JPS5914411B2 - グレ−テツド型単一モ−ドフアイバの製造方法 - Google Patents

グレ−テツド型単一モ−ドフアイバの製造方法

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JPS5914411B2
JPS5914411B2 JP8560280A JP8560280A JPS5914411B2 JP S5914411 B2 JPS5914411 B2 JP S5914411B2 JP 8560280 A JP8560280 A JP 8560280A JP 8560280 A JP8560280 A JP 8560280A JP S5914411 B2 JPS5914411 B2 JP S5914411B2
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JP
Japan
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refractive index
single mode
core
glass
dopant
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Expired
Application number
JP8560280A
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JPS5711841A (en
Inventor
豊 佐々木
真治 荒木
道夫 秋山
長 福田
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Expired legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/08Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
    • C03B2201/12Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2203/00Fibre product details, e.g. structure, shape
    • C03B2203/10Internal structure or shape details
    • C03B2203/22Radial profile of refractive index, composition or softening point
    • C03B2203/26Parabolic or graded index [GRIN] core profile

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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、グレーデツド型単一モードファイ10 バ
の製造方法に関するものである。
発明の背景 単一モード光ファイバには、一般にステップインデック
ス型が使われている。
しかしそのコア径は通常10μm以下であるから、接続
作業での軸合15わせがたいへん難しい。そこで、単一
モード光ファイバの屈折率分布をグレーデツド型にする
ということが提案されている。
この種の光ファイバは一般に2モードファイバといわれ
ておわ、多モードGI型光ファイバと20比較して広帯
域となわ、またコア径も51型単一モード光ファイバの
やく2倍に拡大できることから、接続損失や入射効率の
改善が図られ、大中容量伝送路として有望である。しか
し、このクレーデツド型単一モード光ファ25イバは、
比屈折率差が0.3%でいどであるし、またコア径も5
1型単一モード光ファイバのやく2倍(2Ottmてい
ど)といつても、まだまだたいへん細い。
だから屈折率の制御を、一般のマルチモードグレーデツ
ド型の場合のように、ドーパント30であるGeO2の
量や、GeC14の流量制御で製造することはたいへん
難しい。また、単一モード光ファイバは、主としてMC
VD法によつて製造している。
コアの屈折率制御をドーパントですると、コラップスの
ときに35コアの中心部に屈折率分布のディップができ
るが、そのディップのコア径に占める割合が大きくて、
伝送特性を低下させる。発明の目的 ドーパントの流量制御などの難しい手段によらずに、グ
レーデツド型単一モード光フアイバを製造できる方法を
提供する。
発明の構成(第1〜3図参照) つぎの工程を持つことを特徴とする。
1)屈折率低下用ドーパントを含むガラスからなるクラ
ツド材12を形成する工程、2)前記の屈折率低下用ド
ーパントを含まず、かつ屈折率の値が半径方向に一定な
ガラスからなるコア材14を形成する工程、3)前記か
く工程で形成したクラツド12材とコア材14とを持ち
、かつ中空部分のないガラスロツド18を作る工程、4
)前記工程で作つたロツド18をさらに加熱して、クラ
ツド材12のなかの前記屈折率低下用ドーパントを、コ
ア材14のなかに拡散させる工程。
構成の説明 屈折率低下用ドーパントとしては、Fがもつとも適当と
思われる。
そのわけは、Fは同じ屈折率低下用ドーパントのBにく
らべて、高い拡散能を持ち、熱拡散によつて容易にガラ
スのなかを移動する。さらに1.3μm帯での損失増加
がない。製造には、通常の単一モード光フアイバとおな
じようにMCVD法を使う。工程は次のとおりである。
1)まずはじめに、[第1図」のように、出発石英管1
0の内面にFなどの屈折率低下用ドーパントを含むクラ
ツドのガラス層12を形成する。
16は酸水素バーナである。
2)それから、その内面にFなどの屈折率低下用ドーパ
ントを含まないコアのガラス層14を形成する。
このコアのガラス層14を形成する間、ドーパントの流
量は一定に保つておき、半径方向の屈折率の値が一定に
なるようにする。3)つぎに「第2、第3図」のように
コラツプスして、中空部分のないガラスロツド18を作
る。
そのときの屈折率の分布は「第4図」のbのようになつ
ている。な卦、この場合はクラツドのガラス層12と出
発石英管10の屈折率が同じになるようにしている。そ
の理由は、そのようにしたほうが、コアを伝搬するパワ
ーのクラツドへのしみだし量が少なくなるからである。
しかしこのことは、本発明とは直接関係がない。以上の
工程までは、従来のMCVD法の場合と弓じである。0
この発明の場合は、コラツプスした後のガラスロツド1
8をさらに加熱する。
なお加熱は、「第3図」のように、コラツプス時の設備
をそのまま使つて、酸水素バーナ16で行なえば面倒が
ない。ただし別の公知の方法で加熱してもよい。加熱温
度はコラツプス時よりも少し高めの1900℃くらい、
時間は2〜3時間くらいが適当である。
この加熱により、クラツドのガラス層12のなかの屈折
率低下用ドーパント(Fなど)がコアのガラス層14の
なかに拡散してゆく。
熱拡散によつてコアのガラス層14のなかに移動するF
などの量は、周辺部に多く、中心部に向つて次第に減少
する。そのために屈折率の分布は第4図のcのように放
物線状に変わる。辷施例 MCVD法によつて、次のように製造した。
出発石英管10には、外径が18111肉厚が1.01
1のものを使用。クラツドのガラス層12を形成すると
きの条件ま、出発石英管10の回転速度は50rpm1
酸水素バーナによる加熱温度は1350℃、トラバース
速度は15cm/―、デポジシヨン回数は60回。
Cあつた。
つぎにコアのガラス層14を形成するときの条↑は、出
発石英管10の回転速度は50rpm1酸水素バーナに
よる加熱温度は1400℃、トラバース速度は15C!
FL/71m1デポジシヨン回数は3回。
であつた。
つぎにコラツプスを行つた。
その条件は、出発石英管10の回転速度は50rpm1
酸水素バーナによる加熱温度は1800℃、トラバース
回数は5回。
トラバース速度は第1回目が50顛/Mi!lで、トラ
バースごとに下げていつて、第5回目は10顛/72と
した。
コラツプス後のガラスロツド18は、コア径が1.9m
m1クラツド外径が7.71L7!L1全体の外径が1
2u1であつた。
つぎにさらにFを拡散させるために加熱した。
その条件は、ガラスロツド18の回転速度は20rpm
1酸水素バーナによる加熱温度は1900℃、トラバー
ス速度は2011/―、加熱時間は2時間。
であつた。
それからガラスロツド18を線引きしてグレーデツト型
の単一モード光フアイバを作つた。
その全体の外径は125μm1コア径は20μm1クラ
ツド径は80μm1コアの比屈折率差こ0.3%で、屈
折率の分布は第4図のcと相似であつた。発明の効果 (1) ドーパントの流量制御などの困難な手段によら
ずに、加熱時間と加熱温度を調節することにより1グレ
ーデツド型単一モード光フアイバを作ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1〜3図は本発明の工程を順に示した説明図、第4図
はガラスロツド18の断面図aに、コラツプス直後b1
熱拡散させた後cの屈折率分布を併記した説明図。 10:出発石英管、12:クラツドのガラス層、14:
コアのガラス層、16:酸水素バーナ、18:ガラスロ
ツド。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 屈折率低下用ドーパントを含むガラスからなるクラ
    ッド材を形成する工程と、前記屈折率低下用ドーパント
    を含まず、かつ屈折率の値が半径方向に一定なガラスか
    らなるコア材を形成する工程と、前記各工程で形成した
    クラッド材とコア材とを持ち、かつ中空部分のないガラ
    スロッドを作る工程と、前記工程で作つたロッドをさら
    に加熱して、クラッド材中の前記屈折率低下用ドーパン
    トを、コア材中に拡散させる工程、とを有することを特
    徴とする、グレーデツド型単一モードファイバの製造方
    法。 2 屈折率低下用ドーパントが、Fであることを特徴と
    する、特許請求の範囲第1項に記載のグレーデツド型単
    一モードファイバの製造方法。
JP8560280A 1980-06-24 1980-06-24 グレ−テツド型単一モ−ドフアイバの製造方法 Expired JPS5914411B2 (ja)

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JPS5711841A JPS5711841A (en) 1982-01-21
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