JPS5912504A - 半導電性樹脂組成物 - Google Patents

半導電性樹脂組成物

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JPS5912504A
JPS5912504A JP12077582A JP12077582A JPS5912504A JP S5912504 A JPS5912504 A JP S5912504A JP 12077582 A JP12077582 A JP 12077582A JP 12077582 A JP12077582 A JP 12077582A JP S5912504 A JPS5912504 A JP S5912504A
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JP
Japan
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weight
parts
ethylene
copolymer
aromatic vinyl
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JP12077582A
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English (en)
Inventor
柿崎 哲司
敏和 水谷
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Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Petrochemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特に高圧下にて使用するポリエチレン絶縁ケ
ーブルの改良された外部半導電層に適した材料に関する
ものである。詳しくは絶縁層と外前半導電層とが良好に
密着していると共に、必要に応じ外部半導電層を極めて
容易に剥離することのでき乙絶縁ケーブルを提供する半
導電性樹脂組成物に関するものである。
従来、高電圧ケーブルにおいては、電界を緩和する目的
から絶縁層の内外層に半導電層が形成されているが、こ
の半導電層として(・1コロナ放電防止の童味から絶縁
層に対して隙間なく密着或は接着していることが必要で
ある。しかし乍ら、外部半導電1層と絶縁層との過度の
密着は、だとえげケーブル相互間を接続する場合に絶縁
層から外部半導V層をはがすことが権めて困難であり、
はぎとるのに長時間を要し、まだ絶縁層を傷つけ易く、
端末処理作業に多くの時間や労力或は熟練性を必要とす
るようになる。
従来この種の半導電層として最良とされているエチレン
−ビニルエステル共重合体をベース樹脂とした半導電層
は、絶縁層を構成するオレフィン重合体と極めて強力に
接着する性質を有していることから、絶縁層からの剥離
性が皆無に等しく、のとしていた。
本発明は絶縁層と外部半導電層とが良好に密着している
と共に、必要に応じて極めて容易に外部半導電層を剥離
することができ、しかも剥離作業時にその剥離片が簡単
に切断することがないように優れた機械的強度を付与し
た半導電性樹脂組成物の提供を目的としている。
従来技術との関連について更に詳細に述べると、半導電
層材料としては、 (1)エチレン−酢酸ビニル共重合体(高酢酸ビニル含
量のもの:以下高酢ビEVAと記載する)やエチレン−
エチルアクリレート共重合体(EEA )等のエチレン
−ビニルエステル共重合体にカーボンブラックをブレン
ドしたもの。
(2)塩素化ポリエチレン、クロルスルホン化ポリエチ
レン、EVA−塩化ビニルグラフト共重合体、塩素化ポ
リエチレン−塩化ビニルグラフト共重合体、ポリ塩化ビ
ニル、クロロプレン等の含ハロゲン系樹脂をオレフィン
重合体にブレンドしたり、或は単独で用い、これにカー
ボンブラックを添加し7たもの。
(3)  ポリスチレン、スチレン共重合体、ブタジェ
ン−アクリロニトリル共重合体、ポリエステルf、fオ
レフィン重合体にブレンドし、これにカーボアブランク
を添加したもの等 が提案されている。
(1)については前述の通り、絶縁層との剥離性が乏し
く本発明の目的を満足しない。
(2)は絶縁層との剥離性の改良を目的に提案されたも
のであり、その効果は認めらねるものの以下の問題点を
有している。
すなわち、ポリエチレンの架橋絶縁ケーブルは水トリー
等による絶縁破壊現象を抑制する為に、架橋ンステムを
湿式架橋法から乾式架橋法に変更する傾向にあるが、乾
式架橋法は湿式に比較し一般に架橋温度が高く々る為、
外部半導電層材料の加工時熱安定性がより一層大きく要
求されている。
かかる状況下、このような・・ロゲン含有樹脂或は高酢
ビ含量EVA等は高温時熱分解によって腐食性のガスを
発生し、これが装置の腐食を促したり、ケーブルのa蔽
銅テープを腐食させてケーブル性能を悪化きせる原因と
なっている。
(3)は(2)と同様、絶縁層との剥離性向上を目的と
し、たものであるが、いずれもオレフィン重合体との相
溶性に乏しく、かつ剥離性改良にはブレンド刊を増す必
要があるだめ、外部半導電層としてはかなし脆弱になり
、剥離過程で剥離片が切断し実用上問題がある。
以上のことから、特開昭56−62846号公報では外
部半導電層用材料として、 1 絶縁層と良好に密着していること。
2 必要に応じ絶縁層から容易に剥離できること。
3 優れた機械的強度を有すること(可撓性と伸び特性
)。
4 カーポジブラックの分散性が良好なこと。
5、 優れた押出加工性を有すること。
6 熱安定性に優れ、かつ腐食性の熱分解ガスの発生の
少ないこと。
の各項目を満足する次のごとき樹脂組成物が提案されて
いる。
[下配回〜(Oの各成分を配合することを特徴とする半
導電性樹脂組成物。
(A 酢酸ビニル含量35重量%未満のエチレン−酢酸
ビニル共重合体ioo重量部に対し、芳香族ビニルモノ
マーを25〜200重量部の割合でグラフト処理して得
られた改質エチレン−酢酸ビニル共重合体100〜40
重量部 (B’)  補強改質用ゴム0〜60重量部(Q カー
ボンブラック上配回およびQ3)成分100重量部に対
して3〜150重量部」 しかしながら、この組成物は上記の従来のものの欠点に
ついては大いに改良されたものの、剥離後に絶縁層表面
にカーボン付着残かのこる場合がタマにあり、この点を
更に改良することが好ましいことがわかった。
ここで、本発明者らは鋭意検討の結果、半導電層用材料
として、絶縁層上から剥ぎとる段階において半導電層用
材料中に分散するカーボンブラックおよびカーボンブラ
ックと樹脂が絶縁層界面上に離脱しないように、即ちカ
ーボンブラックとマトリックス樹脂の親和力ないしは結
合力を向上せしめることによって上記課題を解決して本
発明に至った。
すなわち、本発明は、エチレン系共重合体を芳香族ビニ
ルモノマーで改質し、芳香族ビニルモノマー含量10〜
60重量%となした改質重合体に、カーボンブラックと
、特定のチタネート化合物、および場合により補強用ゴ
ムとを配合してなることを特徴とする半導電性樹脂組成
物である。
本発明におけるベース樹脂のエチレン系共重合体として
は、酢酸ビニル含有量5〜35重量%未満でMI(JI
S−に7210で規定される溶融指数)0.5〜200
f/10分のエチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)
、またはエチルアクリレート含有量5〜25重量%でM
I(JIS−に7210で規定される溶融指数)0.5
〜50t/10分のエチレン−エチルアクリレート共重
合体(EEA)が使用される。
これらは併用しても差し支えない。
本発明における芳香族ビニルモノマーによるエチレン系
共重合体の改質には、押出機等での溶融グラフトや、溶
液中でのグラフト等一般的な改質手法が用いられるが、
例えば以下の手法を挙げることができる。
すなわち、エチレン系共重合体粒子(一般には1〜7f
i径、好ましくは2〜5m径のもの)4−〇〜90重量
%ト芳香族ビニルモノマー60〜10重量%および10
時間の半減期を得るだめの分解温度が50〜130℃で
あるラジカル重合開始剤を芳香族ビニルモノマー100
重量部に対し0.01、〜5.0重量部を、水性懸濁重
合に使用される懸濁剤たとえばポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン、メチルセルロースその他あるい
は難溶性無機物質たとえばリン酸カルシウム、酸化マグ
ネシウムその他の存在下に、水性媒体中に系の攪拌が容
易に行なわれる任意の濃度で(一般に水100重量部に
対して重合体および芳香族ビニルモノマー5〜100重
量部)添加し攪拌分散する。
次いで重合処理が行なわれるがそれに先立ち、この水性
懸1’14液を使用重合開始剤の分解が実質的に起こら
ない範囲内で加熱して芳香族ビニルモノマーを重合体粒
子中に含浸させる。
含浸処理は含浸促進の点から考えれば加熱温度は高い方
が良いが、重合開始剤の過早分解によって含浸前の芳香
族ビニルモノマーが単独で重合するので、これを防止す
る点からは加熱温度は低い方が良く、好ましくは室温か
ら50℃である。このような温度条件下に芳香族ビニル
モノマーの80重量%以上、好ましくは90重量%以上
が重合体粒子中に含I!!または附着される迄、すなわ
ち遊離の芳香族ビニルモノマー液滴が20重#%、好ま
しくは10重量%未満の量となる迄水性懸濁液を、好ま
しくは攪拌下に1〜5時間程放置する。未含浸の芳香族
ビニルモノマーが20重量%以上の場合、独立のビニル
重合体粒子が析出する可能性があや、また重合体粒子中
のビニル重合体の分散が不均一となる・なお、遊離の芳
香族ビニルモノマーは次の重合工程において重合体粒子
内に含浸されあるいは重合体粒子表面に附着して重合す
るため、生成物中にはビニル重合体粒子が重合体粒子と
独立し2て存在することは事実上貼められない。
このようにして用意した水性@濁液を更に高温に加熱し
て芳香族ビニルモノマーの重合を完成させることにより
、改質重合体粒子が得られる。この際、加熱湛嗟は使用
重合開始剤の充分な分解が生じる温度であるべきである
。しかし130℃を越えないことが好ましい。130℃
を越えると生成改質重合体中にゲル状物質が生じる傾向
があり、一般には50〜130℃の温度が適当である。
芳香族ビニルモノマーとして(寸、一般式で表わをれる
スチレン系モノマー、たとえばスチレン、核@換スチレ
ンたとえばメチルスチレン、イノグロビルスチレン、ク
ロルスチレン、α置換スチレンたトエばαメチルスチレ
ン、αエブ−ルスチレンなどが挙げられる。まだスチレ
ンとアクリル酸エステル、スチレンとメタクリル酸エス
テル、スチレンとアクリロニトリルなどの混合系も適用
される。
重合開始剤としては、水性懸濁重合の技術に従うことが
ら油溶性のものが使用される。そしてこの発明の特徴に
よれば、重合開始剤は10時間の半減期を得るだめの分
解温度が50〜130℃であるものでなければならない
。特に55〜110℃の範囲内にあるのが好ましい。5
0℃未満では含浸工程中に芳香族ビニルモノマーの重合
が生じるだめ均質な生成物が得られない。130℃以上
では生成物にゲルが生じ物性上好ましくない。これは過
度に温度を上げる結果、エチレン系共重合体の分子間架
橋反応が起きるためと考えられる。
開始剤の具体例としては、オクタツールパーオキサイド
、ベンゾイルパーオキサイド、シクロヘキサノンバーオ
キザイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、メチル
エヂルケトンパーオキサイド、2.5−ジメf ’L 
−2,5−ジベンゾイルパーオキシヘキザン、ジ−t−
ブチル−ジ−バーオキシフタレート、ラウロイルパーオ
キサイド、t−ブチルパーオキノビバし・−ト、3,5
.5−)リメチルヘキサノイルパーオキサイドなどが挙
げられる。
重合開始剤の使用量は芳香族ビニルモノマー100重量
部に対して0.01〜5.0短句部である。
このようにして得られた芳香族ビニルモノマー改質エチ
レン系i重合体は、エチレン系共重合体と芳香族ビニル
モノマーグラフトエチレン系共重合体と芳香族ビニル重
合体の三成分が混在されており、グラフト成分の存在に
よりエチレン系共重合体と芳香族ビニル重合体の相溶性
が改良され、芳香族ビニル重合体がエチレン系共重合体
マトリックス中に均質微細分数している。
そのため、芳香族ビニルモノマ一単位を増加してもその
均質性は損われず、成形品の外観、物性は優れたものを
示す。エチレン系共重合体と芳香族ビニル重合体の単純
ブレンド系では両者の相溶性が不良のため分散状態が悪
く、成形加工段階での層状剥離の発生による外観悪化お
よび材料物性(特に伸び特性と耐衝撃性)の顕著な低下
により、実用にたえない。
本発明における補強改質用ゴムとしては、エチレン−プ
ロピレン系ゴム、スチレン−ブタジェン共重合ゴム、ス
チレン−共役ジオレフィンブロック共重合ゴム、ポリイ
ソプレン、ポリイソブチレン、イソブチレン−イソプレ
ンゴム、】、4−ポリブタジェンゴム等が好適である。
特に好ましいゴムトシてハ、エチレン−プロピレン系ゴ
ム、スチレン−共役ジオレフィンブロック共重合ゴムが
挙げられる。これら二種のゴムについて更に詳細に述べ
る。
エチレン−プロピレン系ゴム エチレンおよびプロピレンからなる二成分系ゴム、エチ
レン−プロピレン−ジエンカラナル三成分系ゴム々どで
、一種もしくは二種以上が用いられる。エチレン−プロ
ピレン−ジエン共重合体ゴムにおいて利用できるジエン
とは、1.4−ペンタジェン、1,4−へキサジエン、
1,5−へキサシエン、1,7−オクタジエンのような
鎖状共役ジエン、ジシクロペンタジェン、エチリデンノ
ルボルネン、1.5−シクロオクタジエン、5−メチレ
ン−2−ノルボルネンのような環状非共役ジエンなトチ
するO スチレンを代表とする芳香族ビニル化合物と共役ジオレ
フィンからなるブロック弾性体ゴムで、芳香族ビニル化
合物よ抄なる非弾性的ポリマーブロックAおよび共役ジ
オレフィンの弾性的ポリマーブロックBよりなり、(A
−B)n+1、B  (A−B)n−)−t、またはA
−(B−A)n(ここでnは1〜20の整数)のブロッ
ク構造を示す熱可塑性ブロック弾性体である。
Aブロックの全体の分子に占める割合は1〜50重景%
である。共役ジオレフィンとしては1.3−ブタジェン
、イソグレン、n−1,3−ペンタジェン等が使用され
る。芳香族ビニル化合物としてはスチレン、メチルスチ
レン、ジメチルスチレン等が使用される。
なお、共役ジオレフィン重合体ブロックを水添した熱可
塑性ブロック弾性体も本発明に適用され得る。
これらの補強改質用ゴムは、一種または二種以上の組合
せで、該改質エチレン系共重合体との合計量100重量
部に対し0〜60重量部、好ましくは0〜30重景部の
割合で使用される。60重量部超過の場合は、押出加工
性の点で好ましくない。
使用の目的は、該改質エチレン系共重合体中の芳香族ビ
ニルモノマ一単位の多い場合(一般には40重量部程度
以上)、すなわちより剥離性を強化する場合、あるいは
カーボンブラック充填量の多い場合(一般には40重量
部程度以上)、すなべ わち導電性レノルをより高度にする場合、これらのコン
パウンドの材料強度を補強するために任意の割合で補強
ブレンドされるものである。
かかる点からみて、補強改質用ゴムを添加する場合、エ
チレン−プロピレン系ゴムとスチレン−共役ジオレフィ
ンブロック共重合ゴムは該改質エチレン系共重合体との
相溶性が良好であり、材料強度の改良効果が著るしく大
きい。
本発明における導電性カーボンブラックとは、ファーネ
スブラック、アセチレンブラック、ケッチェンブラック
等が好適であり、その配合割合は該改質エチレン系共重
合体と該補強改質用ゴムの合計100重量部に対し、5
〜200重量部、好ましくは20〜80重量部の範囲で
ある。5重量部未満では導電性の点で、また200重量
部超過では剥離性と押出加工性の点で好ましくない。
本発明における特定のチタネート化合物は、次の一般式
0)〜(至)で表される化合物から選ばれるものである
R10Ti (−OX +Rz+ Y)i)n    
       (1)(Ra  O+4T i・(P−
R2÷Y)□〕2      (2)エニルまたはエチ
レン;R2は酸素を含んでもよい炭素数30以下の飽和
又は不飽和の炭化水素;Yは2−アリル、ビニル、アミ
ノ−イミノ、アミン、メルカプトまたはビニル−ハイド
ロキシル、もしくはそれらの少なくとも一つを含有する
有機基;これらのチタネート化合物の具体例としては、
例えば上記(1)式のものとしては、イソプロピルトリ
イソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドテシ
ルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス
(ジオクチルピロホスフェート)チタネート、イングロ
ビルトリオクタノイルチタ−ネート、イングロビルジメ
タクリルインステアロイルチタネート、イソプロピルイ
ソステアロイルジアクリルチタネート、イングロビルト
リ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピ
ルトリクミルフェニルチタネート、イソプロビルトリ(
N−アミンエチル−アミノエチル)ヂタネ〜ト等;まだ
上記(TI)式のものとしては、ジクミルフェニルオキ
シアセテートチタネート、ジイソステアロイルエチレン
チタネート、ビス(ジオクチルピロホスフェート)オキ
シアセテートチタネート、ビス(ジオクチルピロホスフ
ェート)エチレンチタネート等;および上記(m式のも
のとしては、テトライソプロピルビス(ジオクチルホス
ファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデ
シルホスファイト)チタネート等がある。
上記の(I)〜佃)式において、同じTiに結合する基
で〔・・・〕。、〔・・・〕2や(・・・)4 で表さ
れる基は、同一でも異なっていても差し支えない。
このようなチタネート化合物は、一種または二種以上を
、該導電性カーボンブラック100重量部に対して0.
1〜10重量部の範囲で使用される。
0.1重量部未満では剥離時の剥離面でのカーボン残渣
の点で、壕だ10重量部超過では導電性の点で好ましく
ない。この成分は溶液の形で用いると便利である。
酸化防止剤、滑剤等の加工助剤等を使用条件に応じて適
量配合することができる。
本発明の組成物はバンバリー、ロール、ブラベンダープ
ラストグラフなどのバッチ式の混線機のほかに、−軸押
出機、二軸押出機などの連続式の押出機で容易に得るこ
とができる。
配合順序は特に限定されるものではなく、配合物を一度
に混合して混練する方法のほかに、改質重合体とゴムと
チタネート化合物を押出機で混練しておき、その混線物
とカーボンブラックを混練する方法、初めにバッチ式あ
るいは連続式の押出機で改質重合体まだはゴムとカーボ
ンブラックとを混練しておき、その混線物と改質重合体
または/および補強改質用ゴムまたは/およびチタネー
ト化合物とを混練する方法、更にはチタネート化合物を
直接ないし水溶液かアルコール溶液にしてカーボンブラ
ックにあらかじめ処理し、この処理カーボンブラックと
改質重合体とゴムを混練することもできる。
本発明により得られる絶縁ケーブル用の外部半導電層に
適する半導電性樹脂組成物は以下の特徴を有する。
1 絶縁層との剥離性を付与する手段として、公知の高
酢ピ含量EVAや・・ロゲン含有樹脂を用いず、エチレ
ン系共重合体を芳香族ビニルモノマーで改質した重合体
とチタネート化合物と、場合によって補強改質用ゴムを
添加した樹脂系を用いたもので剥離性付与手段として新
規なものである。
2、 上記方法で改質された樹脂系であるので、その構
成単位ポリマーは極めて熱安定性に優れており、良好な
押出加工性を有すると共に熱分解による腐食ガスの発生
も少ない。
3、該改質重合体は前述のごとく、芳香族ビニルモノマ
ーから生成するビニル重合体がエチレン系共重合体中に
均質にミクロン単位で分散された構造を有しているだめ
、従来技術の・・ロゲン含有樹脂やスチレン系樹脂の単
純ブレンド系に比較し極めて良好な材料物性を有してい
ること、まだ、該改質エチレン系共重合体は、エチレン
単独重合体に比べてチタネート化合物との親和性が良好
でアリ、カつエチレン−プロピレン系ゴムおよヒ芳香族
ビニル化合物と共役ジオレフィンからなるブロック弾性
体ゴム等とのブレンド相溶性か良好であるため、該改質
重合体中の芳香族ビニルモノマー含量が多い場合ないし
はカーボンブラック充填量の多い場合は、任意に該ゴム
を補強ブレンドして材料強度の優れた組成物を提供でき
る。
4、 チタネート化合物は、本発明の組成物中に少量含
有することにより絶縁層との剥離性を一段と向上せしめ
、かつ組成物の他成分との混じりが良好であるため、該
改質重合体がもつカーボンブラックの優れた分散性を全
く阻害しない。
5、本発明の組成物は、高酢ビ含量EVA系なトニミら
れるペレットブロッキング等が皆無なため、カーボンブ
ラックのコンパウンド時あるいはケーブル押出加工時の
加工性に優れる。
6 本発明の組成物は、剥離性が良好なため、剥離後、
絶縁層表面にカーボンの付着残が残らない。
以下に参考例、実施例、比較例を示す。
例中に示した試験の方法は次の通りである。
(1)剥離試験 半導電性樹脂組成物のシートと、密度0.920y /
cc、 M I 1.0 (7)低密度ポリエチレン1
00重量部に架橋剤(ジクミルパーオキサイド)2重量
部と老化防止剤(4,4’−チオビス(6−t−ブチル
−3−メチルフェノール) ) o、3重量部とを配合
した絶縁用ポリエチレンのシートを作るべく、圧縮成形
機を使用して、120℃、100に97−19分の成形
条件で、厚さ1trm、縦200咽、横200簡の各シ
ートを夫々得た。
次に上記両シートを重ね合せ、圧縮成形機にて、180
℃、50 Kp / ca、30分間加熱加圧すること
により貼合せシートを作成した。
得られた貼合せシートから、巾0.5インチ、長さ15
0mmの試験片を打抜き、引張試験機を用いて剥離試験
を行なった。
剥離試験は、23℃、65%RHの雰囲気下、50間/
分の速度で半導電性樹脂組成物のシートを絶縁用ポリエ
チレンのシートに対し、90°の角度で引き剥がし、そ
の時の抵抗力を剥離強度(K210.5インチ)とした
(2)引張強度および引張伸度 JI S−に−7113に準拠。
(3)体積固有抵抗 横筒電機■のホイートストンブリッジ型測定器を用い、
日本ゴム協会標準規格「導電性ゴムおよびプラスチック
の体積抵抗率試験方法J2301−1969に準じて測
定した。
(4)成形加工性 40咽径押出機にて直径3朔の円形ストランドを押出成
形し、成形品の表面状態(表面凹凸およびデラミネーシ
ョンの有無)を、良好(○)、不良(×)で評価した。
(5)熱安定性 三角フラスコに21の試料を採り、器内雰囲気を空気ま
たは窒素にして密閉し、250℃で30分間加熱後、室
温まで冷却し、これに純水2mlを注入してフラスコ内
に遊離した酢酸を抽出した。
この抽出液中の酢酸含量をガスクロマトグラフィーにて
定量した。
(6)  カーボン残渣 上記剥離試験の後に、その剥離面に残ったカーボンブラ
ックの量によって、良好(、D)、や\不良(△)、不
良(×)で評価した。
参考例1 内容量50 tのオートクレーブ内に純水20V4およ
び懸濁剤として第三リン酸カルシウム6002とドデシ
ルベンゼンスルホン酸ナトリウム0.69とを加えて水
性媒質となし、これにEVA(比重0,95、M115
/lL、酢酸ビニル含量28重量%)3mm径粒子6K
fを攪拌により懸濁させた。
別に重合開始剤として過酸化ベンゾイル8fおよびt−
ブチルパーオキシベンゾエート42をスチレン(、に9
(EVAと同量)に溶解させ、これを前記懸濁系に投入
し、オートクレーブ内温度を45℃に昇温させ、誼温度
で3時間保持して重合開始剤を含むスチレンをEVA粒
子中に含浸させた。
この水性@濁液を80℃に昇温し5時間、および125
℃で5時間維持して重合を完結させたO得られた改質樹
脂粒子中にはスチレン重合体が定量的に用いたスチレン
とほぼ同量、すなわち約50重量%存在することが確認
された。
参考例2 参考例1において、改質用ベース樹脂を比重0.93、
MI 20.エチルアクリレート含量18重量%のEE
Aに変え1.スチレン100重量部の代りにスチレン9
0重量部とn−ブチルアクリレート10重量部を用いて
、同様に重合を完結させ、スチレン−n−ブチルアクリ
レート改質EEA(スチレン−n−ブチルアクリレート
重合体含量50重量%)を得た。
〈実施例〉 下記の実施例1および2と比較例1および2にの50%
メタノール溶液を用いて、導電性カーボンブラック〔電
気化学工業社製アセチレンブラック〕を、そのioo重
量部に対してチタネ〜ト化合物量でそれぞれ1.2.3
重量部となるように処理し、これを用いて下記の組成に
てバンバIJ−混練機で溶融混練して得た組成物につい
て検討したO また、実施例3および4と比較例3については、イソプ
ロピルトリイソステアロイルチタネート〔味の素社製プ
レンアクトTTS)の50%メタノール溶液を用いて、
下記組成にて他の成分と同時に溶融混練して得た組成物
について検討した。
結果を第1表および第2表に示す。
実施例1 〔酢酸ビニル含量 28重最前〕 0チタネート処理カーボンブラツク        5
017%−130架 橋 剤            
 0.5重量部(1,3−ビス(t−フザ切〕こクト穎
ンイソフbピル)ベンゼン〕 O安定剤         0.5重量部(N、N’−
)−2fフチルーp−フェニレン・クアミン〕実施例2 〔旭化成社製 夕7プ〃〕 Oチタネート処理カーボンフラ・ツク        
    50重量部〔実施例1と同様〕 0架橋剤〔実施例1と同様〕       0・5重量
部0安定剤〔実施例1と同様〕        0・5
重量部比較例1 0参考例1のベースEVA         100重
量部〔酢酸ビニル含量 28重I粂〕 0チタネート処理カーホンフラツク         
   50重置部〔実施例1と同様〕 0架橋剤〔実施例1と同様30.5重量部0安定剤〔実
施例1と同様90.5重量部比較例2 〔三1Jey+J−ント社與タイヤレックスHF77)
Oチタネート処理カーボンブランク         
 50重量部〔実施例1と同様〕 0架橋剤〔実施例1と同様30.5重量部0安定剤〔実
施例1と同様)        (1,5重量部実施例
3 0カーボンブラツク          40重量部[
キャゼット社シ机カンXC−72] 0チタネート化合物水溶液         1.6重
量部0架橋剤〔実施例1と同i)        0.
5重量部0安定剤〔実施例1と同様90.5重量部実施
例4 〔実施例2と同様〕 0カーボンブラツク         40重端部〔実
施例3と同様〕 0チタネ一ト化合物水溶液         1.6重
量部〔実施例3と同様〕 0架橋剤〔実施例1と同様〕       05重量部
0安定剤〔実施例1と同様90.5重量部比較例3 0参考例2のベースEEA         100重
量部〔エチルアクリレート118重[〕 0カーボンブラック          40重量部〔
実施例3と同様〕 0架橋剤〔実施例1と同様30.5重量部0安定剤〔実
施例1と同様30.5重量部(以下余白) 実施例 実施例1で用いた改質EVA(参考例1の改質EVA)
および該改質KVAに実施例1で用いたチタネート溶液
を2重1部ブレンドしたもの、さらに比較として酢酸ビ
ニル含量45重量%、MI3の高酢ビEVA(バイエル
社製レバグレン450)について、熱安定性を評価した
。結果を第3表に示す〇 第3表               単位: ppm
特許出願人  三菱油化株式会社 代理人 弁理士 古 川 秀 利 代理人 弁理士 長 谷 正 久 23

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記(A)〜0の成分からなることを特徴とする半導電
    性樹脂組成物。 (4) エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エ
    チルアクリレート共重合体およびこれらの混合物から選
    ばれたエチレン系共重合体と、芳香族ビニルモノマーと
    をグラフト重合条件に付して得られる改質重合体であっ
    て、芳香族ビニル千ツマー含量が10〜60重量%であ
    る改質エチレン系共重合体:100〜60重量部 (B)  補強改質用ゴム;0〜60重量部(Q 導電
    性カーボンブラック;上記(4)および(珪成分100
    重量部に対して5〜200重量部0 次の一般式(1)
    〜@)で表される化合物から選ばれたチタネート化合物
    ;上記(C)成分100重量部に対して帆1〜lO重量
    部 R10T’ +OX+R2+Y )4)n    (D
    (R30+a Tt ・(P R2+Y)m)2Q[l
    )1し z1フェニルまたはエチレン;廃は酸素を含んでもよい
    炭素数30以下の飽和又は不1雀和の炭化水素:Yは2
    −アリル、ビニル、アミノ−イミノ、アミン、メルカプ
    トまたはビニル−ハイドロキシル、もしくはそれらの少
    な0またはl;nは2または3である。)
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