JPS59109234A - 真空試料室 - Google Patents

真空試料室

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Publication number
JPS59109234A
JPS59109234A JP21830882A JP21830882A JPS59109234A JP S59109234 A JPS59109234 A JP S59109234A JP 21830882 A JP21830882 A JP 21830882A JP 21830882 A JP21830882 A JP 21830882A JP S59109234 A JPS59109234 A JP S59109234A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample chamber
vacuum
wall
metal gasket
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP21830882A
Other languages
English (en)
Inventor
Kohei Hori
堀 光平
Akira Kudo
工藤 章
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP21830882A priority Critical patent/JPS59109234A/ja
Publication of JPS59109234A publication Critical patent/JPS59109234A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J3/00Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
    • B01J3/006Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 この発明は例えば超LSI等の微細/JO工装置に好適
な真空試料室に関する。
〔従来技術とその問題点〕
一般的な真空試料室の構造としては第1図に示すように
、例えば移動方向の案内4によって移動可能なように支
持されたテーブル3の上に試料2が載置された装置にお
いて、試料室1の外部から直巌導入機7等によって真空
内部のテーブル3を駆動する場合の真空シールとしては
、メタルガスケットフランジ5に枝管8を付けそれを試
料室lの壁に溶接してガスケット6で真空シールしてい
る。
上記の方法だと真空シール而が試料室の外壁より長く突
き出た構造となり、装置全体が大型になる。そして真空
排気時間が長くかかることや組立。
調整工程において、メタルガスケットフランジシール而
のエツジ部に傷を付けやすいといった欠点があった。又
、試料室全体に種々用途のカバー等をする場合長く突き
出た枝管付きメタルガスケットフランジが障害となり、
複雑な形状のカバーとなり設計・製作が非常に難しくな
っていた。
〔発明の目的〕
この発明は上述した従来装置の欠点を改良したもので、
装置全体を小型化することのできる真空試料室を提供す
ることを目的とする。
〔発明の概要〕
この発明は超LSI、スパッター装置等の色々な用途に
使用される真空試料室において、真空シール用メタルガ
スケットフランジを取付可能な肉厚を有する試料室の壁
中に、外壁面よりへこませた状態で試料室に溶接構成し
たものである。
〔発明の効果〕
本発明によれば、真空シール用メタルガスケットフラン
ジを試料室の壁中に取付けているから、装置全体が小型
化になり、真空排気時間も短くなった。又、メタルガス
ケットフランジシール面のエツジ部にも傷を付けにぐい
構造となり、種々用途のカバー等の取付構成も簡単にな
った。
〔発明の実施例〕
次に図面を用いて本発明の詳細な説明する。
第2図に示すように、真空試料室lの内部に移動方向の
案内4によって移動可能なように支持されたテーブル3
の上に試料2が載置された装置において、試料室lの外
部から直線導入機7等によって真空内部のテーブル3を
駆動している。そして真空シール用メタルガスケットフ
ランジ5を試料室lの外壁面よりへこませた状態で溶接
構成し、ガスケット6で真空シールしている。
このように試料室の壁中にメタルガスケットフ(3) 8・・・枝管 ランジを組込むことによって、装置全体が小型化される
ことによる波及効果もあり、実用性の高い真空用試料室
を達成することができる。
〔発明の他の実施例〕
上記実施例によると駆動部との接続に真空シール用メタ
ルガスケットフランジを使用しているが、他に試料室の
壁中に上記実施例のようにメタルガスケットフランジを
数箇所設けて、各々電流導入端子、のぞき窓、真空計、
バルブ等を接続する事も可能である。要するに本発明は
その要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施すること
が可能である。
【図面の簡単な説明】
1第1図は従来の真空試料室の構造の1例を示す構成図
、第2図は本発明の一実施例の真空試料室を示す構成図
である。 l・・・試料室     2・・・試料3・・・テーブ
ル    4・・・案内5・・・メタルガスケットフラ
ンジ 6・・・ガスケット   7・・・面線導入機(4) 第  1  図 代理人升埋士 則近憲佑(ほか1名) t5)            1・ 第  2  図 / 1 乙 ? □  5 4−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 真空の状態で試料への加工、検査及び試験等を行なうべ
    く機構を供えた試料室において、試料室の壁中に真空シ
    ール用メタルガスケットフランジを外壁面に設けた凹部
    に配置したことを特徴とする真空試料室。
JP21830882A 1982-12-15 1982-12-15 真空試料室 Pending JPS59109234A (ja)

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