JPS5913519B2 - 1−N−(α−置換−ω−アミノアシル)−3′−デオキシ−5−o−ペントフラノシルネアミン誘導体の新規な製造法 - Google Patents
1−N−(α−置換−ω−アミノアシル)−3′−デオキシ−5−o−ペントフラノシルネアミン誘導体の新規な製造法Info
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- JPS5913519B2 JPS5913519B2 JP50098501A JP9850175A JPS5913519B2 JP S5913519 B2 JPS5913519 B2 JP S5913519B2 JP 50098501 A JP50098501 A JP 50098501A JP 9850175 A JP9850175 A JP 9850175A JP S5913519 B2 JPS5913519 B2 JP S5913519B2
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- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H15/00—Compounds containing hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
- C07H15/20—Carbocyclic rings
- C07H15/22—Cyclohexane rings, substituted by nitrogen atoms
- C07H15/222—Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms
- C07H15/224—Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms with only one saccharide radical directly attached to the cyclohexyl radical, e.g. destomycin, fortimicin, neamine
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- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
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- C07H15/222—Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms
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- C07H15/228—Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms with at least two saccharide radicals directly attached to the cyclohexane rings attached to adjacent ring-carbon atoms of the cyclohexane rings
- C07H15/23—Cyclohexane rings substituted by at least two nitrogen atoms with at least two saccharide radicals directly attached to the cyclohexane rings attached to adjacent ring-carbon atoms of the cyclohexane rings with only two saccharide radicals in the molecule, e.g. ambutyrosin, butyrosin, xylostatin, ribostamycin
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はネアミン誘導体の一つである1−N−(α一置
換−ω−アミノアシル)−3′−デオキシ−5−0−ペ
ントフラノシルネアミン誘導体を製造する新規な方法に
関する。
換−ω−アミノアシル)−3′−デオキシ−5−0−ペ
ントフラノシルネアミン誘導体を製造する新規な方法に
関する。
本発明者等は、患者より分離された薬剤耐性グラム陰性
菌をはじめ耐性ブドウ球菌、緑膿菌がカナマイシンの3
″位の水酸基を燐酸化する酵素を産生し、この酵素によ
つてカナマイシン、カナマイシンBを不活化する耐性機
構を有することを見い出した(サイエンス157巻、1
559頁、1967年)。
菌をはじめ耐性ブドウ球菌、緑膿菌がカナマイシンの3
″位の水酸基を燐酸化する酵素を産生し、この酵素によ
つてカナマイシン、カナマイシンBを不活化する耐性機
構を有することを見い出した(サイエンス157巻、1
559頁、1967年)。
この耐性機構に基づいてカナマイシン耐性菌に有効な抗
生物質の合成に着手し、3′−デオキシカナマイシンA
(特公昭51−33109号);3ζ4′−ジデオキシ
カナマイシンB(以下、DKBという)(特公昭50−
7595号):3′−デオキシカナマイシンB及び3′
−デオキシリボスタマイシン(特公昭57−876号)
;が合成された。
生物質の合成に着手し、3′−デオキシカナマイシンA
(特公昭51−33109号);3ζ4′−ジデオキシ
カナマイシンB(以下、DKBという)(特公昭50−
7595号):3′−デオキシカナマイシンB及び3′
−デオキシリボスタマイシン(特公昭57−876号)
;が合成された。
そして、これらデオキシ誘導体は上述の耐性菌に対し強
い抗菌作用を示し、DKBについては既に臨床効果が確
認されている。さらに患者より分離された少数の耐性グ
ラム陰性菌(R因子大腸菌)がカナマイシン、DKBの
2″位の水酸基をヌクレオチジル化して不活化する酵素
をつくつていることを見出した(ジヤーナル・オブ・ア
ンチビオチクス、25巻、492頁、1972年)。そ
こで本発明者等はカナマイシンの分子模型から考察して
、カナマイシン群抗生物質の1位のアミノ基を修飾して
つくる立体障害によつて、この酵素反応をうけない誘導
体をつくることができると考え、種々の誘導体の研究を
行つた。そして耐性菌に有効な1−N−(4−アミノ−
2−ヒドロキシブチリル)−DKB(特公昭52−33
629号)、1−N−(4−アミノ−2−ヒドロキシブ
チリノリカナマイシン(特開昭49−94648号)、
1−N−イソセリルーカナマイシン(特公昭55−12
038号)、並びに1−N−イソセリルカナマイシンB
および1−N−イソセリルDKB(特公昭55−317
98号)などを合成した。
い抗菌作用を示し、DKBについては既に臨床効果が確
認されている。さらに患者より分離された少数の耐性グ
ラム陰性菌(R因子大腸菌)がカナマイシン、DKBの
2″位の水酸基をヌクレオチジル化して不活化する酵素
をつくつていることを見出した(ジヤーナル・オブ・ア
ンチビオチクス、25巻、492頁、1972年)。そ
こで本発明者等はカナマイシンの分子模型から考察して
、カナマイシン群抗生物質の1位のアミノ基を修飾して
つくる立体障害によつて、この酵素反応をうけない誘導
体をつくることができると考え、種々の誘導体の研究を
行つた。そして耐性菌に有効な1−N−(4−アミノ−
2−ヒドロキシブチリル)−DKB(特公昭52−33
629号)、1−N−(4−アミノ−2−ヒドロキシブ
チリノリカナマイシン(特開昭49−94648号)、
1−N−イソセリルーカナマイシン(特公昭55−12
038号)、並びに1−N−イソセリルカナマイシンB
および1−N−イソセリルDKB(特公昭55−317
98号)などを合成した。
さらに本発明者等はカナマイシンBまたはDKBの1位
と2′位の両アミノ基が一般式H2N−(CTI2)n
−CH(0H)−COOHで示されるα−ヒドロキシア
ミノ酸でアシル化されたカナマイシンB誘導体を合成し
、カナマイシン感受性菌のみならず、緑膿菌を含む種々
の耐性菌に強い抗菌性を有し、毒性の低い物質であるこ
とを確認した。
と2′位の両アミノ基が一般式H2N−(CTI2)n
−CH(0H)−COOHで示されるα−ヒドロキシア
ミノ酸でアシル化されたカナマイシンB誘導体を合成し
、カナマイシン感受性菌のみならず、緑膿菌を含む種々
の耐性菌に強い抗菌性を有し、毒性の低い物質であるこ
とを確認した。
これらの誘導体は上述の如くアミノ配糖体抗生物質の耐
性機構の鮮明と、活性と構造の関係の研究に基いて、化
学的に誘導された物質である。また本発明者らは先に1
−N−(α一置換−ωアミノアンツリー3′−デオキシ
リボスタマイシンを合成した(特公昭55−3357号
及び特開昭51−127046号)。本発明はこれら2
の発明とは異なる方法で1−N−(α一置換−ω一アミ
ノアシル)−3′−デオキシリボスタマイシンを初めと
する1−N−(α一置換−ω−アミノアシル)−3′−
デオキシ−5−0−ペントフラノシルネアミン誘導体を
製造する方法を提供するものである。すなわち本発明で
は3′−デオキシパロマミン又は31−デオキシネアミ
ンの1位のアミノ基と、6位の水酸基とが互に結合して
1・6−カルバメート環を形成することを発見し、さら
に4/・6′の水酸基又はこれら水酸基とアミノ基が容
易に保護試薬と反応して保護、閉塞された形となり、5
位の水酸基のみを選択的に遊離の状態とすることができ
、これに五炭糖のハロゲニド又はこれの1位活性体を反
応させると容易に3′−デオキシパロマミン又は3′−
デオキシネアミン部分の5位と五炭糖の1〃位との間に
結合が起り、5・1〃一結合が生成することを発見した
。さらに、前記の1・6−カルバメート化合物はアルカ
リ性条件下で加水分解されると、特異的にその1・6−
カルバメート環が分解して1位のアミノ基が遊離となり
、この際に、他の保護されたアミノ基からは保護基が脱
離されないこと、並びに遊離の1位アミノ基に一般式(
)で示されるアミノ酸化合物又はそのカルボキシル基に
於ける官能性誘導体を反応させると、高収率で1位アミ
ノ基がl−N−(α一置換−ω−アミノアシル)化され
ることを発見した。これら発,見に基づいて本発明を完
成した。すなわち、第1の本発明の要旨とするところは
次の一般式〔式中Yは次式 (但しR1及びR2はそれぞれ水素原子、アルキル基又
はアリール基を示す)を表わすか又はシクロアルキリデ
ン基、テトラヒドロピラニル基、カルボニル基又はフエ
ニルボロン基を表わすヒドロキシル保護基であり、zは
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基
、アラルコキシカルボニル基、アシル基、アロイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はアラ
ルキルスルホニル基を表わすアミノ保護基である〕で表
わされる3′−デオキシパロマミン1・6−カルバメー
ト誘導体化合物に次の一般式〔式中R3はアシル基、ア
ロイノ曝、アルコキシカルボニル基又はアラルコキシカ
ルボニル基を表わすヒドロキシル保護基であり、Xはハ
ロゲン原子、アシノ匈j幻まアロイル基を表わし、wは
基−0R3(但しR3は上記と同一の意義を有する)で
示されるアシルオキシ基を表わす〕で表わされるペント
フラノシル化合物又は次の一般式〔式中R3及びwは前
記と同一の意義を有し、R4はアルキル基又はアリール
基を表わし、R5はアルキル基を表わす〕で表わされる
ペントフラノシル・オルソエステル化合物を反応させて
次の一般式〔式中R3、R4、Y.Z及びWは前記と同
一の意義を有する〕で表わされる化合物を生成させ、そ
の後に該化合物を加水分解することによりヒドロキシル
保護基の一部を脱離して次の一般式〔式中、R3、 R4、 Z及びwは前記と同じ意義を 有する〕で表わされる化合物を生成し、次いでこれを次
の一般式R6SO2T(V) 〔式中R6はアルキル基、アリール基、又はアラルキル
基を表わし、Tはハロゲン原子特に塩素又は臭素、若し
くは−0S02R6(但しR6は前記の意味をもつ)の
基を表わす〕で表わされるスルホン化剤化合物を反応さ
せて6粒ヒドロキシル基を選択的にスルホン化させ、さ
らにアジ化化合物を作用させて6′位スルホニルエステ
ル基をアジド化して6′−アジド基に転化させ、さらに
塩基性条件下で加水分解して1・6−カルバメート環を
開裂させることにより1位アミノ基と6位ヒドロキシル
基を遊離させ、これと同時に、残存したヒドロキシル保
護基の一部又は全部を脱離させ、その生成物に次の一般
式〔式中、R7は−0H、−NH2または−NHR8(
但しR8はアシル基である)を表わし、nは1、2、3
又は4の整数を表わし、Aは水素原子又は公知の一価の
アミノ基保護基を表わし、Bは水素原子又は公知の一価
のアミノ基保護基を表わし、若しくはA及びBは両者が
一諸になつて一つの公知の二価のアミノ基保護基を表わ
す〕で表わされるアミノ酸化合物又はこれのカルボキシ
ル基におけるおける反応性誘導体を作用させて次の一般
式〔式中、A.B.R7、z及びnは前記と同じ意義を
表わし、R73は水素原子又はR3(R3は前記と同一
の意義を有する)を表わし、Wは水酸基(即ち0H)又
はW(Wは前記と同一の意義を有する)を表わす〕で表
わされる1−N−アシル化化合物な生成し、つぎに6′
−アジド基を還元してアミノ化せしめ、これと同時に又
はその以後に、残存した保護基があればこれを脱離する
ことを特徴とする、次の一般式〔式中、R7及びnは前
記と同じ意義を有する〕で表わされる1−N−(α一置
換一ω−アミノアシル)−3′−デオキシ−5−0−ペ
ントフラノシルネアミン誘導体の製造法にある。
性機構の鮮明と、活性と構造の関係の研究に基いて、化
学的に誘導された物質である。また本発明者らは先に1
−N−(α一置換−ωアミノアンツリー3′−デオキシ
リボスタマイシンを合成した(特公昭55−3357号
及び特開昭51−127046号)。本発明はこれら2
の発明とは異なる方法で1−N−(α一置換−ω一アミ
ノアシル)−3′−デオキシリボスタマイシンを初めと
する1−N−(α一置換−ω−アミノアシル)−3′−
デオキシ−5−0−ペントフラノシルネアミン誘導体を
製造する方法を提供するものである。すなわち本発明で
は3′−デオキシパロマミン又は31−デオキシネアミ
ンの1位のアミノ基と、6位の水酸基とが互に結合して
1・6−カルバメート環を形成することを発見し、さら
に4/・6′の水酸基又はこれら水酸基とアミノ基が容
易に保護試薬と反応して保護、閉塞された形となり、5
位の水酸基のみを選択的に遊離の状態とすることができ
、これに五炭糖のハロゲニド又はこれの1位活性体を反
応させると容易に3′−デオキシパロマミン又は3′−
デオキシネアミン部分の5位と五炭糖の1〃位との間に
結合が起り、5・1〃一結合が生成することを発見した
。さらに、前記の1・6−カルバメート化合物はアルカ
リ性条件下で加水分解されると、特異的にその1・6−
カルバメート環が分解して1位のアミノ基が遊離となり
、この際に、他の保護されたアミノ基からは保護基が脱
離されないこと、並びに遊離の1位アミノ基に一般式(
)で示されるアミノ酸化合物又はそのカルボキシル基に
於ける官能性誘導体を反応させると、高収率で1位アミ
ノ基がl−N−(α一置換−ω−アミノアシル)化され
ることを発見した。これら発,見に基づいて本発明を完
成した。すなわち、第1の本発明の要旨とするところは
次の一般式〔式中Yは次式 (但しR1及びR2はそれぞれ水素原子、アルキル基又
はアリール基を示す)を表わすか又はシクロアルキリデ
ン基、テトラヒドロピラニル基、カルボニル基又はフエ
ニルボロン基を表わすヒドロキシル保護基であり、zは
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基
、アラルコキシカルボニル基、アシル基、アロイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はアラ
ルキルスルホニル基を表わすアミノ保護基である〕で表
わされる3′−デオキシパロマミン1・6−カルバメー
ト誘導体化合物に次の一般式〔式中R3はアシル基、ア
ロイノ曝、アルコキシカルボニル基又はアラルコキシカ
ルボニル基を表わすヒドロキシル保護基であり、Xはハ
ロゲン原子、アシノ匈j幻まアロイル基を表わし、wは
基−0R3(但しR3は上記と同一の意義を有する)で
示されるアシルオキシ基を表わす〕で表わされるペント
フラノシル化合物又は次の一般式〔式中R3及びwは前
記と同一の意義を有し、R4はアルキル基又はアリール
基を表わし、R5はアルキル基を表わす〕で表わされる
ペントフラノシル・オルソエステル化合物を反応させて
次の一般式〔式中R3、R4、Y.Z及びWは前記と同
一の意義を有する〕で表わされる化合物を生成させ、そ
の後に該化合物を加水分解することによりヒドロキシル
保護基の一部を脱離して次の一般式〔式中、R3、 R4、 Z及びwは前記と同じ意義を 有する〕で表わされる化合物を生成し、次いでこれを次
の一般式R6SO2T(V) 〔式中R6はアルキル基、アリール基、又はアラルキル
基を表わし、Tはハロゲン原子特に塩素又は臭素、若し
くは−0S02R6(但しR6は前記の意味をもつ)の
基を表わす〕で表わされるスルホン化剤化合物を反応さ
せて6粒ヒドロキシル基を選択的にスルホン化させ、さ
らにアジ化化合物を作用させて6′位スルホニルエステ
ル基をアジド化して6′−アジド基に転化させ、さらに
塩基性条件下で加水分解して1・6−カルバメート環を
開裂させることにより1位アミノ基と6位ヒドロキシル
基を遊離させ、これと同時に、残存したヒドロキシル保
護基の一部又は全部を脱離させ、その生成物に次の一般
式〔式中、R7は−0H、−NH2または−NHR8(
但しR8はアシル基である)を表わし、nは1、2、3
又は4の整数を表わし、Aは水素原子又は公知の一価の
アミノ基保護基を表わし、Bは水素原子又は公知の一価
のアミノ基保護基を表わし、若しくはA及びBは両者が
一諸になつて一つの公知の二価のアミノ基保護基を表わ
す〕で表わされるアミノ酸化合物又はこれのカルボキシ
ル基におけるおける反応性誘導体を作用させて次の一般
式〔式中、A.B.R7、z及びnは前記と同じ意義を
表わし、R73は水素原子又はR3(R3は前記と同一
の意義を有する)を表わし、Wは水酸基(即ち0H)又
はW(Wは前記と同一の意義を有する)を表わす〕で表
わされる1−N−アシル化化合物な生成し、つぎに6′
−アジド基を還元してアミノ化せしめ、これと同時に又
はその以後に、残存した保護基があればこれを脱離する
ことを特徴とする、次の一般式〔式中、R7及びnは前
記と同じ意義を有する〕で表わされる1−N−(α一置
換一ω−アミノアシル)−3′−デオキシ−5−0−ペ
ントフラノシルネアミン誘導体の製造法にある。
第1の本発明において、原料化合物である一般式(1)
の1・6−カルバメート化合物について、基Yはの型の
ヒドロキシル保護基を示す時は、 R,、R2力ぐアルキル基である適当な例は炭素数1〜
4のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基である。
の1・6−カルバメート化合物について、基Yはの型の
ヒドロキシル保護基を示す時は、 R,、R2力ぐアルキル基である適当な例は炭素数1〜
4のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基である。
R1、R2がアリール基である適当な例は、フエニル基
、メチルフエニル基、メトキシフエニル基である。Yが
シクロアルキリデン基を表わす適当な例は、炭素数5〜
7のシクロアルキリデン基、例えばシクロペンチリデン
基、シクロヘキシリデン基、シクロヘプチリデン基であ
る。またYはテトラヒドロピラニノ曝(0(X)、カル
ボニル基、フエニルボロン基を表わすこともできる。
、メチルフエニル基、メトキシフエニル基である。Yが
シクロアルキリデン基を表わす適当な例は、炭素数5〜
7のシクロアルキリデン基、例えばシクロペンチリデン
基、シクロヘキシリデン基、シクロヘプチリデン基であ
る。またYはテトラヒドロピラニノ曝(0(X)、カル
ボニル基、フエニルボロン基を表わすこともできる。
またZがアルコキシカルボニル基、特に炭素数1〜4の
アルコキシカルボニル基である場合の例としては、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシ
カルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシ
カルボニル基、t−ブトキシカルボニル基があげられ、
アリールオキシカルボニル基の例としては、フエノキシ
カルボニル基、パラニトロフエノキシカルボニル基、Z
がアラルコキシカルボニル基である場合の例としてはベ
ンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキ
シカルボニル基、パラエトキシベンジルオキシカルボニ
ル基、パラクロロベンジルオキシカルボニル基、パラニ
トロベンジルオキシカルボニル基があげられ、Zがアシ
ル基である場合の例としては炭素数2〜5のアルカノイ
ル基、特にアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、
バレリル基があげられ、Zがアロィル基である場合の例
としてはベンゾイル基、パネーニトロベンゾイル基、ナ
フトール基があげられる。一般式()又は(W)で示さ
れるペントフラノシル化合物の例としては、β−D−リ
ボフラノシル誘導体、β−D−キシロフラノシル誘導体
、α−L−アラビノフラノシル誘導体、5−アミノ−5
−デオキシ−β−D−キシロフラノシル誘導体、即ち一
般的にペントフラノシル誘導体があげられる。
アルコキシカルボニル基である場合の例としては、メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシ
カルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシ
カルボニル基、t−ブトキシカルボニル基があげられ、
アリールオキシカルボニル基の例としては、フエノキシ
カルボニル基、パラニトロフエノキシカルボニル基、Z
がアラルコキシカルボニル基である場合の例としてはベ
ンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキ
シカルボニル基、パラエトキシベンジルオキシカルボニ
ル基、パラクロロベンジルオキシカルボニル基、パラニ
トロベンジルオキシカルボニル基があげられ、Zがアシ
ル基である場合の例としては炭素数2〜5のアルカノイ
ル基、特にアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、
バレリル基があげられ、Zがアロィル基である場合の例
としてはベンゾイル基、パネーニトロベンゾイル基、ナ
フトール基があげられる。一般式()又は(W)で示さ
れるペントフラノシル化合物の例としては、β−D−リ
ボフラノシル誘導体、β−D−キシロフラノシル誘導体
、α−L−アラビノフラノシル誘導体、5−アミノ−5
−デオキシ−β−D−キシロフラノシル誘導体、即ち一
般的にペントフラノシル誘導体があげられる。
一般式()又は(○のベントフラノシル化合物における
R3がアシル基である場合は、その具体的な例として炭
素数2〜5のアルカロイル基、例えばアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基があげられ、R3がアロイル基
である場合の例としてはベンゾイル基、パラクロロベン
ゾイル基パラニトロベンゾイル基があげられる。
R3がアシル基である場合は、その具体的な例として炭
素数2〜5のアルカロイル基、例えばアセチル基、プロ
ピオニル基、ブチリル基があげられ、R3がアロイル基
である場合の例としてはベンゾイル基、パラクロロベン
ゾイル基パラニトロベンゾイル基があげられる。
R3がアルコキシカルボニル基である場合の例としては
エトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニノ堪、t
−アミルオキシカルボニル基があげられ、アラルコキシ
カルボニル基である場合の例としては、ベンジルオキシ
カルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル
基、パラエトキシベンジルオキシカルボニル基、パラク
ロロベンジルオキシカルボニル基などの化合物をあげる
ことが出来る。また式()の化合物中の基Xとしては特
にハロゲン原子すなわち臭素、ヨウ素、塩素、フツ素か
ら選ばれた置換基をあげることが出来る。一般式(″)
で示される化合物のR4の具体的な例としてはメチル基
、フエニル基、パラニトロフエニル基があげられ、R5
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチ
ル基、t−ブチル基などがあげられる。この際(○式の
化合物は1・2−シスのオルソエステルの形である。第
1の本発明の方法において、(1)式θ化合物に()又
は(つの化合牧険縮合反応させる時の反応溶媒としては
、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、アセトュトリル、ュトロメタン、ベンゼン、ト
ルエン、エーテル等の如き、反応に不活性な溶媒はすべ
て使用可能である。
エトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニノ堪、t
−アミルオキシカルボニル基があげられ、アラルコキシ
カルボニル基である場合の例としては、ベンジルオキシ
カルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル
基、パラエトキシベンジルオキシカルボニル基、パラク
ロロベンジルオキシカルボニル基などの化合物をあげる
ことが出来る。また式()の化合物中の基Xとしては特
にハロゲン原子すなわち臭素、ヨウ素、塩素、フツ素か
ら選ばれた置換基をあげることが出来る。一般式(″)
で示される化合物のR4の具体的な例としてはメチル基
、フエニル基、パラニトロフエニル基があげられ、R5
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチ
ル基、t−ブチル基などがあげられる。この際(○式の
化合物は1・2−シスのオルソエステルの形である。第
1の本発明の方法において、(1)式θ化合物に()又
は(つの化合牧険縮合反応させる時の反応溶媒としては
、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン
、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、アセトュトリル、ュトロメタン、ベンゼン、ト
ルエン、エーテル等の如き、反応に不活性な溶媒はすべ
て使用可能である。
また反応を促進させるためにシアン化第二水銀、臭化第
二水銀、炭酸銀、酸化銀、ピリジン等を加えて反応を行
わしめるのが適当である。反応は0〜150℃の範囲で
行われ反応時間は0.5〜48時間である。かくして得
られた()又は(″)式の化合物を、例えば、希塩酸、
含水酢酸、含水プロピオン酸等の含水脂肪族カルボン酸
を用いる酸性条件下で、又は限られた量の水酸化バリウ
ム水溶液等を用いる塩基性条件下で加水分解すると、こ
の加水分解反応により、ヒドロキシル保護基の一部とし
て基Yが脱離され、()又は(IV)式の化合物が生成
する。
二水銀、炭酸銀、酸化銀、ピリジン等を加えて反応を行
わしめるのが適当である。反応は0〜150℃の範囲で
行われ反応時間は0.5〜48時間である。かくして得
られた()又は(″)式の化合物を、例えば、希塩酸、
含水酢酸、含水プロピオン酸等の含水脂肪族カルボン酸
を用いる酸性条件下で、又は限られた量の水酸化バリウ
ム水溶液等を用いる塩基性条件下で加水分解すると、こ
の加水分解反応により、ヒドロキシル保護基の一部とし
て基Yが脱離され、()又は(IV)式の化合物が生成
する。
次いで()又は(IV○式の化合物に対して(V)式の
スルホン化剤化合物(R6SO2T)を作用させて6/
位ヒドロキシル基を選択的にスルホン化させる。
スルホン化剤化合物(R6SO2T)を作用させて6/
位ヒドロキシル基を選択的にスルホン化させる。
この時の()式の化合物のR6SO2基がアルキルスル
ホニル基である場合の例としては、メチルスルホニル基
、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチル
スルホニル基があげられ、アリールスルホニル基である
場合の例としてはパラトルエンスルホニノレ基、オルト
ニトロベンゼンスルホニル基、パラニトロベンゼンスル
ホニル基、2−ナフタレンスルホニル基などがあげられ
、アラルキルスルホニル基である場合の例としてベンジ
ルスルホニル基があげられる。
ホニル基である場合の例としては、メチルスルホニル基
、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチル
スルホニル基があげられ、アリールスルホニル基である
場合の例としてはパラトルエンスルホニノレ基、オルト
ニトロベンゼンスルホニル基、パラニトロベンゼンスル
ホニル基、2−ナフタレンスルホニル基などがあげられ
、アラルキルスルホニル基である場合の例としてベンジ
ルスルホニル基があげられる。
またTが−0S02R6である場合、すなわち()式の
スルホン化剤がスルホン酸無水物の形である場合の例と
してはメチルスルホン酸無水物、トルエンスルホン酸無
水物が使用出来る。このスルホン化反応で使用する反応
溶媒としては、ピリジン、ジオキサン、塩化メチレン等
の如き反応に不活性な溶媒はすべて使用可能である。ス
ルホン化反応は一般に−300〜150℃の範囲で行わ
れる。かくして得られた6′−スルホン化体にアジ化剤
を反応させて6″−アジ化体を製造する。この時使用出
来るアジ化剤の例としては、アジ化ナトリウム、アジ化
カリウムの如きアルカリ金属アジ化物又はアジ化アンモ
ニウムなどの化合物があげられる。このアジ化反応に使
用できる溶媒としてはジメチルホルムアミド、アセトニ
トリル、ジオキサン、ピリジン、ジクロロメタン等の溶
媒が使用できる。かくして得られた6′−アジ化体を塩
基性試薬、例えば水酸化ナトリウム、水酸化バリウム、
炭酸ナトリウムを用いて塩基性条件下で加水分解を行つ
て1・6−カルバメート環を開裂させ、このようにして
1位のアミノ基及び6位の水酸基を遊離する。
スルホン化剤がスルホン酸無水物の形である場合の例と
してはメチルスルホン酸無水物、トルエンスルホン酸無
水物が使用出来る。このスルホン化反応で使用する反応
溶媒としては、ピリジン、ジオキサン、塩化メチレン等
の如き反応に不活性な溶媒はすべて使用可能である。ス
ルホン化反応は一般に−300〜150℃の範囲で行わ
れる。かくして得られた6′−スルホン化体にアジ化剤
を反応させて6″−アジ化体を製造する。この時使用出
来るアジ化剤の例としては、アジ化ナトリウム、アジ化
カリウムの如きアルカリ金属アジ化物又はアジ化アンモ
ニウムなどの化合物があげられる。このアジ化反応に使
用できる溶媒としてはジメチルホルムアミド、アセトニ
トリル、ジオキサン、ピリジン、ジクロロメタン等の溶
媒が使用できる。かくして得られた6′−アジ化体を塩
基性試薬、例えば水酸化ナトリウム、水酸化バリウム、
炭酸ナトリウムを用いて塩基性条件下で加水分解を行つ
て1・6−カルバメート環を開裂させ、このようにして
1位のアミノ基及び6位の水酸基を遊離する。
この加水分解の際に2〃、3〃、5〃位の保護基R3は
、その種類に応じて加水分解により同時に脱離されるこ
とがある。次いで次の一般式() 〔式中、R7は−0H、−NH2または−NHR8(但
しR8はアシル基、特に低級アルカノイル基である)を
表わし、nは112、3又は4の整数を表わし、Aは水
素原子又は公知の一価のアミノ基保護基を表わし、Bは
水素原子又は公知の一価のアミノ基保護基を表わし、若
しくはA及びBは両者が一諸になつて一つの公知の二価
のアミノ基保護基を表わす〕で表わされるアミノ酸化合
物又はこれのカルボキシル基における反応性誘導体例え
ば酸ハライド、酸無水物又はN−ハイドロキシサクシイ
ミドエステルを作用させると、一般式()の1−N−ア
シル化化合物を生成する。
、その種類に応じて加水分解により同時に脱離されるこ
とがある。次いで次の一般式() 〔式中、R7は−0H、−NH2または−NHR8(但
しR8はアシル基、特に低級アルカノイル基である)を
表わし、nは112、3又は4の整数を表わし、Aは水
素原子又は公知の一価のアミノ基保護基を表わし、Bは
水素原子又は公知の一価のアミノ基保護基を表わし、若
しくはA及びBは両者が一諸になつて一つの公知の二価
のアミノ基保護基を表わす〕で表わされるアミノ酸化合
物又はこれのカルボキシル基における反応性誘導体例え
ば酸ハライド、酸無水物又はN−ハイドロキシサクシイ
ミドエステルを作用させると、一般式()の1−N−ア
シル化化合物を生成する。
ここで一般式()で示されるアミノ酸化合物(アシル化
剤)のα一置換基R7としては、水酸基、アミノ基又は
アシル置換アミノ基例えばアセチルアミノ基があげられ
る。式()のアミノ酸化合物において、A及びBは共に
水素であることもできるがA.Bの各々が一価のアミノ
保護基である時はアシル基、アルコキシカルボニル基、
アラルキルオキシカルボニル基またはアリールオキシカ
ルボニル基又はスルホニル基であるのが好ましい。A及
びBが一諸になつて一つの公知の二価のアミノ基保護基
を表わす場合には、アルキリデン基またはアリーリデン
基であるのが好ましい。一価のアミノ基保護基A.Bの
具体例としては、アシル基として例えばアセチル基、ベ
ンゾイル基およびオルトニトロフエニル基:アルコキシ
カルボニル基としては例えば第三級ブチルオキシカルボ
ニル基および第三級アミルオキシカルボニル基:アラル
コキシカルボニル基としては例えばベンジルオキシカル
ボニルニル基およびパラニトロベンジルオキシカルボニ
ル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基;アリ
ールオキシカルボニル基としては例えばフエノキシカル
ボニル基、パラメトキシフエノキシカルボニル基:低級
アルキルスルホニル基としては例えばメチルスルホニル
基;アリールスルホニル基として例えばパラトルエンス
ルホニル基;アラルキルスルホニル基としては例えばベ
ンジルスルホニル基などの置換基があげられる。基A及
びB力L体として一つの二価アミノ基保護基であるとき
は、これは式〈 》D又は一CHD(こXにDはアルキ
ル基又はアリール基)で示される基であるのが好ましく
、前者の場合はたとえば全体としてプタロール基、また
後者の場合のDとしてはアルキル基としてはメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基:アリール基としては
フエニル基、パラメトキシフエニル基、パラクロロフエ
ニル基、パラニトロフエニル基などの置換基があげられ
る。
剤)のα一置換基R7としては、水酸基、アミノ基又は
アシル置換アミノ基例えばアセチルアミノ基があげられ
る。式()のアミノ酸化合物において、A及びBは共に
水素であることもできるがA.Bの各々が一価のアミノ
保護基である時はアシル基、アルコキシカルボニル基、
アラルキルオキシカルボニル基またはアリールオキシカ
ルボニル基又はスルホニル基であるのが好ましい。A及
びBが一諸になつて一つの公知の二価のアミノ基保護基
を表わす場合には、アルキリデン基またはアリーリデン
基であるのが好ましい。一価のアミノ基保護基A.Bの
具体例としては、アシル基として例えばアセチル基、ベ
ンゾイル基およびオルトニトロフエニル基:アルコキシ
カルボニル基としては例えば第三級ブチルオキシカルボ
ニル基および第三級アミルオキシカルボニル基:アラル
コキシカルボニル基としては例えばベンジルオキシカル
ボニルニル基およびパラニトロベンジルオキシカルボニ
ル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基;アリ
ールオキシカルボニル基としては例えばフエノキシカル
ボニル基、パラメトキシフエノキシカルボニル基:低級
アルキルスルホニル基としては例えばメチルスルホニル
基;アリールスルホニル基として例えばパラトルエンス
ルホニル基;アラルキルスルホニル基としては例えばベ
ンジルスルホニル基などの置換基があげられる。基A及
びB力L体として一つの二価アミノ基保護基であるとき
は、これは式〈 》D又は一CHD(こXにDはアルキ
ル基又はアリール基)で示される基であるのが好ましく
、前者の場合はたとえば全体としてプタロール基、また
後者の場合のDとしてはアルキル基としてはメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基:アリール基としては
フエニル基、パラメトキシフエニル基、パラクロロフエ
ニル基、パラニトロフエニル基などの置換基があげられ
る。
この時の1−N−アシル化反応の溶媒は、水lテトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチル
エーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、プロピレングリコールジメチルエーテル又はそれら
の混合溶媒が使用できるが、なかでも水とテトラヒドロ
フランの混合溶媒が好ましい。
ドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチル
エーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、プロピレングリコールジメチルエーテル又はそれら
の混合溶媒が使用できるが、なかでも水とテトラヒドロ
フランの混合溶媒が好ましい。
1−N−アシル化反応の温度は50℃以下、好ましくは
25℃以下が最適である。
25℃以下が最適である。
さらにこの時使用出来るアミノ酸の反応性誘導体として
は酸ハロゲニド、酸アジド、活性エステル、混合酸無水
物があげられる。また本発明で使用される一般式()で
表わさせるアシル化剤化合物、すなわち。
は酸ハロゲニド、酸アジド、活性エステル、混合酸無水
物があげられる。また本発明で使用される一般式()で
表わさせるアシル化剤化合物、すなわち。
一置換一。アミノ酸化合物はラセミ体でも光学活性体で
あつてもよいが、例えばα−ヒドロキシ−γ−アミノ酪
酸(n=2の場合)およびα−ヒドロキシ−δアミノ吉
草酸の場合には目的物の抗菌性からL体が好ましい。前
記の1−N−アシル化反応で得られた一般式()の1−
N−アシル化合物を、次いでパラジウム、白金、ラネー
ニツケル、ロジウム、ルテニウムおよびニツケル等から
選ばれた触媒の存在下に水素で処理をするか又は液体ア
ンモニア中の金属リチウム、金属ナトリウムなどで処理
することによつて、l−N−アシル化化合物の6′位ア
ジド基をアミノ基に還元する。
あつてもよいが、例えばα−ヒドロキシ−γ−アミノ酪
酸(n=2の場合)およびα−ヒドロキシ−δアミノ吉
草酸の場合には目的物の抗菌性からL体が好ましい。前
記の1−N−アシル化反応で得られた一般式()の1−
N−アシル化合物を、次いでパラジウム、白金、ラネー
ニツケル、ロジウム、ルテニウムおよびニツケル等から
選ばれた触媒の存在下に水素で処理をするか又は液体ア
ンモニア中の金属リチウム、金属ナトリウムなどで処理
することによつて、l−N−アシル化化合物の6′位ア
ジド基をアミノ基に還元する。
この際、水素還元であると、これと同時に、3・グ位の
アミノ保護基Z及び保護基A.Bはその種類(例えばア
ラルコキシカルボニル基)に応じて加水素分解により脱
離される。なお土述の接触水素還元反応に使用する溶媒
としては水、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
ジメチルエーテルから選ばれた水一水混和性溶媒が使用
できる。この時の接触水素還元反応の条件としては水素
圧1〜5気圧、反応温度0〜100℃、反応時間0.5
〜48時間である。なお、こXで生成した6′−アミノ
化生成物中にアミノ保護基が残存しているならば、これ
ら残存のアミノ保護基A.B.Zを脱離させるが、例え
ばアミノ保護基がアシル基、アルコキシカルボニル基、
トリチル基である場合には、塩基又は酸による加水分解
で常法で脱離される。
アミノ保護基Z及び保護基A.Bはその種類(例えばア
ラルコキシカルボニル基)に応じて加水素分解により脱
離される。なお土述の接触水素還元反応に使用する溶媒
としては水、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
ジメチルエーテルから選ばれた水一水混和性溶媒が使用
できる。この時の接触水素還元反応の条件としては水素
圧1〜5気圧、反応温度0〜100℃、反応時間0.5
〜48時間である。なお、こXで生成した6′−アミノ
化生成物中にアミノ保護基が残存しているならば、これ
ら残存のアミノ保護基A.B.Zを脱離させるが、例え
ばアミノ保護基がアシル基、アルコキシカルボニル基、
トリチル基である場合には、塩基又は酸による加水分解
で常法で脱離される。
またアミノ保護基としてアラルキルオキシカルボニル基
(とくにベンジル基を含む)がなお残存する時にはパラ
ジウム、白金、ラネーニツケル、ロジウム、ルテニウム
およびニッケルから選ばれた触媒を用ぃて水素で前述の
条件下で還元より離脱させるがパラジウム一炭素が好ま
しい。またアミノ保護基がアルキルスルホニノ堪、アラ
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基である場合
にも、常法により例えば光化学分解、ラジカルによる分
解、液体アンモニア中のアルカリ金属(たとえばナトリ
ウム)で処理することにより離脱させるが、液体アンモ
ニア中ナトリウムで処理するのが好ましい。かくして得
られた目的物質()はCM−セフアデツクス等を用いる
クロマトグラフイ精製法によつて精製することが出来る
。第1の本発明の方法では、3′−デオキシパロマミン
1・6−カルバメート誘導体化合物から出発して1−N
−(α一置換−ω−アミノアシル)−3′−デオキシ−
5−0−ペントフラノシルネァミン誘導体()を合成し
たが、3′−デオキシネアミン.1.6−カルバメート
誘導体から出発して第1の本発明の方法と類似の手法で
目的物質()を合成できることを認めた。
(とくにベンジル基を含む)がなお残存する時にはパラ
ジウム、白金、ラネーニツケル、ロジウム、ルテニウム
およびニッケルから選ばれた触媒を用ぃて水素で前述の
条件下で還元より離脱させるがパラジウム一炭素が好ま
しい。またアミノ保護基がアルキルスルホニノ堪、アラ
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基である場合
にも、常法により例えば光化学分解、ラジカルによる分
解、液体アンモニア中のアルカリ金属(たとえばナトリ
ウム)で処理することにより離脱させるが、液体アンモ
ニア中ナトリウムで処理するのが好ましい。かくして得
られた目的物質()はCM−セフアデツクス等を用いる
クロマトグラフイ精製法によつて精製することが出来る
。第1の本発明の方法では、3′−デオキシパロマミン
1・6−カルバメート誘導体化合物から出発して1−N
−(α一置換−ω−アミノアシル)−3′−デオキシ−
5−0−ペントフラノシルネァミン誘導体()を合成し
たが、3′−デオキシネアミン.1.6−カルバメート
誘導体から出発して第1の本発明の方法と類似の手法で
目的物質()を合成できることを認めた。
すなわち、第2の本発明においては、次の一般式〔式中
Qはアシル基、アロイル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基又はアラルコキシカルボニ
ル基を表わすヒドロキシル保護基であり、Zはアルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラル
コキシカルボニル基、アシル基、アロイル基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基又はアラルキルス
ルホニル基を表わすアミノ保護基である〕で表わされる
3′−デオキシネアミン1・6−カルバメート誘導体化
合物に次の一般式〔式中R3はアシル基、アロイル基、
アルコキシカルボニル基又はアラルコキシカルボニル基
を表わすヒドロキシル保護基であり、Xはハロゲン原子
、アシル基又はアロイル基を表わし、Wは基0R3(但
しR3は上記と同一の意義を有する)で示されるアシル
オキシ基を表わす〕で表わされるペントフラノシル化合
物又は次の一般式〔式中R3及びwは前記と同一の意義
を有し、R4はアルキノ堪又はアリール基を表わし、R
5はアルキル基を表わす〕で表わされるペントフラノシ
ル・オルソエステル化合物を反応させて次の一般式1〔
式中R3、R4、Q.Z及びWは前記と同一の意義を有
する〕で表わされる化合物を生成させ、その後に該化合
物を塩基性条件下で加水分解して1・6−カルバメート
環を開裂させることにより1位アミノ基と6位ヒドロキ
シノレ基を遊離させ、これと同時にヒドロキシル保護基
の一部又は全部を脱離させ、その生成物に次の一般式〔
式中、R7は−0H、−NH2または−NHR8(但し
R8はアシル基である)を表わし、nは1、2、3又は
4の整数を表わし、Aは水素原子又は公知の一価のアミ
ノ基保護基を表わし、Bは水素原子又は公知の一価のア
ミノ基保護基を表わし、若しくはA及びBは両者が一諸
になつて一っの公知の二価のアミノ基保護基を表わす〕
で表わされるアミノ酸化合物又はこれのカルボキシル基
における反応性誘導体を作用させて次の一般式〔式中A
.B.R7、Z及びnは前記と同一の意義を有し、R″
3は水素原子又はR3(R3は前記と同一の意義を有す
る)を表わし、wは水酸基(即ち0H)又はW(Wは前
記と同一の意義を有する)を表わし、Q′は水素原子又
はQ(Qは前記と同一の意義を有する)を表わす〕で表
わされる1−Nアシル化化合物を生成させ、次いで残存
した保護基があればこれを脱離させることを特徴とする
、次の一般式〔式中、R7及びnは前記と同じ意義を有
する〕で表わされる1−N−(α一置換−ω−アミノア
シル)−3′−デオキシ−5−0−ペントフラノシルネ
アミン誘導体の製造法が提供される。
Qはアシル基、アロイル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基又はアラルコキシカルボニ
ル基を表わすヒドロキシル保護基であり、Zはアルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラル
コキシカルボニル基、アシル基、アロイル基、アルキル
スルホニル基、アリールスルホニル基又はアラルキルス
ルホニル基を表わすアミノ保護基である〕で表わされる
3′−デオキシネアミン1・6−カルバメート誘導体化
合物に次の一般式〔式中R3はアシル基、アロイル基、
アルコキシカルボニル基又はアラルコキシカルボニル基
を表わすヒドロキシル保護基であり、Xはハロゲン原子
、アシル基又はアロイル基を表わし、Wは基0R3(但
しR3は上記と同一の意義を有する)で示されるアシル
オキシ基を表わす〕で表わされるペントフラノシル化合
物又は次の一般式〔式中R3及びwは前記と同一の意義
を有し、R4はアルキノ堪又はアリール基を表わし、R
5はアルキル基を表わす〕で表わされるペントフラノシ
ル・オルソエステル化合物を反応させて次の一般式1〔
式中R3、R4、Q.Z及びWは前記と同一の意義を有
する〕で表わされる化合物を生成させ、その後に該化合
物を塩基性条件下で加水分解して1・6−カルバメート
環を開裂させることにより1位アミノ基と6位ヒドロキ
シノレ基を遊離させ、これと同時にヒドロキシル保護基
の一部又は全部を脱離させ、その生成物に次の一般式〔
式中、R7は−0H、−NH2または−NHR8(但し
R8はアシル基である)を表わし、nは1、2、3又は
4の整数を表わし、Aは水素原子又は公知の一価のアミ
ノ基保護基を表わし、Bは水素原子又は公知の一価のア
ミノ基保護基を表わし、若しくはA及びBは両者が一諸
になつて一っの公知の二価のアミノ基保護基を表わす〕
で表わされるアミノ酸化合物又はこれのカルボキシル基
における反応性誘導体を作用させて次の一般式〔式中A
.B.R7、Z及びnは前記と同一の意義を有し、R″
3は水素原子又はR3(R3は前記と同一の意義を有す
る)を表わし、wは水酸基(即ち0H)又はW(Wは前
記と同一の意義を有する)を表わし、Q′は水素原子又
はQ(Qは前記と同一の意義を有する)を表わす〕で表
わされる1−Nアシル化化合物を生成させ、次いで残存
した保護基があればこれを脱離させることを特徴とする
、次の一般式〔式中、R7及びnは前記と同じ意義を有
する〕で表わされる1−N−(α一置換−ω−アミノア
シル)−3′−デオキシ−5−0−ペントフラノシルネ
アミン誘導体の製造法が提供される。
この第2の本発明の方法で出発化合物として用いる()
式の3′−デオキシネアミン1・6−カルバメート誘導
体において、アミノ保護基Zは、第1の本発明の方法に
おける出発化合物(1)におけるアミノ保護基Zと全く
同種であることができるが、アルキルスルホニル基、ア
ラルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基である
こともできる。
式の3′−デオキシネアミン1・6−カルバメート誘導
体において、アミノ保護基Zは、第1の本発明の方法に
おける出発化合物(1)におけるアミノ保護基Zと全く
同種であることができるが、アルキルスルホニル基、ア
ラルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基である
こともできる。
また、45−ヒドロキシル基の保護基Qがアシル基であ
る場合には、その例として炭素数2〜5のアルカノイル
基、特にアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バ
レリル基があげられる。またQがアロィル基の具体例と
してはベンゾイル基、オルトニトロベンゾイル基、パラ
ニトロベンゾイル基、1−ナフトール基、2−ナフトー
ル基があげられる。またQがアルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基又はアラルコキシカルボニ
ル基である場合は、この型のQは式COOR,(但しR
9はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表わす
)で表わされ、Qがアルコキシカルボニル基である場合
には、これの例として省捉炭素数1〜4のアルコキシカ
ルボニル基、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカ
ル lボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基があげられ、
アリールオキシカルボニル基の例としては、フエノキシ
カルボニル基、パラニトロフエノキシカルボニル基があ
げられる。
る場合には、その例として炭素数2〜5のアルカノイル
基、特にアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バ
レリル基があげられる。またQがアロィル基の具体例と
してはベンゾイル基、オルトニトロベンゾイル基、パラ
ニトロベンゾイル基、1−ナフトール基、2−ナフトー
ル基があげられる。またQがアルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基又はアラルコキシカルボニ
ル基である場合は、この型のQは式COOR,(但しR
9はアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表わす
)で表わされ、Qがアルコキシカルボニル基である場合
には、これの例として省捉炭素数1〜4のアルコキシカ
ルボニル基、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカ
ル lボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基があげられ、
アリールオキシカルボニル基の例としては、フエノキシ
カルボニル基、パラニトロフエノキシカルボニル基があ
げられる。
アラルコキシカルボニル基の例としてはベンジルオキシ
カルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル
基、パラエトキシベンジルオキシカルボニル基、パラク
ロロベンジルオキシカルボニル基 パラニトロベンジル
オキシカルボニル基があげられる。 2第2
の本発明の方法において、出発化合物()に縮合させる
べきペントフラノシル化合物誘導体()又は(″)は、
第1の本発明の方法で用いられるそれと全く同一である
。また、第2の本発明の方法において出発化合物()に
反応剤()乏又は(つを縮合させる反応も、第1の本発
明の方法の場合と全く同じに行い得る。すなわち、この
時の反応溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアシ
ド、ジメチルアセトアジド、アセ 5トニトリル、ニト
ロメタン、ベンゼン、トルエンエーテル等反応に不活性
な溶媒はすべて使用可能である。また反応を促進させる
ためにシアン化第二水銀、臭化第二水銀、炭酸銀、酸化
銀、ピリジン等を加えて反応を行わしめるのが適当であ
る。 5反応はO〜150℃の範囲で行われ、反応時間
は0.5〜48時間である。この縮合反応によつて、上
記の(X)又は(X′)式の化合物が生成される。
カルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル
基、パラエトキシベンジルオキシカルボニル基、パラク
ロロベンジルオキシカルボニル基 パラニトロベンジル
オキシカルボニル基があげられる。 2第2
の本発明の方法において、出発化合物()に縮合させる
べきペントフラノシル化合物誘導体()又は(″)は、
第1の本発明の方法で用いられるそれと全く同一である
。また、第2の本発明の方法において出発化合物()に
反応剤()乏又は(つを縮合させる反応も、第1の本発
明の方法の場合と全く同じに行い得る。すなわち、この
時の反応溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアシ
ド、ジメチルアセトアジド、アセ 5トニトリル、ニト
ロメタン、ベンゼン、トルエンエーテル等反応に不活性
な溶媒はすべて使用可能である。また反応を促進させる
ためにシアン化第二水銀、臭化第二水銀、炭酸銀、酸化
銀、ピリジン等を加えて反応を行わしめるのが適当であ
る。 5反応はO〜150℃の範囲で行われ、反応時間
は0.5〜48時間である。この縮合反応によつて、上
記の(X)又は(X′)式の化合物が生成される。
この化合物(X)又は(Xつについて、1・6−カルバ
メートの開環の 4ためのアルカリ加水分解反応、1−
N−アシル化反応及び保護基の脱離反応は、第2の本発
明の方法においても、第1の本発明の方法の夫々対応す
る工程の場合と同一の反応条件、同一の手法で行うこと
ができる。かくして最終目的物質として式()の1−N
−(α一置換−ω−アミノアシノの−3′−デオキシ−
5−0−ペントフラノシルネアミン誘導体が得られる。
第2,の本発明の方法においては、出発化合物()は、
1・6−カルバメート環1個を有するものであるが、4
′−ヒドロキシノ堪及び6′−アミノ基の間に形成され
たカルバメート環1個を追加的に有する対応の化合物を
出発化合物として使用しても、第2の本発明の方法と同
様の方法で目的物質()を合成できることが見出された
。
メートの開環の 4ためのアルカリ加水分解反応、1−
N−アシル化反応及び保護基の脱離反応は、第2の本発
明の方法においても、第1の本発明の方法の夫々対応す
る工程の場合と同一の反応条件、同一の手法で行うこと
ができる。かくして最終目的物質として式()の1−N
−(α一置換−ω−アミノアシノの−3′−デオキシ−
5−0−ペントフラノシルネアミン誘導体が得られる。
第2,の本発明の方法においては、出発化合物()は、
1・6−カルバメート環1個を有するものであるが、4
′−ヒドロキシノ堪及び6′−アミノ基の間に形成され
たカルバメート環1個を追加的に有する対応の化合物を
出発化合物として使用しても、第2の本発明の方法と同
様の方法で目的物質()を合成できることが見出された
。
従つて、第3の本発明においては次の一般式〔式中Zは
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基
、アラルコキシカルボニル基、アシル基、アロイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はアラ
ルキルスルホニル基を表わすアミノ保護基である〕で表
わされる3′−デオキシネアミン1・6;l・6′−ジ
カルバメート誘導体化合物に次の一般式〔式中R3はア
シノレ基、アロイノ楳、アルコキシカルボニル基又はア
ラルコキシカルボニル基を表わすヒドロキシル保護基で
あり、Xはハロゲン原子、アシル基又はアロイル基を表
わし、wは一0R3(但しR3は上記と同一の意義を有
する)で示されるアシルオキシ基を表わす〕で表わされ
るペントフラノシル化合物又は次の一般式〔式中R3及
びWは前記と同一の意義を有し、R4はアルキル基又は
アリール基を表わし、R5はアルキル基を表わす〕で表
わされるペントフラノシル・オルソエステル化合物を反
応させて次の一般式〔式中R3、R4.Z及びWは前記
と同一の意義を有する〕で表わされる化合物を生成させ
、その後に該化合物を弱塩基性条件下で加水分解して1
・6−カルバメート環を選択的に開裂させることにより
1位のアミノ基と6位のヒドロキシル基を遊離させ、こ
れと同時にヒドロキシル保護基の一部又は全部を脱離さ
せ、その生成物に一般式〔式中、R7は−0H、−NH
2または−NHR8(但しR8はアシル基である)を表
わし、nは1、2、3又は4の整数を表わし、Aは水素
原子又は公知の一価のアミノ基保護基を表わし、Bは水
素原子又は公知の一価のアミノ基保護基を表わし、若し
くはA及びBは両者が一諸になつて一つの公知の二価の
アミノ基保護基を表わす〕で表わされるアミノ酸化合物
又はこれのカルボキシル基における反応性誘導体を作用
させて次の一般式〔式中、R7、A.B.Z及びnは前
記と同一の意義を有し、R二は水素原子又はR3(R3
は前記と同一の意義を有する)を表わし、W′は水酸基
(即ち0H)又はW(Wは前記と同一の意義を有する)
を表わす〕で表わされる1−N−アシル化化合物*〔式
中、R7及びnは前記と同じ意義を有する〕で表わされ
る1−N−(α一置換−ω−アミノアシル)−3′−デ
オキシ−5−0−ペントフラノシルネアミン誘導体の製
造法が提供される。
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基
、アラルコキシカルボニル基、アシル基、アロイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はアラ
ルキルスルホニル基を表わすアミノ保護基である〕で表
わされる3′−デオキシネアミン1・6;l・6′−ジ
カルバメート誘導体化合物に次の一般式〔式中R3はア
シノレ基、アロイノ楳、アルコキシカルボニル基又はア
ラルコキシカルボニル基を表わすヒドロキシル保護基で
あり、Xはハロゲン原子、アシル基又はアロイル基を表
わし、wは一0R3(但しR3は上記と同一の意義を有
する)で示されるアシルオキシ基を表わす〕で表わされ
るペントフラノシル化合物又は次の一般式〔式中R3及
びWは前記と同一の意義を有し、R4はアルキル基又は
アリール基を表わし、R5はアルキル基を表わす〕で表
わされるペントフラノシル・オルソエステル化合物を反
応させて次の一般式〔式中R3、R4.Z及びWは前記
と同一の意義を有する〕で表わされる化合物を生成させ
、その後に該化合物を弱塩基性条件下で加水分解して1
・6−カルバメート環を選択的に開裂させることにより
1位のアミノ基と6位のヒドロキシル基を遊離させ、こ
れと同時にヒドロキシル保護基の一部又は全部を脱離さ
せ、その生成物に一般式〔式中、R7は−0H、−NH
2または−NHR8(但しR8はアシル基である)を表
わし、nは1、2、3又は4の整数を表わし、Aは水素
原子又は公知の一価のアミノ基保護基を表わし、Bは水
素原子又は公知の一価のアミノ基保護基を表わし、若し
くはA及びBは両者が一諸になつて一つの公知の二価の
アミノ基保護基を表わす〕で表わされるアミノ酸化合物
又はこれのカルボキシル基における反応性誘導体を作用
させて次の一般式〔式中、R7、A.B.Z及びnは前
記と同一の意義を有し、R二は水素原子又はR3(R3
は前記と同一の意義を有する)を表わし、W′は水酸基
(即ち0H)又はW(Wは前記と同一の意義を有する)
を表わす〕で表わされる1−N−アシル化化合物*〔式
中、R7及びnは前記と同じ意義を有する〕で表わされ
る1−N−(α一置換−ω−アミノアシル)−3′−デ
オキシ−5−0−ペントフラノシルネアミン誘導体の製
造法が提供される。
この第3の本発明の方法で出発物質として用いられる(
)式の1・6:4ζ6′−ジカルバメート体において、
アミノ保護基Zは、第1の本発明の方法で用いる出発化
合物()における基zとネを生成し、次いで、塩基性条
件下で加水分解して4′・6′一カルバメート環を開裂
させ、これと同時に又はこれ以後に残存した保護基を脱
離させることを特徴とする、次の一般式全く同種であり
得る。
)式の1・6:4ζ6′−ジカルバメート体において、
アミノ保護基Zは、第1の本発明の方法で用いる出発化
合物()における基zとネを生成し、次いで、塩基性条
件下で加水分解して4′・6′一カルバメート環を開裂
させ、これと同時に又はこれ以後に残存した保護基を脱
離させることを特徴とする、次の一般式全く同種であり
得る。
また、()式の1・6:4′・6/−ジカルバメート体
と縮合させるべきペントフラシル化合物誘導体()又は
(○も、第1の本発明の方法に用いられるものと全く同
種のものであることができる。第3の本発明の方法にお
ける出発化合物()と化合物()又は(″)との縮合反
応も、第1の本発明の方法における出発化合物(1)と
化合物()又は(○との反応と全く同一の要領で実施で
きる。この縮合反応によつて、(XI[[)又は(Xm
つ式の化合物が生成されるが、この化合物について1・
6−カルバメート環を選択的に開環のための加水分解反
応は次の如ぎ条件で行われる。すなわち含水テトラヒド
ロフラン、含水ジオキサン、含水メタノールなどの含水
有機溶媒中で制限された量のアルカリ性試薬たとえば炭
酸ナトリウム、水酸化バリウムを反応液の液性を弱〜微
アルカリ性に保ちつつ常温あるいは常温以下の温度で徐
々に加える。この際より不安定な1・6−カルバメート
環がより安定な4′・6ζカルバメート環に先だつて開
裂される。第3の本発明の方法において、上記のアルカ
リ加水分解による1・6−カルバメート開環反応及びこ
れに伴うヒドロキシル保護基の脱離反応によつて生成し
た4ζ6−カルバメート化合物に対して、次いで、式(
)のアミノ酸化合物を作用させて1−N−アシル化反応
を行い、また残存アミノ保護基の脱離反応を行なうが、
これらの反応は、第2の本発明の方法の場合と全く同様
に、従つて第1の本発明の方法の対応する工程の場合と
同一の反応条件、同一の手法で実施できる。等しく、目
的生成物として式()の1−N−(α一置換−ω−アシ
ル)−3′−デオキシ−5−0−ペントフラノシルネア
ミン誘導体が得られる。第2の本発明の方法で出発物質
として用いられる()式の3′−デオキシネアミン1・
6−カルバメート誘導体化合物について、これの6′−
アミノ基を6″−アジド基で置き代えた誘導体を用いて
も、これを()又は(5)式のペントフラノシル化合物
と縮合させ、その後に、6′−アジド基を還元して6″
−アミノ基に転化する工程を挿入するば、第2の本発明
の方法と類似の方法で式()の目的化合物を合成できる
ことを見出した。
と縮合させるべきペントフラシル化合物誘導体()又は
(○も、第1の本発明の方法に用いられるものと全く同
種のものであることができる。第3の本発明の方法にお
ける出発化合物()と化合物()又は(″)との縮合反
応も、第1の本発明の方法における出発化合物(1)と
化合物()又は(○との反応と全く同一の要領で実施で
きる。この縮合反応によつて、(XI[[)又は(Xm
つ式の化合物が生成されるが、この化合物について1・
6−カルバメート環を選択的に開環のための加水分解反
応は次の如ぎ条件で行われる。すなわち含水テトラヒド
ロフラン、含水ジオキサン、含水メタノールなどの含水
有機溶媒中で制限された量のアルカリ性試薬たとえば炭
酸ナトリウム、水酸化バリウムを反応液の液性を弱〜微
アルカリ性に保ちつつ常温あるいは常温以下の温度で徐
々に加える。この際より不安定な1・6−カルバメート
環がより安定な4′・6ζカルバメート環に先だつて開
裂される。第3の本発明の方法において、上記のアルカ
リ加水分解による1・6−カルバメート開環反応及びこ
れに伴うヒドロキシル保護基の脱離反応によつて生成し
た4ζ6−カルバメート化合物に対して、次いで、式(
)のアミノ酸化合物を作用させて1−N−アシル化反応
を行い、また残存アミノ保護基の脱離反応を行なうが、
これらの反応は、第2の本発明の方法の場合と全く同様
に、従つて第1の本発明の方法の対応する工程の場合と
同一の反応条件、同一の手法で実施できる。等しく、目
的生成物として式()の1−N−(α一置換−ω−アシ
ル)−3′−デオキシ−5−0−ペントフラノシルネア
ミン誘導体が得られる。第2の本発明の方法で出発物質
として用いられる()式の3′−デオキシネアミン1・
6−カルバメート誘導体化合物について、これの6′−
アミノ基を6″−アジド基で置き代えた誘導体を用いて
も、これを()又は(5)式のペントフラノシル化合物
と縮合させ、その後に、6′−アジド基を還元して6″
−アミノ基に転化する工程を挿入するば、第2の本発明
の方法と類似の方法で式()の目的化合物を合成できる
ことを見出した。
従つて、第4の本発明においては、次の一般式〔式中Q
はアシル基、アロイル基、アルコキシカルボニル基、ア
リールオキシカルボニル基又はアラルコキシカルボニル
基を表わすヒドロキシル保護基であり、Zはアルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルコ
キシカルボニル基、アシル基、アロイル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基又はアラルキルスル
ホニル基を表わすアミノ保護基である〕で表わされる6
′−アジド−6′−デアミノ一31−デオキシネアミン
1・6−カルバメート誘導体化合物に次の一般式〔式中
R3はアシル基、アロイル基、アルコキシカルボニル基
又はアラルコキシカルボニル基を表わすヒドロキシル保
護基であり、Xはハロゲン原子、アシル基又はアロイル
基を表わし、wは基0R3(但しR3は上記と同一の意
義を有する)で示されるアシルオキシ基を表わす〕で表
わされるペントフラノシル化合物又は次の一般式〔式中
R3及びWは前記と同一の意義を有し、R4はアルキル
基又はアリール基を表わし、R5はアルキル基を表わす
〕で表わされるペントフラノシノいオルソエステル化合
物を反応させて次の一般式〔式中R3、R4、Q.Z及
びWは前記と同一の意義を有する〕で表わされる化合物
を生成させ、その後にその生成物を塩基性条件で加水分
解して1・6−カルバメート環を開裂させることにより
1位アミノ基と6位ヒドロキシル基を遊離させ、これと
同時にヒドロキシル保護基の一部又は全部を除去し、次
にその生成物に次の一般式〔式中、R7は一、−NH2
または−NHR8(但しR8はアシル基である)を表わ
し、nは1、2、3又は4の整数を表わし、Aは水素原
子又は公知の一価のアミノ基保護基を表わし、Bは水素
原子又は公知の一価のアミノ基保護基を表わし、若しく
はA及びBは両者が」諸になつて一つの公知の二価のア
ミノ基保護基を表わす〕で表わされるアミノ酸化合物又
はこれのカルボキシル基における反応性誘導体を作用さ
せて次の一般式〔式中、R7、A,.B及びnは前記と
同一の意義をし、R(3は水素原子又はR3(R3は前
記と同一の意義を有する)を表わし、W′は水酸基(即
ち0H)又はW(Wは前記と同一の意義を有する)を表
わしqは水素原子又はQ(Qは前記と同一の(意義を有
する)を表わす〕で表わされる1−Nアシル化化合物を
生成し、次に6′−アジド基を還元してアミノ基に転化
させ、これと同時に又はその以後に、残存した保護基を
脱離させることを特徴とする、次の一般式〔式中、R7
及びnは前記と同じ意義を有する〕で表わされる1−N
−(α一置換−ω−アミノアシル)−3′−デオキシ−
5−0−ペントフラノシルネアミン誘導体の製造法が提
供される。
はアシル基、アロイル基、アルコキシカルボニル基、ア
リールオキシカルボニル基又はアラルコキシカルボニル
基を表わすヒドロキシル保護基であり、Zはアルコキシ
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルコ
キシカルボニル基、アシル基、アロイル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基又はアラルキルスル
ホニル基を表わすアミノ保護基である〕で表わされる6
′−アジド−6′−デアミノ一31−デオキシネアミン
1・6−カルバメート誘導体化合物に次の一般式〔式中
R3はアシル基、アロイル基、アルコキシカルボニル基
又はアラルコキシカルボニル基を表わすヒドロキシル保
護基であり、Xはハロゲン原子、アシル基又はアロイル
基を表わし、wは基0R3(但しR3は上記と同一の意
義を有する)で示されるアシルオキシ基を表わす〕で表
わされるペントフラノシル化合物又は次の一般式〔式中
R3及びWは前記と同一の意義を有し、R4はアルキル
基又はアリール基を表わし、R5はアルキル基を表わす
〕で表わされるペントフラノシノいオルソエステル化合
物を反応させて次の一般式〔式中R3、R4、Q.Z及
びWは前記と同一の意義を有する〕で表わされる化合物
を生成させ、その後にその生成物を塩基性条件で加水分
解して1・6−カルバメート環を開裂させることにより
1位アミノ基と6位ヒドロキシル基を遊離させ、これと
同時にヒドロキシル保護基の一部又は全部を除去し、次
にその生成物に次の一般式〔式中、R7は一、−NH2
または−NHR8(但しR8はアシル基である)を表わ
し、nは1、2、3又は4の整数を表わし、Aは水素原
子又は公知の一価のアミノ基保護基を表わし、Bは水素
原子又は公知の一価のアミノ基保護基を表わし、若しく
はA及びBは両者が」諸になつて一つの公知の二価のア
ミノ基保護基を表わす〕で表わされるアミノ酸化合物又
はこれのカルボキシル基における反応性誘導体を作用さ
せて次の一般式〔式中、R7、A,.B及びnは前記と
同一の意義をし、R(3は水素原子又はR3(R3は前
記と同一の意義を有する)を表わし、W′は水酸基(即
ち0H)又はW(Wは前記と同一の意義を有する)を表
わしqは水素原子又はQ(Qは前記と同一の(意義を有
する)を表わす〕で表わされる1−Nアシル化化合物を
生成し、次に6′−アジド基を還元してアミノ基に転化
させ、これと同時に又はその以後に、残存した保護基を
脱離させることを特徴とする、次の一般式〔式中、R7
及びnは前記と同じ意義を有する〕で表わされる1−N
−(α一置換−ω−アミノアシル)−3′−デオキシ−
5−0−ペントフラノシルネアミン誘導体の製造法が提
供される。
この第4の本発明の方法で出発物質として用いられる6
′−アジド体(X)は、例えば第1の本発明の方法で用
いる出発化合物(1)を酢酸中で加水分解してヒドロキ
シル保護基Yを脱離し、遊離したG−ヒドロキシノレ基
をスルホン酸エステル化し、この6′−スルホン酸エス
テル基にアジ化化合物を作用させて、6′−アジド基と
し、次に45一ヒドロキシル基をアシル化して保護する
ことにより調製される。
′−アジド体(X)は、例えば第1の本発明の方法で用
いる出発化合物(1)を酢酸中で加水分解してヒドロキ
シル保護基Yを脱離し、遊離したG−ヒドロキシノレ基
をスルホン酸エステル化し、この6′−スルホン酸エス
テル基にアジ化化合物を作用させて、6′−アジド基と
し、次に45一ヒドロキシル基をアシル化して保護する
ことにより調製される。
第4の本発明の方法において出発化合物として用いる6
′−アジド体(XV)におけるアミノ保護基zは、第1
の本発明の方法の出発化合物(1)における基zと全く
同種であることができ、またヒドロキシノレ保護基Qは
第2の本発明の方法の出発化合物()における基Qと全
く同種であることができる。
′−アジド体(XV)におけるアミノ保護基zは、第1
の本発明の方法の出発化合物(1)における基zと全く
同種であることができ、またヒドロキシノレ保護基Qは
第2の本発明の方法の出発化合物()における基Qと全
く同種であることができる。
また出発化合物(XV)と、これに縮合すべき化合物(
)又は(″)との縮合反応は、第2の本発明の方法の場
合と全く同じ要領で行われる。これによつて、式(XV
I)又は(Xつの化合物が生成される。次いで、1・6
−カルバメート環を開裂させるための加水分解反応が第
2の本発明の方法と同様に行われる。さらに式()のア
ミノ酸化合物を用いる1−N−アシル化反応、並びに6
′−アジド基を還元して6′−アミノ基に転化する工程
は、第1の本発明の方法における夫々対応の工程と同一
の反応条件、同一の手法で行われる。本発明の方法で製
造された式()の目的生成物の例をあげると、次Q通り
である。
)又は(″)との縮合反応は、第2の本発明の方法の場
合と全く同じ要領で行われる。これによつて、式(XV
I)又は(Xつの化合物が生成される。次いで、1・6
−カルバメート環を開裂させるための加水分解反応が第
2の本発明の方法と同様に行われる。さらに式()のア
ミノ酸化合物を用いる1−N−アシル化反応、並びに6
′−アジド基を還元して6′−アミノ基に転化する工程
は、第1の本発明の方法における夫々対応の工程と同一
の反応条件、同一の手法で行われる。本発明の方法で製
造された式()の目的生成物の例をあげると、次Q通り
である。
化合物滝11−N−((RS)−3−アミノ2−ヒドロ
キシプロピオニノ(へ)−3′−デオキシ−5−0−β
−D−キシロフラノシルネアミン(新規化合物)。
キシプロピオニノ(へ)−3′−デオキシ−5−0−β
−D−キシロフラノシルネアミン(新規化合物)。
化合物/F62l−N−((S)−3−アミノ−2ーヒ
ドロキシプロピオニル)−3′−デオキシ−5−0−β
−D−キシロフラノシルネアミン(新規化合物)。
ドロキシプロピオニル)−3′−デオキシ−5−0−β
−D−キシロフラノシルネアミン(新規化合物)。
化合物屑31−N−((S)−4−アミノ−2ヒドロキ
シブチリル)−3′−デオキシ−5−0−α−L−アラ
ビノフラノシルネアミン(新規化合物)。
シブチリル)−3′−デオキシ−5−0−α−L−アラ
ビノフラノシルネアミン(新規化合物)。
化合物滝41−N−((S)−4−アミノ−2−ヒドロ
キシブチリル)−3′−デオキシ−5一0−β−D−リ
ボフラノシルネアミン(即ち公知の3′−デオキシブチ
ロシンB)。
キシブチリル)−3′−デオキシ−5一0−β−D−リ
ボフラノシルネアミン(即ち公知の3′−デオキシブチ
ロシンB)。
化合物滝51−N−((S)−4−アミノ−2ヒドロキ
シブチリル)−3′−デオキシ−5一0−β−D−キシ
ロフラノシルネアミン(即ち公知の3/−デオキシブチ
ロシンA)。
シブチリル)−3′−デオキシ−5一0−β−D−キシ
ロフラノシルネアミン(即ち公知の3/−デオキシブチ
ロシンA)。
一般式()のこれら1−N−(α一置換−ω−アミノア
シル)−3/−デオキシ−5−0−ペントフラノシルネ
アミン誘導体化合物は、グラム陰性菌、陽性菌等を含め
て広範囲の細菌に対して抗菌力を有し、これらの抗菌ス
ペクトルは下記の表1に示す通りである。
シル)−3/−デオキシ−5−0−ペントフラノシルネ
アミン誘導体化合物は、グラム陰性菌、陽性菌等を含め
て広範囲の細菌に対して抗菌力を有し、これらの抗菌ス
ペクトルは下記の表1に示す通りである。
最低阻止濃度(M.I.C.)(McfVml)は培養
温度37℃、培養時間18時間で測定したが、但しミコ
バクテリウム・スメグマティスの場合の培養時間は48
時間であつた。また本発明で使用される出発物質である
一般式(1)、()、()及び(XV)の化合物はいず
れも新規物質であつて、その製造法の例は後に参考例と
して示した。次に第1の発明の実施を示す実施例1〜2
、第2の本発明の実施を示す実施例3〜5、第3の本発
明の実施を示す実施例6、第4の本発明の実施を示す実
施例7〜11により本発明がさらに詳細に説明する。
温度37℃、培養時間18時間で測定したが、但しミコ
バクテリウム・スメグマティスの場合の培養時間は48
時間であつた。また本発明で使用される出発物質である
一般式(1)、()、()及び(XV)の化合物はいず
れも新規物質であつて、その製造法の例は後に参考例と
して示した。次に第1の発明の実施を示す実施例1〜2
、第2の本発明の実施を示す実施例3〜5、第3の本発
明の実施を示す実施例6、第4の本発明の実施を示す実
施例7〜11により本発明がさらに詳細に説明する。
なお、各実施例に用いた出発物質の調製例は参考例で示
す。実施例 1 (a)下記の式で示される4″・6′−0−ベンジリデ
ン−3・2′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−3
′−デオキシパロマミン 1・6−カルバメート508
T!!f(後記の参考例1又は2参照)を無水ジクロロ
メタン15m1に懸濁させ、無水硫酸カルシウム3′I
7とシアン化第2水銀1yを加え 2た後2・3・5−
トリ−0−(p−ニトロベンゾイル)−0−リボフラノ
シル・プロマイド1.5f(参考例8参照)を加えて一
夜激しく撹拌して縮合反応を行つた。
す。実施例 1 (a)下記の式で示される4″・6′−0−ベンジリデ
ン−3・2′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−3
′−デオキシパロマミン 1・6−カルバメート508
T!!f(後記の参考例1又は2参照)を無水ジクロロ
メタン15m1に懸濁させ、無水硫酸カルシウム3′I
7とシアン化第2水銀1yを加え 2た後2・3・5−
トリ−0−(p−ニトロベンゾイル)−0−リボフラノ
シル・プロマイド1.5f(参考例8参照)を加えて一
夜激しく撹拌して縮合反応を行つた。
不溶物を沢去した後、沢取物をジクロロメタンでよく洗
滌し、沢液と 2洗液とを合し、順次飽和炭酸水素ナト
リウム溶液、水で洗滌し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フイ一によりクロロホルム一酢酸エチル(3:1)を展
開系として精製し、下記の式の4′・61−0−ベンジ
リデン−3・2′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル
−3/−デオキシ5−0−(2・3・5−トリ−0−p
−ニトロベンゾイル−β−D−リボフラノシル)パロマ
ミン 1・6−カルバメートを含む部分を集め濃縮乾固
した。
滌し、沢液と 2洗液とを合し、順次飽和炭酸水素ナト
リウム溶液、水で洗滌し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フイ一によりクロロホルム一酢酸エチル(3:1)を展
開系として精製し、下記の式の4′・61−0−ベンジ
リデン−3・2′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル
−3/−デオキシ5−0−(2・3・5−トリ−0−p
−ニトロベンゾイル−β−D−リボフラノシル)パロマ
ミン 1・6−カルバメートを含む部分を集め濃縮乾固
した。
収量625ワ〔α〕も0+26濃(c1、クロロホルム
)分廿腎直:C58.6lH4.38N6.58(%)
計算値(C62H56N6O24として);C58,6
7H4,45N6.52(%)(b)上記で得られた物
質500叩を70%酢酸に溶解し、80℃で1時間加熱
した。
)分廿腎直:C58.6lH4.38N6.58(%)
計算値(C62H56N6O24として);C58,6
7H4,45N6.52(%)(b)上記で得られた物
質500叩を70%酢酸に溶解し、80℃で1時間加熱
した。
減圧で溶媒を留去後、残渣をクロロホルムに溶解し、そ
の溶液を水洗した後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を留去し、下記の式で示される3・2′ジ一N−ベン
ジルオキシカルボニル一3″−デオキシ−5−0−(2
・3・5−トリ−0−pニトロベンゾイル一β−D−リ
ボフラノシル)パロマミン 1・6−カルバメートの固
体380ηを得た。
の溶液を水洗した後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を留去し、下記の式で示される3・2′ジ一N−ベン
ジルオキシカルボニル一3″−デオキシ−5−0−(2
・3・5−トリ−0−pニトロベンゾイル一β−D−リ
ボフラノシル)パロマミン 1・6−カルバメートの固
体380ηを得た。
(c)このようにして得られた物質750ヮをピリジン
15m1に溶解し−10℃に冷却しp−トルエンスルホ
ニルクロリド500ηを加え、同温度にて一夜放置した
。
15m1に溶解し−10℃に冷却しp−トルエンスルホ
ニルクロリド500ηを加え、同温度にて一夜放置した
。
少量の水を加えて後溶液を濃縮しシロツプを得た。これ
をクロロホルムに溶解しその溶液を0.4規定硫酸水素
カリウム溶液、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、水で順次
洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後濃縮し固体を得
た、これをシリカゲルカラムによりクロロホルム一酢酸
エチル(3:1)を展開剤として精製した。下記の式で
示される3・2′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル
−3′−デオキシ−5−0−(2・3・5−トリ−0−
p−ニトロベンゾイル−β−Dリボフラノシル)−6し
O−トシルパロマミン 1・6−カルバメートの固体6
33ηを得た。
をクロロホルムに溶解しその溶液を0.4規定硫酸水素
カリウム溶液、飽和炭酸水素ナトリウム溶液、水で順次
洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後濃縮し固体を得
た、これをシリカゲルカラムによりクロロホルム一酢酸
エチル(3:1)を展開剤として精製した。下記の式で
示される3・2′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル
−3′−デオキシ−5−0−(2・3・5−トリ−0−
p−ニトロベンゾイル−β−Dリボフラノシル)−6し
O−トシルパロマミン 1・6−カルバメートの固体6
33ηを得た。
〔α〕賃+4カ(CO.4、クロロホルム)分析値:C
55.63H4.29N6.O3S2 .l8(%) 計算値(C62H58N6O26Sとして)C55.7
7H4.38N6.29S2.4O(%) ])本物質627〜を無水ジメチルホルムアミド12m
1に溶解し、アジ化ナトリウム500▼を加えて60℃
にて7時間撹拌した。
55.63H4.29N6.O3S2 .l8(%) 計算値(C62H58N6O26Sとして)C55.7
7H4.38N6.29S2.4O(%) ])本物質627〜を無水ジメチルホルムアミド12m
1に溶解し、アジ化ナトリウム500▼を加えて60℃
にて7時間撹拌した。
反応液を沢過し沢液を減圧で留去した。残渣をよく水洗
後乾燥し、さらにジオキサンに溶解し、溶液を沢過し、
沢液より溶媒を留去し、下記の式で示される61−アジ
ド−3・2−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−3/
・65−ジデオキシ−5−0一(2・3・5−トリ−0
−p−ニトロベンゾイル−β−D−ニボフラノシル)パ
ロマシン1・6−カルバメートの固体430m9を得た
。
後乾燥し、さらにジオキサンに溶解し、溶液を沢過し、
沢液より溶媒を留去し、下記の式で示される61−アジ
ド−3・2−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−3/
・65−ジデオキシ−5−0一(2・3・5−トリ−0
−p−ニトロベンゾイル−β−D−ニボフラノシル)パ
ロマシン1・6−カルバメートの固体430m9を得た
。
〔α〕賀+6.5D(CO.8、クロロホルム)分杉百
直 : C54.62H4.llNlO.77(%)計算値(C
55H5lN9O23として)C54.77H4.26
NlO.45(%)(e)本物質410ηをとり、これ
をジオキサン20m1に溶解し、溶液を60℃に加温し
、これに0.1N水酸化バリウム溶液22m1を徐々に
3時間かけて添加した。
直 : C54.62H4.llNlO.77(%)計算値(C
55H5lN9O23として)C54.77H4.26
NlO.45(%)(e)本物質410ηをとり、これ
をジオキサン20m1に溶解し、溶液を60℃に加温し
、これに0.1N水酸化バリウム溶液22m1を徐々に
3時間かけて添加した。
炭酸ガスを吹き込んで後析出した沈殿を沢過し沢液を濃
縮乾固した。得られた固体をジオキサンに溶解し溶液を
沢過し、沢液を濃縮し下記式で示される6/−アジド−
3・2′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−3ζ6
仁ジデオキシ−5−0−β−D−リボフラノシルパロマ
ミンの固体250ηを得た。
縮乾固した。得られた固体をジオキサンに溶解し溶液を
沢過し、沢液を濃縮し下記式で示される6/−アジド−
3・2′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−3ζ6
仁ジデオキシ−5−0−β−D−リボフラノシルパロマ
ミンの固体250ηを得た。
赤外線吸収スペクトルで2100(アジド基)、170
0鑞−1に吸収を確認した。(f)ここで得られた物質
50ηをテトラヒドロフ 2ラン0.8m1に溶解せし
め(S)−4−ベンジルォキシカルボニルアミノ一2−
ヒドロキシ酪酸のN一ヒドロキシサクシンイミドエステ
ル32即を加え且つトリエチルアミン10rn9を加え
た後室温で1時間反応せしめて1−N−アシル化を行2
つた。
0鑞−1に吸収を確認した。(f)ここで得られた物質
50ηをテトラヒドロフ 2ラン0.8m1に溶解せし
め(S)−4−ベンジルォキシカルボニルアミノ一2−
ヒドロキシ酪酸のN一ヒドロキシサクシンイミドエステ
ル32即を加え且つトリエチルアミン10rn9を加え
た後室温で1時間反応せしめて1−N−アシル化を行2
つた。
反応液を沢過し、沢液を濃縮乾固し、その残渣をクロロ
ホルムに溶解しこの溶液を0.4規定硫酸水素カリウム
溶液、ついで飽和炭酸水★素ナトリウムで洗滌し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。▲過後▲液を濃縮乾固し、
この残渣をゾリカゲルカラムクロマトグラフイ一により
クロロホルム−メタノール(10:1)を展開系として
展開し、目的とする部分を集め、濃縮乾固し、下記式で
示される65−アジド−3・27−ジ一Nベンジルオキ
シカルボニル−1−N−((S)一4−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ一2=ヒドロキシブチリル)−3ζ6
′−ジデオキシ−5−O−β−D−リボフラノシルパロ
マミン24ηを得た〔α〕υ+18.5キ(CO.3、
クロロホルム)分析値, C55.62、H5.8l、N9.95(%)計算値(
C45H57N7Ol7として) 3C5
5.84、H5.94、NlO.l3(%)(g)この
ようにして得られた61−アシド−3・2/ジ一N−ベ
ンジルオキシカルボニル一1−N−((S)−4−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ2−ヒドロキシブチリル)
−35・6しジデオ lキシ一5−0−β−D−リボフ
ラノシルパロマ8505T19(参考例3参照)を無水
ジクロロメタン15m2に懸濁させ、以下、実施例1(
a)と同様に2・3・5−トリ−0−(p−ニトロベン
ゾミン34T9をジオキサン0.6m1に溶解し、水0
.4m1を加えて後、酢酸1滴を加え、パラジウム黒を
触媒として水素にて還元した。
ホルムに溶解しこの溶液を0.4規定硫酸水素カリウム
溶液、ついで飽和炭酸水★素ナトリウムで洗滌し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した。▲過後▲液を濃縮乾固し、
この残渣をゾリカゲルカラムクロマトグラフイ一により
クロロホルム−メタノール(10:1)を展開系として
展開し、目的とする部分を集め、濃縮乾固し、下記式で
示される65−アジド−3・27−ジ一Nベンジルオキ
シカルボニル−1−N−((S)一4−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ一2=ヒドロキシブチリル)−3ζ6
′−ジデオキシ−5−O−β−D−リボフラノシルパロ
マミン24ηを得た〔α〕υ+18.5キ(CO.3、
クロロホルム)分析値, C55.62、H5.8l、N9.95(%)計算値(
C45H57N7Ol7として) 3C5
5.84、H5.94、NlO.l3(%)(g)この
ようにして得られた61−アシド−3・2/ジ一N−ベ
ンジルオキシカルボニル一1−N−((S)−4−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ2−ヒドロキシブチリル)
−35・6しジデオ lキシ一5−0−β−D−リボフ
ラノシルパロマ8505T19(参考例3参照)を無水
ジクロロメタン15m2に懸濁させ、以下、実施例1(
a)と同様に2・3・5−トリ−0−(p−ニトロベン
ゾミン34T9をジオキサン0.6m1に溶解し、水0
.4m1を加えて後、酢酸1滴を加え、パラジウム黒を
触媒として水素にて還元した。
反応液を沢過し、沢液を濃縮乾固して粉末を得た。これ
を水に溶解し、CM−セフアデツクスC−25のカラム
によりアンモニア(0.1〜0.4規定に順次濃度を増
大させる)を展開剤として展開し、最終目的物である下
記式で示される1−N一((?−4−アミノ−2−ヒド
ロキシブチリル)−3′−デオキシ−5−0−β−D−
リボフラノシルネアミンの固体10ηを得た、〔α〕F
+26.3フ(Cl.水)実施例 2 (a)下記の式で示される3・21−ジ一N−ベンジル
オキシカルボニル−4′・6′−0−シクロヘキシリデ
ン一3仁デオキシパロマミン 1・6一カルバメートク
ロヘキシリデン一 3’−デオキシ−5 −0一(2・
3・5−トリ−0 −p −ニトロベンゾイル−β−D
−リボフラノゾル)パロマミン 1・6−カルバメート
の固体611Tf!If7を得た。
を水に溶解し、CM−セフアデツクスC−25のカラム
によりアンモニア(0.1〜0.4規定に順次濃度を増
大させる)を展開剤として展開し、最終目的物である下
記式で示される1−N一((?−4−アミノ−2−ヒド
ロキシブチリル)−3′−デオキシ−5−0−β−D−
リボフラノシルネアミンの固体10ηを得た、〔α〕F
+26.3フ(Cl.水)実施例 2 (a)下記の式で示される3・21−ジ一N−ベンジル
オキシカルボニル−4′・6′−0−シクロヘキシリデ
ン一3仁デオキシパロマミン 1・6一カルバメートク
ロヘキシリデン一 3’−デオキシ−5 −0一(2・
3・5−トリ−0 −p −ニトロベンゾイル−β−D
−リボフラノゾル)パロマミン 1・6−カルバメート
の固体611Tf!If7を得た。
〔α〕W+10゜(cl、クロロホルム)分析値:
C57.83H4.92N6.58(%)計算値( C
6lH6ON6O24として)C58.O9H4.8O
N6.66(%)(b)本物質500〜を70%酢酸に
て溶解し、85℃で10時間加熱した。
6lH6ON6O24として)C58.O9H4.8O
N6.66(%)(b)本物質500〜を70%酢酸に
て溶解し、85℃で10時間加熱した。
以下、実施例1(b)と同様に処理し3 ・ 2’−ジ
一N −ベンジルオキシカルボニル− 3 ′−デオキ
シ−5−0−(2 ・3・5−トリ−0−p−ニトロベ
ンゾイル−β−D −リボフラノシル)パロマミン 1
・6−カルバメート350〜を得た。本物質は以下実施
例1(c)、(d)、(e)、(f)、(g)と同様に
処理して最終目的化合物の1−N −((S)− 4
−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)− 3 ′ −デ
オキシ−5一o−β−D −リボフラノJャ泣lアミンに
誘導された。実施例 3 (a)下記の式で示される3 ・ 2’・ 6’一トリ
一Nベンジルオキシカルボニル− 3’−デオキシ−
4’一0−α−ナフトイルーネアミン 1・6−カルバ
メート83η(参考例4参照)を無水ジクロロメタン1
m1に懸濁せしめ無水硫酸カルシウム400m11シア
ン化第二水銀170ηを加えて後、トリ一0−ベンゾイ
ル−D−キシロフラノシル・ブロマイド0.3m1のジ
クロロメタン溶液を加え=夜激しく攪拌した。
一N −ベンジルオキシカルボニル− 3 ′−デオキ
シ−5−0−(2 ・3・5−トリ−0−p−ニトロベ
ンゾイル−β−D −リボフラノシル)パロマミン 1
・6−カルバメート350〜を得た。本物質は以下実施
例1(c)、(d)、(e)、(f)、(g)と同様に
処理して最終目的化合物の1−N −((S)− 4
−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)− 3 ′ −デ
オキシ−5一o−β−D −リボフラノJャ泣lアミンに
誘導された。実施例 3 (a)下記の式で示される3 ・ 2’・ 6’一トリ
一Nベンジルオキシカルボニル− 3’−デオキシ−
4’一0−α−ナフトイルーネアミン 1・6−カルバ
メート83η(参考例4参照)を無水ジクロロメタン1
m1に懸濁せしめ無水硫酸カルシウム400m11シア
ン化第二水銀170ηを加えて後、トリ一0−ベンゾイ
ル−D−キシロフラノシル・ブロマイド0.3m1のジ
クロロメタン溶液を加え=夜激しく攪拌した。
不溶物を沢去した後、沢取物をジクロロメタンでよく洗
滌し、沢液と洗液とを合し、飽和炭酸水素ナトリウム溶
液、水で順次洗い、無水硫※酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒を留去した。
滌し、沢液と洗液とを合し、飽和炭酸水素ナトリウム溶
液、水で順次洗い、無水硫※酸ナトリウムで乾燥し、溶
媒を留去した。
残渣をカラムクロマトグラフイ一によりクロロホルム一
酢酸エチル(2:1)を展開系として精製し所期の物質
である下記の式で示される5−0(2・3・5−トリ−
0−ベンゾイル−β−D−キゾロフラノシル)−3・2
ζ6しトリN−ベンジルオキシカルボニル一3′−デオ
キシ4′−0−α−ナフトイルネアミン 1・6カルバ
メートを含む部分を集め、濃縮乾固した。収量78即。
〔α〕智+16.3ロホルム) 分析値: C66.46H5.38N4.l9(%)計算値(C7
4H68N4O2Oとして)C66.66H5.l4N
4,2O(%)(b)本物質60ηをジオキサン3m1
に溶解し、溶液を60℃に加温し、これに0.1規定水
酸化バリウム溶液3.3m1を攪拌しつつ徐々に3時間
かかつて投入した。
酢酸エチル(2:1)を展開系として精製し所期の物質
である下記の式で示される5−0(2・3・5−トリ−
0−ベンゾイル−β−D−キゾロフラノシル)−3・2
ζ6しトリN−ベンジルオキシカルボニル一3′−デオ
キシ4′−0−α−ナフトイルネアミン 1・6カルバ
メートを含む部分を集め、濃縮乾固した。収量78即。
〔α〕智+16.3ロホルム) 分析値: C66.46H5.38N4.l9(%)計算値(C7
4H68N4O2Oとして)C66.66H5.l4N
4,2O(%)(b)本物質60ηをジオキサン3m1
に溶解し、溶液を60℃に加温し、これに0.1規定水
酸化バリウム溶液3.3m1を攪拌しつつ徐々に3時間
かかつて投入した。
炭酸ガスを吹きこんで後析出した沈殿を▲過し、沢液を
濃縮乾固した。得られた固体をジオキサンに溶解し、溶
液を沢過後、沢液を濃縮し、次式で示される3・2″・
6″一トリ一N−ベンジルオキシカルボニル−31・6
′ジデオキシ−5−0−β−D−キシロフラノシル パ
ロマミンを得た。
濃縮乾固した。得られた固体をジオキサンに溶解し、溶
液を沢過後、沢液を濃縮し、次式で示される3・2″・
6″一トリ一N−ベンジルオキシカルボニル−31・6
′ジデオキシ−5−0−β−D−キシロフラノシル パ
ロマミンを得た。
(c)本物質を実施例1(f)と同様に(S)−4−ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ一2−ヒドロキシ酪酸の
N−ヒドロキシサクシンイミドエステルと反応、処理し
、さらに実施例1(g)と同様にしてパラジウム黒を触
媒として水素で還元処理した。
ンジルオキシカルボニルアミノ一2−ヒドロキシ酪酸の
N−ヒドロキシサクシンイミドエステルと反応、処理し
、さらに実施例1(g)と同様にしてパラジウム黒を触
媒として水素で還元処理した。
1−N−((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリ
ル)−3′−デオキシ−5−0−β−D−キシロフラノ
シルネアミンが得られた。
ル)−3′−デオキシ−5−0−β−D−キシロフラノ
シルネアミンが得られた。
〔α〕賃+22ネ(El.水)
実施例 4
(a)次の式で示される3/−デオキシ−3!・2′・
65トリ−N−エトキシカルボニル−47−0−α−ナ
フトイルーネアミン 1・6−カルバメート75ワ(参
考例5参照)を無水ジクロロメタン1m1に懸濁せしめ
実施例3(a)と同様の条件下でトリ−0−ベンゾイル
−D−キシロフラノシル・プロマイドを反応させ下記の
式で示される5一0−(2・3・5−トリ−0−ベンゾ
イノレ一β一D−キシロフラノシル)−3′−デオキシ
−3・2ζ6′一トリ一N−エトキシカルボニル−4!
0−ナフトイルネアミン 1・6−カルバメートJモV〜
を得た。
65トリ−N−エトキシカルボニル−47−0−α−ナ
フトイルーネアミン 1・6−カルバメート75ワ(参
考例5参照)を無水ジクロロメタン1m1に懸濁せしめ
実施例3(a)と同様の条件下でトリ−0−ベンゾイル
−D−キシロフラノシル・プロマイドを反応させ下記の
式で示される5一0−(2・3・5−トリ−0−ベンゾ
イノレ一β一D−キシロフラノシル)−3′−デオキシ
−3・2ζ6′一トリ一N−エトキシカルボニル−4!
0−ナフトイルネアミン 1・6−カルバメートJモV〜
を得た。
〔α〕智+186(り、クロロホルム)撹拌しつつ徐々
に3時間かかつて投Xした。
に3時間かかつて投Xした。
炭酸ガスを吹きこんで後、析出した沈殿を▲過し、▲液
を蒸発乾固した。得られた固体をジオキサンに溶解し溶
液を▲過後、濃縮した。3!−デオキシ−3・2ζ6′
一トリ一N−エトキシカルボニル−5−0−β−D−キ
シロフラノシルネアミン30.5ηを得た。
を蒸発乾固した。得られた固体をジオキサンに溶解し溶
液を▲過後、濃縮した。3!−デオキシ−3・2ζ6′
一トリ一N−エトキシカルボニル−5−0−β−D−キ
シロフラノシルネアミン30.5ηを得た。
(c)本物質をテトラヒドロフランに溶解せしめ、これ
に、あらかじめ(S)−2−ヒドロキシ−4プタロール
アミノ酪酸25ワ、N−ヒドロキシサクシンイミド11
〜およびシンクロヘキシルカルボイミド22ηを無水テ
トラヒドロフラン中で混合し反応せしめて合成した上記
酪酸の活性エステルを加え、一夜室温で攪拌した。
に、あらかじめ(S)−2−ヒドロキシ−4プタロール
アミノ酪酸25ワ、N−ヒドロキシサクシンイミド11
〜およびシンクロヘキシルカルボイミド22ηを無水テ
トラヒドロフラン中で混合し反応せしめて合成した上記
酪酸の活性エステルを加え、一夜室温で攪拌した。
析出した沈殿を沢去後溶液を濃縮し次式で示される3′
−デオキシ−3・21゛・6′一トリ一N−エトキシカ
ルボニル−1−N−((S)−2−ヒドロキシ4−フタ
ロイルアミノブチリル)−5−0β−D−キシロフラノ
シルネアミン を含む固体を得た。
−デオキシ−3・21゛・6′一トリ一N−エトキシカ
ルボニル−1−N−((S)−2−ヒドロキシ4−フタ
ロイルアミノブチリル)−5−0β−D−キシロフラノ
シルネアミン を含む固体を得た。
これをシリカゲルカラムクロマトグラフイ一によりクロ
ロホルム−メタノール(10:1)を展開系として精製
し固体13ηを得た。〔α〕甘+19て(CO.l、ク
ロロホルム)(d) このようにして得られた物質24
ワを使用し、これを80%エタノール水に溶解し、少量
の抱水ヒドラジンを加え60℃で2時間反応せしめた。
ロホルム−メタノール(10:1)を展開系として精製
し固体13ηを得た。〔α〕甘+19て(CO.l、ク
ロロホルム)(d) このようにして得られた物質24
ワを使用し、これを80%エタノール水に溶解し、少量
の抱水ヒドラジンを加え60℃で2時間反応せしめた。
反応液を濃縮後、濃縮液をクロロホルムで処理しその不
溶分をとり、アセトンと混合せしめた。氷室中一夜放置
後アセトン不溶分をとり、CM−セフアデツクスC−2
5のカラムで0.1〜0.4規定のアンモニアを展開剤
として展開し目的物質を含む部分を集め濃縮乾固し1−
N((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)−
3′−デオキシ−5−0−β−D−キシロフラノシルネ
アミン5.1即を得た。〔α〕賃+225(c1、水) 実施例 5 下記式で示される3″−デオキシ−4″−0−αナフト
ール−3・2ζ6′一トリ一N−フエノキシカルボニル
ネアミン 1・6−カルバメート80即(参考例6参照
)を無水ジクロロメタン1m1に懸濁せしめ実施例3(
a)と同様の方法によつてトリ−0−ベンゾイル−D−
キシロフラノシル・プロマイドを縮合せしめ、下記式に
示す5−0(2・3・5−トリ−0−ベンゾイル−β−
Dキシロフラノシル)−3′−デオキシ−4′−0−α
ナフトール−3・2′・6′一トリ一N−フエノキシカ
ルボニルネアミン 1・6−カルバメート76▼を得た
。
溶分をとり、アセトンと混合せしめた。氷室中一夜放置
後アセトン不溶分をとり、CM−セフアデツクスC−2
5のカラムで0.1〜0.4規定のアンモニアを展開剤
として展開し目的物質を含む部分を集め濃縮乾固し1−
N((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)−
3′−デオキシ−5−0−β−D−キシロフラノシルネ
アミン5.1即を得た。〔α〕賃+225(c1、水) 実施例 5 下記式で示される3″−デオキシ−4″−0−αナフト
ール−3・2ζ6′一トリ一N−フエノキシカルボニル
ネアミン 1・6−カルバメート80即(参考例6参照
)を無水ジクロロメタン1m1に懸濁せしめ実施例3(
a)と同様の方法によつてトリ−0−ベンゾイル−D−
キシロフラノシル・プロマイドを縮合せしめ、下記式に
示す5−0(2・3・5−トリ−0−ベンゾイル−β−
Dキシロフラノシル)−3′−デオキシ−4′−0−α
ナフトール−3・2′・6′一トリ一N−フエノキシカ
ルボニルネアミン 1・6−カルバメート76▼を得た
。
〔α〕甘+17ト(c1、クロロホルム)分析値Z2C
65.8lH4.73N4.24(%)計算値(C7l
H62N4O2Oとして)C66.O4H4.84N4
.34(%)本物質を実施例1(b)、(c)、(d)
と同様にして処理し1−N−((S)−4−アミノ−2
−ヒドロキシフチリル)−3仁デオキシ−5−0−β−
D−キシロフラノシルネアミンを得た。
65.8lH4.73N4.24(%)計算値(C7l
H62N4O2Oとして)C66.O4H4.84N4
.34(%)本物質を実施例1(b)、(c)、(d)
と同様にして処理し1−N−((S)−4−アミノ−2
−ヒドロキシフチリル)−3仁デオキシ−5−0−β−
D−キシロフラノシルネアミンを得た。
実施例 6
(a)下記の式で示される3・2!−ジ一N−ベンジル
オキシカルボニル一3′−デオキシネアミン1 ・6;
4ζ6′−ジカルバメート58▼(参考例7参照)を無
水シンクロメタン1m1に懸濁せしめ、実施例1(a)
と同様にしてトリ一0−ベンゾイル一D−キシロフラノ
ンル゜プロマイドを縮合せしめて、下記の式で示される
5−0−(2・3・5−トリ−0−ベンゾイル−β−D
−キシロフラノシル)−3・2′−ジ一N−ベンジルオ
キシカルボニル−37−デオキシネアミン 1・6:4
ζ6/−ジカルバメート17Tf19を得た。
オキシカルボニル一3′−デオキシネアミン1 ・6;
4ζ6′−ジカルバメート58▼(参考例7参照)を無
水シンクロメタン1m1に懸濁せしめ、実施例1(a)
と同様にしてトリ一0−ベンゾイル一D−キシロフラノ
ンル゜プロマイドを縮合せしめて、下記の式で示される
5−0−(2・3・5−トリ−0−ベンゾイル−β−D
−キシロフラノシル)−3・2′−ジ一N−ベンジルオ
キシカルボニル−37−デオキシネアミン 1・6:4
ζ6/−ジカルバメート17Tf19を得た。
〔α〕π+16ロロホルム)
分析値:
C62.O7H5.l3N5.l2(%)計算値(C5
6H54N4O,,として)C6l.87H5.OlN
5.l5(%) 2(b)本物質15〜をジオキサ
ン2m1に溶解し、これに0.05規定水酸化バリウム
溶液を50℃に※おいて少しづつ加え反応液が恒常的に
微アルカリ性を保つ時点で反応を止め炭酸ガスで中和し
た。
6H54N4O,,として)C6l.87H5.OlN
5.l5(%) 2(b)本物質15〜をジオキサ
ン2m1に溶解し、これに0.05規定水酸化バリウム
溶液を50℃に※おいて少しづつ加え反応液が恒常的に
微アルカリ性を保つ時点で反応を止め炭酸ガスで中和し
た。
析出した沈殿を沢過し沢液を濃縮乾固した。下記式で示
される3・2″−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−
3′−デオキシ−5−0−βD−キシロフラノJャ泣lア
ミン4′・6′一カーバメートを含む固体が得られるが
、これを含水ジオキサン(1:5)に溶解し、沢過後再
び溶媒を留去した。
される3・2″−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−
3′−デオキシ−5−0−βD−キシロフラノJャ泣lア
ミン4′・6′一カーバメートを含む固体が得られるが
、これを含水ジオキサン(1:5)に溶解し、沢過後再
び溶媒を留去した。
収量11mf7(c)本物質を実施例4(b)と同様に
して処理して・(S)−2−ヒドロキシ4−プタロール
アミノ酪酸を1位のアミノ基に縮合せしめた。
して処理して・(S)−2−ヒドロキシ4−プタロール
アミノ酪酸を1位のアミノ基に縮合せしめた。
さらに実施例5(c)、(d)と同様に処理して1−N
−(S)−4アミノ−2−ヒドロキシブチリル)−3′
−デオキシ−5−0−β−D−キシロフラノシルネアミ
ンを得た。実施例 7 (a)次の式で示される65−アジド−3・2/−ジN
−ベンジルオキシカルボニル−3ζ6′−ジデオキシ−
41−0−(α−ナフトール)パロマミン 1・6−カ
ルバメート103η(参考例3参照)を無水ジクロロメ
タン2m1に懸濁せしめ、無水硫酸カルシウム(ドライ
ライト)600〜、シアン化第二水銀350m9を加え
た後、2・3・5−トリ−0(p−ニトロベンゾイノ(
ハ)−D−リボフラノシル・プロマイド330Tf9を
加え一夜激しく攪拌した。
−(S)−4アミノ−2−ヒドロキシブチリル)−3′
−デオキシ−5−0−β−D−キシロフラノシルネアミ
ンを得た。実施例 7 (a)次の式で示される65−アジド−3・2/−ジN
−ベンジルオキシカルボニル−3ζ6′−ジデオキシ−
41−0−(α−ナフトール)パロマミン 1・6−カ
ルバメート103η(参考例3参照)を無水ジクロロメ
タン2m1に懸濁せしめ、無水硫酸カルシウム(ドライ
ライト)600〜、シアン化第二水銀350m9を加え
た後、2・3・5−トリ−0(p−ニトロベンゾイノ(
ハ)−D−リボフラノシル・プロマイド330Tf9を
加え一夜激しく攪拌した。
不溶物を沢去した後、沢取物をジクロロメタンでよく洗
滌し、沢液と洗液とを合し順次飽和炭酸水素ナトリウム
溶液、水で洗滌し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を
留去した。残渣をカラムクロマトグラフイ一によりクロ
ロホルム一酢酸エチル(3:1)を展開系として精製し
、所期の物質である次式で示される6″−アジド−3・
27−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル一31・6′
−ジデオキシ−4′−0−(α−ナフトール)−5−0
(2・3・5−トリ−0一p−ニトロベンゾイル−β−
D−リボフラノシル)パロマミン 1・6−カルバメー
トを含む部分を集め濃縮乾固した。
滌し、沢液と洗液とを合し順次飽和炭酸水素ナトリウム
溶液、水で洗滌し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を
留去した。残渣をカラムクロマトグラフイ一によりクロ
ロホルム一酢酸エチル(3:1)を展開系として精製し
、所期の物質である次式で示される6″−アジド−3・
27−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル一31・6′
−ジデオキシ−4′−0−(α−ナフトール)−5−0
(2・3・5−トリ−0一p−ニトロベンゾイル−β−
D−リボフラノシル)パロマミン 1・6−カルバメー
トを含む部分を集め濃縮乾固した。
収量1191119、〔α〕智+25め(c1、クロロ
ホルム)分析値: C58.O4H4.32N8.99(%)計算値(C6
6H57N9O24として)C58.28H4.22N
9.27(%)(日 このようにして得られた6/−ア
ジド−3・27−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−
3ζ6′−ジデオキシ−4/−0−(α−ナフトール)
一5−0−(2・3・5−トリ−0−p−ニトロベンゾ
イル−β−D−リボフラノシル)パロマミン 1・6−
カルバメート462ηをジオキサン20m1に溶解し、
実施例1(e)と同様に水酸化バリウムで処理して実施
例1(e)で得たと同一の6′−アジド−3・21−ジ
一N−ベンジルオキシカルボニル−37・6!−ジデオ
キシ−5−0β−D−リボフラノシルパロマミン245
ワを得た。
ホルム)分析値: C58.O4H4.32N8.99(%)計算値(C6
6H57N9O24として)C58.28H4.22N
9.27(%)(日 このようにして得られた6/−ア
ジド−3・27−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−
3ζ6′−ジデオキシ−4/−0−(α−ナフトール)
一5−0−(2・3・5−トリ−0−p−ニトロベンゾ
イル−β−D−リボフラノシル)パロマミン 1・6−
カルバメート462ηをジオキサン20m1に溶解し、
実施例1(e)と同様に水酸化バリウムで処理して実施
例1(e)で得たと同一の6′−アジド−3・21−ジ
一N−ベンジルオキシカルボニル−37・6!−ジデオ
キシ−5−0β−D−リボフラノシルパロマミン245
ワを得た。
以下、本物質を実施例1(f)、(g)と同様に処理し
て1−N−((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチ
リル)−3′−デオキシ−5−0−β−Dリボフラノシ
ルネアミン(すなわち3/−デオキシブチロシンB)を
得た。
て1−N−((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチ
リル)−3′−デオキシ−5−0−β−Dリボフラノシ
ルネアミン(すなわち3/−デオキシブチロシンB)を
得た。
こ施例 8
0170即のテトラ−0−ベンゾイル一D−キシロブラ
ノースを文献記載の方法(J.J.FOx,.J.F.
COdingtOn.N.C.Yung.L.Kapl
an及びJ.O.Lampenl「ジヤーナル●オブ・
アメリカン・ケミカルソサエテイ・−」80巻・515
5頁・1958年)にて処理して、相当するブロム糖を
得た。
ノースを文献記載の方法(J.J.FOx,.J.F.
COdingtOn.N.C.Yung.L.Kapl
an及びJ.O.Lampenl「ジヤーナル●オブ・
アメリカン・ケミカルソサエテイ・−」80巻・515
5頁・1958年)にて処理して、相当するブロム糖を
得た。
次に6′−アジド−3・27−ジ一N−ベンジルオキシ
カルボニル−31・61−ジデオキシ−470−(α−
ナフトール)パロマミン1・6−カルバメート78ヮ(
参考例3参照)を無水ジクロロメタン1m1に懸濁せし
め、無水硫酸カルシウム400即、シアン化第二水銀1
70ηを加えた後、上記ブロム糖の0.3m1のジクロ
ロメタン溶液を加え一夜激しく攪拌した。
カルボニル−31・61−ジデオキシ−470−(α−
ナフトール)パロマミン1・6−カルバメート78ヮ(
参考例3参照)を無水ジクロロメタン1m1に懸濁せし
め、無水硫酸カルシウム400即、シアン化第二水銀1
70ηを加えた後、上記ブロム糖の0.3m1のジクロ
ロメタン溶液を加え一夜激しく攪拌した。
不溶物を沢去した後、▲取物をジクロロメタンでよく洗
滌し、沢液と洗液とを合し、順次飽和炭酸水素ナトリウ
ム溶液、水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を留去した。
滌し、沢液と洗液とを合し、順次飽和炭酸水素ナトリウ
ム溶液、水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を留去した。
残渣をカラムクロマトグラJャC一によりクロロホルム一
酢酸エチル(2:1)を展開系として精製し所期の物質
である6′−アジド−5−0−(2・3・5−トリ−0
−ベンゾイル−β−D−キシロフラノシル)−3・2′
−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−37・67−ジ
デオキシ−4/−0α−ナフトイルパロマミン 1・6
−カルバメートを含む部分を集め濃縮し乾固した。
酢酸エチル(2:1)を展開系として精製し所期の物質
である6′−アジド−5−0−(2・3・5−トリ−0
−ベンゾイル−β−D−キシロフラノシル)−3・2′
−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−37・67−ジ
デオキシ−4/−0α−ナフトイルパロマミン 1・6
−カルバメートを含む部分を集め濃縮し乾固した。
収量75〜、〔α〕+18.5濃(c1、クロロホルム
)分析値:C64.93H4.8lN6.66(%)計
算値(C66H6ON6Ol3として:C64.7OH
4.94N6.86(%)(b)本物質60m9をジオ
キサン3m1に溶解し、溶液を60℃に加温し、これに
0.1規定水酸化バリウム溶液3.3m1を攪拌しつつ
徐々に3時間かかつて投人した。
)分析値:C64.93H4.8lN6.66(%)計
算値(C66H6ON6Ol3として:C64.7OH
4.94N6.86(%)(b)本物質60m9をジオ
キサン3m1に溶解し、溶液を60℃に加温し、これに
0.1規定水酸化バリウム溶液3.3m1を攪拌しつつ
徐々に3時間かかつて投人した。
炭酸ガスを吹きこんで後、析出した沈殿を沢過し、沢液
を濃縮乾固した。得られた固体をジオキサンに溶解し、
溶液を▲過後、沢液を濃縮し次式で示される6″−アジ
ド−3・27−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル一3
7・67−ジデオキシ−5−0−β−D−キシロフラノ
シルバロマミン39.8myを得た。
を濃縮乾固した。得られた固体をジオキサンに溶解し、
溶液を▲過後、沢液を濃縮し次式で示される6″−アジ
ド−3・27−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル一3
7・67−ジデオキシ−5−0−β−D−キシロフラノ
シルバロマミン39.8myを得た。
赤外線吸収スペクトル:2100及び1700C7rL
−1(c)本物質50ηをテトラヒドロフラン0.8m
1に溶解し、実施例1(f)と同様に1−N−アシル化
反応を行い処理して67−アジド−3・2/−ジN−ベ
ンジルオキシカルボニル−1−N−((S)一4−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−2ヒドロキシブチリル)
−3′・6′−ジデオキシ−5−0−β−D−キシロフ
ラノシルノ柘マミン19ηを得た。
−1(c)本物質50ηをテトラヒドロフラン0.8m
1に溶解し、実施例1(f)と同様に1−N−アシル化
反応を行い処理して67−アジド−3・2/−ジN−ベ
ンジルオキシカルボニル−1−N−((S)一4−ベン
ジルオキシカルボニルアミノ−2ヒドロキシブチリル)
−3′・6′−ジデオキシ−5−0−β−D−キシロフ
ラノシルノ柘マミン19ηを得た。
分析値.
C55.93H5.7ON9.8O(%)計算値(C4
5H57N7Ol7として、)C55.84H5.94
NlO.l3(%)(d)本物質35mf!をジオキサ
ン0.6m1に溶解し、実施例1(g)と同様に処理し
1−N−((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリ
ル)−3′−デオキシ−5−0−β−D−キシロフラノ
シルネアミン(31−デオキシブチロシンA)の固体1
0ワを得た。
5H57N7Ol7として、)C55.84H5.94
NlO.l3(%)(d)本物質35mf!をジオキサ
ン0.6m1に溶解し、実施例1(g)と同様に処理し
1−N−((S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリ
ル)−3′−デオキシ−5−0−β−D−キシロフラノ
シルネアミン(31−デオキシブチロシンA)の固体1
0ワを得た。
〔α〕賃+23ロ(c1、水)辷施例 9
1)実施例8(b)で得た6′−アジド−3・2′−ジ
一N−ベンジルオキシカルボニル−3′・6′−ジデオ
キシ−5−0−β−D−キシロフラノシルパロマミン5
0ηをテトラヒドロフラン0.8m1に溶解し(RS)
−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキ
シプロピオン酸のNーヒドロキシサクシンイミドエステ
ル30〜を加え、トリエチルアミン10ワを加えた後室
温で1時間反応せしめた。
一N−ベンジルオキシカルボニル−3′・6′−ジデオ
キシ−5−0−β−D−キシロフラノシルパロマミン5
0ηをテトラヒドロフラン0.8m1に溶解し(RS)
−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキ
シプロピオン酸のNーヒドロキシサクシンイミドエステ
ル30〜を加え、トリエチルアミン10ワを加えた後室
温で1時間反応せしめた。
以下実施例1(f)と同様に後処理して下記の式で示さ
れるところの6′−アジド−3ζ2′−ジ一N−ベンジ
ルオキシカルボニル一1−N−(RS)−3−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシプロピオニル
)−3ζ61−ジデオキシ−5−0−β−D一キシロフ
ラノシルパロマミンの固体267r19を得た。
れるところの6′−アジド−3ζ2′−ジ一N−ベンジ
ルオキシカルボニル一1−N−(RS)−3−ベンジル
オキシカルボニルアミノ−2−ヒドロキシプロピオニル
)−3ζ61−ジデオキシ−5−0−β−D一キシロフ
ラノシルパロマミンの固体267r19を得た。
〔α〕υ+15く(c(CO.2、クロロホルム)(b
)このようにして得られた本物質32T!Z9をジオキ
サン0.6m1に溶解し実施例1(g)と同様に処理
〕して1−N−((RS)−3−アミノ−2−ヒドロキ
シプロピオニル)−3′−デオキシ−5−0一β−D−
キシロフラノシルネアミン 9.6m9を得た。
)このようにして得られた本物質32T!Z9をジオキ
サン0.6m1に溶解し実施例1(g)と同様に処理
〕して1−N−((RS)−3−アミノ−2−ヒドロキ
シプロピオニル)−3′−デオキシ−5−0一β−D−
キシロフラノシルネアミン 9.6m9を得た。
〔α〕賃+25.5ネ(c1、水)実施例 10(a)
実施例8(b)で得た6″−アジド−3・2″−ジN−
ベンジルオキシカルボニル−3′・6″−ジデオキシ−
5−0−β−D−キシロフラノシルパロマミン50m9
をテトラヒドロフラン0.8m1に溶解し、(S)−3
−ベンジルオキシカルボニルアミノ一2−ヒドロキシプ
ロピオン酸のN−ヒドロキシサクシンイミドエステル3
07r19を加えトリエチルアミン10ηを加えた後室
温で1時間反応せしめた。
実施例8(b)で得た6″−アジド−3・2″−ジN−
ベンジルオキシカルボニル−3′・6″−ジデオキシ−
5−0−β−D−キシロフラノシルパロマミン50m9
をテトラヒドロフラン0.8m1に溶解し、(S)−3
−ベンジルオキシカルボニルアミノ一2−ヒドロキシプ
ロピオン酸のN−ヒドロキシサクシンイミドエステル3
07r19を加えトリエチルアミン10ηを加えた後室
温で1時間反応せしめた。
以下実施例1(f)と同様に後処理して6′−アジド−
3・2仁ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−1−N−
((S)−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−
ヒドロキシプロピオニル)−3′・6/−ジデオキシ−
5−0−β一D−キシロフラノシルパロマミンの固体2
5ηを得た。〔α〕青+13ロ(C2、クロロホルム)
分析値: C55.36H5.72NlO.38(%)計算値(C
44H55N7Ol7として)C55.4OH5.8l
NlO.28(%))) このようにして得られる本物
質32即をジオキサン0.6m1に溶解し実施例1(g
)と同様に処理し、下記式で示される1−N−((S)
−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)−31−
デオキシ−5−0−β−D−キシロフラノシルネアくン
の固体9.8ワを得た。
3・2仁ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−1−N−
((S)−3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−2−
ヒドロキシプロピオニル)−3′・6/−ジデオキシ−
5−0−β一D−キシロフラノシルパロマミンの固体2
5ηを得た。〔α〕青+13ロ(C2、クロロホルム)
分析値: C55.36H5.72NlO.38(%)計算値(C
44H55N7Ol7として)C55.4OH5.8l
NlO.28(%))) このようにして得られる本物
質32即をジオキサン0.6m1に溶解し実施例1(g
)と同様に処理し、下記式で示される1−N−((S)
−3−アミノ−2−ヒドロキシプロピオニル)−31−
デオキシ−5−0−β−D−キシロフラノシルネアくン
の固体9.8ワを得た。
〔α]賃+211(c1、水)分杉百直:
C43.O8H6.93Nll.7l(%)計算値(C
2OH39N5Ol,・H2CO3として)C42.9
2H7.O3Nll.92(%)実施例 11(a)メ
チルトリ−0−ベンゾイル−α−L−アラビノフラノシ
ド(R.Barker及びH.G.Flecher.J
r.ジャーナル・オブ・オルガニツク・ケミストリ一、
26巻、4605(1961年))をメタノール中ナト
リウムメトキサイドの作用によりメチルα−L−アラビ
ノフラノシドに導いた。
2OH39N5Ol,・H2CO3として)C42.9
2H7.O3Nll.92(%)実施例 11(a)メ
チルトリ−0−ベンゾイル−α−L−アラビノフラノシ
ド(R.Barker及びH.G.Flecher.J
r.ジャーナル・オブ・オルガニツク・ケミストリ一、
26巻、4605(1961年))をメタノール中ナト
リウムメトキサイドの作用によりメチルα−L−アラビ
ノフラノシドに導いた。
これをピリジン中無水酢酸の作用によりメチルトリ−0
−アセチル−α−L−アラビノフラノシドに導いた。
−アセチル−α−L−アラビノフラノシドに導いた。
この物質108ηを酢酸1m1に溶解し、無水酢酸0.
05m1、臭化水素酸飽和酢酸0.25m1を加え、6
0℃2時間放置した。反応溶液を減圧で濃縮し糖プロマ
イドのシロツプを得た。このシロツプを無水ジクロロメ
タン1m1に溶解し無水硫酸カルシウム170ワ、65
−アジド3・21−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル
3ζ6/−ジデオキシ−4′−0−(α−ナフトール)
パロマミン1・6−カルバメート104ワ、さらにシア
ン化第二水銀173ワを加え、常温で一夜激しく撹拌し
た。
05m1、臭化水素酸飽和酢酸0.25m1を加え、6
0℃2時間放置した。反応溶液を減圧で濃縮し糖プロマ
イドのシロツプを得た。このシロツプを無水ジクロロメ
タン1m1に溶解し無水硫酸カルシウム170ワ、65
−アジド3・21−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル
3ζ6/−ジデオキシ−4′−0−(α−ナフトール)
パロマミン1・6−カルバメート104ワ、さらにシア
ン化第二水銀173ワを加え、常温で一夜激しく撹拌し
た。
反応液を沢過し、沢液を炭酸水素ナトリウム水溶液、水
で順次洗滌後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮し、次
式で示される5−0−(2・3・5−トリ−0アセチル
一α−L−アラビノフラノシル)61−アジド−3・2
1−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−3/・61−
ジデオキシ−4/−0−αナフトイルパロマミン 1・
6−カルバメート〔但しAcはアセチル基]を含む固体
を得た。
で順次洗滌後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮し、次
式で示される5−0−(2・3・5−トリ−0アセチル
一α−L−アラビノフラノシル)61−アジド−3・2
1−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−3/・61−
ジデオキシ−4/−0−αナフトイルパロマミン 1・
6−カルバメート〔但しAcはアセチル基]を含む固体
を得た。
これをシリカゲルカラムクロマトグラフイ一によりクロ
ロホルム−エタノール(50:1)を展開剤として展開
し目的物質を含む部分を集め、闘濃縮し、固体98ワを
得た。〔α〕智+26め(c1、クロロホルム)分析値
: C58.87H5.3lN7.82(%)計算値 C5
lH54N6Ol8として:C58.95H5.24N
8.O9(%)(b)本物質60〜をジオキサン30m
1に溶解し、実施例1(e)と同様に処理して5−0−
α−L−アラビノフラノシル一65−アジド−3・2/
−ジN−ベンジルオキシカルボニル−37・67−ジデ
オキシパロマミンの固体37ηを得た。
ロホルム−エタノール(50:1)を展開剤として展開
し目的物質を含む部分を集め、闘濃縮し、固体98ワを
得た。〔α〕智+26め(c1、クロロホルム)分析値
: C58.87H5.3lN7.82(%)計算値 C5
lH54N6Ol8として:C58.95H5.24N
8.O9(%)(b)本物質60〜をジオキサン30m
1に溶解し、実施例1(e)と同様に処理して5−0−
α−L−アラビノフラノシル一65−アジド−3・2/
−ジN−ベンジルオキシカルボニル−37・67−ジデ
オキシパロマミンの固体37ηを得た。
(c)このようにして得られた5−0−α−L−アラビ
ノフラノシル一6′−アジド−3・2′−ジ一N−ベン
ジルオキシカルボニル−3ζ6″−ジデオキシパロマミ
ン50即をテトラヒドロフラン0.8m1に溶解せしめ
(S)−4−ベンジルオキシカルボニルアミノ一2−ヒ
ドロキシ酪酸のN−ヒドロキシサクシンイミドエステル
を使用し、実施例1(f)と同様に処理して5−0−α
−L−アラビノフラノシル一6′−アジド−3・2′−
ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−1−N−((S)
4−ベンジルオキシカルボニルアミノ一2ヒドロキシブ
チリル)−3ζ67−ジデオキシパロマミン 17m9
を得た。
ノフラノシル一6′−アジド−3・2′−ジ一N−ベン
ジルオキシカルボニル−3ζ6″−ジデオキシパロマミ
ン50即をテトラヒドロフラン0.8m1に溶解せしめ
(S)−4−ベンジルオキシカルボニルアミノ一2−ヒ
ドロキシ酪酸のN−ヒドロキシサクシンイミドエステル
を使用し、実施例1(f)と同様に処理して5−0−α
−L−アラビノフラノシル一6′−アジド−3・2′−
ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−1−N−((S)
4−ベンジルオキシカルボニルアミノ一2ヒドロキシブ
チリル)−3ζ67−ジデオキシパロマミン 17m9
を得た。
〔α〕昭+200(c1、クロロホルム)分析値.
C55.7l、H5.75、NlO.O6(%)計算値
C45H57N7Ol7として:C55.84、H5
.94、NlO.l3(%)Ci)このようにして得ら
れた本物質35ワをジオキサン0.6m1に溶解し、実
施例1(g)と同様に処理して下記式で示される1−N
−(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)−5
−0−αL−アラビノフラノシル一31−デオキシネア
ミンの固体88叩を得た。
C45H57N7Ol7として:C55.84、H5
.94、NlO.l3(%)Ci)このようにして得ら
れた本物質35ワをジオキサン0.6m1に溶解し、実
施例1(g)と同様に処理して下記式で示される1−N
−(S)−4−アミノ−2−ヒドロキシブチリル)−5
−0−αL−アラビノフラノシル一31−デオキシネア
ミンの固体88叩を得た。
〔α〕貨+29−(c1、水)分析値
C44、30、H7.ll.Nll.33(%)計算値
C2lH4lN5Oll・H2CO3として:C43
.92、H7.2O,.Nll.64(%)参考例 1
(a) トリ−N−ベンジルオキシカルボニル−3/−
デオキシパロマミン3′−デオキゾパロマミン5.32
yを水26m1闘に溶解し、炭酸ナトリウム5.47を
加え、撹拌しつつメタノール85m1を加えた。
C2lH4lN5Oll・H2CO3として:C43
.92、H7.2O,.Nll.64(%)参考例 1
(a) トリ−N−ベンジルオキシカルボニル−3/−
デオキシパロマミン3′−デオキゾパロマミン5.32
yを水26m1闘に溶解し、炭酸ナトリウム5.47を
加え、撹拌しつつメタノール85m1を加えた。
この沈殿を含む混液に撹拌しつつ塩化ギ酸ベンジル(C
lCOOCH2C6H5)7.08f7を滴下した。
lCOOCH2C6H5)7.08f7を滴下した。
2時間後沢過し、沢取物を水およびエーテルで 3洗つ
て後乾燥した。
て後乾燥した。
収量9.0f、〔α]M+43た(CO.5、ジオキサ
ン)。
ン)。
分析値:C6O.7O.H6.O6、N5.63%計算
値 (C36H43N3Ol2として):C6O.92
、H6.ll、N5.92%b) 3・21−ジ一N−
ベンジルオキシカルボニル3/−デオキシパロマミン1
・6−カルバメート前項(a)の生成物107を無水ジ
メチルホルムアミド250m1に溶解し、50%油性水
素化ナトリウム2yを加え、氷冷下2.5時間攪拌した
。
値 (C36H43N3Ol2として):C6O.92
、H6.ll、N5.92%b) 3・21−ジ一N−
ベンジルオキシカルボニル3/−デオキシパロマミン1
・6−カルバメート前項(a)の生成物107を無水ジ
メチルホルムアミド250m1に溶解し、50%油性水
素化ナトリウム2yを加え、氷冷下2.5時間攪拌した
。
酢酸4m1を加えて後反応混合液を濃縮し、その濃縮液
を氷水中に投人した。析出した沈殿を沢取し、水洗し、
乾燥した。次式 (但しBzはベンジル基)で示される表題化合物を得た
。
を氷水中に投人した。析出した沈殿を沢取し、水洗し、
乾燥した。次式 (但しBzはベンジル基)で示される表題化合物を得た
。
収量6.6t0(c) 4″・6仁0−ベンジリデン−
3.2′−ジ一Nベンジルオキシカルボニル−3′−デ
オキシパロマミン 1・6−カルバメート前項(b)の
生成物1.2yを無水ジメチルホルムアミド25m1に
溶解し、これにp−トルエンスルホン酸70即、ベンズ
アルデヒドジメチルアセタール3yを加え50℃で30
1tm水銀柱減圧下に1時間加熱した。
3.2′−ジ一Nベンジルオキシカルボニル−3′−デ
オキシパロマミン 1・6−カルバメート前項(b)の
生成物1.2yを無水ジメチルホルムアミド25m1に
溶解し、これにp−トルエンスルホン酸70即、ベンズ
アルデヒドジメチルアセタール3yを加え50℃で30
1tm水銀柱減圧下に1時間加熱した。
溶液を減圧下ほとんど濃縮し、濃縮液を大量のクロロホ
ルムに溶解し、この溶液を炭酸水素ナトリウム溶液で洗
浄後、さらに水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃
縮乾固して表題の化合物を得た。収量1,16f1〔α
〕智+32化(Cl.ジオキサン):赤外線吸収スペク
トル:1760CTIL−1(環状カルバメート)。分
析値. C62.47、H5.68、N6.l2%計算値(C3
6H39N3Ollとして):C62.69、H5.7
O、N6.O9%参考例 2 (a) トリ−N−ベンジルオキシカルボニル−4ζ6
′−0−シクロヘキキシリデン一3″−デオキシパロマ
ミントリ一N−ベンジルオキシカルボニル−3′デオキ
シパロマミン2.57をジメチルホルムアミド40m1
に溶解しこれにp−トルエンスルホン酸100即、1・
1−ジメトキシシクロヘキサン4m1を加え50℃で1
時間加温した。
ルムに溶解し、この溶液を炭酸水素ナトリウム溶液で洗
浄後、さらに水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濃
縮乾固して表題の化合物を得た。収量1,16f1〔α
〕智+32化(Cl.ジオキサン):赤外線吸収スペク
トル:1760CTIL−1(環状カルバメート)。分
析値. C62.47、H5.68、N6.l2%計算値(C3
6H39N3Ollとして):C62.69、H5.7
O、N6.O9%参考例 2 (a) トリ−N−ベンジルオキシカルボニル−4ζ6
′−0−シクロヘキキシリデン一3″−デオキシパロマ
ミントリ一N−ベンジルオキシカルボニル−3′デオキ
シパロマミン2.57をジメチルホルムアミド40m1
に溶解しこれにp−トルエンスルホン酸100即、1・
1−ジメトキシシクロヘキサン4m1を加え50℃で1
時間加温した。
溶液の大部分を減圧下濃縮した後この濃縮液に60%酢
酸50dを加え、この混合液を30℃にさらに1時間加
温して後、炭酸水素ナトリウム200ワを加え混合溶液
を濃縮し乾固した。残渣をクロロホルムに溶解し、この
溶液を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下濃縮し乾
固し物質2.7tとして次式で表わされる表題化合物を
得た。
酸50dを加え、この混合液を30℃にさらに1時間加
温して後、炭酸水素ナトリウム200ワを加え混合溶液
を濃縮し乾固した。残渣をクロロホルムに溶解し、この
溶液を水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥し減圧下濃縮し乾
固し物質2.7tとして次式で表わされる表題化合物を
得た。
〔α〕+31表(c1、クロロホルム)。
(b) 3・2′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル
こ4/・6/−0−シクロヘキシリデン一3仁デオキ
シパロマミン 1・6−カルバメート前項(a)で得た
物質1.527を無水ジメチルホルムアミド25m1に
溶解し50%油性水素化ナトリウム250W19を加え
、氷冷下3時間撹拌した。
こ4/・6/−0−シクロヘキシリデン一3仁デオキ
シパロマミン 1・6−カルバメート前項(a)で得た
物質1.527を無水ジメチルホルムアミド25m1に
溶解し50%油性水素化ナトリウム250W19を加え
、氷冷下3時間撹拌した。
以後、参考例1(b)と同様に処理し、表題の物質1.
09yを得た。〔α〕賃+52し、(Cl.ピリジン)
。分析値: C6l.38、H6.4l、N6.O8%計算値(C3
5H43N3Ollとして):C6l.66、H6.3
6、N6.l6%参考例 3 (a) トリ−N−ベンジルオキシカルボニル−3/デ
オキシ−6′−0−トシルパロマミントリ一N−ベンジ
ルオキシカルボニル−3′デオキシパロマミン9.78
7を無水ピリジンに溶解し、塩化p−トルエンスルホニ
ル3.5yを加え、−10℃に一夜放置した。
09yを得た。〔α〕賃+52し、(Cl.ピリジン)
。分析値: C6l.38、H6.4l、N6.O8%計算値(C3
5H43N3Ollとして):C6l.66、H6.3
6、N6.l6%参考例 3 (a) トリ−N−ベンジルオキシカルボニル−3/デ
オキシ−6′−0−トシルパロマミントリ一N−ベンジ
ルオキシカルボニル−3′デオキシパロマミン9.78
7を無水ピリジンに溶解し、塩化p−トルエンスルホニ
ル3.5yを加え、−10℃に一夜放置した。
少量の水を加えて後溶液を濃縮し、得られたシロツプ状
物質をクロロホルムに溶解し、この溶液を水洗し、無水
硫酸ナトリウムで脱水後濃縮乾固した。収量8.047
、Mp.l85〜186℃、〔α周+33、(Cl.ジ
オキサン)、 分析値: C59.89、H5.7O,.N4.87、S3.72
%計算値(C43H49N3Ol4Sとして):C59
.78、H5.72、N4.86、S3.7l% b) トリ−N−ベンジルオキシカルボニル−37一デ
オキシ一6/−0−メシルパロマミントリ一N−ベンジ
ルオキシカルボニル−3′デオキシパロマミンを塩化メ
シルで参考例3(a)と同様に処理した。
物質をクロロホルムに溶解し、この溶液を水洗し、無水
硫酸ナトリウムで脱水後濃縮乾固した。収量8.047
、Mp.l85〜186℃、〔α周+33、(Cl.ジ
オキサン)、 分析値: C59.89、H5.7O,.N4.87、S3.72
%計算値(C43H49N3Ol4Sとして):C59
.78、H5.72、N4.86、S3.7l% b) トリ−N−ベンジルオキシカルボニル−37一デ
オキシ一6/−0−メシルパロマミントリ一N−ベンジ
ルオキシカルボニル−3′デオキシパロマミンを塩化メ
シルで参考例3(a)と同様に処理した。
収率62%、〔α〕2B+35。
(C1、ジオキサン)c) 6′−アジド−トリ−N−
ベンジルオキシカルボニル−3′・6′−ジデオキシパ
ロマミン前凋a)の生成物5.467をジメチルホルム
アミド100m1に溶解し、アジ化ナトリウム4.27
を加え60℃にて7時間攪拌した。
ベンジルオキシカルボニル−3′・6′−ジデオキシパ
ロマミン前凋a)の生成物5.467をジメチルホルム
アミド100m1に溶解し、アジ化ナトリウム4.27
を加え60℃にて7時間攪拌した。
溶液を沢過し、沢液を濃縮し、さらにトルエンを加えて
濃縮をくりかえし、ジメチルホルムアミドを留去した。
残渣をジオキサンに溶解し沢過後、溶液を濃縮乾固した
。収量4.237、Mp.2O6〜209℃、〔α〕+
90.(CO.5、ジオキサン):赤外線吸収スペクト
ル:2100?−1(N3基)分析値: C58.87、H5.78、Nll.2O%計算値(C
36H42N6Ollとして):C58.85、H5.
76、Nll.44%(d)前項(b)の生成物を前項
(c)と同様に処理し、前項(c)の生成物と同一の物
質を得た。
濃縮をくりかえし、ジメチルホルムアミドを留去した。
残渣をジオキサンに溶解し沢過後、溶液を濃縮乾固した
。収量4.237、Mp.2O6〜209℃、〔α〕+
90.(CO.5、ジオキサン):赤外線吸収スペクト
ル:2100?−1(N3基)分析値: C58.87、H5.78、Nll.2O%計算値(C
36H42N6Ollとして):C58.85、H5.
76、Nll.44%(d)前項(b)の生成物を前項
(c)と同様に処理し、前項(c)の生成物と同一の物
質を得た。
収率93%、(e) 61−アジド−3・21−ジ一N
−ベンジルオキシカルボニル−31・6仁ジデオキシパ
ロマミン1・6−カルバメート前項(c)の生成物1.
17を無水ジメチルホルムアミド22m1に溶解し、5
0%油性水素化ナ゛トリウム240m′を加え、氷冷下
2.5時間攪拌した。
−ベンジルオキシカルボニル−31・6仁ジデオキシパ
ロマミン1・6−カルバメート前項(c)の生成物1.
17を無水ジメチルホルムアミド22m1に溶解し、5
0%油性水素化ナ゛トリウム240m′を加え、氷冷下
2.5時間攪拌した。
酢酸0.35m1を加えて後、反応混合液を氷水中に投
入した。析出した沈殿を沢取し、水洗し、乾燥した。こ
の固体をジオキサンに溶解し、n−ヘキサンを加えて沈
殿せしめた。収量0.757、〔α〕賀+73し(Cl
.ジオキサン):赤外線吸収スペクトル:2100(N
3)、1750(環状カルバメート)、1700(ウレ
タン型カルボニル)、1520(アミド)。
入した。析出した沈殿を沢取し、水洗し、乾燥した。こ
の固体をジオキサンに溶解し、n−ヘキサンを加えて沈
殿せしめた。収量0.757、〔α〕賀+73し(Cl
.ジオキサン):赤外線吸収スペクトル:2100(N
3)、1750(環状カルバメート)、1700(ウレ
タン型カルボニル)、1520(アミド)。
分析値:C55.67、H5.5O.Nl2.9l%計
算値(C29H34N6OlOとして):C55.59
、H5.47、Nl3.4l%(f) 67−アジド−
3・2″−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−32・
6/−ジデオキシ−4!−0(α−ナフトール)パロマ
ミン 1・6−カルバメート前項(e)の生成物1.0
3yを無水ピリジン20mjに溶解し、氷一食塩で冷却
後塩化α−ナフトール370▼を加え−10℃に一夜放
置した。
算値(C29H34N6OlOとして):C55.59
、H5.47、Nl3.4l%(f) 67−アジド−
3・2″−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル−32・
6/−ジデオキシ−4!−0(α−ナフトール)パロマ
ミン 1・6−カルバメート前項(e)の生成物1.0
3yを無水ピリジン20mjに溶解し、氷一食塩で冷却
後塩化α−ナフトール370▼を加え−10℃に一夜放
置した。
水0.05m1を加えて後反応液を濃縮し、得られたシ
ロツプをクロロホルムに溶解し、この溶液を水洗し、乾
燥後濃縮し、乾固した。得られた固体をシリカゲルによ
るカラムクロマトグラフイ一によりベンゼン一酢酸エチ
ル(1:1)を展開剤として精製した。表題の化合物を
得た。収量826ワ・〔α〕智+98化(c1・ジオキ
サン)分析値: C6l.42、H5.24、NlO.49%計算値(C
4OH4ON6Ollとして):C6l.53、H5.
l7、NlO.76%参考例 43・2′・6′一トリ
一N−ベンジルオキシカルボニル−3′−デオキシ−4
′−0−α−ナフトイルネアミン 1・6−カルバメー
ト参考例3(f)で得た物質320ηを水一ジオキサン
(1:9、10m0に溶解しパラジウム一水素により定
法により還元した後、溶液を沢過し、▲液に少量の炭酸
水素ナトリウムと塩化ギ酸ベンジル(ClCOOCH2
C6H5)285即を加え、1時間常温で攪拌した。
ロツプをクロロホルムに溶解し、この溶液を水洗し、乾
燥後濃縮し、乾固した。得られた固体をシリカゲルによ
るカラムクロマトグラフイ一によりベンゼン一酢酸エチ
ル(1:1)を展開剤として精製した。表題の化合物を
得た。収量826ワ・〔α〕智+98化(c1・ジオキ
サン)分析値: C6l.42、H5.24、NlO.49%計算値(C
4OH4ON6Ollとして):C6l.53、H5.
l7、NlO.76%参考例 43・2′・6′一トリ
一N−ベンジルオキシカルボニル−3′−デオキシ−4
′−0−α−ナフトイルネアミン 1・6−カルバメー
ト参考例3(f)で得た物質320ηを水一ジオキサン
(1:9、10m0に溶解しパラジウム一水素により定
法により還元した後、溶液を沢過し、▲液に少量の炭酸
水素ナトリウムと塩化ギ酸ベンジル(ClCOOCH2
C6H5)285即を加え、1時間常温で攪拌した。
混液を濃縮乾固し、残渣をクロロホルムで抽出し、クロ
ロホルム溶液を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を留去した。表題の化合物が得られた。収量2817T
19、〔α〕賃+83れ(c1、クロロホルム)。分析
値.C65.l3、H5.32、N6.O8%計算値(
C48H48N4Ol3として):C64.85、H5
.44、N6.3O%参考例 5 3′−デオキシ−3・21・61−トリ−N−エトキシ
カルボニル−4/−0−α−ナフトイルネアミン 1・
6−カルバメート上記の参考例4において塩化ギ酸ベン
ジルの代りに塩化ギ酸エチル(ClCOOC2H5)を
使用すると、表題の化合物を得た。
ロホルム溶液を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を留去した。表題の化合物が得られた。収量2817T
19、〔α〕賃+83れ(c1、クロロホルム)。分析
値.C65.l3、H5.32、N6.O8%計算値(
C48H48N4Ol3として):C64.85、H5
.44、N6.3O%参考例 5 3′−デオキシ−3・21・61−トリ−N−エトキシ
カルボニル−4/−0−α−ナフトイルネアミン 1・
6−カルバメート上記の参考例4において塩化ギ酸ベン
ジルの代りに塩化ギ酸エチル(ClCOOC2H5)を
使用すると、表題の化合物を得た。
収率73%、〔α〕+900(Cl.クロロホルム)
分析値:
C56.3O.H5.88、N7.76%計算値(C3
3H42N4O,3として):C56.4O、H6.O
2、N7.97%参考例 6 3′−デオキシ−47−0−α−ナフトール−3・2′
・67−トリ−N−フエノキシカルボニルネアミン 1
・6−カルバメート上記の参考例4において塩化ギ酸ベ
ンジルの代りに塩化ギ酸フエニル(ClCOOC6H5
)を使用すると、表題の化合物を得た。
3H42N4O,3として):C56.4O、H6.O
2、N7.97%参考例 6 3′−デオキシ−47−0−α−ナフトール−3・2′
・67−トリ−N−フエノキシカルボニルネアミン 1
・6−カルバメート上記の参考例4において塩化ギ酸ベ
ンジルの代りに塩化ギ酸フエニル(ClCOOC6H5
)を使用すると、表題の化合物を得た。
収率64%、〔α〕108+83物(CO.5、クロロ
ホルム)分析値:C63.96、H4.8l、N6.4
3%計算値(C45H42N4Ol3として):C63
.82、H5.OO,.N6.62%参考例 73・2
′−ジ4−N−ベンジルオキシカルボニル3′−デオキ
シネアミン 1・6:47・67−ジカルバメート3″
−デオキシネアミンを参考例1(a)と同様にして塩化
ギ酸ベンジルと作用させることによりテトラ−N−ベン
ジルオキシカルボニル−3′−デオキシネアミンを得た
。
ホルム)分析値:C63.96、H4.8l、N6.4
3%計算値(C45H42N4Ol3として):C63
.82、H5.OO,.N6.62%参考例 73・2
′−ジ4−N−ベンジルオキシカルボニル3′−デオキ
シネアミン 1・6:47・67−ジカルバメート3″
−デオキシネアミンを参考例1(a)と同様にして塩化
ギ酸ベンジルと作用させることによりテトラ−N−ベン
ジルオキシカルボニル−3′−デオキシネアミンを得た
。
本物質2.37をジメチルホルムアミド40m1に溶解
し、50%油性水素化ナトリウム300ワを加え、氷冷
下2.5時間攪拌した。酢酸0.5m1を加えて後反応
混合液を減圧で濃縮し、濃縮液を氷水に投人した。析出
した沈澱を沢取し、水洗し、乾燥した。表題の化合物が
得られた。収量1.217、〔α〕t+900(c1、
ジメチルホルムアミド)。分析値: C57.63、H5.55、N8.74%計算値(C3
OH24N4Ollとして):C57.5O,.H5.
47、N8.94%参考例 82・3・5−トリ−0−
(p−ニトロベンゾイル)−D−リボフラノシル ブロ
マイドD−リボース2.07を40m1のメタノールに
溶解し、これに1規定塩酸メタノール溶液4m1を加え
5゜Cに放置してメチルβ−D−リボフラノシドを製造
した。
し、50%油性水素化ナトリウム300ワを加え、氷冷
下2.5時間攪拌した。酢酸0.5m1を加えて後反応
混合液を減圧で濃縮し、濃縮液を氷水に投人した。析出
した沈澱を沢取し、水洗し、乾燥した。表題の化合物が
得られた。収量1.217、〔α〕t+900(c1、
ジメチルホルムアミド)。分析値: C57.63、H5.55、N8.74%計算値(C3
OH24N4Ollとして):C57.5O,.H5.
47、N8.94%参考例 82・3・5−トリ−0−
(p−ニトロベンゾイル)−D−リボフラノシル ブロ
マイドD−リボース2.07を40m1のメタノールに
溶解し、これに1規定塩酸メタノール溶液4m1を加え
5゜Cに放置してメチルβ−D−リボフラノシドを製造
した。
これをピリジン50m1に溶解し、pニトロベンゾイル
クロリド8.27を常温で作用せしめた。溶媒を留去
後残渣をクロロホルムに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウ
ムで洗滌し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した
。生成したメチル2・3・5−トリ−0−(p−ニトロ
ベンゾイル)−β−D−リボフラノシド4。2yを無水
ジクロロメタン20meに溶解し、氷冷しつつ臭化水素
を飽和せしめた酢酸20m1を加え暗処で1時間放置し
た。
クロリド8.27を常温で作用せしめた。溶媒を留去
後残渣をクロロホルムに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウ
ムで洗滌し、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した
。生成したメチル2・3・5−トリ−0−(p−ニトロ
ベンゾイル)−β−D−リボフラノシド4。2yを無水
ジクロロメタン20meに溶解し、氷冷しつつ臭化水素
を飽和せしめた酢酸20m1を加え暗処で1時間放置し
た。
溶液を減圧で濃縮し、得られたシロツプ状物質をジクロ
ロメタンに溶解し、溶液を炭酸水素ナトリウム溶液で洗
滌後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣
を無水ベンゼンにて再結晶し固体3.47として表題の
化合物を得た。分析値: C47.O7、H2.44、N6.l7、Brl2.4
3% 計算値(C26Hl8N3Ol3Brとして):C47
.29、H2.75、N6,36、Brl2.lO% 参考例 9 2・3−ジ一0−アセチル−5−0−(p−トルエンス
ルホニル)−D−キシロフラノシルフロマイド1・2−
0−イソプロピリデン一5−0−(p−トルエンスルホ
ニル)一α−D−キシロフラノース(R.A.Leve
neandA.L.Ray]11and1「ジヤーナル
・オブ・バイオロジカル・ケミストリ一」102巻、3
17頁 1933年の方法による)3.447を酢酸5
3m1に溶解し、無水酢酸6meを加えて後、氷冷し、
3.2m1の濃塩酸を液温が15゜C以上にならないよ
うにしつつ加えた。
ロメタンに溶解し、溶液を炭酸水素ナトリウム溶液で洗
滌後、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。残渣
を無水ベンゼンにて再結晶し固体3.47として表題の
化合物を得た。分析値: C47.O7、H2.44、N6.l7、Brl2.4
3% 計算値(C26Hl8N3Ol3Brとして):C47
.29、H2.75、N6,36、Brl2.lO% 参考例 9 2・3−ジ一0−アセチル−5−0−(p−トルエンス
ルホニル)−D−キシロフラノシルフロマイド1・2−
0−イソプロピリデン一5−0−(p−トルエンスルホ
ニル)一α−D−キシロフラノース(R.A.Leve
neandA.L.Ray]11and1「ジヤーナル
・オブ・バイオロジカル・ケミストリ一」102巻、3
17頁 1933年の方法による)3.447を酢酸5
3m1に溶解し、無水酢酸6meを加えて後、氷冷し、
3.2m1の濃塩酸を液温が15゜C以上にならないよ
うにしつつ加えた。
室温にて一夜放置後約300m1の氷水中に注ぎこの水
混液から50m1のクロロホルムで3回抽出した。クロ
ロホルム液を合し;炭酸水素ナトリウム溶液、つづいて
水で洗つて後無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し
た。得られた1・2・3−トリ−0−アセチル−5−0
−(p−トルエンスルホニル)−D−キシロフラノース
4.27を75m1のジクロロメタンに溶解し、0℃に
し臭化水素ガスを飽和せしめた。0℃にて3時間放置後
濃縮乾固して表題のブロマイド化合物4.95をシロツ
プ状として得た。
混液から50m1のクロロホルムで3回抽出した。クロ
ロホルム液を合し;炭酸水素ナトリウム溶液、つづいて
水で洗つて後無水硫酸ナトリウムで乾燥後溶媒を留去し
た。得られた1・2・3−トリ−0−アセチル−5−0
−(p−トルエンスルホニル)−D−キシロフラノース
4.27を75m1のジクロロメタンに溶解し、0℃に
し臭化水素ガスを飽和せしめた。0℃にて3時間放置後
濃縮乾固して表題のブロマイド化合物4.95をシロツ
プ状として得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ( I ) 〔式中Yは次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但しR_1及びR_2はそれぞれ水素原子、アルキル
基又はアリール基を示す)を表わすか又はシクロアルキ
リデン基、テトラヒドロピラニル基、カルボニル基又は
フェニルボロン基を表わすヒドロキシル保護基であり、
Zはアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アラルコキシカルボニル基、アシル基、アロイル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又は
アラルキルスルホニル基を表わすアミノ保護基である〕
で表わされる3′−デオキシパロマミン1・6−カルバ
メート誘導体化合物に次の一般式▲数式、化学式、表等
があります▼(II)〔式中R_3はアシル基、アロイル
基、アルコキシカルボニル基又はアラルコキシカルボニ
ル基を表わすヒドロキシル保護基であり、Xはハロゲン
原子、アシル基又はアロイル基を表わし、Wは基−OR
_3(但しR_3は上記と同一の意義を有する)で示さ
れるアシルオキシ基を表わす〕で表わされるペントフラ
ノシル化合物又は次の一般式▲数式、化学式、表等があ
ります▼(II)〔式中R_3及びWは前記と同一の意義
を有し、R_4はアルキル基又はアリール基を表わし、
R_5はアルキル基を表わす〕で表わされるペントフラ
ノシル・オルソエステル化合物を反応させて次の一般式
▲数式、化学式、表等があります▼(III)又は ▲数式、化学式、表等があります▼(III′)〔式中R
_3、R_4、Y、Z及びWは前記と同一の意義を有す
る〕で表わされる化合物を生成させ、その後に該化合物
を加水分解することによりヒドロキシル保護基の一部を
脱離して次の一般式▲数式、化学式、表等があります▼
(IV)又は ▲数式、化学式、表等があります▼(IV′)〔式中、R
_3、R_4、Z及びWは前記と同じ意義を有する〕で
表わされる化合物を生成し、次いでこれを次の一般式R
_6SO_2T(V) 〔式中R_6はアルキル基、アリール基、又はアラルキ
ル基を表わし、Tはハロゲン原子若しくは−OS_2R
_6(但しR_6は前記の意味をもつ)の基を表わす〕
で表わされるスルホン化剤化合物を反応させて6′位ヒ
ドロキシル基を選択的にスルホン化させ、さらにアジ化
化合物を作用させて6′位スルホニルエステル基をアジ
ド化して6′−アジド基に転化させ、さらに塩基性条件
下で加水分解して1・6−カルバメート環を開裂させる
ことにより1位アミノ基と6位ヒドロキシル基を遊離さ
せ、これと同時に、残存したヒドロキシル保護基の一部
又は全部を脱離させ、その生成物に次の一般式▲数式、
化学式、表等があります▼(VI)〔式中、R_7は−O
H、−NH_2または−NHR_8(但しR_8はアシ
ル基である)を表わし、nは1、2、3又は4の整数を
表わし、Aは水素原子又は公知の一価のアミノ基保護基
を表わし、Bは水素原子又は公知の一価のアミノ基保護
基を表わし、若しくはA及びBは両者が一諸になつて一
つの公知の二価のアミノ基保護基を表わす〕で表わされ
るアミノ酸化合物又はこれのカルボキシル基における反
応性誘導体を作用させて次の一般式▲数式、化学式、表
等があります▼(VII)〔式中、A、B、R_7、Z及
びnは前記と同じ意義を表わし、R′_3は水素原子又
はR_3(R_3は前記と同一の意義を有する)を表わ
し、W′は水酸基(即ちOH)又はW(Wは前記と同一
の意義を有する)を表わす〕で表わされる1−N−アシ
ル化化合物を生成し、つぎに6′−アジド基を還元して
アミノ化せしめ、これと同時に又はその以後に、残存し
た保護基があればこれを脱離することを特徴とする、次
の一般式▲数式、化学式、表等があります▼(VIII)〔
式中、R_7及びnは前記と同じ意義を有する〕で表わ
される1−N−(α−置換−ω−アミノアシル)−3′
−デオキシ−5−O−ペントフラノシルネアミン誘導体
の製造法。 2 次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IX)〔式中Qはア
シル基、アロイル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ルオキシカルボニル基又はアラルコキシカルボニル基を
表わすヒドロキシル保護基であり、Zはアルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルコキシ
カルボニル基、アシル基、アロイル基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基又はアラルキルスルホニ
ル基を表わすアミノ保護基である〕で表わされる3′−
デオキシネアミン1・6−カルバメート誘導体化合物に
次の一般式▲数式、化学式、表等があります▼(II)〔
式中R_3はアシル基、アロイル基、アルコキシカルボ
ニル基又はアラルコキシカルボニル基を表わすヒドロキ
シル保護基であり、Xはハロゲン原子、アシル基又はア
ロイル基を表わし、Wは基−OR_3(但しR_3は上
記と同一の意義を有する)で示されるアシルオキシ基を
表わす〕で表わされるペントフラノシル化合物又は次の
一般式▲数式、化学式、表等があります▼(II′)〔式
中R_3及びWは前記と同一の意義を有し、R_4はア
ルキル基又はアリール基を表わし、R_5はアルキル基
を表わす〕で表わされるペントフラノシル・オルソエス
テル化合物を反応させて次の一般式▲数式、化学式、表
等があります▼(X)又は ▲数式、化学式、表等があります▼(X′)〔式中R_
3、R_4、Q、Z及びWは前記と同一の意義を有する
〕で表わされる化合物を生成させ、その後に該化合物を
塩基性条件下で加水分解して1・6−カルバメート環を
開裂させることにより1位アミノ基と6位ヒドロキシル
基を遊離させ、これと同時にヒドロキシル保護基の一部
又は全部を脱離させ、その生成物に次の一般式▲数式、
化学式、表等があります▼(VI)〔式中、R_7は−O
H、−NH_2または−NHR_8(但しR_8はアシ
ル基である)を表わし、nは1、2、3又は4の整数を
表わし、Aは水素原子又は公知の一価のアミノ基保護基
を表わし、Bは水素原子又は公知の一価のアミノ基保護
基を表わし、若しくはA及びBは両者が一諸になつて一
つの公知の二価のアミノ基保護基を表わす〕で表わされ
るアミノ酸化合物又はこれのカルボキシル基における反
応性誘導体を作用させて次の一般式▲数式、化学式、表
等があります▼(X I )〔式中A、B、R_7、Z及
びnは前記と同一の意義を有し、R′_3は水素原子又
はR_3(R_3は前記と同一の意義を有する)を表わ
し、W′は水酸基(即ちOH)又はW(Wは前記と同一
の意義を有する)を表わし、Q′は水素原子又はQ(Q
は前記と同一の意義を有する)を表わす〕で表わされる
1−N−アシル化化合物を生成させ、次いで残存した保
護基があればこれを脱離させることを特徴とする、次の
一般式▲数式、化学式、表等があります▼(VIII)〔式
中、R_7及びnは前記と同じ意義を有する〕で表わさ
れる1−N−(α−置換−ω−アミノアシル)−3′−
デオキシ−5−O−ペントフラノシルネアミノ誘導体の
製造法。 3 次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XII)〔式中Zは
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基
、アラルコキシカルボニル基、アシル基、アロイル基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基又はアラ
ルキルスルホニル基を表わすアミノ保護基である〕で表
わされる3′−デオキシネアミン1・6:4′・6′−
ジカルバメート誘導体化合物に次の一般式▲数式、化学
式、表等があります▼(II)〔式中R_3はアシル基、
アロイル基、アルコキシカルボニル基又はアラルコキシ
カルボニル基を表わすヒドロキシル保護基であり、Xは
ハロゲン原子、アシル基又はアロイル基を表わし、Wは
基−OR_3(但しR_3は上記と同一の意義を有する
)で示されるアシルオキシ基を表わす〕で表わされるペ
ントフラノジル化合物又は次の一般式▲数式、化学式、
表等があります▼(II′)〔式中R_3及びWは前記と
同一の意義を有し、R_4はアルキル基又はアリール基
を表わし、R_5はアルキル基を表わす〕で表わされる
ペントフラノシル・オルソエステル化合物を反応させて
次の一般式▲数式、化学式、表等があります▼(XIII
)又は ▲数式、化学式、表等があります▼(XIII′)〔式中
R_3、R_4、Z及びWは前記と同一の意義を有する
〕で表わされる化合物を生成させ、その後に該化合物を
弱塩基性条件下で加水分解して1・6−カルバメート環
を選択的に開裂させることにより1位のアミノ基と6位
のヒドロキシル基を遊離させ、これと同時にヒドロキシ
ル保護基の一部又は全部を脱離させ、その生成物に一般
式▲数式、化学式、表等があります▼(VI)〔式中、R
_7は−OH、−NH_2または−NHR_8(但しR
_8はアシル基である)を表わし、nは1、2、3又は
4の整数を表わし、Aは水素原子又は公知の一価のアミ
ノ基保護基を表わし、Bは水素原子又は公知の一価のア
ミノ基保護基を表わし、若しくはA及びBは両者が一諸
になつて一つの公知の二価のアミノ基保護基を表わす〕
で表わされるアミノ酸化合物又はこれのカルボキシル基
における反応性誘導体を作用させて次の一般式▲数式、
化学式、表等があります▼(XIV)〔式中、R_7、A
、B、Z及びnは前記と同一の意義を有し、R′_3は
水素原子又はR_3(R_3は前記と同一の意義を有す
る)を表わし、W′は水酸基(即ちOH)又はW(Wは
前記と同一の意義を有する)を表わす〕で表わされる1
−N−アシル化化合物を生成し、次いで、塩基性条件下
で加水分解して4′・6′−カルバメート環を開裂させ
、これと同時に又はこれ以後に残存した保護基を脱離さ
せることを特徴とする、次の一般式▲数式、化学式、表
等があります▼(VIII)〔式中、R_7及びnは前記と
同じ意義を有する〕で表わされる1−N−(α−置換−
ω−アミノアシル)−3′−デオキシ−5−O−ペント
フラノシルネアミン誘導体の製造法。 4 次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(XV)〔式中Qは
アシル基、アロイル基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基又はアラルコキシカルボニル基
を表わすヒドロキシル保護基であり、Zはアルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルコキ
シカルボニル基、アシル基、アロイル基、アルキルスル
ホニル基、アリールスルホニル基又はアラルキルスルホ
ニル基を表わすアミノ保護基である〕で表わされる6′
−アジド−6′−デアミノ−3′−デオキシネアミン1
・6−カルバメート誘導体化合物に次の一般式▲数式、
化学式、表等があります▼(II)〔式中R_3はアシル
基、アロイル基、アルコキシカルボニル基又はアラルコ
キシカルボニル基を表わすヒドロキシル保護基であり、
Xはハロゲン原子、アシル基又はアロイル基を表わし、
Wは基−OR_3(但しR_3は上記と同一の意義を有
する)で示されるアシルオキシ基を表わす〕で表わされ
るペントフラノシル化合物又は次の一般式▲数式、化学
式、表等があります▼(II′)〔式中R_3及びWは前
記と同一の意義を有し、R_4はアルキル基又はアリー
ル基を表わし、R_5はアルキル基を表わす〕で表わさ
れるペントフラノシル・オルソエステル化合物を反応さ
せて次の一般式▲数式、化学式、表等があります▼(X
VI)又は ▲数式、化学式、表等があります▼(XVI′)〔式中R
_3、R_4、Q、Z及びWは前記と同一の意義を有す
る〕で表わされる化合物を生成させ、その後にその生成
物を塩基性条件で加水分解して1・6−カルバメート環
を開裂させることにより1位アミノ基と6位ヒドロキシ
ル基を遊離させ、これと同時にヒドロキシル保護基の一
部又は全部を除去し、次にその生成物に次の一般式▲数
式、化学式、表等があります▼(VI)〔式中、R_7は
−OH、−NH_2または−NHR_8(但しR_8は
アシル基である)を表わし、nは1、2、3又は4の整
数を表わし、Aは水素原子又は公知の一価のアミノ基保
護基を表わし、Bは水素原子又は公知の一価のアミノ基
保護基を表わし、若しくはA及びBは両者が一諸になつ
て一つの公知の二価のアミノ基保護基を表わす〕で表わ
されるアミノ酸化合物又はこれのカルボキシル基におけ
る反応性誘導体を作用させて次の一般式▲数式、化学式
、表等があります▼(XVII)〔式中、R_7、A、B
及びnは前記と同一の意義をし、R′_3は水素原子又
はR_3(R_3は前記と同一の意義を有する)を表わ
し、W′は水酸基(即ちOH)又はW(Wは前記と同一
の意義を有する)を表わしQ′は水素原子又はQ(Qは
前記と同一の意義を有する)を表わす〕で表わされる1
−N−アシル化化合物を生成し、次に6′−アジド基を
還元してアミノ基に転化させ、これと同時に又はその以
後に、残存した保護基を脱離させることを特徴とする、
次の一般式▲数式、化学式、表等があります▼(VIII)
〔式中、R_7及びnは前記と同じ意義を有する〕で表
わされる1−N−(α−置換−ω−アミノアシル)−3
′−デオキシ−5−O−ペントフラノシルネアミン誘導
体の製造法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP50098501A JPS5913519B2 (ja) | 1975-08-15 | 1975-08-15 | 1−N−(α−置換−ω−アミノアシル)−3′−デオキシ−5−o−ペントフラノシルネアミン誘導体の新規な製造法 |
US05/710,949 US4065616A (en) | 1975-08-15 | 1976-08-02 | Processes for production of a 1-N-(α-hydroxy-Φ-amino alkanoyl)-3-deoxy-5-O-pentafuranosyl neamine and new compounds produced by the same processes |
CA258,710A CA1069890A (en) | 1975-08-15 | 1976-08-09 | PROCESSES FOR PRODUCTION OF A 1-N-(.alpha.-HYDROXY-.omega.-AMINO ALKANOYL)-3'-DEOXY_5_0_PENTAFURANOSYL NEAMINE AND NEW COMPOUNDS PRODUCED BY THE SAME PROCESSES (RD_9204) |
MX762898U MX4384E (es) | 1975-08-15 | 1976-08-11 | Procedimiento para preparar derivados de i-n-(alfa-hidroxiomega-amindalcanoil)-3'-desoxi-5-0-pentofuranosil-neamina |
ES450707A ES450707A1 (es) | 1975-08-15 | 1976-08-13 | Un proceso para la produccion de una 1-n-(alfa-hidroxi-w- aminoalcanoil)-3'-desoxi-5-o-pentofuranosilneamina. |
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