JPS59140291A - 加圧式微粉炭ガス化法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （目的及び背景） この発明は石炭等を１〜数節以下まで微粉砕したいわゆ
る微粉炭を、酸素含有ガス、特に酸素と水蒸気とでガス
化し１石炭中の灰分を溶融状態で取り出すいわゆる高温
ガス化法に関するものであり１％に生成ガスを約ｔｏｅ
／−以上の加圧ガスとして得ると共に、高い炭素効率及
び熱効率と低い酸素原単位とを達成することを目的とす
るものである。ここで炭素効率というのは石炭中の炭素
が炭酸ガス、−酸化炭素及びメタン等のガス状物に転化
さ几る比率であり、熱効率とは石炭の燃焼熱当りの生成
ガスの燃焼熱の比率である。

本発明においてはこの目的を達成する几め、ガス化炉の
ガス化室を上下の二基に分離し両室を狭い開口部で連通
した二室式ガス化炉全使用する。

このようなガス化炉としては古くは特公昭、３３−１７
５号、特公昭３６−２３７１４号、新しくはＳａａｒｂ
ｅｒｇ　−０ｔｔｏ法等が知られ℃いる。かかる二基ガ
ス化方式では９発熱を伴うガス化反応の大部分が比較的
コンバクトナ下部ガス化室内で行われ。

かつ放射や伝導による熱損失を減らすことができ・るの
で、容易に高温度が達成できて石炭灰を溶融ヌラグ化し
て室外へ排出することが容易になる。

また高温では微粉炭のガス化速度が著しく犬となること
から未反応炭素が少なく比較的高い炭素効率が得らｎる
。

しかしながらこルまでの二車ガス化法では微粉炭および
そｎをガス化するに必要な酸素及び水蒸気の全量又は殆
んど全量を下部ガス化室へ送入しているが、水蒸気を下
部ガス化室へ送入することは下記のごとき水素生成反応 Ｃ＋Ｈ２０−＋　ＣＯ＋　Ｈ２−３１，４００ｕＣＯ＋
Ｈ２０：　Ｃ（）２　＋　Ｈ２９，８３０■を促進させ
るという利点はあるが、これらが吸熱反応であるととも
に２反応の促進のために比較的多量の水蒸気を必要とし
、そｎが高温度となるために多量の熱量を必要とするな
どの理由によってガス化室の温度を低下させる結果にな
るので、それを補って高温を維持するためさらに過剰の
微粉炭と酸素を導入して燃焼反応を行わせ゛ることが必
要になり、熱効率の低下及び酸素原単位の増加を招くこ
とになる。本発明の第１の目的はこの点を゛改善するこ
とにある。

本発明の第２の目的はＣＯ，Ｈ，ｑどの生成ガスを約ｌ
ｏｎ／ｃｄ以上の高圧で得ることにある。

ＣＯ，Ｈ２は化学原料用として高圧で使用さｎることが
多いしまた副生ずるＣＯ２’ｉ除去するためにも高圧の
方が便利であるから、ガス化段階で昇圧しておいた方が
次工程での動力費の節約になりまたガス化炉自身をコン
パクトにすることにもなる。

ガス化反応自体は加圧下でも進行し、またガス化炉を耐
圧構造にすることも容易であるが、技術的問題点はこの
加圧さ几たガス化炉へ原料の微粉炭を圧入する手段にあ
る。従来からあるロックホンパー型式のものは構造が複
雑であるばかりでなく、供給が断続的でありまた操作も
厄介なので。

微粉炭の供給用としては必ずしも適当なものとは言えな
い。微粉炭を水スラリーにしてスラリーポンプ等を用い
てガス化炉に圧入する方式も考えられるが、この場合水
分が直接ガス化炉に導入さｎるのでその気化熱、高温度
までの加熱及び生成し・た水蒸気により前記の吸、熱反
応が進行することにより炉温を低下させることになり、
熱効率の向上及び微粉炭および酸素の原単位の減少とい
う第１の目的を達成することができない。特開昭５６−
１１０７９３号には微粉炭と水との混合物を高圧ガス流
で搬送して流動状態で加熱乾燥させた後高圧サイクロン
等に導いて乾燥微粉炭を分離し高圧ガス化反応器に供給
する方法が記載されているが。

この方法では微粉炭をガス流で搬送するためガス微粉炭
混合流が高速であることを必要とし、そのため加熱器や
配管や分離器の摩耗が激しくなるという欠点がある。

（本発明の構成） 本発明の方法においては、上部ガス化室及び下部ガス化
室を有し画室が狭い開口部で連通されている二基式ガス
化炉ならびに微粉炭スラリーの流動層乾燥器により本質
的に構成さ几ている微粉炭ガス化装置を使用する。ここ
で本質的に構成されているという意味は、上記ガス化炉
及び乾燥器以外疋両者を機能的に連結し下記の操作を行
うのに必要な配管、ポンプ、ブロワ−１熱交換器等を含
むものと解すべきである。こｎを添付図面により説明す
ると、第１図においてｌが二基式ガス化炉で、２が上部
ガス化室、３が下部ガス化室であり。

それぞれ耐熱性炉材４及び５でもって構築されている。

６が上部ガス化室と下部ガス化室を連通する狭い開口部
である。また７は下部ガス化室の炉材苓を保護するため
の冷却用ジャケット、８及び９は冷却水の入口及び出口
である。さらに上部ガス化室には水蒸気ノズル１０，１
０１．下部ガス化室には微粉炭バーナー１１．１１’が
設けられ、下部ガス化室の下部には溶融スラグ排出口１
２．上部ガス化室の上部には生成ガスの排出口１３が設
はズ東 られている。工４が流動層乾か器で、粉塵を分離するた
めのサイクロン１５．そのレッグ１６及び加熱管エフを
設置しである。このほか微粉炭スラリーの送入ライン１
８．流動用ガスの送入ライン１９、生成乾燥微粉炭の排
出ライン２０．生成水蒸気の排出ライン２１が図示さ九
ている。

このような装置を使用して下記の操作を行う。

（ａ）　　微粉炭スラリーの流動層による乾燥微粉炭の
水スラリーを流動層乾燥器に圧入して加圧水蒸気を流動
用ガスとする流動層を形成させると共に加熱して水蒸気
及び乾燥微粉炭を生成させ、生成した水蒸気の一部を昇
圧して流動層乾燥器の底部に循環して流動用ガヌとして
用いる。

これを第１図により説明すると、微粉炭の水スラリーを
スラリーポンプ２２により昇圧し、ライン１８を通じて
流動層乾燥器１４に圧入する。流動層乾燥器はここで生
成した水蒸気が加圧下にある二基式ガス化炉に自圧で圧
入するに必要な圧力。

即ち二基式ガス化炉よりもやや高い圧力に保たれている
。流動層乾燥器の底部には流動用ガスがライン１９から
送入さｎ、微粉炭の流動層２３を形成する。（スタート
時にはあらかじめ乾燥した微粉炭を所要量乾燥器内に充
填しておく）圧入さｎた微粉炭スラリーは既に存在する
微粉炭の流動層中に分散し、そ７”Ｌとの熱交換板び加
熱ｇ１７どの熱交換により昇温し水分は蒸発して水蒸気
とｑ、ａ乾燥微粉炭のみが流動層中に残る。生成した水
蒸気は内設されたサイクロン１５に入り、ここで水蒸気
に同伴されていｆｃ微粉炭の小粒は分離さｎレッグ１６
によジ流動層２３に戻る。水蒸気は排出ライン２１によ
り乾燥器外に取出さｎるが、ここでその一部をライン２
４に分岐し、ブロワ−２５により昇圧して流動用ガスと
してライン１９から乾燥器の底部に戻す。流動層に存在
する乾燥微粉炭は水スラリーとして送入された量に見合
う量をライン２０から抜き出し、流動層レベルを一定範
囲内に保つ。

技術的細部について詳述すると１本発明で使用する微粉
炭の粒度は装置の摩耗、粉砕動力費等を考慮して妥当な
値に設定すればよく、乾燥又はガス化反応の進行上はそ
れほど制約を要するものではない。一応の目安としては
約２＋ｗ以下１重量平均粒径で約０．２瓢程度まで微粉
砕したものを用いる。石炭の種類としては灰分の融点が
低いものの方が処理が容易であるが１通常の石炭であれ
ば特に使用できないもの１１Ｓｔない。また特に灰分の
融点が高いものを使用する場合には石灰石や鉄鉱石な。

どの融剤を加えてもよい。また石炭以外にｔヤー。

コーク等の固体燃料の微粉状物を使用することもできる
。本発明において微粉炭と総称するのは石炭の微粉状物
はかりでなく、こ几らのもの又はこれらと石炭の微粉状
物の混合物をも含むものである。

微粉炭の水スラリーの濃度は微粉炭の種類２粒度、スラ
リーポンプの性能等によって制約される面もあるが、前
記重量平均粒径約０．２　ｍｍのものに対しては水を約
１　／　４〜２重量倍、好ましくは約１／２〜１重量倍
加えてスラリー状とする。ここで微粉炭をスラリー状に
するために加えた水は全量が乾燥器において蒸発して水
蒸気となり、生成した水蒸気の一部は流動用ガスとして
循環されるにしても、最終的にはガス化炉に送ら几るこ
とになるから、所要の生成ガス組成、即ちＨ２１Ｊッチ
かＣＯグリッチあるかに応じて必要とさｎる反応用水蒸
気に見合う量の水をここで供給すればよい。

他の目的に対する副生水蒸気の用途がある場合には、熱
バランスの許す限り大量の水をここで加えて過剰の水蒸
気を発生させることもできる。

微粉炭を流動化するための水蒸気量は微粉炭の粒度によ
って異なるが、空塔速度として約５〜２００　ｃｍ／　
５ｅｃｓ好ましくは約１０〜１００ｍ／　ｓｅｅである
。微粉である程空塔速度は小さくてよく、装置の摩耗も
少なくなる。また流動層の温度は微粉炭が熱分解を受け
る温度以下であることが望ましく、約３００℃以下、好
ましくは約２００〜２５０℃である。

（ｂ）　　下部ガス化室におけるガス化この工程では前
記（ａ）工程の流動層乾燥器で生成した乾燥微粉炭を二
基式ガス化炉の下部ガス化室に送入し２、酸素含有ガス
により酸化して一酸化炭素を主体とするガスを生成させ
て上部ガス化−に送る。

これを第１図により説明すると、流動層乾燥器１４から
排出ライン２０に抜き出した乾燥微粉炭をスクリューフ
ィーダー２６を経てエゼクタ−２７に送り、ライン２８
からの高圧水蒸気により圧送しライン２９からの酸素と
共に微粉炭バーナ。

−１１，１１°から二基式ガス化炉ｌの下部ガス化室３
内に噴射する。既述のように流動層乾燥器の内圧はガス
化炉の内圧よりもやや高いからこのようなエゼクタ−を
使用しな゛〈ても乾燥微粉炭を下部ガス化室へ送入する
ことは可能であるが、後述するように微粉炭を下部ガス
化室の壁面にそって切線方向に高速度で噴射して旋回流
を形成させた方が反応性がよくなり炭素効率が上昇する
ので、そのためにもエゼクタ−を使用するのが好ましい
。

エゼクタ−で添加する水蒸気は、微粉炭を濃厚状態で移
送することによって少量で十分であり２通常は微粉炭当
ｔ）１７５〜ｌ　／　Ｉ　０重量比以下である。

このための高圧水蒸気としては第１図に示すように乾燥
器の流動用ガスとしてブロワ−２５により昇圧したもの
を分岐して用いれば特別に設備する必要がないので好都
合である。ここで使用さｎた水蒸気は微粉炭と共に下部
ガス化室内に入ってガス化反応にあずかることになる。

しかしエゼクタ−で微粉炭の圧送用に使用するガスは必
ずしも水蒸気に限定さｎるものではない。ガス化炉の生
成ガスに混入しても差支えないガス、例えば生成ガス自
身、生成ガスから分離した炭酸ガス又は系外からの炭酸
ガス等を昇圧して使用することもできる。ただし酸素は
爆発・逆火を避けるために使用しない方がよい。酸素含
有ガスは微粉炭バーナー以降において、始めて微粉炭と
混合する方が安全上好ましい。

微粉炭バーナーは通常４本以上、好ましくは約６本であ
り、１２本以上は不要である。この複数本のバーナーを
下部ガス化室の円周状の壁面の複数ケ所に配置し、微粉
炭及び酸素含有ガスが壁面にそって円周の切線方向、さ
らに詳しくは円周と同心円でそれより直径かや＼小さい
仮想円に対して接する方向に噴射するように設置する。

この設置状態を６本のバーナーを使用する場合について
モデル的に第２図に示す。

このようなバーナ一群から切線方向に噴射された微粉炭
及び酸素含有ガスは下部ガス化室内で旋回流を形成する
。このようにすると未反応炭素を含む比重の重い微粉炭
粒子は比較的長時間旋回流。

中に滞留し、さらには遠心力によって下部ガス化室の壁
面に付着することによって、酸素供給量が少ない条件の
下においてもきわめて高い炭素効率が得られ１本発明の
効果を助長する。

また微粉炭バーナーは切線方向に設置することに加えて
、その先端をやや下向きとし下部ガス化室の底部近くに
設置すると、下部ガス化室底部に熱が集中し灰分の溶融
スラグ化が容易になる。溶融スラグは排出口１２から排
出し水砕処理する。

下部ガス化室で生成した一酸化炭素を主体とするガスは
開口部６を通って上部ガス化室２の底部に送られる。未
燃微粉炭の一部もガス流に伴わ−れて上部ガス化室に送
らｎる。

下部ガス化室の温度は、微粉炭から生じた灰分が溶融ス
ラグ化する温度以上とすることが必要であジ、灰分の性
状ヤ融剤の使用の有無などによって異なるが１通常下部
ガス化室出口即ち上部ガス化室へ連通する開口部におい
て約１２００〜１４００℃とするのが適当である。温度
が高い方が下部ガス化室における炭素効率は向上するが
炉材の耐熱限度を考慮してあまり温度が上りすぎるよう
であれば水蒸気を適当量送入し吸熱反応を行わせる等し
て温度を所定範囲内に調節する。

（Ｃ）上部ガス化室におけるガス化 この工程ではｆＦＪ記（ａ）工程の流動層乾燥器で生成
した水蒸気の一部を二車式ガス化炉の上部ガス化室に送
入し、前記（ｂ）工程で生成した下部ガス化室からの一
酸化炭素を主体とするガスと接触させて輻 水素及び二酸化炭素への輪化反応を行わせる。ここで［
生成した水蒸気の一部］というのは、流動層乾燥器で生
成しライン２１で排出さ几た水蒸気の一部を流動用ガス
として分岐し乾燥器に循環した残りの水蒸気の全部乃至
そのまた一部分を言う。

こｎを第１図により説明すると、流動層乾燥器１４から
ライン２１に排出された水蒸気の一部をライン３０で導
き上部ガス化室２の下部に設けた水蒸気ノズル１０．ｔ
ｏ’から上部ガス化室内に送入する。この水蒸気も壁面
にそって切線方向に送入し上部ガス化室内に旋回流を形
成させることが好ましい。下部ガス化室からの一酸化炭
素を主体と。

するガスとの混合が助長さ几るほが、下部ガス化室から
同伴さｎて来る未燃微粉炭の滞留時間が長くなり、その
ガス化反応が促進さ几るからである。

−酸化炭素を主体とするガスは開口部６から導入さ几、
水蒸気との転化反応を主体とする反応が行　　・わルる
。生成ガスは排出口１３から取出さ几る。

尚上部ガス化室へは、適宜少量の酸素含有ガスを送入す
ることによって、そこの温度を調節することができる。

ここで上部ガス化室及び下部ガス化室で行われる反応を
第１表に示す。

生成ガス、ダスト ↓ スラグ 第　　１　　表 下部ガス化室では主として■、■、■の発熱反応と、こ
こに送入された水蒸気量に応じて■の転化反応が進行し
、全体として著しい発熱となる。

また上部ガス化室では主として■の転化反応が進行して
吸熱となる。従って下部ガス化室から開口部６を通じて
導入された約１２００−１４００　Ｕの一酸化炭素を主
体とするガスは水蒸気との転化反応によ覗水素を生成す
ると共に温度が低下する。

排出口１３における生成ガス出口温度は、生成ガスに不
可避的に同伴される微細な灰分が溶融乃至半溶融状態で
排出されて出口以降の管路に融着することのないような
温度、即ち約８００−１００（１以下にすることが望ま
しい。

上部ガス化室にきわめて大量の水蒸気を送入し。

■の吸熱反応を行わせて、生成ガス中のＨ２を増大させ
ればそｎだけで必要な温度低下を生じさせることも可能
ではあるが、高温な生成ガスの有する顕熱の大部分が送
入水蒸気の温度上昇に使われてしまい熱効率上不利であ
る。これに対して上部ガス化室へ通常量の水蒸気送入を
行った場合には必要な温度低下を生じさせることができ
ない。そこでガス化炉で発生したこの余分の熱量を前記
（ａ）工程の流動層乾燥器において微粉炭の水スラリー
を加熱するための熱源として利用するのが好都合である
。

ガス化炉で発生した余分の熱量の利用方式、即ち熱量を
上部ガス化室から流動層乾燥器へ移動させる方式はいく
つもあるが、その１つは両者の間に熱媒体を循環させる
方式である。第１図により説明すれば、上部反一応室２
内に吸熱管３１′ｆ：設け。

流動層乾燥器の加熱管１７との間を循環ポンプ３２によ
り熱媒体を循環させる。熱媒体はガスでも液でも差支え
ないが、所要伝熱面積やシールの問題を考慮すｎば液状
熱媒体、ことに高沸点の液状熱媒体が好ましい。ヒート
パイプ等の使用も考えられる。別法としては、高温の生
成ガスそのものを流動層の加熱管１７中に通す方法があ
る。この場合はガス温度が同伴灰分の融着温度以下にな
っていることが望ましい。

下部ガス化室は高温であるからガス化速度が早く、比較
的小容積でも高い炭素効率を得ることができるのに対し
て、上部ガス化室では温度が低くなるために比較的大き
な容積をノーとし１通常下部ガス化室の容積の約２倍以
上、好ましくは約４倍以上とするのがよい。

下部ガス化室から上部ガス化室へは一酸化炭素を主体と
するガス以外に、それに同伴さｎて未燃微粉炭の一部も
導入さ几るが、そｎも第１表に示さｎた諸反応によジガ
ス化されて炭素効率はさらに向上する。生成ガスの発熱
量を増大するためメタンの含有量を増加させることが望
ましい場合などには、微粉炭、ピッチ、重質油などの炭
素質原料をさらに上部ガス化室に添加し１もよい。

既述の如く下部ガス化室の温度を炉材の耐熱温度以下に
制御するために下部ガス化室に水蒸気を送入する場合が
あり、また乾燥微粉炭をバーナーから噴射するために水
蒸気エゼクタ−を使用する場合は不可避的に水蒸気が下
部ガス化室に導入されるが、いずれの場合又は併用する
場合も含めて下部ガス化室へ送入する水蒸気量を上部ガ
ス他室へ送入する水蒸気量の２分の１以下とする方が熱
効率向上の点で好ましい。最終的に水素リッチのガスを
必要とする場合は上部ガス室又はそｎ以降で水蒸気との
転化反応を行わせるのがよい。

例１ 第１図と同様な装置を使用した。但し流動層乾燥器は２
系列とし、各々の内径は０．５　ｍ　、流動層高さは約
２ｍ　であり、流動層に熱媒体が通る加熱管（２インチ
管）を上下方向に多数全長として約５０ｍ設置した。熱
媒体は市販のアルキルナフタリン系有機熱媒体を使用し
た。

二基式ガス化炉の下部ガス化室の内径は約０６ｍ、有効
高さは約１．１　ｍ　、上部ガス化室の内径は約０．８
ｍ、有効高さは約４ｍとし、その壁面にそ他室には微粉
炭バーナーを各何動層乾燥器から３本ずつ２合計６本を
設置した。

原料としてはオーストクリア炭（発熱＠　７０１８圓／
＃）を２ｍ以下２重量平均径約０．１５ｍに粉砕した微
粉炭を用いた。

下部ガス化室への送入水蒸気量は、乾燥微粉炭をエゼク
タ−で圧入するに必要な貴にとどめ、大部分の水蒸気を
上部ガス化室へ送入した。

操業条件は次の通りである。

（流動層乾燥器） 微粉炭供給量　　　　　　　　　　　７００＃／ｈ微粉
炭水スラリ一固体濃度　　　　　６７　％流動用水蒸気
量（循環）　　　　　　　ｒ７ｓ＃／ｈ流動層温度　　
　　　　　　　　　２３５　℃熱媒体平均温度　　　　
　　　　　　３ｏｏ　℃熱媒体循環量　　　　　　　　
　　２．５ｘｔＯ’＃／ｈｒ（ガス化炉） 圧力（上部ガス化室出口）、　　　　　　　１１　　ｋ
ｙ／ｌｒｉ微粉炭当ジ送入水蒸気量 下部ガス化室　　　　　　　　　　０．１０　　Ｊｒｆ
／ｋｆ上部ガス化室　　　　　　　　　　０．４０　　
Ｊｃｆ／ｋｇ酸素濃度　　　　　　　　　　　　　　９
８　％微粉失当り酸素供給！　　　　　　　　０．５９
２ＮＩＴＩ’／／ｆｉ１流下スラグ温度　　　　　　　
　　１４５０　　ｔｌ：：上部ガス化室出口温度　　　
　　　　　８５０　　℃こｎに対し生成ガスは 微粉炭当り発生量　　　　　　　　　２．２４Ｎゴ／＃
組成　ＣＯ２１３，３ｖｏ１％ ＣＯ４７，７ Ｈ２３７，２７７ ＣＨ４０，７゜ Ｎ２その他　　　　　　　　　１．ｌ〃熱効率　　　　
　　　　　　　　　８４　　　％（生成ガス発熱量／石
炭発熱量） また原単位で示すと Ｃ（Ｊ＋Ｈ２当り微粉炭所要量　　　　０．５２５Ａｉ
ｌ／Ｎｒｎ’ＣＯ＋Ｈ２当酸素（９８％）所要量　　０
．３１１Ｎ吃隅″であった。

例２（参考例） 例１と同じ装置を用い１例１の全送入水蒸気量を下部ガ
ス化室へ送入した。その結果、ガス化炉の温度を維持す
るに必要な酸累量が増大した。

操業条件の中で、特に例１と異なる点は次の通りである
。

（ガス化炉） 微粉炭当り送入水蒸気量 下部ガス化室　　　　　　　　　　０．５０　　＃／ｊ
ｃｌ上部ガス化室　　　　　　　　　　Ｏｋｆ１ｋｇ微
粉炭当り酸素供給量　　　　　　０．６３２　Ｎ　Ｔｌ
ｌ’／＃こ几に対し生成ガスは 微粉炭当り発生量　　　　　　　　　２．２１Ｎｍ”／
に９組成　ＣＯ２ｔ　５．７　　ｖｏｌ　％ＣＯ４６，
２＃ Ｈ２３６，３７’ ＣＨ４０，７１／ Ｎ２その他　　　　　　　　　　　　１．ｌ〃熱効率　
　　　　　　　　　　　８１　　　％また原単位として
はＣＯ＋Ｈ２当り微粉炭所要量ｏ、ｓ　、ｉ　ｓ＃／Ｎ
　ｍ’ ＣＯ＋　Ｈ２当り酸素（９８％）所要量０．３４６Ｎ値
小ば であり１例１に比べて熱効率の低下および原単位　Ｔの
増大が顕著に認めらｎた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の詳細な説明するためのフローシート、
第２図は本発明の実施に適した下部ガス化室の構造を説
明するための水平断面図である。 代理人　弁理士前　麻　昌　二 第　１　図 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （リ　上部ガス化室及び下部ガス化室を有し画室が狭い
   開口部で連通されている二基式ガス化炉ならびに微粉炭
   スラリーの流動層乾燥器により本質的に構成さ几ている
   加圧式微粉炭ガス化装置を使用し。 （ａ）　　微粉炭の水スラリーを流動層乾燥器に圧入し
   て加圧水蒸気を流動用ガスとする流動層を形成させると
   共に加熱して水蒸気及び乾燥微粉炭を生成させ、生成し
   た水蒸気の一部を昇圧して流動層乾燥器の底部に循環し
   １流動用ガスとして用い。 （ｂ）　　ｉＭ動動転乾燥器生成した乾燥微粉炭を二基
   式ガス化炉の下部ガス化室に送入し酸素含有ガスにより
   酸化して一酸化炭素に富むガスを生成させて上部ガス化
   室に送り。 （Ｃ）　　流動層乾燥器で生成した水蒸気の一部を二基
   式ガス化炉の上部ガス化室に送入し下部ガス化室からの
   一酸化炭素に富むガスと接触させて水素及び二酸化炭素
   への転化反応を行わせる、ことｆ、％徴とする加圧式微
   粉炭ガス化法。 （２）流動層乾燥器からの微粉炭及び酸素含有ガスを、
   下部ガス化室の壁面の複数ケ所から壁面にそって円周の
   切線方向に噴射して下部ガス化室内に旋回流を形成させ
   ることよ＃）なる特許請求の範囲第１項の方法。 （３）上部ガス化室への水蒸気の送入金、上部ガス化室
   の壁面の複数ケ所から壁面にそって円周の切線方向に行
   い上部ガス化室内に旋回流を形成させることよＱなる特
   許請求の範囲第１項又は第２項の方法。 （４）　　下部ガス化室へも水蒸気を送入することより
   なる特許請求の範囲第１項、第２項、又は第３項の方法
   。 （５）下部ガス化室へ送入する水蒸気量を上部ガス化室
   へ送入する水蒸気量の２分の１以下とすることよりなる
   特許請求の範囲第４項の方法。 （６）流動層乾燥器において微粉炭の水スラリーを加熱
   するための熱源としてガス化炉で発生した熱量を利用す
   ることよりなる特許請求の範囲第１項、第２項、第３項
   、第４項又は第５項の方法。 （７）二室式ガス化炉の上部ガス化室と流動層乾燥器と
   の間に液状熱媒体全循環させることによりガス化炉で発
   生した熱量を流動層乾燥器へ移動させることよりなる特
   許請求の範囲第６項の方法。 （８）　　二室式ガス化炉で生成した高温のガスを流こ
   とよＶなる等許請求の範囲第６項の方法。