生じて、感
湿特性が劣化する難点がある。

甘た、有機高分子膜は有機解削（例えばアセトン）によ
り侵され易いので、印刷工場、塗料工場等のように有機
浴剤蒸気が多址に存在する雰囲気下では悪影響を受ける
ため使用に供し得ない等の難点が指摘さ九る。

そこで、高温条件や有機溶剤雰囲気等の悪環境下でも好
適に使用し得る、機械的強度に優れた容量式湿度センサ
の実用化が業界において強く要望されている。この種の
要望に応えるものとして、例えば特開昭５２−１２４９
７号Ｆ金属酸化膜感湿素子」や、特開昭５３−９５９５
号「アルミニウムの陽極酸化皮膜を使用した含湿量検出
素子」等が提案されている。これは、いずれもアルミニ
ウム板等の基板自体に電解その他の手段によって導電性
の多孔性金属酸化皮膜を形成するものであるが、素子表
面が粗いため測定誤差が生じ易く、゛またこの全１ＩＩ
４酸化皮膜自体の機械的強度も充分でない等、依然とし
て前記要請を満足するものではなかった。

そこで２本出願人は前記諸欠点を解決するべく梅々研究
および試作を重ねた結果、基板自体に酸化や電解により
被膜を形成することに代えて、カラス等の酸化になし捷
ない絶縁基板に金属化合物（例えば金属酸化物、金属窒
化物）の膜を、高周波磁界内に対応金属の蒸気と酸素ま
たは窒素若しくはアンモニアガスを導き、イオンブレー
ティングによシ形成するようにすれば、得られる金属化
合物膜は極めて大きな強度を有するので、前述した苛酷
な環境下での使用に充分劇え、しかも膜面も平滑で密と
なるので、応答性、反復再現性に′＆れて測定精１Ｍも
向上することを突き止め、特願昭５５−１７６５０４号
として出願した（特開昭５７−１０９３１９号参照）。

さらに、本出願人は、その後、高真空下に酸素とアルゴ
ンとの混合ガスまたはアンモニアガス若しくは窒素と水
素の混合ガスを尋人しつつ高周波電界内で対応金属をイ
オンガンによりスパッタしてイオンブレーティングさせ
る方法が好適なこと、更に、金属化合物ノ摸を機械的処
理。

例えばプラズマエツチングにより粗面化すれば応答性が
顕著に向上する事実を見出し、その結果機械的強度に優
ｊ１、高温条件や有機溶剤雰囲気等のめ酷な悪環境下で
も性能劣化を呈することなく、応答が極めて良好で正確
な湿度測定をなし得る容量式湿度センサおよびその製造
方法につき特願昭５６−１’９４４２１号として出願し
ｆｃ　（その開示を参考のため、ここに引用する）。

上記特願昭５６−１９４４２１号の発明の製造方法によ
れば、金属化合物膜全基板に形成する方法としては、高
周波電界内でイオンガンによるイオンブレーティングが
好適に使用され、得られた金属化合物膜は同じ装置によ
りプラズマエツチングで粗面化される。従ってこの発明
に係る湿度センサの製造方法は、非導電性基板を真空形
成室中の高圧電極に支持して高電圧を印加し、真空形成
室内の不純気体を高真空ｔこすることＶこよシ除去し、
外部より所定の気体を導入し、真空形成室内に高周波電
界を形成した後、前記真空形成室中に配置した金属板若
しくは金属化合物板をイオンガンよりのイオンによりス
パッタして金属イオン若しくは金属化合物イオンを生成
せしめ、金属イオンは導入した気体により金属化合物イ
オンとなし、前記非導電性基板と電極上とに金属化合物
皮膜を独立して形成後、引続き前記高電圧の印加を高め
て前記金属化合物皮膜をプラズマエツチングせしめて粗
面化し、前記粗面上に湿気透過性の金属皮膜を形成する
ことからなっている。

本発明は、上記容量式薄膜湿度センサの製造方法の改良
に関するものである。

此の度、本発明者は上記の容量式薄膜湿度センサの製造
方法において、イオンブレーティングを特定の比率にお
けるアルゴンと酸素との共存下に行なえば湿度センサの
感湿特性を任意に変化させうろことを突き止めた。

金属酸化物系を感湿部としたセンサに着目してみると、
その作製方法としては、焼結法、陽極酸化法、反応性イ
オンブレーティング法などがある。

本発明では反応性イオンブレーティング法によって作ら
力、ｆＣ金属酸化物薄膜（アルミナ薄膜）を用いて、高
湿度雰囲気（≧８０多Ｒ１）ｌ、　）　　においても安
定に動作する容量式薄膜湿度センサを目的とする。

イオンブレーティング法は、直流イオンブレーティング
法と高周波イオンブレーティング法とに大別される。

高周波イオンブレーティング法は、直流イオンブレーテ
ィング法に比べて、イオン化効率が良いため、高真空中
（１０〜１０　　Ｔｏｒｒ）　　でも放送を持続させる
ことが出来る。本発明の薄膜作製では高周波放電を用い
た反応性イオンブレーティングを用いる。本発明によれ
ば通常のイオンブレーティング法で使用するアルゴン雰
囲気中に特定割合の酸素を共存させることにより、優ね
た金属化合物薄膜を作製すると共に湿度センサの感湿特
性を所望用途に合せて任意に変化させることを特徴とす
る。

したがって、本発明の主たる目的は、非導電性基板上に
下部電極を対向配置し、前記下部電極上に湿気に活性な
金属化合物薄膜をイオンブレーティング法によ）独立し
て形成し、前記金属化合物薄膜上に湿気透過性の金属皮
膜からなる上部′−極を形成する容量式薄膜湿度センサ
の製造方法において、前記イオンブレーティングを特定
の比率にお・けるアルゴンと酸素との共存下に行なって
湿度センサの感湿特性を任意に変化させることを特徴と
する容量式薄膜湿度センサの製造方法を提供するにある
。

本発明における金属化合物薄膜は、マグネシアまたはア
ルミナの薄膜としうるが、特にアルミナ薄膜が好適であ
る。

前記したように、イオンブレーティング法には直流イオ
ンブレーティング法と高周波イオンブレーティング法と
があるが、本発明においては高真空中での高周波イオン
ブレーティングが好適に使用さガる。

このイオンブレーティングを行なうための雰囲気として
は、従来におけるようにアルゴンと不可避酸素との混合
物とするのでなく、本発明においては寧ろ積極的に酸素
を特定割合で共存させ、極端な場合には酸素のみの存在
下でも可能である。したがって、本発明の方法において
イオンブレーティングは酸素対アルゴンの比率’ｅ１０
：０乃至１：１、好ましくは６：１として行なわ力る。

以下、本発明による’ｆｌｉｔ式薄膜湿度センサの製造
方法およびそれにょシ製造される湿度センサにつき添付
図面を参照して説明する。

第１図及び第２図は、本発明に係る容量式湿度センサの
一実施例を示すものであって、８照符号１Ｄは約１Ｘｉ
、５ｃｍの寸法に裁断されたガラス基板を示す。基板と
してはサファイヤ板が特に優れている。このガラス基板
１０の表面上には、第１図に示すように一対の下部電極
１２゜１２が対向的に蒸着、ホトエツチング等の手段に
より約１μの厚さに形成され、この場合前記下部電極は
櫛形とし、各櫛歯が相互に接触することなく噛み合うよ
うなパターンとなるよう配設するのが好適である。なお
、この下部′−極としては、化学的に不活性な金または
パラジウム等が好適な材料として使用される。このよう
に下部電極１２，１２を形成した基板１０に、後述する
ように高周波電源を使用したイオンブレーティング法を
夾施し、湿気に活性な金属化合物膜１４（例えば金属酸
化物膜、特にアルミナ）を約１〜２μの厚さで基板ｒ（
対し独立して形成する。更に、この得られた金属化合物
膜１４の表面１６上に、湿気透過性で化学的に安定な金
属、例えば金皮Ｎ−またはパラジウム皮膜を厚さ２００
〜２５０λに蒸着形成して上部電極１８とする。これに
よって、機械的強度が極めて筺れかつ応答性の極めて良
好な湿度センサが得られる。

次に、下部電極１２．１２を形成した基板１０に金属化
合物膜１４を形成する方法について説明する。第６図は
、この方法を実施する装置の概略を示すものであって、
外界から気密に遮断町ＩＩｋな真空形成室（ペルジャー
）２０中に、基板保持電極２２、イオン化電極２４およ
び金属丑たけ金属化合物（特にアルミニウム）を蒸発さ
せる蒸発源２６が図示のように配置されている。前記基
板保持電極２２は、直流電源２８に接続され１例えば−
０，０５〜ｉ　ｋＶの直流電圧が印加されるよう構成さ
れ、またイオン化電極２４は高周波電源６ＤＩｆＣ接続
され、例えば１３．５６Ｍｔ４ｚの２００〜８００Ｗの
高周波電力が印加されるよう構成さｔｌ−る。また、蒸
発源２６は、被蒸発物質（アルミニウム）′ｆｒ：直接
電子線でＴＩＥ撃して加熱する方式のものが好適に採用
され、電子線を加熱するための電源６２に接続される。

この場合、前記蒸発源２６は上部に開口部６４を設けた
シールド６６で囲繞する。さらに、真空形成室２ｏには
、内部を真空に保持するための排気口３８が適宜設けら
れ、所定の排気系に連通接続さｎ−る。同様に、真空形
成室２０に／′ｉ、υ−クバルブ４Ｑを介してガス導入
管４２が連通接続さｎ、るイ 操作に際しては、基板保持電極２２の下面に前記下部電
極１２．１２（第１図参照）を形成した基板１ｏを水平
に固定し、蒸発源２６にアルミニウムを取付けた後、真
空形成室２ｏを気密に閉成する。次いで、排気系の作用
下に真空形成室２Ｑ中の不純気体を除去し、真空度が１
０〜１０　　Ｔｏｒｒ　Ｋ違したところでリークバルブ
４０を開放し、所定のガス源より本発明で特定した比率
の酸素とアルゴンとの混合ガスを室２０中に導入し、真
空Ｊｆｉを約８　Ｘ　１０−５Ｔｏｒｒに安定させ、前
記基板保持電極２２に一５０〜１００Ｖの直流電圧を印
加する。さらに、イオン化電％２４（／ＣＪ、Ｊ−１３
，５６ＭＨｚ　’ｔｌ’２００〜８００Ｗの高周波電力
を印加すると共に蒸発源２６を加熱してアルミニウムイ
オンを生成し、このアルミニウムイオンを前記混合ガス
との反応下に基板１０並びに下部電極１２上に酸化アル
ミニウム（アルミナ）皮１ｆｉｋ形成する。そして、４
０〜５０分のイオンブレーティングによシアルミニウム
化合物の皮膜厚さＦｉｌ乃至２μとなる。

この場合、蒸発源の加熱温度、各電極への印加電圧等の
７’＋Ｌ、Ｉ整を行うことにより、皮膜厚さの制御が可
能である。

このようにして、所謂全縮化合物膜１４を形成した後、
前述した湿気透過性の金属上部電極１８、例えば金皮膜
またはパラジウム皮膜を蒸着することによシ、約２００
〜２５０Ａの厚さの皮膜を形成する。

高周波′屯界内でこのイオンブレーティングを行うこと
により、基板１０及び下部電極１２上に形成さ１．る酸
化アルミニウムの付着強度は極めて犬きく、また酸化ア
ルミニウムは耐熱、耐酸性、１ｍｔ有機Ｍ剤性に優れて
いるので、高温条件、酸及び有機溶剤蒸気の多い工場等
の劣悪な環境下での使用に充分耐えるものである。なお
、ここで、イオンブレーティングを行なうに際し尊囲気
を酸素対アルゴンの比率１０：０乃至１：１の範囲で変
化させることにより任意に湿度センサの感湿特性を調節
することができ、酸素対アルゴンの比率を３＝１とすれ
ば特に好適である。

本発明に係る製造法によりば、金属化合物皮膜（これは
金属酸化物皮膜）は、基板上に極めて強固に形成される
ので機械的強鹿が充分得られ、＋８＋テ酷な使用に耐え
るものである。殊に、誘電体がｗｔ−ｉ＋高分子膜でな
く金属化合物膜で形成されているため、有機溶剤蒸気の
充満している雰囲気下でも感湿部の特性を損うことなく
長期に亘って使用でき、経時変化も殆んど生じない利点
がある。また、耐熱性も著しく改善されたため、電極へ
のハンダ付は作粂も容易にすることができ、捷た感湿部
が過度に吸湿した時はセンサ自体を加熱して乾燥させる
ことが可能である。さらに、イオンブレーティングに際
し、酸素対アルゴンの比率を適宜変化させることにより
、Ｓｔ式超薄膜湿度センサ使用用途に応じて感湿特性を
任意に変化させることが可能となる。

実施例 本実験においては、高周波プラズマ（Ａｒ　＋０２　）
中でＡ７を蒸着することによりサファイア基板上にアル
ミナ薄膜を作製した。

実験装置 本実験には第６図に示す装置を使用した。

装ｆ＆は、通常の真空蒸着装置にイオン化電極２４、雰
囲気及び反応用気体導入用のバリアプルリークバルブ４
０、差動排気室（蒸発源を安定に作動させるため）など
を加えて構成した。

放置時におこるスパッタリング等による不純物の薄膜内
への混入を減少させるため、ペルジャー２０はステンレ
ス製のものを用い全体を接地−位とした。

イオン化電極２４と接地さｎた部分（たとえばペルジャ
ー）との表面積の比を犬きくとることにより、プラズマ
心付はさらに接地電位に近ずく、従ってイオン化電極、
浮動状態にいるもの（絶縁物等）を除く部分からのスパ
ッタリングを防ぐことができる。

プラズマ発生用高周波電源６０には、周波数１３、５６
Ｍ１（ｚ、８００Ｗのものを使用した。

高周波電源６０とイオン化電極２４の間の整合回路は、
ガス圧の微小変化などに起因した急激な整合のずれを防
ぐため、意識的に整合をはずし反射率を５０％程度とし
、高周波電力の供給の安定化を計った。

蒸発源２６には、不純物の混入を防ぐため、アルミナコ
ートされたＷバスケットを使用した。

蒸発さｎ、たＡｔの大半は、その発散角から考えて基板
に到達せず、ペルジャー２０内壁などに付着しまたとｎ
らが酸素と反応することによりガス圧等に大きな変化を
生じさせる。これをさけるため、蒸発源２６のｉわりに
は、上部に円形開口部’６４（５ｍｍφ）を持つ接地さ
れたステンレスシｒルド６６をつけ差動排気した。これ
を用いることにより基板方向以外に向かうＡｔを遮断し
、歳索圧の大きな変化を防止し、更に蒸発源２６の酸素
による劣化を防ぐことができた。

薄膜作製の手順と条件 ペルジャー２０内を〜Ｉ　Ｑ−”Ｌ’ｏｒｒ程度に排気
した後、バリアプルリークバルブ４ｏより酸素とアルゴ
ンの混合気体（混合比を変化させる）を導入する。カス
圧を〜１０　’Ｔｏｒｒ以上とした場合、作製された薄
膜は数十〜数千への粒径の粒子を積み重ねたような構造
となり、一様な構造の薄膜が得られない。丑た〜５ｘｌ
ＯＴｏｒｒ以下とすると放電が不安定となる。このこと
からガス圧は、８　Ｘ　１０　’Ｔｏｒｒ程度を用い、
高周波電力４００Ｗを入力し、プラズマを発生させた。

あらかじめ２００℃に予備加熱されたるつぼをさらに加
熱しＡｔの蒸発速Ｉｆが安定したのちシャッタを開き蒸
着を開始した。

付着速度を〜４μｍ／ｈ以上とした場合、得られる薄膜
は、茶色及び黒色の導電性薄膜となった。〜２μｍ／　
ｈ以下では、無色透明の絶縁性の薄膜となった。この実
験では、再現性を考慮して付着速度は１μｍ／　ｈ　と
した。

作製されたアルミナ薄膜の断面、表面状態、結晶性は、
ＳＥＭｉ−よびＴＥＭで観察した。また湿度特性は、後
記の湿度槽を用いて測定した。

室温（実際には９０℃程度である）の下地表面に作製さ
れたアルミナ薄膜の８８Ｍ像を第４図（ａｌ　、　（ｂ
）　、　（ｃｌＫ：示す。

と台らの図は、アルミナ薄膜作製条件のうち０□とＡｒ
の混合比を変化させた場合の比較である。各々の販素と
アルゴンの混合比は、（ａｌｌｏ：０、わ）ｊ：　１　
、　（（：）１　：　１である。どの場合も焼結法や陽
極酸化法などに見られる大きな凹凸はなく、平坦な構造
となっている。

微細構造は少しづつ違っていて、酸素址が減少するにつ
れて平坦な表面構造を示すことが観察される。

第４図（ａｌ　、　（ｂｌの表面には、直径０．５〜１
μｍの粒子が観察さ几る。これはイオン化電極表面など
の異常放電により飛来するもので、電極の清浄化、真空
度の調整などにょ９防ぐことができる。湿度センサとし
ての容量の変化の割合いは、ａ、Ｈ１＝　１６．ｓから
”ｌニア６％で、（ａｌｃ７）場合約５０％、の）の場
合約２０％、（Ｃ１の場合約６係であし、それ以上Ａｒ
の比率を高めたものはほとんど感湿特性を示さなかった
。

湿度特性の測定には、谷間変化の大きい第４（ａｌ図の
ものを用いた。この酸素対アルゴンの混合比が１０：０
である場合の反射回折はを第５図に示す。ここで、（ａ
ｌは基板温度室温（９０”Ｃまで上昇）、（ｂ）は３０
０１Ｇである。結晶性は基板温度室温〜２００℃程度で
は、非晶質、それ以上にするとγ−Ａ−１２０５の多結
晶質であった。

また基板温度を５００℃以上では、再蒸発のため薄膜は
ほとんど成長しなくなる。湿度センサとして用いるＫは
、基板温度が室温の非晶質のものが作製条件も容易であ
り、同時に湿度特性の再現性も良好であった。

湿度特性の測定には、第６図に示す湿度槽を用いて行な
った。

一般に湿＃憎ＶＣは、定温法、定圧法、分流法、飽和塩
水溶液によるものが用いられている。しかしこれらの湿
度発生法には、ＲｏＨｏご１００％を仮定すること、セ
ンサ表面への塩の析出などの問題点があった。そこで湿
度特性の測定には、第６図の新しく考案試作した湿度槽
を用いた。

しかしながら、この測定装置Ｅｔｒ／′ｉ本発明の一部
を構成し２ない。この湿度槽は、ステンレス製の真空槽
を用い、１０　　Ｔｏｒｒ程度まで排気できるようにな
っている。槽内を〜１０　　Ｔｏｒｒ　ｆ、４ＪＱ−ニ
排気後、バルブを閉じ、蒸留水をマイクロシリンジによ
り定量し槽（〜７ｔ）に直接注入する。

１μｔの水は、２０℃で約０，８係の相対湿度（Ｒｏｌ
（、）に相幽し水の注入量を変えることにより〜砂柱Ｉ
Ｗで望みのＲ０Ｈ６を得ることができる。

水の蒸発に伴う槽内温度変化は、ザーミスタ温度計によ
る測定では検出できない程度であった。

湿度槽の内壁の吸脱湿による設定湿度の変化は、高湿（
〜９ｏ％）を設定した後の低湿の設定（二〇　％）にお
いて、４８時間経過後、最大１％、１ｉ、　６％の誤差
が生じた。しかし設定後２時間以内はいずれの場合も設
定湿度の変化は見られなかった。

湿度槽内には、校正された湿度センサ、被測定センサ、
水晶振動子膜厚計が取り付けらｔしている。

水晶振動子の表面には湿度センサと同じ膜厚のアルミナ
薄膜が付けら１ｔてぃて、薄膜中にとり込址れている水
分子の’ＲＭ：　（ｍ　ａ２ｏ　　）ｉｒｉｉＭＮ定で
きる。ここではｍＩ！２０′Ｉ′ｉ平均膜厚（ｄＩｒ２
ｏ））に換算されていて最小検出感度は２ＯＡである。

なお、第６図の湿度槽ＶＣおいて、参照符号５Ｑは真空
変針、５２はミクロ分銅、５４はセンサ（校正）、５６
はセンサ、５８はゴム′シート、６０はミクロシリンジ
、６２はステンレス鋼容器、６４は温度計、６６はゼオ
ライト組成物、６８は弁体、７０は減圧源、７２は乾燥
窒素である。

上記湿度槽によう測定された湿度特性は、次の通りであ
った。

湿度特性 ＲｏＨ、Ｃ−Ｒ、Ｈ、＋　＋　ｄ、　ｕ２ｏ％性を第７
．８図に示す。低湿≠高湿の往復（湿度サイクル）を４
〜５回〈シ返すことにより特に高湿におけるＣ　、、ｄ
ＨＯの低下が見られるが、特性は安定状態となる。一度
安定になったセンサは高湿中（１も、１−１．〜９５チ
）に１００時間放置しても、沸騰水中に１２０分放置し
ても特性に変化は現゛わｆｌ、なかった。

Ｃ−ｄｙ２ｏｉ！性を第９図に示す。■（、，１１−１
：　：ｌ−。

係を除くとほぼ直線関係となっていることがわかる。

以上、本発明によｆ′Ｌは、イオンブレーティング法に
よシ非晶質アルミナ薄膜を作製するに際し、特定比率の
ｖ累とアルゴンとの共存にょシ膜の構造のみならず湿度
特性をも制御することができ、高湿度に卦いても安定に
動作する容量式薄膜湿度センナを製造することができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る容蓋式湿度センサの平面図、第２
図は第１図に示す本発明に係る容址式湿度センサのＨ−
ｕ線断面図、第６図は本発明に係る製造法ケ実施するた
めの装置の概略構成図、第４（ａ）〜（Ｃ１図は本発明
の方法により作製、されたアルミナ薄膜の８８Ｍ像を示
す写真、第５　ｆａｔ　、　（ｂ）図ｔま基板温度の変
化に伴なうアルミナ薄膜の反射回折像を示す写真、第６
図は湿度特性を測定するための湿ＩＷ僧の略図、第７〜
９図は１！＆度特性を示すグラフである。 １０・・・基　　　板　１２・・・上部電極１４・・・
金属化合物膜　　１６・・・表　　　　面１８・・・上
部電極　２０・・・真空形成室２２・・・基板保持蹴極
　　２４・・・イオン化電極２６・・・蒸　発　諒　２
８・・・直流電源６０・・・高局波篭源　６２・・・加
熱電源６４・・・開　口　部　６６・・・シールド６８
・・・排　気　口　　４０・・・リークバルブ４２・・
・ガス導入管　５ｏ・・・真空度肝５２・・・ミクロ分
＠５４．５６・・・センｆ５８・・・ゴムシー　）　　
　６０・・・　ミクロシリンジ６２・・・ステンレス鋼
容器　６４・・・温　　度　　計６６・・・ゼオライト
　　６８１．弁　　　体７０・・・減　　圧　　源　　
　７２・・・乾　燥　窒　素特許出願人　　　今　井　
　淑　　夫 ＦＩＧ、１ ＦＩＧ、４ ］ｐｒｎ ＦＩＧ、５ ＦＩＧ、６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）非導電性基板上に下部電極を対向配置し、前記下
   部電極上に湿気に活性な金属化合物薄膜をイオンブレー
   ティング法により独立して形成し、前記金属化合物薄膜
   上に湿気透過性の金属皮膜からなる上部電極を形成する
   容量式薄膜湿度センサの製造方法において、前記イオン
   ブレーティングを特定の比率におけるアルゴンと酸素と
   の共存下に行なって湿度センナの感湿特性を任意に変化
   させることを特徴とする容量式薄膜湿度センサの製造方
   法。 θ）金属化合物薄膜がアルミナ薄膜である特許請求の範
   囲第１項記載の方法。 （３）イオンブレーティングを高周波イオンブレーティ
   ング法により高真空中で行なうことを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の方法。 （４）酸素対アルゴンの比率が１０二〇乃至１：１であ
   る特許請求の範囲第１項記載の方法。 （５）ハ索対アルゴンの比率が３：１である特許請求の
   範囲第４項記載の方法。