JPS59163824A - アライメントスコ−プ - Google Patents
アライメントスコ−プInfo
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- JPS59163824A JPS59163824A JP58036564A JP3656483A JPS59163824A JP S59163824 A JPS59163824 A JP S59163824A JP 58036564 A JP58036564 A JP 58036564A JP 3656483 A JP3656483 A JP 3656483A JP S59163824 A JPS59163824 A JP S59163824A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- mask
- objective
- deflection mirror
- mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7088—Alignment mark detection, e.g. TTR, TTL, off-axis detection, array detector, video detection
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、マスクパターンとウェハ上に投影されたパタ
ーンとの位置合せに使用されるアライメントスコープに
係υ、°像の倍率を変えることなく且つ像歪を生じない
ようにして、二つのパターンを高精度に位置合せできる
ようにしたアライメントスコープに関する。
ーンとの位置合せに使用されるアライメントスコープに
係υ、°像の倍率を変えることなく且つ像歪を生じない
ようにして、二つのパターンを高精度に位置合せできる
ようにしたアライメントスコープに関する。
半導体の生産工程において、マスクパターンとウェハ上
に投影されたパターンとの位置合せは、半導体の品質に
大きく影響する。
に投影されたパターンとの位置合せは、半導体の品質に
大きく影響する。
特に高密度化と微細パターン化に伴って、この位置合せ
は、増々高精度に行なうことが要求され、これに関する
技術開発が急がれている。
は、増々高精度に行なうことが要求され、これに関する
技術開発が急がれている。
従来のアライメントスコープを第１図に示し説明する。
３７１
図において照明光学系１はマスク２を紫外線にて照明す
る。マスク２のパターンは投影光学系３によシウエハ４
上に投影される。この投影像と投影光によって照射され
たウェハ４上のパターンは、半透過鏡（ペリクルミラー
）５によってアライメントスコープ乙の対物レンズ７に
導かれ、結像レンズ８によシリニアイメージセンサ（Ｃ
ＯＤ）９゜接眼レンズ１０位置に像が結ばれ、この像を
観察することによって位置合せするようにしていた。
る。マスク２のパターンは投影光学系３によシウエハ４
上に投影される。この投影像と投影光によって照射され
たウェハ４上のパターンは、半透過鏡（ペリクルミラー
）５によってアライメントスコープ乙の対物レンズ７に
導かれ、結像レンズ８によシリニアイメージセンサ（Ｃ
ＯＤ）９゜接眼レンズ１０位置に像が結ばれ、この像を
観察することによって位置合せするようにしていた。
第２図は、半透過鏡５と対物レンズ７の部分を拡大して
示したものである。
示したものである。
この方式では、対物レンズの開ロ数ヲ０．３程度よりも
大きなものを用いることができず、その結果解像度不足
になり、マスク２とウェハ４の位置合せ精度が低下する
という問題があった。
大きなものを用いることができず、その結果解像度不足
になり、マスク２とウェハ４の位置合せ精度が低下する
という問題があった。
更に第５図に示すように、Ｘ・Ｙテーブル１１上に対物
レンズ７と二つのミラー１２ヲ載せ、対物レンズ７から
の光束をＸ方向に動く二つのミラー１２によシ結像レン
ズ８まで導くようにしていたので、対物レンズ７の焦点
を合わせる方法としては、結特開昭５９−１６３８２４
（２） 像レンズ８を光束に対して前後させることによυ擬似的
にウェハ４上に焦点を結ぶ様な構成となシ、上記対物レ
ンズ７の開口数の制約と相俟って、更に解像度を低下さ
せることになり、高精度の位置合せができないという欠
点があった。
レンズ７と二つのミラー１２ヲ載せ、対物レンズ７から
の光束をＸ方向に動く二つのミラー１２によシ結像レン
ズ８まで導くようにしていたので、対物レンズ７の焦点
を合わせる方法としては、結特開昭５９−１６３８２４
（２） 像レンズ８を光束に対して前後させることによυ擬似的
にウェハ４上に焦点を結ぶ様な構成となシ、上記対物レ
ンズ７の開口数の制約と相俟って、更に解像度を低下さ
せることになり、高精度の位置合せができないという欠
点があった。
本発明は、像の倍率及び像歪を生じないようにして解像
度を高め、マスクパターンとウェハ上に投影されたパタ
ーンとの位置合せを高精度にて行なうことができる、ア
ライメントスコープを提供せんとするものである。
度を高め、マスクパターンとウェハ上に投影されたパタ
ーンとの位置合せを高精度にて行なうことができる、ア
ライメントスコープを提供せんとするものである。
即ち本発明は、従来のアライメントスコープのように、
−個の対物レンズによって、ウェハ上に投影されたマス
クパターンを取込むのではカく、マスク用対物レンズと
ウェハ用対物レンズの二個の対物レンズを使用し、光学
系を介して像の倍率と像歪が生じないように配設し、解
像度全大巾に向上するようにしたものであって、上記二
個の対物レンズとして無限遠補正型の対物レンズを使用
５頁 し、マスクパターンとウェハ上に投影されたパターンと
を光束合成ハーフミラ−によって合成する対物ユニット
部と、この対物ユニット部の光束合成ハーフばラーの光
軸延長線上に配設し、この光軸の方向全垂直方向に変向
する垂直変向ミラーと、この垂直変向ミラーからの光の
方向を水平方向に変向する水平変向ミラーとによシ光学
系を構成し、上記対物ユニット部を水平面内のＹ方向に
移動するＹテーブル上に載置し、このＹテーブルと上記
垂直変向ミラーとを垂直方向に移動する２テーブルに載
置し、該Ｚテーブルと上記水平変向ミラーとを水平面内
のＸ方向に移動するＸテーブルに載置し、対物ユニット
部金単独でＹ方向（水平）に移動可能なようにすると共
に、垂直変向ミラーと共にＺ方向（垂直方向）に、又水
平変向ミラーと共にＸ方向に移動できるようにしたこと
を特徴とする。
−個の対物レンズによって、ウェハ上に投影されたマス
クパターンを取込むのではカく、マスク用対物レンズと
ウェハ用対物レンズの二個の対物レンズを使用し、光学
系を介して像の倍率と像歪が生じないように配設し、解
像度全大巾に向上するようにしたものであって、上記二
個の対物レンズとして無限遠補正型の対物レンズを使用
５頁 し、マスクパターンとウェハ上に投影されたパターンと
を光束合成ハーフミラ−によって合成する対物ユニット
部と、この対物ユニット部の光束合成ハーフばラーの光
軸延長線上に配設し、この光軸の方向全垂直方向に変向
する垂直変向ミラーと、この垂直変向ミラーからの光の
方向を水平方向に変向する水平変向ミラーとによシ光学
系を構成し、上記対物ユニット部を水平面内のＹ方向に
移動するＹテーブル上に載置し、このＹテーブルと上記
垂直変向ミラーとを垂直方向に移動する２テーブルに載
置し、該Ｚテーブルと上記水平変向ミラーとを水平面内
のＸ方向に移動するＸテーブルに載置し、対物ユニット
部金単独でＹ方向（水平）に移動可能なようにすると共
に、垂直変向ミラーと共にＺ方向（垂直方向）に、又水
平変向ミラーと共にＸ方向に移動できるようにしたこと
を特徴とする。
以下本発明の一実施例について詳細に説明する。
先ず詳細な説明に当って第６図を参照し、実施例６頁
の概略を説明する。
図において、２３はマスク用対物レンズ、２４はウェハ
用対物レンズであり、この両方の対物レンズ２３．２４
の光束は、光束合成ハーフミラ−２５によって合成され
るようになっており、これら光学部品によって対物ユニ
ット部２０全構成している。
用対物レンズであり、この両方の対物レンズ２３．２４
の光束は、光束合成ハーフミラ−２５によって合成され
るようになっており、これら光学部品によって対物ユニ
ット部２０全構成している。
なお上記対物レンズ２３．２４は、無限遠補正型の対物
レンズを使用している。
レンズを使用している。
２６は、光束合成ハーフミラ−２５の光軸延長線上に設
けられ、光束合成ハーフミラ−２５０光軸を垂直方向に
変向する垂直変向ミラーである。２７は、垂直変向ミラ
ー２６からの光の方向を水平方向に変向する水平変向ミ
ラーである。
けられ、光束合成ハーフミラ−２５０光軸を垂直方向に
変向する垂直変向ミラーである。２７は、垂直変向ミラ
ー２６からの光の方向を水平方向に変向する水平変向ミ
ラーである。
一方上記対物ユニット部２０は、水平面内においてＹ方
向に移動するＹテーブル′５５上に載置され、このＹテ
ーブル３５と垂直変向ミラー２６は、垂直方向に移動す
る２テーブル３２に載置されている。更に、この２テー
ブル３２は、水平変向ミラー２７と共にＸテーブル５１
上に載置されている。このように各テーブルに載置する
ことにより、対物ユニット７ ｈ 部２０は単独でＹ方向に移動できると共に、垂直変向ミ
ラー２６と共にＺ方向にも移動し、又、垂直変向ミラー
２６及び水平変向ミラー２７と共にＸ方向に移動する。
向に移動するＹテーブル′５５上に載置され、このＹテ
ーブル３５と垂直変向ミラー２６は、垂直方向に移動す
る２テーブル３２に載置されている。更に、この２テー
ブル３２は、水平変向ミラー２７と共にＸテーブル５１
上に載置されている。このように各テーブルに載置する
ことにより、対物ユニット７ ｈ 部２０は単独でＹ方向に移動できると共に、垂直変向ミ
ラー２６と共にＺ方向にも移動し、又、垂直変向ミラー
２６及び水平変向ミラー２７と共にＸ方向に移動する。
このように構成することによって、対物ユニット部２０
の光束合成ハーフミラ−２５の光軸と、垂直変向ミラー
２６の光軸及び水平変向ミラー２７の光軸を一致させた
状態でｘ、ｙ、Ｚ方向への移動が可能となる。又対物ユ
ニット部２０’ｋＹ方向に移動した時の垂直変向ミラー
２６との間の光路長、２テーブル３２ヲ上下動させた時
の垂直変向ミラー２６と水平変向ミラー２７との間の光
路長及び、Ｘテーブル３１ヲ移動させることによって結
像レンズ８と水平変向ミラー２７との間の光路長が変っ
ても、マスク用対物レンズ２３及びウェハ用対物レンズ
２４に無限遠補正型の対物レンズ全使用しているので、
結像レンズ８に導かれる光束は、完全な平行光とガる。
の光束合成ハーフミラ−２５の光軸と、垂直変向ミラー
２６の光軸及び水平変向ミラー２７の光軸を一致させた
状態でｘ、ｙ、Ｚ方向への移動が可能となる。又対物ユ
ニット部２０’ｋＹ方向に移動した時の垂直変向ミラー
２６との間の光路長、２テーブル３２ヲ上下動させた時
の垂直変向ミラー２６と水平変向ミラー２７との間の光
路長及び、Ｘテーブル３１ヲ移動させることによって結
像レンズ８と水平変向ミラー２７との間の光路長が変っ
ても、マスク用対物レンズ２３及びウェハ用対物レンズ
２４に無限遠補正型の対物レンズ全使用しているので、
結像レンズ８に導かれる光束は、完全な平行光とガる。
このように各光学部品の光軸全一致させた状態でｘ、ｙ
、Ｚ方向に移動可能にし、且つこの移動によって光路長
が変っても、結像レンズに平行光１寺■８０Ｈ５９−Ｉ
Ｇ３８２４ （３）を導くようにしたので、像の倍率を
一定にして且つ像の歪をなくシ、高精度の位置合せが可
能となる。
、Ｚ方向に移動可能にし、且つこの移動によって光路長
が変っても、結像レンズに平行光１寺■８０Ｈ５９−Ｉ
Ｇ３８２４ （３）を導くようにしたので、像の倍率を
一定にして且つ像の歪をなくシ、高精度の位置合せが可
能となる。
以下その詳細を更に詳しく説明する。
第４図に本発明によるアライメントスコープを適用した
マスクアライナの概念図を示す。照明光学系１から出た
紫外線はマスク２を透過し、投影光学系３によりマスク
２の像はウェハ４上に投影される。アライメントスコー
プはマスク２とウェハ４の位置合せ状態を観察するもの
であシ、リニアイメージセンサ９で自動的に検出する手
段、接眼レンズ１０により目視観察する手！９ｅ有して
いる。
マスクアライナの概念図を示す。照明光学系１から出た
紫外線はマスク２を透過し、投影光学系３によりマスク
２の像はウェハ４上に投影される。アライメントスコー
プはマスク２とウェハ４の位置合せ状態を観察するもの
であシ、リニアイメージセンサ９で自動的に検出する手
段、接眼レンズ１０により目視観察する手！９ｅ有して
いる。
対物ユニット部２０は、次のように構成されている。投
影光学系！１を経てウエノ・４上に結像するマスクのパ
ターンの光束は、ミラー２１ 、２２に反射し、ウェハ
４表面に相当する位置に結像し、マスク用対物レンズ２
ろに導かれる。一方、ウェハ４のパターンはウェハ用対
物レンズ２４によシ取込まれミラー２１で反射し、光束
合成ハーフミラ−２５でマスク２のパターンと合成され
、さらに垂直変向ミラー９ イ［ ２６、水平変向ミラー２７ヲ介して結像レンズ８により
、リニアイメージセンサ９．接眼レンズ１０位置に像を
結ぶ。
影光学系！１を経てウエノ・４上に結像するマスクのパ
ターンの光束は、ミラー２１ 、２２に反射し、ウェハ
４表面に相当する位置に結像し、マスク用対物レンズ２
ろに導かれる。一方、ウェハ４のパターンはウェハ用対
物レンズ２４によシ取込まれミラー２１で反射し、光束
合成ハーフミラ−２５でマスク２のパターンと合成され
、さらに垂直変向ミラー９ イ［ ２６、水平変向ミラー２７ヲ介して結像レンズ８により
、リニアイメージセンサ９．接眼レンズ１０位置に像を
結ぶ。
尚、マスク２はＸ−Ｙ・θに移動可能なマスクステージ
２８に、ウェハ４はＸ＠Ｙ・Ｚ・θに移動可能なウェハ
ステージ２９に載せられ、アライメントスコープで位置
合せ状態全観察しながら各々のステージ２８ 、２９
’に移動させて精度良く位置合せ全行なう。
２８に、ウェハ４はＸ＠Ｙ・Ｚ・θに移動可能なウェハ
ステージ２９に載せられ、アライメントスコープで位置
合せ状態全観察しながら各々のステージ２８ 、２９
’に移動させて精度良く位置合せ全行なう。
第６図は本発明の一実施例である。図中Ｘ、 ＹＺの矢
印は、それぞれＹテーブル３５．ｚテーブル′５２及び
Ｘテーブル５１の移動方向′（ｉｌ−表わし、Ｘ、 Ｙ
は水平面内での移動方向を又２は、垂直方向の移動を表
わす。ろ０は、ｘ、ｙ、ｚテーブル５１ 、 ”１５及
び３２ヲ組合せて成るテーブルを総合したＸ、Ｙ。
印は、それぞれＹテーブル３５．ｚテーブル′５２及び
Ｘテーブル５１の移動方向′（ｉｌ−表わし、Ｘ、 Ｙ
は水平面内での移動方向を又２は、垂直方向の移動を表
わす。ろ０は、ｘ、ｙ、ｚテーブル５１ 、 ”１５及
び３２ヲ組合せて成るテーブルを総合したＸ、Ｙ。
Ｚテーブルである。
さて対物ユニット部２０は、Ｙテーブル′５５上に載置
されている。この対物ユニット部２０に使用されている
マスク用対物レンズ２３と、ウエノ・用対物レンズ２４
は、無限遠補正型対物レンズでおる。Ｙテラ０Ｙ１ 一プル′５５と、垂直変向ミラー２６け、光束合成ハー
フミラ−２５０光軸の延長線上に垂直変向ミラー２６が
位置するように、２テーブル上に載置されている。又こ
の２テーブル３２は、垂直変向ミラー２６と水平変向ミ
ラー２７とが対向するように、水平変向ミラー２７と共
にＸテーブルに載置されている。
されている。この対物ユニット部２０に使用されている
マスク用対物レンズ２３と、ウエノ・用対物レンズ２４
は、無限遠補正型対物レンズでおる。Ｙテラ０Ｙ１ 一プル′５５と、垂直変向ミラー２６け、光束合成ハー
フミラ−２５０光軸の延長線上に垂直変向ミラー２６が
位置するように、２テーブル上に載置されている。又こ
の２テーブル３２は、垂直変向ミラー２６と水平変向ミ
ラー２７とが対向するように、水平変向ミラー２７と共
にＸテーブルに載置されている。
この具体構成を第７図と第８図に示す。
この実施例の場合は、マスク２とウェハ４を位置合せす
る仕方として、それぞれのターゲットマーク（図示せず
）２点を合わせることによって互いの位置合せができた
ことを確認できるようにしたものである。従って、２つ
のターゲットマークを観察できる様に対物ユニット２０
からリニアイメージセンサ９．接眼レンズ１０までの光
路を２組構成し、各々が連動する様にしている。
る仕方として、それぞれのターゲットマーク（図示せず
）２点を合わせることによって互いの位置合せができた
ことを確認できるようにしたものである。従って、２つ
のターゲットマークを観察できる様に対物ユニット２０
からリニアイメージセンサ９．接眼レンズ１０までの光
路を２組構成し、各々が連動する様にしている。
図において２個のＸテーブル５１は左右ネジ３３に係合
されモータ３４によシ、Ｘ方向に相反する移動を行なう
。又２個のＹテーブル３５は送りネジ３６とモータ３７
により同方向に移動する。又２テーブル３２はテーパ状
に構成しておシ、モータ３８で回転す１１ ｆ＋ るカム３９によりＹ方向に移動させることによシ上下方
向に移動する。
されモータ３４によシ、Ｘ方向に相反する移動を行なう
。又２個のＹテーブル３５は送りネジ３６とモータ３７
により同方向に移動する。又２テーブル３２はテーパ状
に構成しておシ、モータ３８で回転す１１ ｆ＋ るカム３９によりＹ方向に移動させることによシ上下方
向に移動する。
なお図中に示す他の符号は、第４図又は第６図と一致し
て付しているので、これら符号についての説明は省略す
る。
て付しているので、これら符号についての説明は省略す
る。
以上のように構成した本実施例の作用について、第４図
及び第６図を用いて説明する。
及び第６図を用いて説明する。
マスク２とウェハ４からの光束を光束合成ハーフミラ−
２５で合成した後、合成された光束は２テーブル！＋２
に載置された垂直変向ミラー２６で垂直方向に立ち上げ
る。次にＸテーブル３１に載置された水平変向ミラー２
７で水平方向に折り返し、結像レンズ８ｆ：通して、リ
ニアイメージセンサ９．接眼レンズ１０の焦点位置で像
を結ぶ。
２５で合成した後、合成された光束は２テーブル！＋２
に載置された垂直変向ミラー２６で垂直方向に立ち上げ
る。次にＸテーブル３１に載置された水平変向ミラー２
７で水平方向に折り返し、結像レンズ８ｆ：通して、リ
ニアイメージセンサ９．接眼レンズ１０の焦点位置で像
を結ぶ。
次にウェハ４の任意の位置において、マスク２とウェハ
４及び対物ユニット部２０との間の焦点を合せるために
、Ｘテーブル”＋１．Ｚテーブル′５２及ヒＹテーブル
′５５を移動させる。
４及び対物ユニット部２０との間の焦点を合せるために
、Ｘテーブル”＋１．Ｚテーブル′５２及ヒＹテーブル
′５５を移動させる。
先ず、Ｙテーブル６５とＸテーブル３１全移動させ、ウ
ェハ４上のターゲットマーク（図示省略）に対特開昭５
９−１６３８２４（４） 物ユニット部２０が対応するようにする。
ェハ４上のターゲットマーク（図示省略）に対特開昭５
９−１６３８２４（４） 物ユニット部２０が対応するようにする。
このＸテーブル３１とＹテーブル′５５の移動において
、Ｙテーブル３５’ｅＹ方向に移動しても、光束合成ハ
ーフきラー２５と垂直変向ミラー２６０元軸は一致して
おり、ただ両者間の光路長だけが変化するのみである。
、Ｙテーブル３５’ｅＹ方向に移動しても、光束合成ハ
ーフきラー２５と垂直変向ミラー２６０元軸は一致して
おり、ただ両者間の光路長だけが変化するのみである。
又Ｘテーブル３１’ｋＸ方向に移動しても、Ｘテーブル
３１に載置された水平変向ミラー２７と２テーブル３２
がそのままの状態で移動し、水平変向ミラー２７と垂直
変向ミラー２６との間の光軸及び垂直変向ミラー２６と
光束合成ハーフミラ−２５との間の光軸は一致した状態
に保持され、ただ、水平変向ミラー２７と結像レンズ８
との間の光路長式が変るだけである。
３１に載置された水平変向ミラー２７と２テーブル３２
がそのままの状態で移動し、水平変向ミラー２７と垂直
変向ミラー２６との間の光軸及び垂直変向ミラー２６と
光束合成ハーフミラ−２５との間の光軸は一致した状態
に保持され、ただ、水平変向ミラー２７と結像レンズ８
との間の光路長式が変るだけである。
又一方においで、マスク２とウェハ４及び対物ユニット
部２０との間の焦点を合せるために、２テーブル３２を
上下方向に移動させても、垂直変向ミラー２６と対物ユ
ニット部２０とは２テーブル上に載った状態で移動し、
両者間の光軸は一致した状態に保たれる。この場合、水
平変向ミラー２７と垂直５ｒ１ 変向ミラー２６との間の光路長さが変るのみである。
部２０との間の焦点を合せるために、２テーブル３２を
上下方向に移動させても、垂直変向ミラー２６と対物ユ
ニット部２０とは２テーブル上に載った状態で移動し、
両者間の光軸は一致した状態に保たれる。この場合、水
平変向ミラー２７と垂直５ｒ１ 変向ミラー２６との間の光路長さが変るのみである。
このＺテーブル３２の移動調整について第５図に具体例
を示し、説明する。
を示し、説明する。
第５図（ａ）はマスク２の像がマスク用対物レンズ２己
の焦点の前側Ｘだけ離れた位置に結像し、一方つエバ４
はウェハ用対物レンズ２４の焦点位置にある時を示す。
の焦点の前側Ｘだけ離れた位置に結像し、一方つエバ４
はウェハ用対物レンズ２４の焦点位置にある時を示す。
この様な場合は、（ｂ）に示す様に、対物ユニツ） ２
０ ｋ ｘだけ上昇させると、投影光学系′５會経てき
たマスク２の像はマスク用対物レンズ２３の焦点位置と
合致する。この時、ウェハ用対物レンズ２４の焦点位置
とウェハ４は対物ユニット部２０ヲ上昇し九分Ｘだけ離
れてしまう。そこで（ｅ）に示す様に、ウェハステージ
２９ ｆ ｘだけ上昇させウェハ対物レンズ２４の焦点
内にウェハ４を持ってくる。
０ ｋ ｘだけ上昇させると、投影光学系′５會経てき
たマスク２の像はマスク用対物レンズ２３の焦点位置と
合致する。この時、ウェハ用対物レンズ２４の焦点位置
とウェハ４は対物ユニット部２０ヲ上昇し九分Ｘだけ離
れてしまう。そこで（ｅ）に示す様に、ウェハステージ
２９ ｆ ｘだけ上昇させウェハ対物レンズ２４の焦点
内にウェハ４を持ってくる。
第５図とは逆にマスク用対物レンズ２３の焦点の内側に
マスク２の像が結像したならば、対物ユニット部２０及
びウェハステージ２９ヲ下降すれば良い。
マスク２の像が結像したならば、対物ユニット部２０及
びウェハステージ２９ヲ下降すれば良い。
以上の様に、対物ユニット２０金上下させ光軸が移動し
たシ、またウェハ４上の任意の位置を観察１４ □。
たシ、またウェハ４上の任意の位置を観察１４ □。
する場合、対物ユニット２０ヲ移動させる。
コノヨうに、Ｘ、Ｙ、Ｚｆ−プル５０′（ｉｌ−それぞ
れの方向に移動させる度に、光束合成ハーフミラ−２５
から結像レンズ８までの光路長が変化するが、無限遠補
正型の対物レンズを使用した、マスク用対物レンズ２３
とウェハ用対物レンズ２４により、光束合成ハーフミラ
−２５からの光束は、平行光として結像レンズ８に取込
まれる。
れの方向に移動させる度に、光束合成ハーフミラ−２５
から結像レンズ８までの光路長が変化するが、無限遠補
正型の対物レンズを使用した、マスク用対物レンズ２３
とウェハ用対物レンズ２４により、光束合成ハーフミラ
−２５からの光束は、平行光として結像レンズ８に取込
まれる。
以上詳述した通り、本発明のアライメントスコープによ
れば、無限遠補正型レンズを用いたマスク用対物レンズ
とウェハ用対物レンズの２個の対物レンズを用い、マス
クパターンとウェハ上に投影したパターンとを合成する
機能を有する対物ユニット部ｔｙテーブルに載置し、こ
のＹテーブルと垂直変向ミラーとを２テーブルに載置し
、更にこの２テーブルと水平変向ミラーとをＸテーブル
上に載置して、対物ユニット部、垂直変向ミラー及び水
平変向ミラーの光軸を一致させた状態でＸ。
れば、無限遠補正型レンズを用いたマスク用対物レンズ
とウェハ用対物レンズの２個の対物レンズを用い、マス
クパターンとウェハ上に投影したパターンとを合成する
機能を有する対物ユニット部ｔｙテーブルに載置し、こ
のＹテーブルと垂直変向ミラーとを２テーブルに載置し
、更にこの２テーブルと水平変向ミラーとをＸテーブル
上に載置して、対物ユニット部、垂直変向ミラー及び水
平変向ミラーの光軸を一致させた状態でＸ。
Ｙ、ｚ方向に移動させることが可能となシ、且つ１５
□。
□。
このｘ、ｙ、ｚ方向への移動によって伴って現われる光
路長の変化は、マスク用及びウェハ用の無限遠補正型対
物レンズによって矯正するようにしたので、倍率の違い
や像歪を生じさせることなく観察することができ、マス
クパターンとウェハに投影されたパターンの高精度の位
置合せができる。
路長の変化は、マスク用及びウェハ用の無限遠補正型対
物レンズによって矯正するようにしたので、倍率の違い
や像歪を生じさせることなく観察することができ、マス
クパターンとウェハに投影されたパターンの高精度の位
置合せができる。
この高精度化によって、増々高密度化、微細化していく
半導体の生産に対応することができるなど多大な効果を
奏する。
半導体の生産に対応することができるなど多大な効果を
奏する。
第１図乃至第５図は、従来のアライメントスコープを示
し、第１図は、概念図、第２図は、第１図の対物レンズ
部分全部分拡大して示したたて断面図、第５図は、構成
を示す斜視図である。 第４図乃至第８図は、本発明の一実施例であシ、第４図
は、本実施例を適用したアライメントスコープの全体を
示す概念図、第５図（ａ）〜（ｃ）は、対物レンズの焦
点合せの仕方を示す説明用図、第６図は、要部構成を示
す斜視図、第７図及び第８図は、本実施例の具体的構成
の一例を示し、第７図は平特開昭５９−１６３８２４（
５） 面図、第８図（ａ）は第７図のＡ−Ａ矢視断面図、第８
図（ｂ）は第７図のＢ−Ｂ矢視断面図である。 ２・・・マスク、３・・・投影光学系、４・・・ウェハ
、２゜・・・対物ユニット部、２３・・・マスク用対物
レンズ、２４・・・ウェハ用対物レンズ、２５・・・光
束合成ハーフミラ−１２６・・・垂直変向ミラー、２７
・・・水平変向ミラー、３１・・・Ｘ ｆ −７” ル
、５２・・・２テーブル、５５・・・Ｙ ｆ −プル。 代理人 弁理士 秋 本 正 実 第１図 第２図 第４図 第６図 ９ 第７回
し、第１図は、概念図、第２図は、第１図の対物レンズ
部分全部分拡大して示したたて断面図、第５図は、構成
を示す斜視図である。 第４図乃至第８図は、本発明の一実施例であシ、第４図
は、本実施例を適用したアライメントスコープの全体を
示す概念図、第５図（ａ）〜（ｃ）は、対物レンズの焦
点合せの仕方を示す説明用図、第６図は、要部構成を示
す斜視図、第７図及び第８図は、本実施例の具体的構成
の一例を示し、第７図は平特開昭５９−１６３８２４（
５） 面図、第８図（ａ）は第７図のＡ−Ａ矢視断面図、第８
図（ｂ）は第７図のＢ−Ｂ矢視断面図である。 ２・・・マスク、３・・・投影光学系、４・・・ウェハ
、２゜・・・対物ユニット部、２３・・・マスク用対物
レンズ、２４・・・ウェハ用対物レンズ、２５・・・光
束合成ハーフミラ−１２６・・・垂直変向ミラー、２７
・・・水平変向ミラー、３１・・・Ｘ ｆ −７” ル
、５２・・・２テーブル、５５・・・Ｙ ｆ −プル。 代理人 弁理士 秋 本 正 実 第１図 第２図 第４図 第６図 ９ 第７回
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 マスク用対物レンズとウェハ用対物レンズの二個の対物
レンズを使用し、光束合成ハーフミラ−によってマスク
パターンとウェハ上に投影したパターンとの位置合せを
行なうようにしたアライメントスコープにおいて、上記
二個の対物レンズとして無限遠補正型の対物レンズを使
用し、マスクパターンとウェハ上に投影したパターンと
を光束合成ハーフミラ−によって合成する対物ユニット
部と、該対物ユニットの光束ハーフミラ−の光軸延長上
に位置し、この光軸の方向を垂直方向に変える垂直変向
ミラーと、この垂直変向ミラーからの光の方向全水平方
向に変える水平変向ミラーとにより光学系を構成し、上
記対物ユニット部’ｋＹテーブルに載置し、該Ｙテーブ
ルと上記垂直変向ミラーとをｚテーブルに載置し、該２
テーブルと前記水平変向ミラーとをＸテーブルに載置し
、対物ユニット部を単独でＹ方向に移動可能にすると共
２頁 に垂直変向ミラーと共にＺ方向に又垂直変向ミラー、水
平変向ミラーと共にＸ方向に移動可能なようにしたこと
を特徴とするアライメントスコープ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58036564A JPS59163824A (ja) | 1983-03-08 | 1983-03-08 | アライメントスコ−プ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58036564A JPS59163824A (ja) | 1983-03-08 | 1983-03-08 | アライメントスコ−プ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59163824A true JPS59163824A (ja) | 1984-09-14 |
Family
ID=12473248
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58036564A Pending JPS59163824A (ja) | 1983-03-08 | 1983-03-08 | アライメントスコ−プ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59163824A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5324821A (en) * | 1990-07-13 | 1994-06-28 | Universite Droit Et Sante Lille Ii | Method of preparing a lipoprotein modified by incorporation of a lipophilic active substance |
-
1983
- 1983-03-08 JP JP58036564A patent/JPS59163824A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5324821A (en) * | 1990-07-13 | 1994-06-28 | Universite Droit Et Sante Lille Ii | Method of preparing a lipoprotein modified by incorporation of a lipophilic active substance |
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