JPS59118756A - 除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はカーバミン酸エステル、つまり、一般ＲＩ　　
Ｒ３ 〔ただし式中、Ａは基（ａｌまたは（ｂ）５ （但し式中、−は、）・ロデン、Ｃ１−４−アルキル基
、ハロゲン置換メチル基、Ｃ１−４−アルコキシ基また
はノ・ロゲン置換メトキシ基を表わし、Ｒ６は水素また
は塩素を表わし　Ｈ７は水素または塩素を表わし　Ｒ８
は塩素またはノ・ロダン置換メチル基を表わし、Ｙは轍
素または−ＣＨ＝を表わす）を表わし　Ｒ１は、水素、
メチル基またはエチル基を表わし、Ｒ２は水素、メチル
基またはエチル基を表わし、Ｒ３は水素またはＣ１−４
−アルキル基を表わし　Ｒ４は、Ｃ□−４−アルキル基
また＆まノ翫ロデン置換Ｃ１−２−アルキル基を表わし
、ｘ（ま、酸素またはイオウを表わす〕を有するイし合
物に関する。

式Ｉの化合物は除草作用を有し、それで、雑草の防除剤
または雑草防除用組成ｑ勿中の７古性成分として有用で
ある。それで、本発明（ままだ、式Ｉの化合物の少なく
とも１種類を活性物質として含有する雑草防除組成物、
これらの化合物の製造方法、およびそれらの化合物また
は組成物を雑草の防除に使用することも包含する。

”Ｃ−アルキル１の用語によ、直鎖のみなら−４ ず枝分れ鎖状のアルキル基だとへ（′！：メチル基、エ
チル基、ｎ−プロピル基、イソフ０ロビル基、ｎ−ブチ
ル基、インブチル基および６級ブチル基を表わす。

１ハロゲン５の用語は、フッ素、塩素、臭素およびヨー
素を意味するが塩素ｈ″−Ｍ利である。２−クロルエチ
ル基が有利な〕・ロデン置換Ｃ１−４−アｎ７ホル其予
本る。

’ｃ１−ａ−アルコキシ１は、アルキル部分が０１−４
−アルキルについての上記定義に相当するアルコキシ基
を意味する。

１ハロゲン−置換メチル１は、なかでも、トリフルオル
メチル基、クロルオルメチル基およびクロルオルクロル
メチル基を意味−Ｊ−ル。

１ハロゲン−置換メトキシ１見、なかでも、クロルオル
メトキシ基およびトリフルオルメトキシ基を意味する。

不整炭素が式Ｉの化合物のフェノキシプロピオニル基中
に存在し、さらに、エステル成分中にも不整炭素原子が
存在しうるので、式Ｉの化合物は光学活性の形状で存在
しうる。それで式Ｉの化合物には、可能な光学異性体お
よびラレメートを含めるものとする。カルボニル酸素に
対してα−位にある不整中心が特に重要である。式Ｉの
化合物のＤ−形は、それが特異的活性を有するので有利
である。

上記式Ｉ中で、Ｒ２およびＲ３はなるべくは水素とし　
Ｈ４はなるべくはメチル基またはエチル基とし　Ｒ５は
なるべくはフッ素、塩素またはトリフルオルメチル基と
し　Ｈ６はなるべくは水素とし　Ｒ８はなるべくはクロ
ルオルクロルメチル基またはトリフルオルメチル基とし
、そして、Ｘはなるべく酵素とする。

式Ｉで特に有利なのは、Ａが式（句の基、特にＹが窒素
を表わす基、つまり式１　（ａ）のキノキずリン化合物
である場合である。これらのキノキずリン化合物の場合
に、Ｄ−型が特に有利である。

弐Ｉの化合物で特に有利なのを個別的に示すと、メチル
２−Ｃ〔Ｄ−２−Ｃｐ−ＣＣ６−クロル−２−キノキザ
リニル）オキシ〕−フェノキシ〕フ０ロピオニル〕オキ
シ〕エチルカーバメート、メチル２−（（Ｄ−２−（ｐ
−Ｃ（６−クロル−２−キノキずリニル）オキシ〕−フ
ェノキシ〕グロビオニル〕オキシ〕プロピルカーバメー
ト、メチル２−Ｃ（Ｄ−２−（ｐ’−（（５−（）リフ
ルオルメチル）−２−ピリジル〕−オキシ〕フェノキシ
〕プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメート、 エチル２−ＣＣＤ−２−（ｐ−（（５−（）リフルオル
メチル）−２−ピリジル〕−オキシ〕フェノキシ〕プロ
ピオニル〕オキシ〕エチルカーバメートおよび メチル２　　（ＣＤ−２−（ｐ−ＣＣ５−）リフルオル
メチル）−２−ピリジル〕−オキシ〕フェノキシ〕プロ
ピオニル〕オキシ〕プロピルカーバメートがあり 他に弐Ｉの有利な化合物は、 エチル２−ＣＣＤ−２＝Ｃｐ−Ｃ（６−クロル−２−キ
ノキザ゛リニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕
オキシ〕エチルカーバメート、メチル２−〔ＣＤ−２−
Ｃｐ−Ｃ（６−クロル−２−キノキずリニル）メキシ〕
−フェノキシ〕フ０ロビオニル〕オキシ〕−Ｎ−メチル
クーエチルカーバメート、 エチル２−（（Ｄ−２−（ｐ−（（６−クロル−２−キ
ノキずリニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オ
キシ）−１−（エチル）エチルカーバメート、 インジチル２−ＣＣＤ−２−（ｐ−（（６−クロル−２
−キノキずリニル）オキシ〕−フェノキシ〕フロピオニ
ル〕オキシ〕エチルカーバメート、メチル２−（〔２−
Ｃｐ−Ｃ（６−クロル−２−キノキザリニル）オキシ〕
フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメー
ト、エチル２−（（Ｄ−２−（ｐ−（（６−フルオル−
２−キノキずリニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニ
ル〕オキシ〕エチルカーバメートおよび メチル２−Ｃ（Ｄ−２−Ｃｐ−（（６−フルオル−２−
キノキサ゛リニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル
〕オキシ〕プロピルカーバメートである。

式１で興味のあるものをさらに挙げると、Ｓ−エチル２
−［（Ｄ−２−Ｃｐ−（（６−クロル−２−キノキずリ
ニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕−
Ｎ−メチル−エチルカーバメート、 メチル２−４ＣＤ−２−［ｐ−ＣＣ６−メチル−２−キ
ノキずリニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オ
キシ〕エチルカーバメート、メチル２−〔〔・Ｄ−２−
（ｐ−Ｃ６−（）リフルオルメチル）−２−キノキサ゛
リニル）オキシ〕フェノキシ〕フロピオニル〕オキシ〕
エチルカーバメート、 メチル２−［（Ｄ−２−Ｃｐ−［（６，７−ジクロル−
２−キノキサ゛リニル）オキシ〕フェノキシ〕フ０ロビ
オニル〕オキシ〕エチルカーバメート、Ｓ−エチル２−
　（（Ｄ　−２−（、ｐ　−（（６−クロル−２−キノ
キずリニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキ
シ〕−Ｎ−メチル−エチルカーバメート、 メチル２−（（Ｄ−２−（ｐ−（（６−フルオル−２−
キノキザリニル）オキシ〕フェノキシ〕グロビオニル〕
オキシ〕エチルカーバネート、メチル２−［（２−（ｐ
−Ｃ（６−クロル−２−キノリニル）オキシ〕フェノキ
シ〕グロビオニル〕オキシ〕エチルカーバメート、 メチル２−（［２−（ｐ−（（６−クロル−２−キノリ
ニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕スキシ〕プ
ロピルカーバメート、 メチル２−（（Ｄ−２−Ｃｐ−Ｃ（６−クロル−２−キ
ノリニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ
〕エチルカーバメート、メチル２−（（Ｄ−２−Ｃｐ−
（（６−クロル−２−キノリニル）オキシ〕フェノキシ
〕プロピオニル〕オキシ〕プロビルカーバメ〜ト、エチ
ル２−［（Ｄ−２−（ｐ−（（６−プロムー２−キノリ
ニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕エ
チルカーバメート、エチル２−（（Ｄ−２−［：ｐ−（
（６−フルオル−２−キノリニル）オキシ〕フェノキシ
〕プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメート、メチル
２−（（Ｄ−２−４’ｐ−（（６−フルオル−２−キノ
リニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕
エチルカーバメートおよびメチル２−ＣＣＤ−２−［ｐ
−（（６−フルオル−２−キノリニル）オキシ〕フェノ
キシ〕グロビオニル〕オキシ〕フ０ロビルヵーバメート
がある。

式（１）の化合物を製造するための本発明方法はつぎの
変法を包含する。

ａ）式 （ただし式中、Ａは前記の意味を有する）またはそれの
反応性誘導体と、一般式 （たたし式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４おたびＸは前記
の意味を有し、Ｑは脱離基を表わす）の化合物とを反応
さすか、または、 ｂ）　一般式 （ただし式中、Ａは前記の意味を有する）の化合物また
はそのアルカリ金属塩と、一般式（ただし式中、Ｑは脱
離基を表わし、そしてＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＸ
は前記の意味を有する）の化合物とを、必要ならば塩基
の存在で反応さすか、または Ｃ）　一般式 （ただし式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＸは前記
の意味を有する）またはそれのアルカリ金属塩と、一般
式 ％式％ （ただし式中、Ａは、前記の基（〜または（１：ｌを表
わし、Ｚはハロゲン、特に塩素またはフッ素を表わす）
の化合物とを反応させる。

１脱離基１（Ｑ）の用語は、なるべくは、塩素、臭素、
ヨー素、メシルオキシ基またはトシルオキシ基を意味す
る。

変法ａ）では、式…の化合物またはそれの反応性誘導体
を弐■の化合物でエステル化する。反応性誘導体として
は、なるべくは塩、たとへは、アルカリ金属塩（ナトリ
ウム、カリウムまたはリチウム塩）、アルカリ土金属塩
（たとえばマグネシウム、カルシウムまたはバリウム塩
）、有機塩（たとへはモノ−、ジーまたはトリアルキル
−アンモニウム塩、またはピリジニウム塩）またはアン
モニウム塩を用いる。

式■の酸なるべくはそれの塩の、弐Ｎの化合物を用いる
エステル化は、不活性溶媒中で約−２０’０から１００
°Ｃの温度で行なうのが有利である。

０℃から４０′Ｏまでの範囲の温度が有利である。

不活性有機浴媒をなるべくは浴媒に用いる。有利な浴媒
はエーテル（たとへはジエチルエーテルおよびテ上うヒ
ドロフラン）、塩素化炭化水素（たとへばジクロルメタ
ンおよびクロロホルム）およびジメチルホルムアミドで
ある。

式■の遊離酸を用いる時に、塩基または酸捕捉体の存在
で反応さすのが便宜である。この目的では、従来から用
いられている無機および有機の酸結合剤なるべくはアル
カリ金属およびアルカリ土金属の炭酸塩および亜炭酸塩
および６級アミン（つまり、トリエチルアミン、ジメチ
ルアニリンおよびピリジン）を用いうる。　　。

成用の酸の反応性誘導体は、また、ノ・ライド、イミダ
ゾライドまたは無水物でありうる。それで、反応の相手
として、Ｑがヒドロキシ基である弐旧の化合物を用いう
る。

また、式■の遊離酸と、Ｑがヒドロキシ基である弐■の
化合物と反応させうる。この反応は、酸触媒または縮合
剤、たとへは、硫酸、塩酸、ｐ−トルエンスルホン酸、
シシクロヘキシルカルホシイミドまたはカルボニルジイ
ミダゾールの存在で行なうのが便宜である。

変法ｂ）またはＣ）は、アルカリ金属塩（たとへはナト
リウム塩）の形の式１ｖまたは■のフェノールと式Ｖま
たは■のハライドとを反応させて便宜に行ないうる。非
プロトン性浴媒（たとへばジメチルホルムアミドまたは
ジメチルスルホキサイド）またはピリジン中で、＼約５
０℃から１５０℃まで、なるべくは７０°Ｃから１１０
°Ｃまでの温度で実施するのが便宜である。

得られた式■の化合物の分離および精製は、既知の方法
で実施しうる。

式１の化合物の製造において、軸枠な光学異性体の製造
のための合成を特に計画しない時には、つまり、光学的
に純粋な材料を用いない時には、ラセミ体を生ずるのか
ふつうである。この場合、ラセミ体を既知の方法で異性
体に分けうる。光学活性体を出発材料に用いる時には、
対応して光学活性の化合物が得られる。

式ｎ、ＩＶおよび■の出発物質および式■の酸の反応性
線導体および式１ｖのフェノールのアルカリ金践塙は、
既知であるが、既知の方法で製造しうる。

弐ＮおよびＶの出発物質は既知の方法で製造しうる。た
とへば、つぎの反応スキームによる。なは、この反応ス
キーム中で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ＸおよびＱは、
前記の意味を有し、Ｈａｌは、ノ・ロデン原子、特に塩
素または臭素を意味する。

０　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０
［Ｖ 式ｖ１の化合物は新規である。それらは、一般式Ｉ　　
Ｒ３ （たたし式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ′およびＸは前記
の意味を有し、Ｗは除去容易の基特にベンジル基を意味
′１−る）よりＷを脱離させ式■の化合物とすることに
より製造しうる。

式Ｖｌの化合物は、つきの反応スキームで製造しうる。

ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ、ＱおよびＷは前
記と同じ意味を有する。

本発明によれは、Ａか、Ｙが水素である基（ａ）を表わ
ず式ｖ■の出発物質製造のために必要な、式５ （ただし式中　Ｒ５およびＲ６は前記の意味を有する）
の２−ヒドロキシキノキずリンの製造のための新規方法
、つまり、式 （式中、Ｚは）・ロダン原子、特に塩素を表わし、Ｒ５
およびＲ６は前記の意味を有する）の出発物質製造のた
めの新規方法が見出だされた。

この方法では、式 の化合物と、式 の基を与える化合物とを反応させて、式のアミドとし、
そして、選ぶならば、式■中のニトロ基を還元してアミ
ノ基とし、そして、基−Ｘ−Ｒ９および−Ｘ　ＲＩ　Ｏ
を切断除去して、閉環をともない、式■の化合物を生成
させる。

上記の式Ｘ、ＸＩおよび店において、Ｒ５およびＲ６は
前記の意味を有し、Ｘは酸素またはイオウを意味し　Ｒ
９およびＨｌｏは相互に独立して、Ｃ１−Ｃ６−アルキ
ル基（ただし、場合により、ハロゲン、低級アルコキシ
基または低級アルキルチオ基またはＣ２−Ｃ，−アシル
基、たとへはアセチル基またはノコピオニル基が置換し
ていてもよい）を表わすとし　Ｈ′およびＲ１０は、あ
わせて、２か６炭素原子数のアルキレン基を意味するこ
ともできるとする。

弐刀の基を与える化合物は、エステルだとへば低級アル
キルエステル（たとへはエチルエステル）またはハライ
ド（たとへば対応する酸クロライド）または別の反応性
誘導体でありうるとする。

式Ｘの化合物と、弐累の基を与える化合物だとへはエチ
ルエステルとの反応は、ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔ
ｔｅｒｓ　１９７１．　ｐｐ　３２１−２２に記載の方
法、つまり、室温から反応混合物の沸点までのあいだの
温度で、ジメチルスルホキサイド、ヘキサメチルホスホ
ルアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、テトラメチル
尿素、ジメチルホルムアミド、またはＮ、Ｎ−ジメチル
アセトアミド中で水素化アルカリ全域（たとへば水素化
す）ＩＪウム）を用いる。

アミン、エステルおよび水垢化物を等モル量用いるのが
有利である。

それから、得られた弐■の化合物について選択するなら
ば、ニトロ基を還元してアミン基とし、基−Ｘ−Ｒ９お
よび−Ｘ　ＲＩＯを切断する。ニトロ基の還元は、ラネ
ーニッケル、パラジウムまたは類似の触媒の存在で水素
を用いるか、または、塩化第２鉄または上記触媒のうち
のひとつの存在で、１水和物でもよい、ヒドラジンで行
なうのが便宜である。還元はまた、硫化ナトリウムのよ
うな硫化アルカリ金属硫化アンモニウムまたはジチオン
酸アルカリ全域（たとへはジチオン酸ナトリウム）を用
いても行ないうる。約０から３０°Ｃまでの温度、なる
べくは大体室温で行なうのが便宜である。

式■の化合物を還元し、基−Ｘ−Ｒ’および−Ｘ−Ｒ１
０を除去したあとに得られるアミン化合物は成環させて
式■の化合物とする。切断のためには酸性触媒（たとへ
は、ルイス［（Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ　１５　筺たばＡｍ
ｂｅｒｌｉｔｅ　ｉ２０のような酸性イオン交換体）を
用いるのが便利である。水と混和性の不活性溶媒（タト
へはアルコール、アセトンまたは類似のもの）中で切断
および閉環を行なうのが有利である。

室温から反応混合物の還流１Ｍ度、なるべくは後者で閉
壊さずのが有利である。

得られた式■の化合物は、既知の方法でノ・ログン化し
て式Ｖ１１のキノキヂリン化合物となしうる。

式Ｉの化合物は殺草性を有し、禾本科雑草、特に、大豆
、さとうきびおよび棉畑中のＥｃｈｉｎｏｃｈｌｏａｃ
ｒｕｓ−ｇａｌｌｊ−、５ｅｔａｒｉａ　ｆａｂｅｒｉ
ｉ、　Ａｇｒｏｐｙｒｏｎｒｅｐｅｎｓ、　Ｓｏｒｇｈ
ｕｍ　ｂｉｃｏｌｏｒ＋　Ａｌｏｐｅｃｕｒｕｓ　ｍｙ
ｏｓｕｒｏｉ−ｄｅｓおよびＡｖｅｎａ　ｆａｔｕａの
防除に適当である。本発明に準する化汗物は、大豆畑中
の禾本科雑草の防除に特に適当である。

一般的に、０．０１から０．５ｋｇの式■の活性物質／
ｂａ、なるべくは０．０５から０．２ｋｇ／ｈａの濃度
が望む除草活性を与えるのに十分である。

式Ｉの化合物は発芽前除草剤であるのみならず、発芽後
除草剤でもある。後者が有利である。

本発明に準する除草組成物は、上記定義のような式Ｉの
化合物の少なくとも１種類の有効量を、処方用アジュバ
ントとあわせて含有する。組成物は、つきの処方用アジ
ュバントの少なくとも１種類を含有するのが便宜である
。固体担体物質：溶媒または分散媒体、界面活性剤（湿
展剤および乳化剤）、分散剤（界面活性作用なし）、お
よび安定剤、これらおよび他のアジュバントを用いて、
式Ｉの化合物つまり殺草活性物質は、有用な処方物だと
へは、ダスト、粉末、顆粒、溶液、乳化液、懸濁液、乳
化性の濃厚液、ペーストおよび仙似のものに変えうる。

式■の化合物は一般的に水に不浴で、適肯な処方用アジ
ュバントを用いる、ふつうの水不溶性化合物の処方に有
用な方法で処方しうる。組成物の生産は既知の方法で行
なう。たとえば、適当な活性物質と固体担体物質とを混
合する。必沙なら湿展剤または乳化剤および（または）
分散剤のような界面活性剤を用いて、適当な溶媒または
分散媒体中に俗解するかまたは懸濁させる。あらかじめ
調製しておいた乳化性の濃厚液を溶媒または分散媒体等
で希釈する。

固体担体物質としてつきのものを考慮しうる。

天然無機物だとへはチョーク、ドロマイト、石灰、アル
ミナおよびけい酸およびけい酸塩（たとえば、けいそう
土、カオリ、ン、ベントナイト、タルク、アタパルガイ
ドおよびモシモＩｊｏナイト）；合成無情物質たとえば
高度に分散性のけい酸、酸化アルミニウムおよびシリケ
ート；有機物質、たとえはセルロース、スターチ、尿素
および合成樹脂；肥料たとえばリン酸塩および硝酸塩。

その際、担体物質はたとえば粉末または顆粒として存在
しうる。

溶媒または分散媒体として、本質的にっぎのものが考慮
される。芳香族化合物だと−えはベンゼン、トルエン、
キシレンおよびアルキルナフタレン、塩素化芳香族化合
物および塩素化脂肪族炭化水素たとえばクロルベンゼン
、クロルエチレンおよび塩化メチレン；脂肪族炭化水素
たとえばシクロヘキサンおよびパラフィン（たとえば石
油分画）；ゲタノールおよびグリコールの、ｔうなアル
コールおよびそれらのエーテルおよびエステル；ケトン
たとえばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトンおよびシクロヘキサノン；強極性の溶媒また
は分散媒体たとえばジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル
ピロリドンおよびジメチルスルホキサイド（これらの溶
媒の引火点は少なくとも６０℃で沸点は少なくとも５０
°Ｃとするのが有利である）および水。溶媒または分散
媒体には、いわゆる欣化がス状増量剤または担体物質が
考えられる。こオ包ま室温で常圧でガス状の物質である
。

これらのうちには、特に、エアゾル噴射剤たとえはハロ
ゲン化炭化水素（たとえはジクロルジフルオルメタン）
がある。本発明による除草組成物が、加圧充填物である
なら、噴射剤に加えて溶媒を用いるのが便利である。

界面活性剤（湿展剤および乳化剤）は、非イオン性化合
物だとへば脂肪酸、脂肪アルコールまたは脂肪基置換フ
ェノールと酸化エチレンとの縮合生成物；糖または多価
アルコールの脂肪酸エステルおよびエーテル；酸化エチ
レンとの縮合により糖または多価アルコールより得られ
る生成物；酸化エチレンおよび酸化プロピレンのブロッ
ク重合体；またはアルキルジメチルアミンオキザイドで
ありうる。

界面活性剤はまたせっけんのような陰イオン性化合物で
もよい。脂肪スルフェートエステル（たとえは、ドデシ
ルナトリウムスルフェート、オクタデシルナトリウムス
ルフェートおよびセチルナトリウムスルフェート）；ア
ルキルスルホネート、アリールスルホネートおよび脂肪
−芳香族スルホネートたとえはアルキルベンゼンスルホ
ネート（たとえばカルシウムドデシルベンゼンスルホネ
ート）およびブチルナフタレンスルホネート；およびよ
り複雑な脂肪スルホネート、たとえば、オレイン酸とＮ
−メチルタウリンとのアミド縮合生成物およびジオクチ
ルスクシネートのナトリウムスルホネートがある。

最後に、界面活性剤は陽イオン性化合物たとえは、アル
キルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、ジアル
キルジメチルアンモニウムクロライド、アルキルトリメ
チルアンモニウムクロライド、およびエトキシレート化
４級アンモニウムクロライドがある。

分散剤（界面活性作用を有しない）として、本質的にり
きのものを考慮しうる。リグニン、リグニンスルホン酸
のナトリウムおよびアンモニウム塩、無水マレイン酸−
ジイソブチレン共重合体゛のナトリウム塩、ナフタレン
およびホルムアルデヒドのスルホン化ポリ鰯合生成物の
ナトリウムおよびアンモニウム塩およびサルファイトン
ーダ灰である。

濃厚化剤また抗沈降剤として特に適当な分散剤には、た
とえばメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルアルコール
、アルギネート、カセ゛イネート」６よび血液アルブミ
ンを用いうる。

適当な安定化剤の例は、酸結合剤（たとえば、エピクロ
ルヒドリン、フェニルグリシジルエーテル、および大豆
エポキサイド）；抗酸化剤（たとえば没食子酸エステル
およびブチルヒドロキシトルエン；ＵＶ吸収剤（たとえ
ば置換ベンゾフェノン、ジフェニルアクリルニトリル酸
エステルおよび珪皮酸エステル）；および不活化剤（た
とえばエチレンジアミノテトラ酢酸とポリグリコールの
＠）かある。

本発明による除草組成物は、式ｌの化合物に加えて、協
力剤および他の活性物質（たとえば殺虫剤、殺ダニ剤、
殺菌剤、他の除草剤、殺かび剤、植物生長調節剤および
肥料）を含有しうる。そのような組合わせ組成物は活性
を強めまたは活性スペクトルを拡けるのに適当である。

本発明に準する除草組成物は、一般的に、活性物質（単
および複数）としての式ｌの化合物の１種または１種よ
り多くの、０．１から９９重量パーセント、なるべくは
５から７５重量パーセントを含有する。たとえば、それ
らは、貯蔵および輸送に適当な形で存在しうる。そのよ
うな処方物（たとえば、乳化しうる濃厚物）中で活性物
質の濃度は広い範囲にありうる。なるべくは、１０から
７５重量％、特に２５から５０１量チとする。ついで、
これらの処方物は、たとえば同じかまたは異なる不活性
物質を用いて希釈し、実際に用いるに適当な濃度、つま
り、なるべくは約０．１から１０重量％、特に、約１か
ら５重量％となしうる。

しかし、活性物質の濃度は、それより大でも小でもよい
。

上記のように、本発明に準する除草組成物の製造は既知
の方法で行ないうる。

粉末状調製物の製造のためには、活性物質、つまり式ｌ
の化合物の少なくとも１種類を固体担体物質と、たとえ
ばあわせて磨砕するごとき方法で混合しうる。または、
固体担体物質を活性物質の溶液または懸濁液に浸しつい
で蒸発、加熱または減圧下の吸引のような手段で溶媒を
除きうる。界面活性剤または分散剤を加えることにより
、そのような粉末状調製物は、容易に水利性となしうる
。

それで、たとえば、スプレー用組成物に適当な水性懸濁
液に変えうる。

式ｌの化合物は、また、界面活性剤および固体担体物質
と混合して、水に分散しうる水和性粉末となしうる。ま
たは、固体状のあらかじめ顆粒状とした担体物質と混合
して、顆粒状生成物となしうる。

望むならは、式ｌの化合物を水に混和しない溶媒たとえ
ば高沸点炭化水素と混合しうる。炭化水素には乳化剤を
溶解し、水を加えると乳化するようにするのが便利であ
る。別様には、活性物質を乳化剤と混合し、ついで混合
物を水で希釈して望む濃度とする。さらに活性物質を溶
媒に溶解し、そのあとで混合物を乳化剤と混合しうる。

このような混合物は、また、水で希釈して望む濃度とな
しうる。このようにして乳化しうる濃厚物またはすぐに
用いうるエマルジョンとなしうる。

本発明に準する除草剤組成物は、常法たとえばスプリン
クラ−で散布、噴霧、散粉、潅注、またはスキャンタリ
ングのような方法で用いうる。本発明による除草方法で
は、雑草に対して保護すべき場所および（または）雑草
を、本発明に準する化合物または組成物で処理する。

つぎに実施例を用いて本発明をより詳しく説明する。

ｌ　式ｌの活性物質の製造 例１ ５６ｇのＤ−２−４ｐ−［（６−クロル−２−キノキザ
リニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオン酸および７７
．４ｍｌの塩化チオニルを、１．５時間加熱還流させる
。減圧で塩化チオニルを留去し、残留物を高真空で乾燥
する。生成酸塩化物を含有する残留物に、１１１のピリ
ジンおよび１００ｄの塩化メチレンを加え、ついで、　
２３．６．９のメチル２−ヒドロキシプロピルカーバメ
ートを５０ＴＬｌの塩化メチレンに含有する溶液を５か
ら１５℃で滴加する。混合物は室温で１２時間反応させ
る。

混合物は水にあけエーテル抽出する。抽出物は２Ｎ水酸
化す）　ＩＪウム、２Ｎ塩酸、水、および飽和塩化ナト
リウム溶液で洗い、硫酸す）　ＩＪウム上で乾燥し、ロ
ータリーエバポレーター上で濃縮する。

ヘキサン／エーテルを用い、シリカゾル上でクロマトグ
ラフィーし、純メチル２−［Ｉ［Ｄ−２−［ｐ−［（６
−クロル−２−キノキザリニル）オキシ］フェノキシ〕
プロピオニル〕オキシ〕プロピルカーバメートをうる。

融点９４−９６℃、［ａ〕、　　＋３１．０３°（、Ｃ
＝　０．９３％、クロロホルム）。

類似の方法により、それぞれの出発物質より、つぎの化
合物をうる。

ａ）　　Ｄ−２−［ｐ−［（６−クロル−２−キノキず
リニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオ／酸およびメチ
ル２−ヒドロキシエチルカーバメートより、メチル２−
［［Ｄ−２−〔ｐ−４（６−クロル−２−キノキザリニ
ル）オキシ〕フェノキリシロピオニル〕オキク〕エチル
カーバメート；融点２ ９１−９４°Ｃ１〔α〕っ　＋２８．８４°（Ｃ＝　０
．９９％クロロホルム）。

核酸およびエチル２−ヒドロキシエチルカーバメートよ
り、エチル２−　［［Ｄ　−２−〔ｐ　−［（６−クロ
ル−２−キノキずリニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピ
オニル〕オキシ〕エチルカーバメート；融点９６−９８
℃、〔α：］Ｄ　３４．９６°（Ｃ＝０．３９　、　Ｃ
ＨＣｌ３）　； 同シく、エチルＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メ
チル−チオールカーバメートより、Ｓ−エチル２−しＣ
Ｄ−２−Ｃｐ−［（６−クロル−２−キノキずリニル）
オキシ〕フェノキシ〕ゾロぎオニル〕オキシ〕Ｎ−メチ
ルーエチルカーバメー　ト　；　〔α〕ゎ　　＋　２　
５．４　３°　（ｃ＝１．３３　　％　、ＣＨＣｌ３）
、ｎｆｉ０＝１．５９９８　；同ｍ　Ｋ　、メチルＮ−
（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチルカーバメートよ
り、メチル２−　［Ｄ−２〜［ｐ−［（６−クロル−２
−キノキずリニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル
〕オキシ〕Ｎ−メチルーエチルカーバメートｔ　ｎ　Ｄ
　　＝１．５８３５、〔α〕っ　＋３１．１７°（ｃ＝
０．７５％、　ＣＨＣｌ３）。

同ａ　Ｋ　、エチル１−エチル−２−ヒドロキシエチル
カーバメートより、エチル２−［［Ｄ−２−［ｐ−［（
６−クロル−２−キノキずリニル）オキン〕フェノキシ
〕プロピオニル〕オキシ〕１−（エチル）エチルカーバ
メート；融点７ｌ−７５０Ｃ１〔α〕っ　＋５０．４１
°（ｃ＝０．９１％、ＣＨＣｌ３）；同様にイソブチル
２−ヒドロキンエチルカーバメートより、イソブチル２
−［［Ｄ−２−［ｐ−〔（６−クロル−２−キノキずリ
ニル）オキシ〕フェノキシ］プロピオニル〕オキシ〕エ
チルカーバメート、融点７５−７８℃、〔α］、＋３１
．７７゜（Ｃ＝０．９９％、ＣＨＣｌ３　）　ｙｂ）　
　Ｄ　−２−Ｃｐ　−［（６−フルオル−２−キノキザ
リニル）オキシ〕フェノキシ〕プロ２オン酸およびメチ
ル２−ヒドロキシエチルカーバメートより、メチル２−
［［Ｄ−２−［ｐ−［（６−フルオル−２−キノキずリ
ニル）オキシ〕フェノキシ］プロピオニル〕オキシ〕エ
チルカーバメート；融点１０３−１０６°Ｃ，［αＩＤ
　＋　３３−０８°　（Ｃ＝１．１０％、ＣＨＣｌ３）
　； ｃ）　　２−　〔ｐ　−Ｃ（６−クロル−２−キノキず
リニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオン酸才６よびメ
チル２−ヒドロキシエチルカーバメートより、メチル２
−〔〔２−Ｃｐ−４（６−クロル−２−キノキずリニル
）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕エチル
カーバメート；融点１０３−１０４．５°Ｃ； ｄ）　　２−　しｐ　−［（６−クロル−２−キノリニ
ル）オキシ〕フェノキク〕プロピオン酸およびメチル２
−ヒドロキシエチルカーバメートより、メチル２−　Ｃ
［，２−［ｐ　−〔（６−クロル−２−キノリニル）オ
キシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕エチルカー
バメート；融点８９−９０℃；同様に、メチル２−ヒド
ロキノプロピルカーバメートより、メチル２−［［２−
［ｐ−［（６−クロル−２−キノリニル）オキシ〕フェ
ノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕プロピルカーバメート
；ＮＭＲ（６０ＭＩ（ｚ　、　ＣＤＣｌ３　）　１．２
５　ｐｐｍ　（２ｄ　。

３ｐ）、１．６５ｐｐｍ　（ａ、　３ｐ　）、３．３　
ｐｐｍ　（Ｉｌｌ　。

２ｐ）、３．６　ｐ−ｐｍ　（２ｓ　、ろｐ）、４．８
　ｐｐｍ　（ｑ　。

ｉ　　　ｐ）、　　　５．０１　　　ｐｐｍ（ｑ＋　　
　１　　ｐ）　　、　　６．７　−　８．ｌｐｐｍ　（
９ｐ　）　； ｅ）　　Ｄ　−２−Ｃｐ　−Ｃ（６−クロル−２−キノ
リニル）オキシ〕フェノキシ〕プロＶオン酸およびメチ
ル２−ヒドロキシエチルカーバメートより、メチル２−
［［Ｄ−２−〔ｐ−［（６−クロル−２−キノリニル）
オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕エテルカ
ーバメート；融点９４−９７℃、〔α〕っ　＋３０．１
７６°（ｃ＝１．０７７％。

ＣＨＣｌ３）； 同様にして、メチル２−ヒドロキシプロピルカーバメー
トより、メチル２−［［Ｄ−２−［ｐ−Ｃ（６−クロル
−２−キノリニル）オキン］フェノキシ〕プロピオニル
〕オキシ〕プロピルカーバメート；融点７６−７８°Ｃ
，［α〕っ　＋２８．４２゜（Ｃ＝１．０５％、　ＣＨ
Ｃｌ３　）　；ｆ）Ｄ−２−［ｐ”［（６−プロムー２
−キノリニル）オキシ）フェノキシフプロピオン酸およ
びエチル２−ヒドロキシエチルカーバメートヨリ、エチ
ル２−［〔Ｄ−２−［ｐ−［（６−プロムー２−キノリ
ニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕エ
チルカーバメート；融点６Ｂ−７１°Ｃ１〔α）、＋２
５．５７°　（０，７％、　　ＣＨＣｌ３）；ｇ）Ｄ−
２−［ｐ−［（６−フルオル−２−キノリニル）オキシ
〕フェノキシ〕プロピオン酸およびエチル２−ヒドロキ
シエチルカーバメートより、エチル２−〔ＣＤ−２−［
ｐ−１：（６−フルオル−２−キノリニル）オキシ〕フ
ェノキシ〕グロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメート
；融点９５−９７°Ｃ１〔α〕０　＋６１．００３°（
ｃ＝１．０５％、ＣＨＣｌ３　）　ｐ 同様に、２−ヒドロキシエチルカーバメートより、メチ
ル２−［ＣＤ−２−［：ｐ−ｒ：（６−フルオル−２−
キノリニル）オキシ〕フェノキシ〕プロぎオニル〕オキ
シ〕エチルカーバメート；融点１３４−８６℃、〔α〕
っ　＋３１．０７”　　（Ｃ＝１．０１チ、ＣＨＣｌ３
）； 同ＳＫ、メチル２−ヒドロキシプロピルカーバメートよ
り、メチル２−　Ｃ［Ｄ　−２−〔ｐ　−Ｃ（６−フル
オル−２−キノリニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオ
ニル〕オキシ〕プロピルカーバメート；〔α〕っ　　＋
　２６．６°　　　（Ｃ＝１．０　　％　、　　Ｃ）Ｉ
ｃ１３　）　　、ＮＭＲ（６０ＭＨｚ　、　ＣＤＣｌ３
　’）　１．２５　ｐｐｍ　（２ｄ　。

３ｐ）、１．６７ｐｐｍ　（ｄ、　３ｐ　）、３．３２
　ｐｐｍ（ｍ、２ｐ）、３．６５ｐｐｍ　（：２ｓ　、
　３ｐ　）、Ｃ８０Ｃ８０ｐｐ、１　ｐ　）、５．１０
　ｐｐｍ　（ｍ、　１　ｐ）、６．８−８．２　ｐｐｍ
　（９ｐ　）　；ｈ）　　Ｄ−２−１：ｐ−［（５−）
リフルオルメチル）−２−ピリジル〕オキシ〕フェノキ
シ〕ゾロピオン酸およびメチル２−ヒドロキシエチルカ
ーバメートより、メチル２−〔ＣＤ−２−ｒ：ｐ−［（
５−トリフルオルメチル）−２−１：リジル〕オキシ〕
フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメー
ト；ｎｐ０＝　１．５０２２、［α］ｆｉ”　＋３１．
３６゜（Ｃ＝１．０３％、　　ＣＨＣｌ３　　）　　を
同様に、エチル２−ヒドロキシエチルカーバメートより
、エチル２−　［［Ｄ　−２−［ｐ　−’［（５−トリ
フルオルメチル）−２−１ｆｆリジル〕オキシ〕フエノ
キシ〕プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメート；融
点６３−６４°Ｃ１〔α〕ワ　　＋ろｏ、６２゜（Ｃ＝
０．９６％、　ＣＨＣｌ３）　；同様に、メチル２−ヒ
ドロキシゾロピルカーバメートより、メチル２−［［Ｄ
−，２−［ｐ−［（５−（トリフルオルメチル）−２−
ピリジル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ
〕プロピ、２０ ルカーバメート、〔α）Ｄ　２４．４７４°（ｃ＝ｉ、
ｏｓ％　、　Ｃ）（Ｃ１３）、ｎＬ０＝１．５０４６；
１）Ｄ−２−［ｐ−［［：５−（ジフルオルクロルメチ
ル）−２−ピリジル〕オキシ〕フェノキシ〕プロピオン
酸およびメチル２−ヒドロキシエチルカーバメートより
、メチル２−［［Ｄ−２−［ｐ−４［５−（ジフルオル
クロルメチル）−２−ピリジル〕オキシ〕フェノキシ〕
プ四キオニル〕オキシ〕エチルカーバメート；ｎもＯ＝
１．５２９２、０ 〔α〕ゎ＋２９．１３３°（Ｃ＝０．９９％、　　ｃＨ
ｃｌ、　）　；同様に、エチル２−ヒドロキシエチルカ
ーバメートより、エチル２−［［Ｄ−２−［ｐ−［［ｌ
５−（ジフルオルクロルメチル）−２−Ｉｆｆリジル〕
オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキ７〕エチルカ
ーバメートｐ　ｎＤ：’：　１．５２０１、〔α〕Ｄ　
＋２７．７７°　（Ｑ＝０．９９８％、　ＣＨＣｌ３　
）　；同様に、メチル２−ヒドロキシゾロビルカーバメ
ートより、メチル２−　ＣＣＤ　−２−〔ｐ　−［Ｉ［
５−（ジフルオルクロルメチル）−２−ピリジル〕オキ
シ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕プロピルカー
バメート、’　ｎＤ＝＝　１−５１２７、〔α〕。

＋　２４．８７°（Ｃ＝１．０４６％、ＣＨＣｌ３　）
　ｚｋ）２−　Ｃｐ　−Ｃ（５−ジフルオルクロルメチ
ル）−２−ピリジル〕オキシ〕フェノキシ〕ゾロピオン
酸およびメチル２−ヒドロキシエチルカーバメートより
、メチル２−１：［２−〔ｐ−［（５−ジフルオルクロ
ルメチル）−２−ピリジル〕オキシ〕フェノキシ〕プロ
ピオニル〕オキシ〕エチルカーバメート；　Ｉ　Ｈ−Ｎ
ＭＲ（ＣＤＣｌ３．６０　ＭＨｚ　）８、４６　ｐｐｍ
　（ｍ　、　　Ｉ　Ｈ）、７．９３　ｐｐｍ　（ａ　ａ
　。

ＩＨ）、７．２８−６．８　ｐｐｍ　（ｍ　、　　５　
Ｈ）、５．１６−４．７３　ｐｐｍ　（ｍ　、　　Ｉ　
Ｈ）、４．８３　ｐｐｍ　（ｑ　。

ＩＨ）、４．ろＯｐｐｍ（ｚ、２Ｈ）、５．、６７　ｐ
ｐｍ（ｓ、３Ｈ）、３．５７−３．２５　ｐｐｍ　（ｍ
、　　２　Ｈ）、１、６５　ｐｐｍ　（ｄ、ろＨ）　ｙ ２−Ｃｐ−〔〔５−（）リフルオルメチル〕−２−ピリ
ジル〕オキシ〕フェノキシ〕ゾロピオン酸およびメチル
２−ヒドロキシエチルカーバメートより、メチル２−［
［２−Ｃｐ−Ｃ［５−（ｔ−リフルオルメチル）−２−
ピリジル〕、オキシ〕フェノキシ〕プロピ′オニル〕オ
キシ〕エチルカーバメート；融点５６−５８．５°Ｃ； エチル２−ヒドロキシエチルカーバメートより、エチル
２−［［２−［ｐ−〔〔５−（）リフルオルメチル）−
２−ピリジル〕オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オ
キシ〕エチルカーバメート；Ｉ　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ
３　、６０　ＭＨｚ　）　８．４０　ｐＩ）ｍ　（ｍ　
。

ＩＨ）、７．８６　ｐｐ迅（ｄａ、ＩＨ）、Ｚ２０−６
、８０　ｐｐｍ　（ｍ　、　　５　Ｈ）、４．９７−４
．５７　ｐｐｍ（ｍ、ＩＨ）、４．８０ｐｐｍ　（ｑ、
　　Ｉ　Ｈ）、４．４３−３．９３　ｐｐｍ　（ｍ　、
　４　Ｈ）、３．５７−３．２６ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ）、
１．６５ｐｐｍ　（ａ、　　３Ｈ）、１．２２ｐよ（ｔ
、、３Ｈ）； メチル２′−ヒドロキシエチルカーバメートより、メチ
ル２−４〔２−［ｐ−［［５−（トリフルオルメチル）
−２−ピリジル〕オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕
オキシ〕プロピルカー／々メ一　ト　；　　Ｉ　　Ｈ−
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ　３　、　４　０　０　　λ４■（ｚ
　　）　　８．４　　ｌｐｐｍ　（ｍ　、　Ｉ　Ｈ）、
７．８８　ｐｐ、ｍ　（ａ　ａ　、　１　、Ｈ）、７．
１０−６．９０’ｐｐｍ（ｍ、　５Ｈ）、５．１０−５
．０ｐｐｍ　（ｍ　、　Ｉ　Ｈ）、４．９−４．４７　
ｐｐｍ　（ｍ、　２Ｈ）、３、６１５　ａｎｄ　３．６
１　ｐ’ｐｍ　（２８、３Ｈ）、３．４６−３．０９　
ｐｐｍ　（ｍ、２Ｈ）、１．６４　ａｎｄ　１．６２　
ｐｐｍ（２ｄ、３］（）、１．２６　ａｎｄ　１．２０
　ｐｐｍ　（２ｄ　。

６Ｈ）； エチル１−エチル−２−ヒドロキシエチルカーバメート
より、エチル２−［［２−［ｐ−〔［５−（トリフルオ
ルメチル）−２−ピリジル〕オキシ〕フェノキシ〕プロ
ピオニル〕オキシ）ｌ−（エチル）エチルカーパーメー
ト；　Ｉ　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３．’　４００ＭＨｚ
）８．４２ｐｐｍ　（ｍ、　Ｉ　Ｈ）、７．８８ｐｐｍ
　（ｄｄ、　Ｉ　Ｈ）、７．０−６．８８　ｐｐｍ（ｍ
、５Ｈ）、４．７９　ｐｐｍ　（２ｑ　、　Ｉ　Ｈ）、
４．６４−４．４６ｐｐｍ（ｍ、ＩＨ）、４．３０−４
．２７ｐｐｍ　（ｍ　、　Ｉ　Ｈ）、４．１７−４．０
１　ｐｐｍ　（ｍ。

３Ｈ）、３．８５−３．７０ｐｐｍ（ｍ、ＩＨ）、１．
６４ａｎｄ　１．６３　ｐｐｍ　（２ｄ　、　３　Ｈ）
、１．５５−１．３０ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ）、１．２９−
１．１４　ｐｐｍ　（ｍ　。

３Ｈ）、０．９１　ａｎｄ　０．８９　ｐｐｍ　（２ｔ
　、　３　Ｈ）　））ｆｋＮ−＜２−−ヒドロキシエチ
ル）−Ｎ−メチルカーバメートより、メチル２−［［２
−（Ｉｐ−［［５−（）リフルオルメチル）−２−ピリ
ジル〕オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕−
Ｎ−メチル−エチルカーバメート；　Ｉ　Ｈ−ＮＭＲ（
ＣＤＣ１３，６０ＭＨｚ）８．４５ｐｐｍ（ｍ、　Ｉ　
Ｈ）、７、９１．　ｐｐｍ　（ａａ、　Ｉ　Ｈ）、７．
２５−６．８　ｐｐｍ　（ｍ　。

５Ｈ）、４．７９ｐｐｍ　（ｑ、　Ｉ　Ｈ，）、４．３
２　ｐｐｍ（ｔ、２Ｈ）、３．７２ｐｐｍ　（ｓ　、　
３Ｈ）、６．５５ｐｐｍ（１，２Ｈ）、２．９０　ｐｐ
ｍ　’（ｓ　ｒ　　３　Ｈ）、１．６２ｐｐｍ　（ａ、
３Ｈ）； ２−クロルエチル２−ヒドロキシエチルカーバメートよ
り、２−クロルエチル２−〔〔−［ｐ−［［５−（トリ
フルオルメチル）−２−ピリジル〕オキシ〕フェノキシ
〕プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメート；　Ｉ　
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１，、６０ＭＨｚ）８．４５ｐｐｍ
（ｍ、ＩＨ’）、７．９２　ｐｐｍ　（ｄｄ、　Ｉ　Ｈ
）、７、２５−６．８０　ｐｐｍ　（ｍ　、　５　Ｈ）
、５．１−４．６１ｐｐｍ（ｍ、２Ｈ）、４．５−４．
１７　ｐｐｍ　（ｍ、　４Ｈ）、３、８−３．２　ｐｐ
ｍ　（ｍ　、　４　Ｈ）、１．６”５　ｐｐｍ　（ａ　
。

６Ｈ）； イソゾロビル２−ヒドロキシプロピルカーバメートより
、イソプロピル２−　Ｃ［２−Ｃｐ　−［［５−（トリ
フルオルメチル）　−２−ヒリジル〕オキシ〕フェノキ
シ〕プロピオニル〕オキシ〕プロピルカーバメート；　
Ｉ　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３　、　６０　ＭＨｚ　）８
、４６　ｐｐｍ　（ｍ　、　Ｉ　Ｈ）、７．９１　ｐｐ
ｍ　（ａｄ、　ＩＨ）、７、２４−６．８　ｐｐｍ　（
ｍ　、　５　Ｈ）、５．２６−４．４５ｐｐｍ（ｍ、４
Ｈ）、３．５２−３．０６　ｐｐｍ　（ｍ　。

２Ｈ）、　１．６３　ｐｐｍ　（ａ　、　　３　Ｈ）、
　１．２２　ｐｐｍ（ａ、９Ｈ）； インブチル２−ヒドロキシエチルカーバメートより、イ
ソブチル２−［［２−［ｐ−［［５−（トリフルオルメ
チル）−２−ピリジル〕オキシ〕フェノキク〕プロピオ
ニル〕オキシ〕エチルカーバメート；　Ｉ　Ｈ−ＮＭＲ
（ＣＤＣｌ３　、．６０　ＭＨｚ　）　８．４５ｐｐｍ
（ｍ、ＩＨ）、７．９２　ｐｐｍ　（ｄｄ、　ＩＨ）、
７．２５−６．８ｐｐｍ　（ｍ、　５Ｈ）、４．８２　
ｐｐｍ　（ｑＩ・。

ＩＨ）、５．０７−４．６　ｐｐｍ　（ｍ　、　Ｉ　Ｈ
）、４．２９ｐｐｍ（ｚ、２Ｈ）、６．８５　ｐｐｍ　
（ａ　、’２Ｈ）、３、５８−３．２３　ｐｐｍ　（ｍ
　、　２　Ｈ）、１．９０　ｐｐｍ（ｍ、ＩＨ）、土６
５ｐｐｍ（ｄ、３Ｈ）、０．９０ｐｐｍ（ｄ、６Ｈ）； グチル２−ヒドロキシエチルカーバメートよりブチル２
−［［２−［ｐ−［［５−（トリフルオルメチル）−２
−ピリジル〕オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキ
シ〕エテルカーバメート：Ｉ　ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ３．
６０　ＭＨｚ）　　８．４５　ｐｌ）ｍ　（ｍ　＋１Ｈ
）、７．９１　ｐｐｍ　（ｄｄ、　Ｉ　Ｈ）、ｖ、２７
−６．７８ｐｐｍ（ｍ＋５Ｈ）、　５．０３　−４．６
　ｐｐｍ＋　　（ｍ、　ＩＨ）、４．８２ｐｐｍ　（ｑ
　、　　Ｉ　　Ｈ）、　４ｙ５２−３．９２　ｐｐｍ（
ｍ、４Ｈ）、　３．６−３．２２　ｐｐｍ　　（ｍ　、
　　２　Ｈ）、１、９−１．１　　ｐｐｍ　（ｍ　、　
　４　Ｈ）、　１．６３　ｐｐｍ　（ｄ　。

３Ｈ）、　０．９３　ｐｐｍ　（ｔ、　　３　Ｈ）上記
に用いたイソブチル２−ヒドロキシエチルカーバメート
はつぎのように製造しうる。

４２．８Ｆエタノールアミンを３５０ｍ１の塩化メチレ
ンに加える。氷冷しながら、５から１５°Ｃで１時間を
かけて４７．８　ｇのインジチルクロロホルメートを加
える。室温でさらに４時間かくはんしてから塩化メチレ
ンを留去し、残留物を蒸留する。

純粋なイソブチル２−ヒドロキシエチルカーバメートを
うる。沸点１１１−１１３°Ｏ１０，０７Ｔｏｒｒ　　
。

例２ １、９９　ｇの２．６−シクロルキノキずリンと、２．
８５ｇのメチル２−［［２−（４−ヒドロキシフェノキ
シ）プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメートと、１
．４ｇの炭酸カリウムと、２０ｍ１のＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミドとの混合物を室温で１夜かくはんする。処
理のためには、混合物を氷−水にあけ酢酸エチルで抽出
する。抽出物は水および塩化す）　ＩＪウム溶液で洗い
、硫酸す）　ＩＪウムで乾燥し、蒸発させる。ヘキサン
／酢酸エチル（２：１）でシリカクロマトグラフィーし
、純粋なメチル２−［［２−１：ｐ−［：（６−クロル
ーキツキずリニル）オキク〕フェノキシ〕プロピオニル
〕オキシ〕エチルカーバメートをうる。融点１０３−１
０４５°ｃ。

同様にして、メチル−［［Ｄ−２−（４−ヒドロキシフ
ェノキシ）プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメート
よりメチル２−［［：＋−４（ｓ−りｏ　＃　−２−キ
ノキずリニル）オキシフエチルカーバメートをうる。融
点９３−９５℃。

上記に出発材料として用いたメチル２−［［２−（４−
ヒドロキシフェノキシ）プロピオニル〕オキシ〕エチル
カーバメートはっぎのように製造する。

９、０　ｇのメチル２−ヒドロキシエチルカーバメート
と６，７ｇのピリジンとを７０ｍ１のジエチルエーテル
に溶解しＯ−５℃に冷却する。’ｉｓ、ｏ、ｙ’の２−
ブロムゾロピオニルブロマイドを２０ｍのジエチルエー
テルに溶解し３０分で滴加し、水冷下にさらに６０分、
そして室温で１時間がくはんする。処理のためには、混
合物を水にあけ、ジエチルエーテルで抽出する。エーテ
ル相は塩化ナトリウム溶液で２度洗い、無水硫酸す）　
ＩＪウムで乾燥し、減圧で溶媒を発生させる。黄色油状
のメチル２−（２−ブロムゾロピオニルオキシ）エチル
カーバメートをうる。

２．８ｇのハイドロキノンモノベンジルエーテルと、３
．５６．！ｉ’のメチル２−（２−ブロムプロピオニル
オキシ）エチルカーバメートと、３．８７ｇの炭酸カリ
ウムと、６０ｄのアセトンとの混合物を２時間還流かく
はんする。冷却混合物を濾過し、濾液を蒸発させる。フ
ラッシュク目マドグラフィーのあとの残留物は、純メチ
ル−２−［［２−（４−ベンジルオキシフェノキシ）ゾ
ｉピオニル〕オキシ〕エチルカーバメートである。融点
７９−８１°Ｃｏそのｉ、ｏｇを１００１Ｌｌの酢酸エ
チルに溶解し、０．１ｇの５％パラジウム−炭の存在で
水素添力口する。４５分振ると水素の吸収は止まる。触
媒を濾去し、溶媒はロータリーエバポレーター上減圧留
去する。メチル２−［［２−（４−ヒドロキシフェノキ
シ）プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメートをうる
。ｎ、ｏ　　１．５００３゜メチル２−　〔〔ｐ　−２
−Ｃｐ　−［（６−クロル−２−キノキずリニル）オキ
シ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバ
メートに必要なり一出発材料はつぎのようにうろことが
できる、２．０ｇのＤ−２−（４−ヒドロキシフェノキ
シ）プロピオン酸を１３．ＩＪ９の塩化チオニルと１．
５時間加熱還流させる。過剰の塩化チオニルを留去し残
留物を高真空で乾燥する。得られる酸クロライドを２Ｏ
Ｎの塩化メチルに取り１．３ｇのピリジンで処理する。

１．３１１９のメチル２−ヒドロキシエチルカーバメー
トを２０ｍ１の塩化メチレンに含有する溶液を０から５
°Ｃで１５分かけて滴加し、混合物は室温で１夜反応さ
せる。処理に際しては混合物をロータリーエバポレータ
ー上で濃縮し、氷水にあける。混合物は酢酸エチルで２
度抽出し、抽出物を水および塩化す）　ＩＪウム溶液で
洗う。硫酸す）　ＩＪウムで乾燥し、蒸発させたあとの
粗生成物をクロマトグラフィー（シリカゲル）で精製す
る。メチル２−４ＣＤ−２−（４−ヒドロキシフェノキ
シ）プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメ−）を５る
。ｎ、ｏ　１．５２’　０１゜出発材料として上記に使
用の２，６−シクロルキノキずリンはつぎのように採取
しうる。

１、４４　ｇの水素化ナトリウム（９８％）を１０−の
ジメチルスルホキサイドに加える。１０．４ｇの４−ク
ロル−２−ニトロアニリンを４０ｍ１のジメチルスルホ
キサイドに含有する溶液を、温度が６０℃を超えないよ
うに滴加する。添加完了後、混合物はさらに３０分かく
はんし、１３．２５Ｊ／のエチルジェトキシアセテート
をすみやかに加える。

混合物は室温で１夜かくはんする。１５０ｍ１の水にあ
け、酢酸エチルで抽出する。抽出物は水洗し乾燥し、蒸
発させる。残留物をエタノール／水より再結する。４−
クロル−２，２−ジェトキシ−２′−ニトロアセトアニ
リドをうる。融点７４−７６℃。

同様Ｋ　して、４−フルオル−２−ニトロアニリンより
、４′−フルオル−２，２−ジェトキシ−クーニトロア
セトアニリドをうる。融点７８−８１０Ｃ６ ｏ、　ｓ　ｇノラネーニッケルを水素添加用のフラスコ
に入れ、５ＱｍＪのエタノールに懸濁させる。

７、６　Ｉｌの４′−クロル−２，２′−ジェトキシ−
２′−二トロアセトアニリドを加え、混合物は室温詣圧
で水素添力目する。２時間で水素吸収を終わる。吸引濾
過し、濾液を濃縮し、生成物を水で沈殿させる。４′−
クロル−２，２−ジェトキシ−２′−アミノアセトアニ
リドをうる。融点８９−９０００゜同様にして、４′−
フルオル−２，２−ジェトキシ−７−ニトロアセトアニ
リドより４′−フルオル−２，２−ジェトキシ−クーア
ミノアセトアニリドをうる。融点５１’　−５３℃。

１３６ｇの４′−クロル−２，２−ジェトキシ−２′−
アミノアセトアニリドを２０００ｍ１のエタノールに溶
解し、溶液を６３０　ｍｌの水で希釈する。

１６２ｙのＡｍｂｅｒｌｙｓｔ、　１５　（Ｆｌｕｋａ
　６６４２３　）を加えたあと、混合物は４時間かくは
ん還流させる。混合物は熱時濾過してＡｍｂｅｒｌｙｓ
ｔを除く。溶液を０℃に冷却し、晶出生成物を濾取する
。母液を濃縮し、析出結晶をさらに採取する。

黄色からベージュ色結晶生成物は、減圧８０°Ｃで乾燥
スる。２−ヒドロキシ−６−クロルキツキずリンをうる
。融点６２６℃。

同様にして、４′−フルオル−２，２−ジェトキシ−２
′−アミノアセトアニリドより２−ヒドロキシ−６−フ
ルオルキツキザリンをうる。Ｍ色３０４−６０５℃。

４５ｇの２−ヒドロキシ−６−クロルキツキずリンをス
ルホネーションフラスコ中で１００ｍ１のオキシ塩化リ
ンで処理する。混合物は２０分かくはん還流させる。過
剰のオキシ塩化リンを留去し残留物を５００ｒＩｔｌの
氷−水で処理する。生成物を濾取し、水洗して中性とす
る。エタノール／水より結晶化し、融点１５２℃の２．
６−シクロルキノキザリンをうる。

同様ニして、２−ヒドロキシ−６−フルオルキツキザリ
ンより２−クロル−６−フルオル−キノキサ゛リンをう
る。融点１５２°（／　０■　処方例 例ろ 乳化しうる濃厚物の製造のために、つぎの成分を混合す
る。

乳化しうる濃厚物１ 式ｌの活性物質　　　　　　　　　２５０ｇヒマシ油−
（２０）−エトキシレート　　５０ｇドデシルベンゼン
スルホン酸カルシウム　　　　　２５ｇエチルベンゼン
溶媒混合物　　　　１５０ｇＮ−メチル−２−ピロリド
ン加えて１０１００Ｏとする。

式ｌの活性物質　　　　　　　　　１２５ｇヒマシ油−
（２０）−エトキシレー）　　　　５０７９トテンルベ
ンゼンスルホン酸カルシウム　　　　　２５ｇＮ−メチ
ル−２−ピロリドンを加えて１０００罰とする。

得られる濃厚物（１または２）は水中で自動的に乳化す
る。生する乳化物は、すぐに用いうる噴霧液として適当
である。

例４ 噴霧用粉末製造のために、下記する成分を混合し、混合
物を微細化する。

式ｌの活性物質　　　　　　　　　　　２５水和けい酸
　　　　　　　　　　　　　　５アルキルフェノール−
（１２）−エトキシレート　　　　４ナトリウムポリカ
ルボキシレート　　　　　　　　　　　４けいそう±　
　　　　　　　　　　　　６２得られる粉末は水利性で
ある。生ずる懸濁液はすぐに用いうる噴霧液として適当
である。

例５ 散布用組成物を調製するために、下記する成分を混合し
微細化する。

重量パーセント 式ｌの活性物質　　　　　　　　　　１゜水利けい酸　
　　　　　　　　　　　７・５タルク　　　　　　　　
　　　　　　８２．５例６ 顆粒製造のために、つぎの成分を混合する。

重量一 式ｌの活性物質　　　　　　　　　　　５ジプロピレン
グリコール　　　　　　　　　　　　　５プミス石粒　
　　　　　　　　　　　９０代理人　浅　村　　　皓

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）一般式 〔ただし式中、Ａは、基（（転）または（１））（たた
   し式中、Ｒ５は、ハロゲン、Ｃ□−４−アルキル基、へ
   ロケゞン置換メチル基、Ｃ１−４−アルコキシ基または
   ハロケゝンー置換メトキシ基を表わし、Ｒ６は水素また
   は塩素を表わし　Ｒ７は水素または基糸を表わし、Ｒ８
   は塩素またはハロゲン−置換メチル基を表わし、Ｙは窒
   素または−ＣＨ＝を表わす）を表わし、Ｒ１は、水素、
   メチル基またはエチル基を表わし、Ｒ２は、水素、メチ
   ル基またはエチル基を表わし、Ｒ３は水素またはＣニー
   ４アルキル基を表わし、Ｒ４はＣ１−４−アルキル基ま
   たは−・ロゲンー置換Ｃ１−４−アルキル基を表わし、
   Ｘは酸素またはイオウを表わす〕を有する化合物。 （２）　　Ｒ５がハロゲン、Ｃニー４−アルキル基、ト
   リフルオルメチル基、Ｃ１−４−アルコキシ基、ジフル
   オルメトキシ基またはトリフルオルメトキシ基を表わし
   　Ｒ８が塩素またはトリフルオルメチル基を表わす、上
   記（１）項記載の化合物。 （３）Ａが、Ｙが窒素である式（ａ）の基を表わす、上
   記（１）または（２）項記載の化合物。 （４）　　ｘｈ′−酸素を表わす、上記（１）、（２）
   または（３）項記載の化合物。 （５）　　Ｒ”およびＲ３は水素を表わす、上記（１）
   から（４）項のいずれかに記載の化合物。 （６）　　Ｒ’がメチル基またはエチル基を表わす上記
   （１）から（５）項までのいずれかに記載の化合物。 （７）　　Ｒ５かフッ素、塩素またはトリフルオルメチ
   ル基である、上記（１）から（６）項までのいずれかに
   記載の化合物。 （８１Ｒ６か水素である、上記（１）から（力項までの
   いずれかに記載の化合物。 （９）　　Ｒ８が塩素またはトリフルオルメチル基であ
   る上記（１）から（６）項までのいずれかに記載の化合
   物。 ００）　　メチル２−Ｃ（２−Ｃｐ−（［６−クロル−
   ２−キノキずリニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニ
   ル〕オキシ〕エチルカーバメート。 （１１）　　メチル２−〔（２−Ｃｐ−［（６−クロル
   −２−キノキずリニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオ
   ニル〕オキシ〕プロピルカーバメート。 （１２１Ｄ−型である、上記（１）から００項までのい
   ずれかに記載の化合物。 Ｃ３）　メチル２−〔ＣＤ−２−Ｃｐ−４［５−（）リ
   フルオルメチル）−２−ピリジル〕オキシ〕フェノキン
   〕プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメート、エチル
   ２−［（Ｄ−２−（ｐ−（（５−（トリフルオルメチル
   ）−２−ピリジル〕オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル
   〕オキシ〕エチルカーバメート、メチル２−４ＣＤ−２
   −（ｐ−（［６−クロル−２−キノキずリニル）オキシ
   〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキシ〕−Ｎ−メチル−
   エチルカーバメート、エチル２−（（Ｄ−２−（ｐ−Ｃ
   Ｃ６−クロル−２−キノキずリニル）オキシ〕フェノキ
   シ〕プロピオニル〕オキシ）１−（エチル）エテルカー
   バメート、インブチル２−４［：Ｄ−２−（ｐ−Ｃ（６
   −クロル−２−キノキず１ノニル）オキシ〕フェノキシ
   〕プロピオニル〕オキシ〕エチルカーバメート、エチル
   ２−（’ＣＤ−２−ＣＤ−４Ｃ６−フルオル−２−キノ
   キザリニル）オキシ〕フェノキシ〕プロピオニル〕オキ
   シ〕エチルカーバメートおよびメチル２−［（ｐ−２−
   Ｃｐ−〔６−フルオル−２−キノキずリニル）オキシ〕
   フェノキシ］プロピオニル〕−オキシ〕プロピルカーバ
   メートより選択した化合物。 ０荀　ａ）　一般式 （たたし式中、Ａは上記（１）項に示した意味を有する
   〕の置換フェノキシ−プロピオン酸またはそれの反応性
   線導体と、一般式 （ （ただし式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＸは上記
   （１）項記載の意味を有し、Ｑは脱離基を表わす）の化
   合物とを反応させるか、または、 ｂ〕一般式 （たたし式中、Ａは上記（１）項に定義の意味を有する
   ）の化合物またはそのアルカリ金属塩と、一般（ただし
   式中、Ｑは脱離基を表わし　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４お
   よびＸは上記（１）項定義の意味を有する〕の化合物と
   を、もし必要ならば塩基の存在で反応させるか、または
   、 Ｃ）一般式 （ただし式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＸは上記
   （１）項記載の意味を有する）の化合物またはそのアル
   カリ金属塩と、一般式 ％式％ （ただし式中、Ａは上記（１）項の導（→または（ｂｌ
   を表わし、Ｚは〕・ロデン特に塩素またはフッ素を表わ
   す）の化合物とを反応させることを包含する、上記（１
   ）項の式Ｉの化合物の製造方法。 ０５１　　Ｒ’がハロゲン、Ｃニー４−アルキル基、ト
   リフルオルメチル基１．Ｃ１−４−アルコキシ基、クロ
   ルオルメトキシ基またはトリフルオルメトキシ基を表わ
   し　Ｒ８が塩素またはトリフルオルメチル基を表わす出
   発材料を用いる、上記０４項記載の方法。 （１６）上記（１）から０３）項に記載の化合物の少な
   くとも１棹類の有効量と処方用のアジュバントとを含有
   する、除草組成物。 （１７）　　Ｒ５がハロゲン、Ｃ１−４−アルキル基、
   トリフルオルメチルＭ、Ｃ１−４−アルコキシ基、ジフ
   ルオルメトキシまたはトリフルオルメトキシ基を表わし
   　Ｒｅが塩素またはトリフルオルメチル基を表わす化合
   物を含有する、上記（１６）項記載の除草組成物。 賭　上記け）から０３）項までに記載の化合物または上
   記０６）または（１７）項に記載の組成物のうちのひと
   つの有効量で雑草を処理することを包含する雑草の防除
   法。 （＋１　　Ｒ５がハロゲン、Ｃ１＝４−アルキル基、ト
   リフルオルメチル基、Ｃ１−４−アルコキシ基、ジフル
   オルメトキシ基またはトリフルオルメトキシ基を表わし
   　Ｒ８が塩素またはトリフルオルメチル基を表わす化合
   物で雑草を処理する、上記０８）項記載の方法。 （氾　上記（１）からＣ３）項までに記載の化合物また
   は上記（１６）または（１７）項にｇピ載の組成物のひ
   とつを雑草の防除に使用すること。 （２１）　　一般式 （ただし式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＸは上記
   （１）項記載の意味を有し、Ｑは（１４１項記載の意味
   を有する）を有する化合物。 （２２１一般式 （ただし式中、Ｒ１，Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＸは上記
   （１）項記載の意味を有し、ｗ′は水素または除去容易
   の基を表わす）を有する化合物。 （２３）式 （ただし式中　Ｒ５およびＲ６は上記（１）項に記載の
   意味を有する）を鳴する化合物と、式 （ただし式中、Ｒ′およびＲＩＯは、相互に独立してお
   り、選ぶならばハロゲン、低級アルコキシ基または低級
   アルキルチオ基、またはＣ２−Ｃ４−アシル基（たとへ
   はアセチル基またはプロピオニル基）で置換されていて
   よい１．　Ｃ１−Ｃ６−アルキル基を表わし、また　Ｒ
   ９およびＲＩＯはあわせて、２から３炭素原子数のアル
   キレン基を表わしてもよいとする）の基を与える化合物
   と反応させ、式（ただし式中　Ｒ５およびＲ６は上記（
   １）項に示した意味を有する）のアミドとし、そして、
   選ぶならば、弐■の化合物中のニトロ基を還元してアミ
   ノ基とし、基−Ｘ−Ｒ’および−Ｘ　ＲＩＯを除去し、
   閉環下は式Ｉの化合物を形成さすことを包含する、式Ｒ
   ’ の化合物の製造方法。 しａ　上記（１４）または（１５１項の方法、または、
   それらに化学的に相嶋する方法により製造した、上記（
   １）から（１３項までのいずれかに記載の化合物。