JPS5911668B2 - ステンレスの化学研摩浴 - Google Patents
ステンレスの化学研摩浴Info
- Publication number
- JPS5911668B2 JPS5911668B2 JP14804476A JP14804476A JPS5911668B2 JP S5911668 B2 JPS5911668 B2 JP S5911668B2 JP 14804476 A JP14804476 A JP 14804476A JP 14804476 A JP14804476 A JP 14804476A JP S5911668 B2 JPS5911668 B2 JP S5911668B2
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- JP
- Japan
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- acid
- polishing
- stainless steel
- bath
- chemical polishing
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- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はステンレス、特にオーステナイト系及びフェラ
イト系ステンレス材料並びにそれらの加工品の化学研摩
浴に関する。
イト系ステンレス材料並びにそれらの加工品の化学研摩
浴に関する。
従来、ステンレスの光輝仕上げとしては、パラ研摩によ
る機械仕上げや電解研摩法が実用されて来た。
る機械仕上げや電解研摩法が実用されて来た。
然しながら形状の複雑なものや小物品等に対しては、こ
れらのカコエ法は適用し難く実施したとしても局部的な
光輝ムラを生じたり多大の労力と時間を要し経済性に劣
るなど種々の難点があり、最近この様な物品に関しては
、化学研摩法が開発されつつある。化学研摩法は化学薬
品溶液により金属、合金の表面に光沢を与えかつ平滑に
する方法であつで金５ 属、合金製品を適当な薬品溶液
中に浸漬するという簡単な操作によつて美しい表面を得
ることができる。
れらのカコエ法は適用し難く実施したとしても局部的な
光輝ムラを生じたり多大の労力と時間を要し経済性に劣
るなど種々の難点があり、最近この様な物品に関しては
、化学研摩法が開発されつつある。化学研摩法は化学薬
品溶液により金属、合金の表面に光沢を与えかつ平滑に
する方法であつで金５ 属、合金製品を適当な薬品溶液
中に浸漬するという簡単な操作によつて美しい表面を得
ることができる。
この方法の特長は操作の簡易性にあり機械的、電気的作
業が不必要で、製品をただ液の中に短時間浸すだけで複
雑な形状を有するもの或は小１０物品等に対しても光沢
平滑面が得られることにある。従来、ステンレスの化学
研摩浴は、リン酸、塩酸、硝酸もしくは塩酸、硝酸、フ
ッ酸等に場合により硫酸を添加した無機酸混合水溶液に
、フェノ１５−ル、キノリン、ナフタレン、ニトロ基又
はジメチルアミノ基を有する芳香族化合物、酢酸・酒石
酸あるいはスルホサリ千ル酸等の有機酸、ポリエチレン
グリコール・ポリビニルアルコール等の高分子状物質、
アルキルピリジン化合物、あるいは２０ポリオキシエチ
レンラウリルエーテル等のカチオン又はアニオン活性剤
等の各種物質を添加した化学研摩浴が提案されている。
業が不必要で、製品をただ液の中に短時間浸すだけで複
雑な形状を有するもの或は小１０物品等に対しても光沢
平滑面が得られることにある。従来、ステンレスの化学
研摩浴は、リン酸、塩酸、硝酸もしくは塩酸、硝酸、フ
ッ酸等に場合により硫酸を添加した無機酸混合水溶液に
、フェノ１５−ル、キノリン、ナフタレン、ニトロ基又
はジメチルアミノ基を有する芳香族化合物、酢酸・酒石
酸あるいはスルホサリ千ル酸等の有機酸、ポリエチレン
グリコール・ポリビニルアルコール等の高分子状物質、
アルキルピリジン化合物、あるいは２０ポリオキシエチ
レンラウリルエーテル等のカチオン又はアニオン活性剤
等の各種物質を添加した化学研摩浴が提案されている。
然しながらこれらの添加剤はオーステナイト系ステンレ
スにのみ効果を有し良好な光沢が得られるが、フェライ
ト系ス２５チッレスに於てはスマツト付着はないものの
レベリング（平滑化）も充分でなく未だ満足な光沢は得
られない。更にこれらの研摩浴は８０℃以上の浴温で処
理しなければ所望の平滑光沢面が得られず、また硝酸、
塩酸又はフッ酸は浴温が高いと蒸３０発が多く浴組成の
バランスが崩れ易い。更にまた、一般にこれらの浴は浴
寿命が短かく特に無機酸の中でも高価なリン酸を含有す
る研摩浴では著しく不経済である。またリン酸を含有し
ない浴例えば塩酸、硝酸、フッ酸の浴ではリン酸を含有
する浴ｘに比べて光沢が劣り、ピツキングや光沢ムラが
発生し易い。また更に芳香族ジメチルアミノ化合物を含
有する研摩浴では浴が着色し廃液処理に難点があるなど
種々の欠点を有し、未だ実用的な化学研摩浴は工業的Ｊ
こ汎用されていないのが現状である。本発明は７Ｓ）か
る従来の欠点を解消しオーステナイト系及びフエラライ
ト系のいずれのステンレスをもピツチングや光沢ムラな
く表面を平滑化し優れた光沢面に仕上げ且つ浴寿命の著
しく長い化学研摩浴を提供するものである。
スにのみ効果を有し良好な光沢が得られるが、フェライ
ト系ス２５チッレスに於てはスマツト付着はないものの
レベリング（平滑化）も充分でなく未だ満足な光沢は得
られない。更にこれらの研摩浴は８０℃以上の浴温で処
理しなければ所望の平滑光沢面が得られず、また硝酸、
塩酸又はフッ酸は浴温が高いと蒸３０発が多く浴組成の
バランスが崩れ易い。更にまた、一般にこれらの浴は浴
寿命が短かく特に無機酸の中でも高価なリン酸を含有す
る研摩浴では著しく不経済である。またリン酸を含有し
ない浴例えば塩酸、硝酸、フッ酸の浴ではリン酸を含有
する浴ｘに比べて光沢が劣り、ピツキングや光沢ムラが
発生し易い。また更に芳香族ジメチルアミノ化合物を含
有する研摩浴では浴が着色し廃液処理に難点があるなど
種々の欠点を有し、未だ実用的な化学研摩浴は工業的Ｊ
こ汎用されていないのが現状である。本発明は７Ｓ）か
る従来の欠点を解消しオーステナイト系及びフエラライ
ト系のいずれのステンレスをもピツチングや光沢ムラな
く表面を平滑化し優れた光沢面に仕上げ且つ浴寿命の著
しく長い化学研摩浴を提供するものである。
本発明に係るステンレス化学研摩浴は、
１ （１）塩酸；（２）硝酸；（３）必要に応じリン酸
、フツ酸および硫酸の少なくＬも１種：及び（４）ポリ
ビニルピリジン水溶性誘導体の少なくとも１種を含有せ
しめた溶液、及びｌ 上記（１）〜（４）の成分に更に
ポリアミンスルホンの少なくとも１種を含有せしめた溶
液である。
、フツ酸および硫酸の少なくＬも１種：及び（４）ポリ
ビニルピリジン水溶性誘導体の少なくとも１種を含有せ
しめた溶液、及びｌ 上記（１）〜（４）の成分に更に
ポリアミンスルホンの少なくとも１種を含有せしめた溶
液である。
本発明に於て使用するポリビニルピリジン水溶性誘導体
は次式＼ノ 〔式中Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基又は了リル基；
Ｒ，は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基；Ｘはハ
ロゲン原子を示す〕、又はｒ
）〔式中ｐは３又は４；Ｒ，は上記に同じ
〕で表わされる繰返し単位を有するポリビニルピリジン
誘導体であり、たとえばポリビニルピリジンをアルキル
ハライド等公知の４級化剤で４級化するかスルトンを用
いて処理することにより得られる。
は次式＼ノ 〔式中Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基又は了リル基；
Ｒ，は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基；Ｘはハ
ロゲン原子を示す〕、又はｒ
）〔式中ｐは３又は４；Ｒ，は上記に同じ
〕で表わされる繰返し単位を有するポリビニルピリジン
誘導体であり、たとえばポリビニルピリジンをアルキル
ハライド等公知の４級化剤で４級化するかスルトンを用
いて処理することにより得られる。
その好ましい具体例を挙げれば下記の通りである。（１
） ２−ビニルピリジンの重合体をヨウ化エチルで４級
化したもの（２） ２−メチル−５−ビニルピリジンの
重合体を臭化アリルで４級化したもの〜 （３） ４−ビニルピリジンの重合体を臭化ブチルで４
級化したものｒ 〕 ＼ν４鳳▲９ノ （４） ２−ビニルピリジンの重合体をプロパンスルト
ンで処理したものｒ 〕 （ノ 本発明に於ては、上記のポリビニルピリジン水溶性誘導
体の平均分子量１，０００〜４００，０００のものが使
用され、５，０００〜８０，０００のものが特に好まし
い。
） ２−ビニルピリジンの重合体をヨウ化エチルで４級
化したもの（２） ２−メチル−５−ビニルピリジンの
重合体を臭化アリルで４級化したもの〜 （３） ４−ビニルピリジンの重合体を臭化ブチルで４
級化したものｒ 〕 ＼ν４鳳▲９ノ （４） ２−ビニルピリジンの重合体をプロパンスルト
ンで処理したものｒ 〕 （ノ 本発明に於ては、上記のポリビニルピリジン水溶性誘導
体の平均分子量１，０００〜４００，０００のものが使
用され、５，０００〜８０，０００のものが特に好まし
い。
１，０００未満の低分子量のものは同程度の光沢を得る
のに多量の添加量を必要とし、また高分子量のもの程添
加量は少量で良いが、分子量が４００，０００を越える
と異常吸着を起し光沢ムラを生ずることがあるので好ま
しくない。
のに多量の添加量を必要とし、また高分子量のもの程添
加量は少量で良いが、分子量が４００，０００を越える
と異常吸着を起し光沢ムラを生ずることがあるので好ま
しくない。
尚、ポリビニルピリジンのベースポリマーは酸性溶液に
可溶でその光沢付与効果は多少認められるが、相当する
上記の水溶性誘導体より効果が著しく劣る。本発明の化
学研摩浴に於て無機酸はステンレスを溶解せしめるため
の基本成分であり、特に塩酸及び硝酸は必須不可欠の基
本成分である。
可溶でその光沢付与効果は多少認められるが、相当する
上記の水溶性誘導体より効果が著しく劣る。本発明の化
学研摩浴に於て無機酸はステンレスを溶解せしめるため
の基本成分であり、特に塩酸及び硝酸は必須不可欠の基
本成分である。
研摩浴の組成は要求される研摩効果（光沢度および平滑
度）の水準によつて定められ、塩酸及び硝酸の他に必要
に応じてリン酸、フツ酸及び硫酸の少なくとも１種が更
に選択使用される。一般にプレス打抜によるバリ取りや
打傷を除去し光沢度よりも平滑度を重視した一定の仕上
りが要求される場合は塩酸・硝酸・フツ酸系浴が用いら
れ、また時計バンドやナイフ、スプーン等の電解研摩に
相当する光沢度が必要な場合は塩酸・硝酸・リン酸系浴
が適当である。各種組成の研摩浴における無機酸の配合
量は場合により異なるが、例えば（ａ）塩 酸（濃度３
５％） ５０〜２４０９／ｌ硝 酸（濃度６５％） ４
０〜２１０９／／リン酸（濃度８５ｆ）） １３０〜７
８０み々又は硫酸（濃度９８（Ｆｆ）） １０〜５５
９／１１（ｂ）塩 酸（濃度３５％） ５０〜３００
９／！硝 酸（濃度６５０ｔ）） ４０〜２１０９／
ｌフツ酸（濃度５０％） ２０〜２００ｆ！／ｌ又は硫
酸（濃度９８％） ５０〜３５０９／ｌ等の混合組
成で通常使用される（なお以下において特に規定しない
限り各無機酸は上記に表示した濃度のものを使用するも
のとする）。
度）の水準によつて定められ、塩酸及び硝酸の他に必要
に応じてリン酸、フツ酸及び硫酸の少なくとも１種が更
に選択使用される。一般にプレス打抜によるバリ取りや
打傷を除去し光沢度よりも平滑度を重視した一定の仕上
りが要求される場合は塩酸・硝酸・フツ酸系浴が用いら
れ、また時計バンドやナイフ、スプーン等の電解研摩に
相当する光沢度が必要な場合は塩酸・硝酸・リン酸系浴
が適当である。各種組成の研摩浴における無機酸の配合
量は場合により異なるが、例えば（ａ）塩 酸（濃度３
５％） ５０〜２４０９／ｌ硝 酸（濃度６５％） ４
０〜２１０９／／リン酸（濃度８５ｆ）） １３０〜７
８０み々又は硫酸（濃度９８（Ｆｆ）） １０〜５５
９／１１（ｂ）塩 酸（濃度３５％） ５０〜３００
９／！硝 酸（濃度６５０ｔ）） ４０〜２１０９／
ｌフツ酸（濃度５０％） ２０〜２００ｆ！／ｌ又は硫
酸（濃度９８％） ５０〜３５０９／ｌ等の混合組
成で通常使用される（なお以下において特に規定しない
限り各無機酸は上記に表示した濃度のものを使用するも
のとする）。
上記の如き無機酸混合水溶液に対しポリビニルピリジン
水溶性誘導体を０．１〜１０９／ｌ添加した浴を６０〜
１００℃に加温し、被研摩体を１〜１０分間浸漬後、水
洗、中和することによつてステンレスの表面を一定の光
輝ある平滑面に仕上げることができる。
水溶性誘導体を０．１〜１０９／ｌ添加した浴を６０〜
１００℃に加温し、被研摩体を１〜１０分間浸漬後、水
洗、中和することによつてステンレスの表面を一定の光
輝ある平滑面に仕上げることができる。
本発明に使用するポリビニルピリジン水溶性誘導体は塩
素、フツ素等のハロゲンイオンによる局部腐食を抑制し
、かつ被研摩体の表面に吸着しスマツトを除去しつつ表
面の均一溶解を促進せしめ光輝性の向土に優れた効果を
もたらすものと推考される。
素、フツ素等のハロゲンイオンによる局部腐食を抑制し
、かつ被研摩体の表面に吸着しスマツトを除去しつつ表
面の均一溶解を促進せしめ光輝性の向土に優れた効果を
もたらすものと推考される。
上記の如くポリビニルピリジン水溶性誘導体を含有する
Ｉの組成の化学研摩浴によつて充分満足すべき研摩効果
が得られるが、ポリビニルピリジン水溶性誘導体に更に
ポリアミンスルホンを含有せしめたＨの組成の化学研摩
浴を用いることにより更に一層優れた平滑及び光輝効果
を得ることができる。
Ｉの組成の化学研摩浴によつて充分満足すべき研摩効果
が得られるが、ポリビニルピリジン水溶性誘導体に更に
ポリアミンスルホンを含有せしめたＨの組成の化学研摩
浴を用いることにより更に一層優れた平滑及び光輝効果
を得ることができる。
上記の組成の化学研摩浴に於て使用するポリアミンスル
ホンは次式） ＼ Ａ 〔式中、Ｎはシクロアミン：Ｒ１およびＲ２は同一又は
相異つて、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アリ
ル基、ベンジル基又は一ＣＨ２ＣＯＯＲ／；ｎはＯ又は
１〜８の整数；ｍは５〜５０００の整数；Ｘはハロゲン
原子、−ＳＯ３Ｒ′又は−０Ｓ０３Ｒ′；Ｒ′は水素原
子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す〕で表わされる
化合物であり、その好ましい具体例を挙げれば下記の通
りである。
ホンは次式） ＼ Ａ 〔式中、Ｎはシクロアミン：Ｒ１およびＲ２は同一又は
相異つて、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アリ
ル基、ベンジル基又は一ＣＨ２ＣＯＯＲ／；ｎはＯ又は
１〜８の整数；ｍは５〜５０００の整数；Ｘはハロゲン
原子、−ＳＯ３Ｒ′又は−０Ｓ０３Ｒ′；Ｒ′は水素原
子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す〕で表わされる
化合物であり、その好ましい具体例を挙げれば下記の通
りである。
ポリアミンスルホンはステンレス鋼の合金成分である鉄
、クロム、ニツケル等の金属結晶の選択的溶解を抑制し
、表面のレベリングに優れた作用を与え、更に処理する
につれポリアミンスルホンの一部が分解して生成するシ
クロアミン誘導体が表面に吸着され、これがさらに局部
的な酸腐食を抑制する結果となり、無機酸及びポリビニ
ルピリジン水溶性誘導体の効果と相まつてステンレス鋼
表面の均一な溶解と光輝性の向上に優れた効果を示すも
のと推考される。
、クロム、ニツケル等の金属結晶の選択的溶解を抑制し
、表面のレベリングに優れた作用を与え、更に処理する
につれポリアミンスルホンの一部が分解して生成するシ
クロアミン誘導体が表面に吸着され、これがさらに局部
的な酸腐食を抑制する結果となり、無機酸及びポリビニ
ルピリジン水溶性誘導体の効果と相まつてステンレス鋼
表面の均一な溶解と光輝性の向上に優れた効果を示すも
のと推考される。
ポリアミンスルホンは一般にジアリルアミンの誘導体と
二酸化硫黄とのラジカル重合触媒存在下の共重合によつ
て合成することができる。
二酸化硫黄とのラジカル重合触媒存在下の共重合によつ
て合成することができる。
本発明に於て使用するポリアミンスルホンは重合度が５
〜５０００のもので特に１０〜２０００のものが好まし
い。重合度が５に達しないものは賦光沢作用は認められ
るがレベリング作用が充分に得られず、重合度が５００
０を越えるものでは増粘性が強くこのため表面に粘着層
を生成し、充分な水洗を要するなど後処理が困難となる
。本発明の化学研摩浴は、従来公知の研摩浴に比して浴
寿命が著しく長いこともその特徴の１つであり、例えば
前記の芳香族ジメ手ルアミノ化合物あるいはアルキルピ
リジン化合物を含有する研摩浴では、研摩処理量は１２
〜１５ｄｍ２／ｌが限界あり、その後は無機酸あるいは
添加剤を補給しても初期の研摩効果は回復し得ないのに
対し、本発明の研摩浴によれば無機酸を補給するのみで
使用初期の効果を一定に持続しつつ３５〜４０ｄｒｎ２
４の処理量が可能となり、従来の化学研摩コストを大幅
に低減することができる。
〜５０００のもので特に１０〜２０００のものが好まし
い。重合度が５に達しないものは賦光沢作用は認められ
るがレベリング作用が充分に得られず、重合度が５００
０を越えるものでは増粘性が強くこのため表面に粘着層
を生成し、充分な水洗を要するなど後処理が困難となる
。本発明の化学研摩浴は、従来公知の研摩浴に比して浴
寿命が著しく長いこともその特徴の１つであり、例えば
前記の芳香族ジメ手ルアミノ化合物あるいはアルキルピ
リジン化合物を含有する研摩浴では、研摩処理量は１２
〜１５ｄｍ２／ｌが限界あり、その後は無機酸あるいは
添加剤を補給しても初期の研摩効果は回復し得ないのに
対し、本発明の研摩浴によれば無機酸を補給するのみで
使用初期の効果を一定に持続しつつ３５〜４０ｄｒｎ２
４の処理量が可能となり、従来の化学研摩コストを大幅
に低減することができる。
なお本発明の化学研摩浴に前記の如き公知の各種添加剤
を併用することができる。
を併用することができる。
例えば増粘剤として公知のポリエチレングリコール、ポ
リビニルアルコール等を併用することにより光沢の向上
が認められる。以下、実験例を挙げて本発明を更に詳細
に説明する。
リビニルアルコール等を併用することにより光沢の向上
が認められる。以下、実験例を挙げて本発明を更に詳細
に説明する。
実験例 １
オーステナイト系ステンレス鋼（ＳＵＳ３Ｏ４）及びフ
エライト系ステンレス鋼（ＳＵＳ４３Ｏ）の２Ｂ仕上げ
圧延板（厚さ０．５ｍｍ）を５×１０ｃｍの大きさに切
断し、常法によりアルカリ脱脂して試料とした。
エライト系ステンレス鋼（ＳＵＳ４３Ｏ）の２Ｂ仕上げ
圧延板（厚さ０．５ｍｍ）を５×１０ｃｍの大きさに切
断し、常法によりアルカリ脱脂して試料とした。
８０℃に加温した第１表に記載の各種組成の化学研摩浴
に試料を２分間浸漬した後、水洗、中和、乾燥した。
に試料を２分間浸漬した後、水洗、中和、乾燥した。
なお比較のため従来公知の添加剤を使用した第１表記載
の研摩浴により上記と同様にして試料を処理した。
の研摩浴により上記と同様にして試料を処理した。
かくして得られた処理試料につき研摩効果を測定した結
果を第２表に記載する。
果を第２表に記載する。
研摩効果の評価は下記項目について実施した。
（１）反射率東洋理化工業株式会社製変角光沢計ＵＧ−
１型を用いて測定し、標準板の反射率を１００％としこ
れに対する相対値を以て処理試料の反射率を表示した。
１型を用いて測定し、標準板の反射率を１００％としこ
れに対する相対値を以て処理試料の反射率を表示した。
（２）スマツト付着
スマツトの付着状態を観察し下記の３段階を以て表示し
た。
た。
０・・・・・・完全に付着せず
Δ・・・・・・若干付着
×・・・・・・表面黒く多量に付着
実験例 ２
第３表に記載する組成の化学研摩浴を用い実験例１と同
様に処理した。
様に処理した。
また比較のため公知の添加剤（第３表に記載する）を含
有する化学研摩浴を用いて同様に処理した。
有する化学研摩浴を用いて同様に処理した。
これらの処理試料の評価結果を第４表に記載する。
上記各表の結果よりリン酸・塩酸・硝酸系（第１表）お
よび塩酸・硝酸・フツ酸又は硫酸系（第３表）のいずれ
の組成の無機酸混合液においてもポリビニルピリジン水
溶性誘導体を含有する研摩浴（１〜５および８〜１２）
により化学研摩した製品は、公知の添加剤を使用した研
摩浴（６〜７および１３）によるものに比べ優れた研摩
効果を有することが認められる。
よび塩酸・硝酸・フツ酸又は硫酸系（第３表）のいずれ
の組成の無機酸混合液においてもポリビニルピリジン水
溶性誘導体を含有する研摩浴（１〜５および８〜１２）
により化学研摩した製品は、公知の添加剤を使用した研
摩浴（６〜７および１３）によるものに比べ優れた研摩
効果を有することが認められる。
実験例 ３
あらかじめエメリーバフしたＳＵＳ４３Ｏのスプーンを
下記組成の化学研摩浴に６５℃にて５分間浸漬し、マス
ツトが少なくピツチングの見られない優れた金属光沢面
を有する研摩品が得られた。
下記組成の化学研摩浴に６５℃にて５分間浸漬し、マス
ツトが少なくピツチングの見られない優れた金属光沢面
を有する研摩品が得られた。
実験例 ４第５表に記載する組成の研摩浴を９０〜９５
℃に加温し、試料を２分間浸漬後水洗、中和し乾燥した
。
℃に加温し、試料を２分間浸漬後水洗、中和し乾燥した
。
なおレベリング測定する試料はあらかじめエメリーペー
パ一で一定方向に研摩した後脱脂したものを試料とした
。これらの処理試料の評価結果を第６表に記載する。
パ一で一定方向に研摩した後脱脂したものを試料とした
。これらの処理試料の評価結果を第６表に記載する。
なお表面アラサは表面アラサ計（小阪研究所製３Ｅ−３
Ｃ型）にて測定し、中心線表面アラサＲａで表示した。
また処理能力は試料（ＳＵＳ３Ｏ４）を一定処理条件（
８３〜８７℃，２分）にて反射率７０％以上の光沢が得
られる処理量（ｄ♂／ｌ）を以て判定した。
Ｃ型）にて測定し、中心線表面アラサＲａで表示した。
また処理能力は試料（ＳＵＳ３Ｏ４）を一定処理条件（
８３〜８７℃，２分）にて反射率７０％以上の光沢が得
られる処理量（ｄ♂／ｌ）を以て判定した。
尚、比較のため公知の添加剤を含有せしめた第７表に記
載する組成の研摩浴を用い実験例４に準じて処理し、そ
の評価結果を第８表に記載する。
載する組成の研摩浴を用い実験例４に準じて処理し、そ
の評価結果を第８表に記載する。
上記各表の結果より本発明に係る研摩浴（滝１４〜１９
）により化学研摩した製品は、公知の添加剤を使用した
研摩浴（滝２０〜２３）によるものに比べ格段に優れた
研摩効果を示し、また研摩浴寿命も著しく長くなし得る
ことが認められる。なお本発明の研摩浴においてポリア
ミンスルホンをポリビニルピリジン水溶性誘導体と併用
することにより更に高い相乗的研摩効果を示すことが認
められる。実験例 ５ あらかじめ脱脂したＳＵＳ３Ｏ４の時計バンドを下記組
成の化学研摩浴に７５℃にて５分間浸漬することにより
均一かつ優れた金属面を有する研摩品が得られた。
）により化学研摩した製品は、公知の添加剤を使用した
研摩浴（滝２０〜２３）によるものに比べ格段に優れた
研摩効果を示し、また研摩浴寿命も著しく長くなし得る
ことが認められる。なお本発明の研摩浴においてポリア
ミンスルホンをポリビニルピリジン水溶性誘導体と併用
することにより更に高い相乗的研摩効果を示すことが認
められる。実験例 ５ あらかじめ脱脂したＳＵＳ３Ｏ４の時計バンドを下記組
成の化学研摩浴に７５℃にて５分間浸漬することにより
均一かつ優れた金属面を有する研摩品が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ （１）塩酸；（２）硝酸；（３）必要に応じリン酸
、フッ酸および硫酸の少なくとも１種を基本成分とする
無機酸混合水溶液にポリビニルピリジン水溶性誘導体の
少なくとも１種を含有せしめたことを特徴とするステン
レスの化学研摩浴。 ２ （１）塩酸；（２）硝酸；（３）必要に応じリン酸
、フッ酸および硫酸の少なくとも１種を基本成分として
含有する無機酸混合水溶液にポリビニルピリジン水溶性
誘導体の少なくとも１種、及びポリアミンスルホンの少
なくとも１種を含有せしめたことを特徴とするステンレ
スの化学研摩浴。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14804476A JPS5911668B2 (ja) | 1976-12-08 | 1976-12-08 | ステンレスの化学研摩浴 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14804476A JPS5911668B2 (ja) | 1976-12-08 | 1976-12-08 | ステンレスの化学研摩浴 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5371639A JPS5371639A (en) | 1978-06-26 |
| JPS5911668B2 true JPS5911668B2 (ja) | 1984-03-16 |
Family
ID=15443866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14804476A Expired JPS5911668B2 (ja) | 1976-12-08 | 1976-12-08 | ステンレスの化学研摩浴 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5911668B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6328472U (ja) * | 1986-04-26 | 1988-02-24 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4508602B2 (ja) * | 2003-10-27 | 2010-07-21 | 株式会社北陸濾化 | 鉄を主成分とする合金の化学研磨剤及びこれを用いた鉄を主成分とする合金の表面処理方法 |
| JP6470910B2 (ja) * | 2014-04-11 | 2019-02-13 | 株式会社Ｋｖｋ | 水栓部用部品 |
| JP2019143169A (ja) * | 2018-02-15 | 2019-08-29 | フジテクノ株式会社 | ステンレス鋼製容器内面の表面処理方法、および、飲料サーバーの使用方法 |
| JP2019143170A (ja) * | 2018-02-15 | 2019-08-29 | フジテクノ株式会社 | ディスペンスヘッド構成部品の表面処理方法、ディスペンスヘッドの組立方法、および、飲料サーバーの使用方法 |
-
1976
- 1976-12-08 JP JP14804476A patent/JPS5911668B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6328472U (ja) * | 1986-04-26 | 1988-02-24 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5371639A (en) | 1978-06-26 |
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