JPS59126773A - ハンマの製造方法 - Google Patents
ハンマの製造方法Info
- Publication number
- JPS59126773A JPS59126773A JP23371282A JP23371282A JPS59126773A JP S59126773 A JPS59126773 A JP S59126773A JP 23371282 A JP23371282 A JP 23371282A JP 23371282 A JP23371282 A JP 23371282A JP S59126773 A JPS59126773 A JP S59126773A
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- JP
- Japan
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- hammer
- printing
- layer
- hardened
- liquid nitrogen
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C10/00—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces
- C23C10/28—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces using solids, e.g. powders, pastes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C10/00—Solid state diffusion of only metal elements or silicon into metallic material surfaces
- C23C10/60—After-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ｌン 発明の技術分野
本発明は（ベルトドラム）式ラインプリンタに用いられ
る印字ハンマの製造方法に関する。特にチタン合金よシ
なるハンマに対しニッケルを拡散させ、その後、液体窒
素中に焼入ることにより、印字ハンマに硬く採い表面硬
化層を形成し、ハンマの耐摩耗性を飛躍的に向上せしめ
る製造方法に関するものである。
る印字ハンマの製造方法に関する。特にチタン合金よシ
なるハンマに対しニッケルを拡散させ、その後、液体窒
素中に焼入ることにより、印字ハンマに硬く採い表面硬
化層を形成し、ハンマの耐摩耗性を飛躍的に向上せしめ
る製造方法に関するものである。
（２）技術の背景
ラインプリンタの高速化に伴い、＠量の素材を −用い
てハンマを構成しようとされている。このため鉄系材料
に代えて比強度でステンレス材料と同等の値をもつ軽い
チタン合金ハンマが試みられている。チタン合金は凝着
し易く、耐摩耗性も悪いので、その印字面に耐摩耗性、
耐衝撃性をもたせる表面硬化処理を施す必要がある。
てハンマを構成しようとされている。このため鉄系材料
に代えて比強度でステンレス材料と同等の値をもつ軽い
チタン合金ハンマが試みられている。チタン合金は凝着
し易く、耐摩耗性も悪いので、その印字面に耐摩耗性、
耐衝撃性をもたせる表面硬化処理を施す必要がある。
（３）従来技術と問題点
表面硬化処理としては窒化法がよく知られているが、そ
の窒化深さはせいぜい数ｌＯμｍであシ、ハンマの印字
面用としては全く不十分であった。
の窒化深さはせいぜい数ｌＯμｍであシ、ハンマの印字
面用としては全く不十分であった。
このため本発明者は印字面にニッケルめっきを施し、次
いで熱拡散によシニッケル拡散層よりなる表面硬化層を
形成する方法を開発したが硬化層深さは約１５０μｍ得
られたものの、表面硬さはＨｖ８００と窒化法に比較し
て２／３であった。
いで熱拡散によシニッケル拡散層よりなる表面硬化層を
形成する方法を開発したが硬化層深さは約１５０μｍ得
られたものの、表面硬さはＨｖ８００と窒化法に比較し
て２／３であった。
（４） 発明の目的
本発明は上記の表面硬さがＨｖ８００ と窒化法に比べ
２／３であるという欠点を鑑み、その硬化層深さはその
ままで、底面硬さのみを改良したニッケル拡散層を利用
した印字ハンマの製造方法を提供するものである。
２／３であるという欠点を鑑み、その硬化層深さはその
ままで、底面硬さのみを改良したニッケル拡散層を利用
した印字ハンマの製造方法を提供するものである。
上記目的を達成するために、発明者らは研究を続はチタ
ン合金からなるハンマの印字面にニッケルめっきを施し
、熱拡散させそれを液体窒素中に焼入ことによりニッケ
ル拡散層を利用したハンマの印字面の表面硬さの改良が
実施出来ることをつきとめた。
ン合金からなるハンマの印字面にニッケルめっきを施し
、熱拡散させそれを液体窒素中に焼入ことによりニッケ
ル拡散層を利用したハンマの印字面の表面硬さの改良が
実施出来ることをつきとめた。
（５）発明の構成
チタン合金からなるハンマの印字面にニッケルめっきを
施し、次いで熱拡散によｆｆニッケル拡散層よｐなる表
面硬化層を形成する印字ハンマにおいて熱拡散後に液体
窒素中に焼入することを特徴とした印字ハンマの製造方
法により達成される。
施し、次いで熱拡散によｆｆニッケル拡散層よｐなる表
面硬化層を形成する印字ハンマにおいて熱拡散後に液体
窒素中に焼入することを特徴とした印字ハンマの製造方
法により達成される。
（６）発明の実施例
以下本発明の実施例について説明する。
チタン合金（６チＡ／−４１Ｖ−Ｔｉ）にてラインプリ
ンタ用印字ハンマを構成しその印字面に対してサンドブ
ラスト処理を行い、機械的に表面酸化膜を除去し、次に
硝弗酸混合水溶液にて酸洗い、完全に表面酸化膜を除去
した。この後周知のニッケルワット浴中でニッケルめっ
きを行なった。ニッケルめっき層の厚さは１０μｍとし
た。このノ＼ンマを８５０℃の炉中でＡｒガス雰囲気中
で５ｈ保持したあと液体窒素中に焼入した。この時の硬
さＨｖの表面からの距離の関係を図に示す。図の曲線Ｅ
＠は液体窒素中に焼入れした本発明の結果を示し又曲線
・１は従来のＡｒガス中に焼入した結果を示す。一点鎖
線はチタン合金母材の硬さを示す。
ンタ用印字ハンマを構成しその印字面に対してサンドブ
ラスト処理を行い、機械的に表面酸化膜を除去し、次に
硝弗酸混合水溶液にて酸洗い、完全に表面酸化膜を除去
した。この後周知のニッケルワット浴中でニッケルめっ
きを行なった。ニッケルめっき層の厚さは１０μｍとし
た。このノ＼ンマを８５０℃の炉中でＡｒガス雰囲気中
で５ｈ保持したあと液体窒素中に焼入した。この時の硬
さＨｖの表面からの距離の関係を図に示す。図の曲線Ｅ
＠は液体窒素中に焼入れした本発明の結果を示し又曲線
・１は従来のＡｒガス中に焼入した結果を示す。一点鎖
線はチタン合金母材の硬さを示す。
図から明らかなようにどちらの場合も硬化層深さは約１
５０μｍと深く液体窒素中の場合は戎面硬さが約９５０
と大幅に増大している。これはニッケル拡散層の形成と
液体窒素による急冷効果と窒素の侵入による９化効果が
相乗作用して働いているためである。なお、硬化層深さ
はニッケルめりき膜厚、拡散処理温度・時間に依存し変
化することも確認している。
５０μｍと深く液体窒素中の場合は戎面硬さが約９５０
と大幅に増大している。これはニッケル拡散層の形成と
液体窒素による急冷効果と窒素の侵入による９化効果が
相乗作用して働いているためである。なお、硬化層深さ
はニッケルめりき膜厚、拡散処理温度・時間に依存し変
化することも確認している。
上記のように、硬化層が深く表面硬さも高いため印字面
の耐摩耗性が高く長寿命てあり印字品質の改善も出来た
。
の耐摩耗性が高く長寿命てあり印字品質の改善も出来た
。
（７）発明の効果
本発明ではチタン合金よシなるラインプリンタ用印字ハ
ンマの印字面に深い硬化層と、非常に硬い表面硬さを付
与できるので、印字面の摩耗焼付防止の効果が顕著であ
り、品字品質の劣化がなく長寿命のハンマが製造可能で
ある。
ンマの印字面に深い硬化層と、非常に硬い表面硬さを付
与できるので、印字面の摩耗焼付防止の効果が顕著であ
り、品字品質の劣化がなく長寿命のハンマが製造可能で
ある。
図は本発明による硬化層の硬さプロファイルを示す。
Claims (1)
- １ チタン合金からなるハンマの印字面にニッケルめっ
きを施し、次いで熱拡散によシニッケル拡散層よりなる
表面硬化層を形成し、熱拡散後に液体窒素中に焼入する
ことを特徴とした印字ハンマの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23371282A JPS59126773A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | ハンマの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23371282A JPS59126773A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | ハンマの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59126773A true JPS59126773A (ja) | 1984-07-21 |
Family
ID=16959367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23371282A Pending JPS59126773A (ja) | 1982-12-29 | 1982-12-29 | ハンマの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59126773A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0426777A (ja) * | 1990-05-21 | 1992-01-29 | Nippon Parkerizing Co Ltd | チタン又はチタン合金に耐熱耐摩耗性、耐摺動性に優れた皮膜を形成させる方法 |
| KR20030041655A (ko) * | 2001-11-21 | 2003-05-27 | 주동욱 | 반도체 패키지용 방열판의 산화처리표면 스머트 제거방법 |
| JP2010126792A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-10 | Toyota Central R&D Labs Inc | 耐食導電材の製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5681665A (en) * | 1979-12-04 | 1981-07-03 | Natl Res Inst For Metals | Surface hardening process for titanium |
-
1982
- 1982-12-29 JP JP23371282A patent/JPS59126773A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5681665A (en) * | 1979-12-04 | 1981-07-03 | Natl Res Inst For Metals | Surface hardening process for titanium |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0426777A (ja) * | 1990-05-21 | 1992-01-29 | Nippon Parkerizing Co Ltd | チタン又はチタン合金に耐熱耐摩耗性、耐摺動性に優れた皮膜を形成させる方法 |
| KR20030041655A (ko) * | 2001-11-21 | 2003-05-27 | 주동욱 | 반도체 패키지용 방열판의 산화처리표면 스머트 제거방법 |
| JP2010126792A (ja) * | 2008-11-28 | 2010-06-10 | Toyota Central R&D Labs Inc | 耐食導電材の製造方法 |
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