JPS59148772A - ヘキサメチレンイミンの製造方法 - Google Patents
ヘキサメチレンイミンの製造方法Info
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- JPS59148772A JPS59148772A JP58023328A JP2332883A JPS59148772A JP S59148772 A JPS59148772 A JP S59148772A JP 58023328 A JP58023328 A JP 58023328A JP 2332883 A JP2332883 A JP 2332883A JP S59148772 A JPS59148772 A JP S59148772A
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- reaction
- hexamethyleneimine
- catalyst
- boiling point
- caprolactam
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
本発明は、ε−カグロラクタムの接触水素化皮る
応によりヘキサメチレンイミンの製造に関するものであ
る。
る。
ヘキサ、メチレンイミンは、生物生理活性物質、特に医
薬、農薬の中間原料として有用欧化合物である〇 一般にε−カグロラクタムを水素化してヘキサメチレン
イミンを製造する方法において、副生ずろ水により原料
ε−カグロラクタムの重合が起り、ポリカプロラクタム
が生成したり、またヘキサメチレンイミンの水素化開環
重合が起きてポリアミンが生成するなどのためにヘキサ
メチレンイミンの収率の低下を来たしたり、或いはこれ
らの副生する水や副反応生成物による触媒の被毒が問題
となる0 本発明者らは、上記問題を解決する方法を既に提案しく
trf開昭49−86385号、同5〇−89383号
う、ヘキサメチレンイミン収率の飛vtIJ的増大をも
たらした。また上記提案の方法において、反応の均一化
、原料や生成物の濃度低下による重合抑制並びに反応熱
の制御に炭素数9〜14個の直鎖または環式飽和炭化水
素を溶媒として使用することが有効であることを特開昭
50−89384号に提案し、更に該炭化水素を使用し
死時より著しく触媒寿命が延長するべく反応溶媒として
沸点が270℃以上でかつ使用条件下で液状の炭化水素
を使用する方法を特開昭52−153988号に提案し
てきた。
薬、農薬の中間原料として有用欧化合物である〇 一般にε−カグロラクタムを水素化してヘキサメチレン
イミンを製造する方法において、副生ずろ水により原料
ε−カグロラクタムの重合が起り、ポリカプロラクタム
が生成したり、またヘキサメチレンイミンの水素化開環
重合が起きてポリアミンが生成するなどのためにヘキサ
メチレンイミンの収率の低下を来たしたり、或いはこれ
らの副生する水や副反応生成物による触媒の被毒が問題
となる0 本発明者らは、上記問題を解決する方法を既に提案しく
trf開昭49−86385号、同5〇−89383号
う、ヘキサメチレンイミン収率の飛vtIJ的増大をも
たらした。また上記提案の方法において、反応の均一化
、原料や生成物の濃度低下による重合抑制並びに反応熱
の制御に炭素数9〜14個の直鎖または環式飽和炭化水
素を溶媒として使用することが有効であることを特開昭
50−89384号に提案し、更に該炭化水素を使用し
死時より著しく触媒寿命が延長するべく反応溶媒として
沸点が270℃以上でかつ使用条件下で液状の炭化水素
を使用する方法を特開昭52−153988号に提案し
てきた。
本発明者らの提案以外に、最近、特殊なアルコール類を
反応溶媒とするε−カプロラクタムの水素化が提案され
ている◇例えば、脂肪族第二級アルコールまたはイング
ロパノール溶Is(特開昭52−128388号公報参
照)を用いる例、第三級アルコールまたは飽和脂環式ア
ルコール溶媒(%サメチレンイミンのN−アルキル化物
が副生じており目的物の収率を低下せしめている。第三
級アルコールを用いた場合のみN−アルキル化物の副生
が認められていないか、第三級ブタノール溶媒で反応液
をオーバーフローさせながら連続的に行った反応におけ
るヘキサメチレンイミンの収率は74%と低く工業的に
満足できる値とはなっていない。
反応溶媒とするε−カプロラクタムの水素化が提案され
ている◇例えば、脂肪族第二級アルコールまたはイング
ロパノール溶Is(特開昭52−128388号公報参
照)を用いる例、第三級アルコールまたは飽和脂環式ア
ルコール溶媒(%サメチレンイミンのN−アルキル化物
が副生じており目的物の収率を低下せしめている。第三
級アルコールを用いた場合のみN−アルキル化物の副生
が認められていないか、第三級ブタノール溶媒で反応液
をオーバーフローさせながら連続的に行った反応におけ
るヘキサメチレンイミンの収率は74%と低く工業的に
満足できる値とはなっていない。
発明の概要
本発明者らは、反応生成物を蒸気相で抜出す方法により
C−カグロラクタムを液相接触水素化してヘキサメチレ
ンイミンを製造する方法において、実質的に蒸気相で抜
出されない高沸点溶媒である沸点が270℃以上でかつ
使用条件下で液状の炭化水素を溶媒として用い、反応を
連続的に長時間にわたって行い、該反応の結果を該反応
の初めから注意深く追跡したところ、反応の初期におい
てへキサメチレンイミンの選択率が時間と共に増加する
挙動を見い出した。更に鋭意検討を行った結果、予め該
反応の液相中に特定のアミン類を存在させることによっ
て該反応の初めから高い選択率でヘキサメチレンイミン
が製造でき、同時に全く意外にも該反応に用いる触媒の
寿命が延長されることを見い出し本発明を完成した。
C−カグロラクタムを液相接触水素化してヘキサメチレ
ンイミンを製造する方法において、実質的に蒸気相で抜
出されない高沸点溶媒である沸点が270℃以上でかつ
使用条件下で液状の炭化水素を溶媒として用い、反応を
連続的に長時間にわたって行い、該反応の結果を該反応
の初めから注意深く追跡したところ、反応の初期におい
てへキサメチレンイミンの選択率が時間と共に増加する
挙動を見い出した。更に鋭意検討を行った結果、予め該
反応の液相中に特定のアミン類を存在させることによっ
て該反応の初めから高い選択率でヘキサメチレンイミン
が製造でき、同時に全く意外にも該反応に用いる触媒の
寿命が延長されることを見い出し本発明を完成した。
即ち、本発明は、ε−カプロラクタムを水素化触媒の存
在下液相接触水素化し、得られる反応生成物を気相で反
応帯域から抜出すことによりヘキサメチレンイミンを製
造する方法において、ヘキサメチレンイミンの沸点より
高い沸点のアミンを一種以上含む溶媒を使用することを
特徴とするヘキサメチレンイミンの製造方法を提供する
ものである。
在下液相接触水素化し、得られる反応生成物を気相で反
応帯域から抜出すことによりヘキサメチレンイミンを製
造する方法において、ヘキサメチレンイミンの沸点より
高い沸点のアミンを一種以上含む溶媒を使用することを
特徴とするヘキサメチレンイミンの製造方法を提供する
ものである。
溶媒
本発明に使用する溶媒は、ヘキサメチレンイミンの沸点
より高い沸点のアミンを一石f以上含む溶媒である。
より高い沸点のアミンを一石f以上含む溶媒である。
ヘキサメチレンイミンの沸点より高い沸点のアミンとし
ては、例えば第三級アミンでN置換されている3個のア
ルキル基がいずれも同じトリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、トリペンチルアミンなどや3個のアルキル基
のうち1個若しくは3個が相互に異なるジメチルオクチ
ルアミンやメチルエチルオクチルアミンなどの分子内に
7ミノ基を1個含むものの他、分子内にアミノ基を2個
以上含む例えば、ポリメチレンジアミンの両端もしくは
片側のアミン基がそれぞれ1つまたは2つアルキル化さ
れたN、N’−ジメチルエチレンジアミンなどや主鎖に
飽和脂環式構造を含む4.4′−ビス(ジメチルアミノ
)ジシクロヘキシルアミンなどが用いられる72本発明
に用いられるアミンは、上述の例の様に分子内のアミン
基は第二級若しくは第三級のものが好ましい。特に好ま
しくはN(0)−アミノヘキシル)へキサメチレンイミ
ン、1.6−ビス(ヘキサメチレンイミノ)ヘキサン、
N−ヘキシルへキナメチレンイミン、トリヘキシルアミ
ン、1−6ビス(ジヘキシル〕ヘキテンジアミン、ジ(
ω−へキサメチレンイミノ)ヘキシルアミン、tert
−ジ(ω−へキサメチレンイミノヘキシルンヘキシルア
ミン及び上記アミンの直鎖炭素の数が1個又は2個少な
いアミン類である。これらのアミンは、単独若しくは混
合物として用いられ、常温で液状又は常温で固相のもの
であっても水素化反応条件下で液状であるアミンである
・本発明に用いられるヘキサメチレンイミンの沸点より
高い沸点のアミンは、溶媒として単独の又は混合物のア
ミンで用いられるが、これらアミン類の他に沸点が27
0℃以上で、かつ使用条件下で液状の炭化水素と併用す
ることもできる。この場合、アミン類/該炭化水素は重
量比で1/20以上、好ましくは1/10以上で用いら
れる。
ては、例えば第三級アミンでN置換されている3個のア
ルキル基がいずれも同じトリプロピルアミン、トリブチ
ルアミン、トリペンチルアミンなどや3個のアルキル基
のうち1個若しくは3個が相互に異なるジメチルオクチ
ルアミンやメチルエチルオクチルアミンなどの分子内に
7ミノ基を1個含むものの他、分子内にアミノ基を2個
以上含む例えば、ポリメチレンジアミンの両端もしくは
片側のアミン基がそれぞれ1つまたは2つアルキル化さ
れたN、N’−ジメチルエチレンジアミンなどや主鎖に
飽和脂環式構造を含む4.4′−ビス(ジメチルアミノ
)ジシクロヘキシルアミンなどが用いられる72本発明
に用いられるアミンは、上述の例の様に分子内のアミン
基は第二級若しくは第三級のものが好ましい。特に好ま
しくはN(0)−アミノヘキシル)へキサメチレンイミ
ン、1.6−ビス(ヘキサメチレンイミノ)ヘキサン、
N−ヘキシルへキナメチレンイミン、トリヘキシルアミ
ン、1−6ビス(ジヘキシル〕ヘキテンジアミン、ジ(
ω−へキサメチレンイミノ)ヘキシルアミン、tert
−ジ(ω−へキサメチレンイミノヘキシルンヘキシルア
ミン及び上記アミンの直鎖炭素の数が1個又は2個少な
いアミン類である。これらのアミンは、単独若しくは混
合物として用いられ、常温で液状又は常温で固相のもの
であっても水素化反応条件下で液状であるアミンである
・本発明に用いられるヘキサメチレンイミンの沸点より
高い沸点のアミンは、溶媒として単独の又は混合物のア
ミンで用いられるが、これらアミン類の他に沸点が27
0℃以上で、かつ使用条件下で液状の炭化水素と併用す
ることもできる。この場合、アミン類/該炭化水素は重
量比で1/20以上、好ましくは1/10以上で用いら
れる。
水素化触媒
ε−カグロラクタムを水素化触媒の存在下で液相接触水
素化してヘキサメチレンイミンを得る際に使用される水
素化触媒としては、特開昭50−89383号記載の触
媒があり例えばNi、co、Ru、Rh及びPd触媒並
びにこれらを主成分とする触媒がある0特に、Ni或い
はCoを主成分とする触媒を使用する場合に本発明の効
果が顕著であるっ水素化反応 本発明を実施する場合、回分式では反応容器に触媒、6
−シクロラクタム及び高沸炭化水素を仕込み、所、定の
温度、圧力に保ち過剰に供給した水素ガスに同伴させて
、低沸生成物を蒸気相から抜出しながら反応を進行させ
ることができる。連続式では上記方法で6−シクロラク
タムを連続的に供給することで達成できる。
素化してヘキサメチレンイミンを得る際に使用される水
素化触媒としては、特開昭50−89383号記載の触
媒があり例えばNi、co、Ru、Rh及びPd触媒並
びにこれらを主成分とする触媒がある0特に、Ni或い
はCoを主成分とする触媒を使用する場合に本発明の効
果が顕著であるっ水素化反応 本発明を実施する場合、回分式では反応容器に触媒、6
−シクロラクタム及び高沸炭化水素を仕込み、所、定の
温度、圧力に保ち過剰に供給した水素ガスに同伴させて
、低沸生成物を蒸気相から抜出しながら反応を進行させ
ることができる。連続式では上記方法で6−シクロラク
タムを連続的に供給することで達成できる。
6−シクロラクタムの供給は固体状もしくは液体状でも
実施することができるが、好ましくは6−シクロラクタ
ム単独を加熱溶融状態で供給するのがよい。また反応を
阻害しないかつ反応槽内に蓄積増大しない低沸の溶媒と
共に供給することもできる。
実施することができるが、好ましくは6−シクロラクタ
ム単独を加熱溶融状態で供給するのがよい。また反応を
阻害しないかつ反応槽内に蓄積増大しない低沸の溶媒と
共に供給することもできる。
この場合使用される溶媒は、エーテル類、例えばジオキ
サン、ジエチレングリコールジアルキルエーテル等、炭
化水素類、例えばシクロヘキサン、デカリン等、または
第三級アミン類、例えばトリーn−ブチルアミン等であ
る。
サン、ジエチレングリコールジアルキルエーテル等、炭
化水素類、例えばシクロヘキサン、デカリン等、または
第三級アミン類、例えばトリーn−ブチルアミン等であ
る。
これらの溶媒は理論的には用いないか、あるいは用いて
も極く少量にすべきものであるが、工業的規模の製造の
際には用いた方が操作が容易になる場合がある。
も極く少量にすべきものであるが、工業的規模の製造の
際には用いた方が操作が容易になる場合がある。
ε−カグロラクタムの反応槽内、1度は短時間の反応の
場合は90fEf%し上での運転も可能であるが、副反
応抑制の見地から濃度は低い程よ(50重量%以下に保
持することが好ましい。
場合は90fEf%し上での運転も可能であるが、副反
応抑制の見地から濃度は低い程よ(50重量%以下に保
持することが好ましい。
反応生成物の取り出し量は水素ガスの供給量により決定
されるので、反応の進行状況を見て供給量を任意に選べ
ばよい。
されるので、反応の進行状況を見て供給量を任意に選べ
ばよい。
反応帯域から抜き出された気相生成物は冷却凝縮され気
液分離される。過剰の水素はリサイクルして使用され、
溶液中の未反応ε−カグロラクタム及び反応溶媒が随伴
した場合にはそれぞれ別々に又は同時に回収され再び反
応帯域に供給される。
液分離される。過剰の水素はリサイクルして使用され、
溶液中の未反応ε−カグロラクタム及び反応溶媒が随伴
した場合にはそれぞれ別々に又は同時に回収され再び反
応帯域に供給される。
本発明での反応条件は使用する触媒によって大きく変る
が通常は反応温度150〜350℃、好ましくは200
〜300℃、水素圧力は常圧から200 K9/cr/
lG望ましくは5〜150Kf/dGが採用される。
が通常は反応温度150〜350℃、好ましくは200
〜300℃、水素圧力は常圧から200 K9/cr/
lG望ましくは5〜150Kf/dGが採用される。
溶媒の使用量は特に制限はないが、連続式では単位時間
に供給されるε−カグロラクタム量の、また回分式では
仕込んだε−カグロラクタム量のそれぞれ1〜100倍
量、好ましくは3〜30倍量が望ましい; 本発明の利点 本発明は、目的物であるヘキサメチレンイミンの選択率
を高めると共に触媒の寿命を延長することを可能にした
が、これらに付随して下記の様な利点をも有するもので
ある。
に供給されるε−カグロラクタム量の、また回分式では
仕込んだε−カグロラクタム量のそれぞれ1〜100倍
量、好ましくは3〜30倍量が望ましい; 本発明の利点 本発明は、目的物であるヘキサメチレンイミンの選択率
を高めると共に触媒の寿命を延長することを可能にした
が、これらに付随して下記の様な利点をも有するもので
ある。
即ち、実質上蒸気相から抜き出されない様な高沸点の炭
化水素のみを溶媒として使用した場合、反応の都合によ
り予め反応槽内の液面位を下げる必要が生じると例えば
触媒の仕込量はそのままにその触媒濃度を高める為溶媒
を抜取る際、懸濁している触媒の分離が面倒で、分離の
為の特別の装置等が必要である。しかし、本発明の方法
を用いると上記の様な場合、反応を継続しなからε−カ
グロラクタムの供給量を必要とする量まで減少せしめる
ことによってヘキサメチレンイミノの逐次反応による高
沸点アミンの生成が減少し、同時に用いた溶媒としての
アミン自体も水素化分解を受けて軽沸点物に変わる為、
容易に反応槽外に蒸気相から抜き出すことかでき、これ
により何ら特別の装置等を必要とせず反応槽内の液面位
を調節することができる。
化水素のみを溶媒として使用した場合、反応の都合によ
り予め反応槽内の液面位を下げる必要が生じると例えば
触媒の仕込量はそのままにその触媒濃度を高める為溶媒
を抜取る際、懸濁している触媒の分離が面倒で、分離の
為の特別の装置等が必要である。しかし、本発明の方法
を用いると上記の様な場合、反応を継続しなからε−カ
グロラクタムの供給量を必要とする量まで減少せしめる
ことによってヘキサメチレンイミノの逐次反応による高
沸点アミンの生成が減少し、同時に用いた溶媒としての
アミン自体も水素化分解を受けて軽沸点物に変わる為、
容易に反応槽外に蒸気相から抜き出すことかでき、これ
により何ら特別の装置等を必要とせず反応槽内の液面位
を調節することができる。
実験例
実施例1
(ヘキサメチレンイミンの製造)
COを主成分とし原子比でそれぞれRe / Co =
0.03、Mo / Co = o、o 15である粉
末状の触媒10S’を、1,6−ビス(ヘキサメチレン
イミノ)ヘキザン帆7 Kgを含む流動パラフィン液1
.5にりと共に内容積5tのオートクレーブに仕込み、
反応圧力を301<g / ca G 1水素流量を1
60ON4/hr 、蒸気相抜き出し口の遺留管内温度
を160℃、原料ε−カプロラクタムの供給量を1時間
当り1502に設定し、反応温度220℃で反応を開始
した。触媒の活性の低下は反応温度を上昇させて補償し
た。即ち、触媒活性の低下に伴い未反応のε−カプロラ
クタムが反応槽内に蓄積してくるので反応槽内液中のε
−カプロラクタムの濃度が15重量%を越えないように
反応温度を上昇せしめた。反応器に付属した遺留管から
出てくる気相物質は、冷却して気液分離後、液体を取出
してガスクロマトグラフィーで分析した。
0.03、Mo / Co = o、o 15である粉
末状の触媒10S’を、1,6−ビス(ヘキサメチレン
イミノ)ヘキザン帆7 Kgを含む流動パラフィン液1
.5にりと共に内容積5tのオートクレーブに仕込み、
反応圧力を301<g / ca G 1水素流量を1
60ON4/hr 、蒸気相抜き出し口の遺留管内温度
を160℃、原料ε−カプロラクタムの供給量を1時間
当り1502に設定し、反応温度220℃で反応を開始
した。触媒の活性の低下は反応温度を上昇させて補償し
た。即ち、触媒活性の低下に伴い未反応のε−カプロラ
クタムが反応槽内に蓄積してくるので反応槽内液中のε
−カプロラクタムの濃度が15重量%を越えないように
反応温度を上昇せしめた。反応器に付属した遺留管から
出てくる気相物質は、冷却して気液分離後、液体を取出
してガスクロマトグラフィーで分析した。
反応槽内液の分析は、適時反応槽内の液中にとりつけた
焼結金属フィルタ一つきノズルを通して抜出し、ガスク
ロマトグラフィーで分析した。アミン量は塩酸で滴定し
て求めた。
焼結金属フィルタ一つきノズルを通して抜出し、ガスク
ロマトグラフィーで分析した。アミン量は塩酸で滴定し
て求めた。
この様な運転では、ヘキサメチレンイミンの生成速度は
毎時的96tで、反応液中のε−カプロラクタムの4度
が15重量%に達するまでに生成したヘキサメチレンイ
ミンの量は23.815であった。ヘキサメチレンイミ
ンの生成量が反応を開始してから約52時間後に5.0
Kgに達する間の平均選択率は86モル%であり、それ
以後的248時間怠の平均選択率は90モル%であった
〇反応液のアミン価は平衡量存在するヘキサメチレンイ
ミンを差し引くと殆んど変化しなかった。
毎時的96tで、反応液中のε−カプロラクタムの4度
が15重量%に達するまでに生成したヘキサメチレンイ
ミンの量は23.815であった。ヘキサメチレンイミ
ンの生成量が反応を開始してから約52時間後に5.0
Kgに達する間の平均選択率は86モル%であり、それ
以後的248時間怠の平均選択率は90モル%であった
〇反応液のアミン価は平衡量存在するヘキサメチレンイ
ミンを差し引くと殆んど変化しなかった。
さらに反応温度を5℃上昇せしめると槽内液中のε−カ
プロラクタムの濃度は低下するが反応は何の障害もなく
継続された。
プロラクタムの濃度は低下するが反応は何の障害もなく
継続された。
実施例2
(アミン含有反応溶媒のi造)
溶媒としてアミンを含まない流動パラフィン1.5Kg
を用いる外は実施例1と同様に実施し、触媒の活性低下
を反応温度を上昇せしめることで補償しながら反応を1
00時間行ったところ、反応液中に主にヘキサメチレン
イミンの逐次生成物のアミン類が蓄積した。次いでε−
カプロラクタムの供給を止めて更に反応を5時間継続し
た。反応後反応系を冷却し、反応物をオートクレーブか
ら取出し、触媒を口過分離してε−カプロラクタム及び
ヘキサメチレンイミンをほとんど含まないアミン含量4
6重量%の液が得られた。含まれる主なアミンは1,6
ビス(ヘキサメチレンイミノプヘキサレが22重量%で
他にtert−ジ(ω−へキサメチレンイミノヘキシル
)−ヘキシルアミンが3.7重量%、N−(ω−ヘキサ
メチレンイミノヘキシル)−N−ヘキシル−ヘキシルア
ミンが3.5重量%、N−(ω−へキサメチレンイミノ
ヘキシル)−ヘキシルアミンが3.1重量%などのへキ
サメチレンイミンが数量体開環重合したアミンであった
。
を用いる外は実施例1と同様に実施し、触媒の活性低下
を反応温度を上昇せしめることで補償しながら反応を1
00時間行ったところ、反応液中に主にヘキサメチレン
イミンの逐次生成物のアミン類が蓄積した。次いでε−
カプロラクタムの供給を止めて更に反応を5時間継続し
た。反応後反応系を冷却し、反応物をオートクレーブか
ら取出し、触媒を口過分離してε−カプロラクタム及び
ヘキサメチレンイミンをほとんど含まないアミン含量4
6重量%の液が得られた。含まれる主なアミンは1,6
ビス(ヘキサメチレンイミノプヘキサレが22重量%で
他にtert−ジ(ω−へキサメチレンイミノヘキシル
)−ヘキシルアミンが3.7重量%、N−(ω−ヘキサ
メチレンイミノヘキシル)−N−ヘキシル−ヘキシルア
ミンが3.5重量%、N−(ω−へキサメチレンイミノ
ヘキシル)−ヘキシルアミンが3.1重量%などのへキ
サメチレンイミンが数量体開環重合したアミンであった
。
(ヘキサメチレンイミンの製造t
この様にして得られたアミンを含む液1.5崎を、再び
実施例1に用いたと同じ新らたな触媒10fと共にオー
トクレーブに仕込み、実施例1と同様に実施した。
実施例1に用いたと同じ新らたな触媒10fと共にオー
トクレーブに仕込み、実施例1と同様に実施した。
反応液中のε−カプロラクタムの濃度が15重量%に達
するまでに生成したヘキサメチレンイミンの量は24.
2Kfであった。
するまでに生成したヘキサメチレンイミンの量は24.
2Kfであった。
反応の初期へキサメチレンイミンの生成量か5.0匂に
達するまでの平均選択率は87モル%であった。
達するまでの平均選択率は87モル%であった。
なお、上記実施例の溶媒を用いてε−カプロラクタムを
供給しない他は実施例1と同様に反応を実施したところ
、ヘキサメチレンイミンの生成量は痕跡量認められたに
すぎなかった、。
供給しない他は実施例1と同様に反応を実施したところ
、ヘキサメチレンイミンの生成量は痕跡量認められたに
すぎなかった、。
比較例1
溶媒((アミンを含まない流動]2ラフイン1.5Kg
を用いた以外は実施例1と同様に反応を行った結果、反
応液中のε−カプロラクタムの濃度が15重量%に達す
るまでに生成したヘキサメチレンイミンの量は13.5
に9にすぎなく、反応の初期へキサメチレンイミンの生
成量が5.oKqに達する迄の平均選択率は、83モル
%にすぎなかった。
を用いた以外は実施例1と同様に反応を行った結果、反
応液中のε−カプロラクタムの濃度が15重量%に達す
るまでに生成したヘキサメチレンイミンの量は13.5
に9にすぎなく、反応の初期へキサメチレンイミンの生
成量が5.oKqに達する迄の平均選択率は、83モル
%にすぎなかった。
実権例3
(回分式反応)
実施例1で用いた触媒と同じ触媒1.0?、ε−カプロ
ラクタム30.Of及び溶媒としてトリプチルアミン/
Sθml f、水素の液相噴出口、及びコンデンサー付
蒸気相抜き出し口付の電磁攪拌型オートクレーブ(内容
i3ooml)に仕込み、反応温度210℃、反応圧力
/S気圧、水素流量毎時2001、攪拌速度毎分100
0回、に保つと、触媒を除くオートクレーブ内物質(未
反応ε−カプロラクタム、溶媒それに反応生成物)が約
2時間で水素と共に蒸気相抜き出し口からでてくる。こ
れ全冷却して気液分離した液体についてガスクロマトグ
ラフィーで分析した結果ε−カプロラクタムの転換率は
仕込量に対し93モル饅で転換した6−カプロラクタム
の97モルチがヘキサメチレンイミンになっていた。そ
の他、生成液中には少量のノルマルヘキシルアミンと高
沸物が検出された。
ラクタム30.Of及び溶媒としてトリプチルアミン/
Sθml f、水素の液相噴出口、及びコンデンサー付
蒸気相抜き出し口付の電磁攪拌型オートクレーブ(内容
i3ooml)に仕込み、反応温度210℃、反応圧力
/S気圧、水素流量毎時2001、攪拌速度毎分100
0回、に保つと、触媒を除くオートクレーブ内物質(未
反応ε−カプロラクタム、溶媒それに反応生成物)が約
2時間で水素と共に蒸気相抜き出し口からでてくる。こ
れ全冷却して気液分離した液体についてガスクロマトグ
ラフィーで分析した結果ε−カプロラクタムの転換率は
仕込量に対し93モル饅で転換した6−カプロラクタム
の97モルチがヘキサメチレンイミンになっていた。そ
の他、生成液中には少量のノルマルヘキシルアミンと高
沸物が検出された。
Claims (1)
- (1)e−カグロラクタムを水素化触媒の存在下液相接
触水素化し、得られる反応生成物を気相で反応帯域から
抜出すことによりヘキサメチレンイミンを製造する方法
において、ヘキサメチレンイミンの沸点より高い沸点の
アミンを一種以上含む溶媒を使用することを特徴とする
ヘキサメチレンイミンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58023328A JPS59148772A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | ヘキサメチレンイミンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58023328A JPS59148772A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | ヘキサメチレンイミンの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59148772A true JPS59148772A (ja) | 1984-08-25 |
Family
ID=12107509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58023328A Pending JPS59148772A (ja) | 1983-02-15 | 1983-02-15 | ヘキサメチレンイミンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59148772A (ja) |
-
1983
- 1983-02-15 JP JP58023328A patent/JPS59148772A/ja active Pending
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