JPS59155975A - ガスフロ−式レ−ザ−装置 - Google Patents
ガスフロ−式レ−ザ−装置Info
- Publication number
- JPS59155975A JPS59155975A JP59027985A JP2798584A JPS59155975A JP S59155975 A JPS59155975 A JP S59155975A JP 59027985 A JP59027985 A JP 59027985A JP 2798584 A JP2798584 A JP 2798584A JP S59155975 A JPS59155975 A JP S59155975A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- auxiliary circuit
- circuit
- flow
- gas flow
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はガスフロ一式レーザー装置、詳しくは、横断
方向にガス流を流通せしめあるいは軸方向にガス流を高
速に流通せしめる一方、′当該レゾネータを包囲する主
ガス回路と循環ポンプとガス）光の一部を連続的に排出
しかつ調整しかつ再導入する補助回路とを備えたレーザ
ー装置に関する。
方向にガス流を流通せしめあるいは軸方向にガス流を高
速に流通せしめる一方、′当該レゾネータを包囲する主
ガス回路と循環ポンプとガス）光の一部を連続的に排出
しかつ調整しかつ再導入する補助回路とを備えたレーザ
ー装置に関する。
ガスレーザーにおいて、放電領域で化学変化が生しると
不純物を発生せしめ、当該レーザーの特性を変化せしめ
、その効率を低下せしめるため、作用ガスを連続的に調
整する必要のあることが知られている。ＣＯ２レーザー
装置の場合、含量の大きいヘリウムと含量の少ない炭酸
ガスおよび窒素とから戊る作用ガスが用いられ、特に、
−酸化炭素、酸素および酸化窒素が形成される。さらに
、当該装置の、特に、水蒸気の漏洩により周囲の大気か
ら引ぎ込まれる異物を除去する必要がある。
不純物を発生せしめ、当該レーザーの特性を変化せしめ
、その効率を低下せしめるため、作用ガスを連続的に調
整する必要のあることが知られている。ＣＯ２レーザー
装置の場合、含量の大きいヘリウムと含量の少ない炭酸
ガスおよび窒素とから戊る作用ガスが用いられ、特に、
−酸化炭素、酸素および酸化窒素が形成される。さらに
、当該装置の、特に、水蒸気の漏洩により周囲の大気か
ら引ぎ込まれる異物を除去する必要がある。
英国特許第１，４４９，０５６号により、レゾネータ（
共振器）から逃れるガ′スがら種々の量のへリム成分を
分離せしめ、そのヘリウムを、炭酸ガスと窒素との適当
な量の混合体と一諸に当該レゾネータに再導入すること
が゛知られている。しがしなか呟この方法は非常に高価
なものである。
共振器）から逃れるガ′スがら種々の量のへリム成分を
分離せしめ、そのヘリウムを、炭酸ガスと窒素との適当
な量の混合体と一諸に当該レゾネータに再導入すること
が゛知られている。しがしなか呟この方法は非常に高価
なものである。
また、英国特許第１，２５６．：？、９８号により、主
回路にフィルタと触媒を設けて不純物を単に除去するよ
うにしたものが知られている。主回路におけるガス全体
量を取扱うには不具合があることはさておいて、連続的
に作用ガス即成を定めることは、新鮮なガスの供給量を
種々の量とすればする程、非常に高価であった。したが
って、ガス流速が高い場合には、カ゛スの濾過および゛
酸素の除去は大抵十分に行なわれるものの、作用ガスに
おけるＣＯおよＵＦ４の割合が増大するのを許容せざる
を得ない（米国特許第４，３１６，１５７号）。
回路にフィルタと触媒を設けて不純物を単に除去するよ
うにしたものが知られている。主回路におけるガス全体
量を取扱うには不具合があることはさておいて、連続的
に作用ガス即成を定めることは、新鮮なガスの供給量を
種々の量とすればする程、非常に高価であった。したが
って、ガス流速が高い場合には、カ゛スの濾過および゛
酸素の除去は大抵十分に行なわれるものの、作用ガスに
おけるＣＯおよＵＦ４の割合が増大するのを許容せざる
を得ない（米国特許第４，３１６，１５７号）。
さらには、′ルーザーフォーカス（Ｌａｓｅｒ−（ｏｃ
ｕｓ）゛１２月号、１９８２年、４３頁により、連続的
に作用ガスの一部を抜き出して補助回路に引き込み、該
力スを調整し、該ガスに新鮮な力スを所要の割合で滑合
し、同じ位置で主ガス回路にその混合ガスを再導入する
ために分離する真空ポンプを用いることが知られている
。しかるに、この方法を採用した場合、調整装置を介し
てガス流全体を連続的に導入するもので゛ない点におい
て調整費用が低減せしめられるものの、補助回路におい
てガスを循環する費用お′よ、び幾つかの加圧ステージ
に亘って新鮮なガスと結合せしめる費用は高価であした
か゛って、この発明の目的は、構成か簡単、安価であり
かつ壊れにくい前述した型式のレーザー装置を提供しよ
うとするものである。
ｕｓ）゛１２月号、１９８２年、４３頁により、連続的
に作用ガスの一部を抜き出して補助回路に引き込み、該
力スを調整し、該ガスに新鮮な力スを所要の割合で滑合
し、同じ位置で主ガス回路にその混合ガスを再導入する
ために分離する真空ポンプを用いることが知られている
。しかるに、この方法を採用した場合、調整装置を介し
てガス流全体を連続的に導入するもので゛ない点におい
て調整費用が低減せしめられるものの、補助回路におい
てガスを循環する費用お′よ、び幾つかの加圧ステージ
に亘って新鮮なガスと結合せしめる費用は高価であした
か゛って、この発明の目的は、構成か簡単、安価であり
かつ壊れにくい前述した型式のレーザー装置を提供しよ
うとするものである。
この発明の目的は、ポンプを含まないように補助回路を
設計するとともに、該補助回路を主回路における循環ポ
ンプの上流および下流部と接続すｂことによ１）達成さ
れる。
設計するとともに、該補助回路を主回路における循環ポ
ンプの上流および下流部と接続すｂことによ１）達成さ
れる。
この構成により、補助回路の操作［こ所要の差動圧力は
主回路における循環ポンプ４から出力せしめられる。こ
の循環ポンプは何れの装置１こも使用されるものである
。個別の調整ガスと新鮮な力スとを結合することが免除
される一方、調整ガスの組成は一定あるいは変化が僅か
であると推定されるか呟特殊な組成測定手段を省略する
ことかで外、新鮮なガスは常１こ同一の組成をもって供
給され、よって、その供給位置は重要なものでなくなる
。一方、ガスの組成が変化しないものとすれば、ガス組
成の変化が常に一定に維持せしめられ、その組成を常に
一定とする新鮮なガスの組成は、その変化分と、平衡す
るようにして当該装置における所要のガス組成に応じて
変動するものと推定でとよう。
主回路における循環ポンプ４から出力せしめられる。こ
の循環ポンプは何れの装置１こも使用されるものである
。個別の調整ガスと新鮮な力スとを結合することが免除
される一方、調整ガスの組成は一定あるいは変化が僅か
であると推定されるか呟特殊な組成測定手段を省略する
ことかで外、新鮮なガスは常１こ同一の組成をもって供
給され、よって、その供給位置は重要なものでなくなる
。一方、ガスの組成が変化しないものとすれば、ガス組
成の変化が常に一定に維持せしめられ、その組成を常に
一定とする新鮮なガスの組成は、その変化分と、平衡す
るようにして当該装置における所要のガス組成に応じて
変動するものと推定でとよう。
補助回路に引と込まれるガスの割合は］０％以下どする
ことかでとる。
ことかでとる。
次−二、この発明を添（′：１図面ととち（こ説明する
。
。
レゾネータ（」（振器）１に数個所でライン（導管）２
を介して作用ガスが供給さＪ’Ｌ、そして、これ等の供
給ラインの中間位置でライン３を介して作用ガスが”例
外１友かれる。このレゾネータ１とライシンおよび：３
か主回路を形成し、この主回路はｆｌｓｌ重環プ、・１
によって閉回路を形成している。この循環ポンプ４の上
流部および下流部に熱交換器５および６か設けられる。
を介して作用ガスが供給さＪ’Ｌ、そして、これ等の供
給ラインの中間位置でライン３を介して作用ガスが”例
外１友かれる。このレゾネータ１とライシンおよび：３
か主回路を形成し、この主回路はｆｌｓｌ重環プ、・１
によって閉回路を形成している。この循環ポンプ４の上
流部および下流部に熱交換器５および６か設けられる。
レゾネータ１（こおける所望の圧力は制御パル７８を（
ｌｉｉｉえた真空ポンプ°７により保持せしめられてい
る。ｇｌ魚）゛な力スは、レゾネータ１に供給する前に
新鮮ガスか使用ガスと完全に混合されるのを確実にする
ように、循環ポンプ・・１の上流側の適宜に選定した位
置９で供給される。
ｌｉｉｉえた真空ポンプ°７により保持せしめられてい
る。ｇｌ魚）゛な力スは、レゾネータ１に供給する前に
新鮮ガスか使用ガスと完全に混合されるのを確実にする
ように、循環ポンプ・・１の上流側の適宜に選定した位
置９で供給される。
ガス流の一部を調整する機器はボックス１０をもって概
略的に示す。この機器１０は、特に、流量計バルブ、油
および水フィルタ、加熱触媒領域、微粒子フィルタおよ
び流量計から構成される。この機器１０はライン１１と
１２とを介して主回路における循環ポンプ４の押出部と
吸込部とに直接′＃続される。よって、この循環ポンプ
によって生起せしめられた全差動圧力が補助回路１０で
利用し得るようになっている。当該レーザー装置が高速
のガ′ス流を有する、即ち、高速循環動力に応じて循環
ポンプ４において大きな差動圧力を保有する型式のもの
である場合であっても、上記差動圧力は十分なものであ
る。ガスが軸方向に高速に流れるレーザー装置である場
合にもこの要望事項は実質的１こ満足せしめられる。
略的に示す。この機器１０は、特に、流量計バルブ、油
および水フィルタ、加熱触媒領域、微粒子フィルタおよ
び流量計から構成される。この機器１０はライン１１と
１２とを介して主回路における循環ポンプ４の押出部と
吸込部とに直接′＃続される。よって、この循環ポンプ
によって生起せしめられた全差動圧力が補助回路１０で
利用し得るようになっている。当該レーザー装置が高速
のガ′ス流を有する、即ち、高速循環動力に応じて循環
ポンプ４において大きな差動圧力を保有する型式のもの
である場合であっても、上記差動圧力は十分なものであ
る。ガスが軸方向に高速に流れるレーザー装置である場
合にもこの要望事項は実質的１こ満足せしめられる。
図面はこの発明の一実施例の概略回路図を示す。
１・・・レゾネータ（共振器）、 ２，３・・・ライ
ン（導管）、 ４・・・循環ポンプ、 ５，６・・
・熱交換器、７・・・真空ポンプ、 訃・・制御バル
ブ、 １０・・・補助回路、 １１．１２・・・ラ
イン。 １、ケｉｉ’１１１Ｌ’ｌ Ｊ知人 ロフインーン゛ナ
ール・レーサー・ゲセルシャフト・ミツト・ ベシュレンクテル・ハフラング
ン（導管）、 ４・・・循環ポンプ、 ５，６・・
・熱交換器、７・・・真空ポンプ、 訃・・制御バル
ブ、 １０・・・補助回路、 １１．１２・・・ラ
イン。 １、ケｉｉ’１１１Ｌ’ｌ Ｊ知人 ロフインーン゛ナ
ール・レーサー・ゲセルシャフト・ミツト・ ベシュレンクテル・ハフラング
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （］）力゛スフロ一式レしザ゛−装置において、レゾネ
ータを包囲する主力゛ス回路と、循環ポンプと、力゛ス
流の一部を連続的に排出しかつ調整しかつ再導入する補
助回路とを備え、上記補助回路はポンプを含まずかつ」
二記主力゛ス回路における循環ポンプの一ヒ流部および
下流部と接続せしめたことを特徴とする装置。 （２）ガス流を当該装置の横断方向に流通せしめわるい
は当該装置の軸方向に高速に流通せしめるようにした特
許請求の範囲第１項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE33051526 | 1983-02-15 | ||
| DE19833305152 DE3305152A1 (de) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | Gasdurchfluss-laser |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59155975A true JPS59155975A (ja) | 1984-09-05 |
Family
ID=6190872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59027985A Pending JPS59155975A (ja) | 1983-02-15 | 1984-02-15 | ガスフロ−式レ−ザ−装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4610014A (ja) |
| EP (1) | EP0117277B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59155975A (ja) |
| AT (1) | ATE24634T1 (ja) |
| DE (2) | DE3305152A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01500070A (ja) * | 1986-03-12 | 1989-01-12 | ピーアールシー コーポレーション | 軸方向ガスレーザの操作安定化法と軸方向ガスレーザ |
| JP2008168922A (ja) * | 2007-01-11 | 2008-07-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 断熱容器 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4703487A (en) * | 1985-08-13 | 1987-10-27 | Amada Engineering & Service Co., Inc. | Device for suppressing electrical discharges between cathodes of laser oscillator |
| JPH0714089B2 (ja) * | 1987-05-18 | 1995-02-15 | ファナック株式会社 | レ−ザ発振装置及びレ−ザ発振装置のレ−ザガスの封入方法 |
| US4794613A (en) * | 1987-07-27 | 1988-12-27 | Prc Corporation | Laser fluid flow control apparatus and method |
| US4751713A (en) * | 1987-07-31 | 1988-06-14 | Hughes Aircraft Company | Gas laser having a piezoelectric fan |
| US4977571A (en) * | 1988-03-29 | 1990-12-11 | Candela Laser Corporation | Dye laser solution circulation system |
| US4888786A (en) * | 1988-05-09 | 1989-12-19 | United Technologies Corporation | Laser gas composition control arrangement and method |
| DE8914097U1 (de) * | 1989-11-29 | 1990-04-05 | Rofin-Sinar Laser GmbH, 2000 Hamburg | Axial durchströmter Gaslaser, insbesondere Hochleistungs-CO↓2↓-Laser |
| JP2716833B2 (ja) * | 1990-01-31 | 1998-02-18 | 三菱重工業株式会社 | ガスレーザ管 |
| JPH05102575A (ja) * | 1991-10-04 | 1993-04-23 | Fanuc Ltd | レーザ発振装置 |
| JP3427571B2 (ja) * | 1995-06-14 | 2003-07-22 | 松下電器産業株式会社 | 高速軸流型ガスレーザ発振器 |
| US6798813B2 (en) | 2001-07-09 | 2004-09-28 | Coherent, Inc. | Closed-loop purging system for laser |
| US7089139B2 (en) * | 2004-08-16 | 2006-08-08 | Agilent Technologies, Inc. | Method and apparatus for configuration of automated debug of in-circuit tests |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3596202A (en) * | 1969-03-28 | 1971-07-27 | Bell Telephone Labor Inc | Carbon dioxide laser operating upon a vibrational-rotational transition |
| GB1462360A (en) * | 1973-10-23 | 1977-01-26 | Boc International Ltd | Lasers |
| JPS5432694A (en) * | 1977-08-12 | 1979-03-10 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | Preparation of 7beta-(4-carboxybutylamido)-7alpha-methoxy-delta3-cephem-4- carboxylic acid derivatives |
| DE3031692A1 (de) * | 1980-08-22 | 1982-04-22 | Messer Griesheim Gmbh, 6000 Frankfurt | Gaslaser, insbesondere gastransportlaser |
| GB2106705B (en) * | 1981-09-17 | 1986-01-22 | Atomic Energy Authority Uk | Induced flow gas transport laser |
-
1983
- 1983-02-15 DE DE19833305152 patent/DE3305152A1/de not_active Withdrawn
- 1983-09-20 DE DE8383109333T patent/DE3368820D1/de not_active Expired
- 1983-09-20 EP EP83109333A patent/EP0117277B1/de not_active Expired
- 1983-09-20 AT AT83109333T patent/ATE24634T1/de not_active IP Right Cessation
-
1984
- 1984-01-30 US US06/575,226 patent/US4610014A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-02-15 JP JP59027985A patent/JPS59155975A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01500070A (ja) * | 1986-03-12 | 1989-01-12 | ピーアールシー コーポレーション | 軸方向ガスレーザの操作安定化法と軸方向ガスレーザ |
| JP2008168922A (ja) * | 2007-01-11 | 2008-07-24 | Dainippon Printing Co Ltd | 断熱容器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0117277A1 (de) | 1984-09-05 |
| ATE24634T1 (de) | 1987-01-15 |
| US4610014A (en) | 1986-09-02 |
| DE3305152A1 (de) | 1984-08-16 |
| DE3368820D1 (en) | 1987-02-05 |
| EP0117277B1 (de) | 1986-12-30 |
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