JPS59107166A - エキスペラ - Google Patents

エキスペラ

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Publication number
JPS59107166A
JPS59107166A JP21931783A JP21931783A JPS59107166A JP S59107166 A JPS59107166 A JP S59107166A JP 21931783 A JP21931783 A JP 21931783A JP 21931783 A JP21931783 A JP 21931783A JP S59107166 A JPS59107166 A JP S59107166A
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JP
Japan
Prior art keywords
weir
expeller
solution
heating
expeller according
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Pending
Application number
JP21931783A
Other languages
English (en)
Inventor
ベルント・グロモル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens Schuckertwerke AG
Siemens AG
Original Assignee
Siemens Schuckertwerke AG
Siemens AG
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Publication date
Application filed by Siemens Schuckertwerke AG, Siemens AG filed Critical Siemens Schuckertwerke AG
Publication of JPS59107166A publication Critical patent/JPS59107166A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D1/00Evaporating
    • B01D1/26Multiple-effect evaporating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D1/00Evaporating
    • B01D1/0088Cascade evaporators
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D1/00Evaporating
    • B01D1/04Evaporators with horizontal tubes
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F25REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
    • F25BREFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
    • F25B33/00Boilers; Analysers; Rectifiers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Catching Or Destruction (AREA)
  • Valve Device For Special Equipments (AREA)
  • Endoscopes (AREA)
  • Threshing Machine Elements (AREA)
  • Devices For Use In Laboratory Experiments (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の洟する技術分野〕 本発明は、直列に連結された段に分−〇された溶製誘導
系と、溶液の流れ方向(C見て最後の段が加熱媒体流入
口に設けられた加熱管系とを備え、溶液中に溶解した媒
質:を分離するだめのエキスペラ、特に吸収熱ポンプ′
用のエキスペラ(再生器)K関する。
〔従来技術〕 明確な溶液誘導がなく静止した充満溶液をもったエキス
ペラは知られている。このエキスペラは、横または縦に
置かれ溶液が充填されたボイラーとして構成され、加熱
系はボイラーの中にある。これは大きな溶液容重をもち
、長期間停止後の始動Qて際して、溶1g、を刀日熱す
るのにかなりの長め起動時間を必要とする。たとえば冷
却水温度か変化した場合や蒸発温度の変化の場合のよう
に変化した運転条件への適合にも長い時開を心安とする
。このエキスペラの利点は、この大きな充填溶液が、加
il!!蒸気圧および蒸気型の変動の際にも均一で安定
な運転を可能とする点にあり、それはこの充填溶液が平
均して作用するからである( Hay;dbuchde
r KA1tetechnik第7巻、1959年、3
27ページ参照)。
しかしながら、この溶液を充填したボイラーにお贋ては
、発生する蒸気の気泡がその上に存在する液柱を押し分
けて進まなければならず、その結果圧力損失を生じる。
r部にある溶液は上部に流出した蒸気より若干高い圧力
をもち、その結果この溶液は、同じ出口温度の場合、上
記の圧力損失がない場aより若干高いa度をもっている
。しかしながらとりわけ、この構成においては、ボイラ
ー内の溶液の明確な誘導が不可能である。また、流入す
る濃溶液か、ボイラー内にある希溶液と混合する可tj
l性かある、1 さらに、脱ガスする溶液を7JO熱面に旧つて薄b1嘆
として流出させるようにしだ流動エキスペラまたは莫工
;亡スベラも知られている。この構成においては、濃溶
液と希溶液とが混合することはない。
V?胃Bする希溶孜は、明らかにエキスペ゛う圧力およ
び希溶液の温度に対応する濃度をもっている。流出する
溶、孜嘆から、熱供給によって生じた蒸気の気泡が容易
に分離され、圧力損失および沸騰遅延を起すことはない
。この流動エキスペラは最少限の溶液容量で充分であり
、それ故極めて急速に変化する運転状況に順応すること
ができる。また、これは静止状態から迅速に全負荷にす
ることができる( Haybdbuch der Mt
etechnik、第7巻。
1959年、328ベージン。
この流動エキスペラの問題点は、流動膜を通して加熱面
の均等な付勢を行わなければならない点である。均等な
付勢は位置に左右され、従ってエキスペラの極めて正確
な配置を必要とする。
他のエキスペラ、41に吸収熱ボング用のエキスペラに
お論ては、溶液は、直列接続された段に分割された管系
を貫流し、このi系は煙ガス導入によって加熱される。
煙ガス流入口は、溶液の流れ方向に見て最後の段に設け
られ、流れ方向に見てそれぞれ次の段は、その前の段よ
り低め位置に配置されている。煙ガス通路の中心軸)ま
、段に相応して傾斜して延び、沸騰管はこの中心軸と直
角に延ひている(ドイツ連邦共1日国l特許出願公開第
2950327号明細書)。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、従来のエキスペラを改善し、特に流動
エキスペラの長所を、溶液を充填したエキスペラの長所
と共に1つの装置で具現できるようにすることにある。
〔発明の構成〕
この目的は本発明によれば、特許請求の範囲第1項に記
載したところによって達成される。複数1固の直列に設
けられた堰からなる溶液誘導系によって、少くともほぼ
流動エキスペラに近す加熱面。
が得られる。溶液誘導系用の堰を多く設けるほど、流動
エキスペラの加熱面への近似が得られる。堰の中にはそ
れぞれ加熱碇系の少くとも1つの加熱管が設けられ、こ
の加熱管はその全周の少くとも−・部分が溶液により囲
まれている。加熱管が常に、その全周の少くとも一部分
が溶層により囲まれるようにするだめ、加熱゛qにスペ
ーサを備えることができる。このスペーサは、それぞれ
の堰の加熱管と底との間、および刀n熱管と堰壁との間
に設けることがV子まし論。このようにすることによっ
て、堰の中の溶液が定常的((混合され溶液が層状にな
らない。さらに、エキスペラの適当なjti斜によって
、堰は比較的少量で一定な流入量とすることか保証され
、これによって変動する運転条件への良好な適応および
安定した運転状態が得られる。
本発明の好適な実施態様におりては、それぞれの堰壁は
、溶敵の流れ方向において堰から堰へそれぞれ交互に側
方にずらして設けられた少くとも1つの小さな孔を底の
近くに儒えている。この孔の寸法(41エキスペラの運
転中に流れ落ちる濃溶1夜の童が、この孔を通して流出
する童より数陪多1ハように定められる。運転停止状態
では、エキスペラばこの孔によって徐々に空運転される
。孔力・場所をずらして設けられていることによって、
各項に横流刀5生じ、この横流は溶液を層状にさせない
よう作用する。
好適な構造の態様によれば、加熱管1−ま、エキスペラ
の底および蟲該堰の堰壁から充分な間隔をもつように考
(ギされる。これは、例えば加熱管上に設けられたリン
グまたは7ランジによって達成される。さらに、項内の
溶液の流れに対する充分な間隔は、例えばエキスペラの
底およびそれぞれの堰の堰壁を杉板からつくることによ
って得られる。
この構成によって、加熱管系の堰の加熱管は、それぞれ
その全周の少くとも一部分が溶液により囲まれる。
〔発明の実施例〕
次に本発明を図面に示す実施例について詳細に説明゛す
る。
第1図において、溶液4に溶解されている媒質を除去す
るだめの特に吸収熱ポンプ用のエキスペラ2は、複数個
の直列に設けられた堰6からなる浴液誘導系と、少くと
も]つの加熱蛇管からなる加熱管系とを含んでいる。堰
6にに、それぞれ少くとも1つの那熱′管8が設けられ
ている。堰6は、それぞれ溶液誘導系の1つの段を形成
している。
堰6の直列に接続された段について、流れ方向に見てそ
れぞれ次の段は、前の段より低い位置に配置されている
。刀a熱管系にお論で、加熱媒体流入口10は、溶液4
の流れ方向に見て最後の段に設けられている。加熱媒体
流出口]2は、溶液4の流れ方向に見て最初の段に設け
られている。最初の段の手前には濃溶液の流入口14が
あり、最後の段の後には希溶液の流出口16が設けられ
てbる。禮宕液の流入口14の上部には、蒸発した冷媒
の排出口18が設けられている。直列に設けられた堰6
には、加熱管系の少くとも一つの加熱庁8が配置され、
加熱管8はその全周の少くとも一部分が溶液・1によっ
て囲まれるようになっている。
それぞれの堰6の加熱管8と底20との間、および加熱
管8走堰壁22との閣Vこ、スペーサ24が設けられて
いる。溶液4の加熱装置としで、図示されていない加熱
媒体による間接加熱装置が設けられている。個々の直列
に設けられた堰6全通して溶液4が流れるとき、溶液4
は常に加熱される。
その際、溶g、4に吸収されている冷媒の一部が分離さ
れ、排出口18から排出される。溶C夜4からの吸収冷
媒の排出は、図において矢印26で示されている。
この構成によって、溶液1からの溶媒の排出が段から段
へ連続的に行われ、その際に溶媒温度は連続的に上昇す
る。加熱媒体と溶、夜4とを対向流として導くことによ
って、襟度、圧力および@度の明確な関係が得られる。
さらに、下方に流れ落ちる溶液1とF方から上昇する蒸
気との間に予備修正が行われ、蒸気と溶e、4との熱お
よび物質交換によって、排出口】8の蒸気布置と流入す
る纏め溶液の密度とが平衡する。従って、この構成によ
って、加水エキスペラの長所、すなわち溶液4からの吸
収媒体の連続的排出、a溶液と希溶液との無混・計およ
び1菫かで一定な溶液充填′、′ならひに溶液充填形エ
キスペラの長次すなわち均一で安定したJ転かイ(すら
れる。
′rA2図に示す特に好適な実施例におりてば、堰6の
加熱v8は少くとも2つのリング28を備えている。さ
らに、堰6の堰壁22は、@液4のσ′すれ方向にそれ
ぞれ交互に側方てずらした小さな孔aOを備えている、
この孔30は、エキスペラ2の運転において、下方に流
れる濃溶液4の菫がこの孔を通して流出する量より数倍
多くなるような寸法にされている。従って、孔30の直
径は、例え1d約1ないし5I馴、特に約2パMに選択
されている。これに対し、運転停止状態においては、エ
キスペラ2はこの孔を通して空運転する。才だ、孔30
の位置を変えることによって、それぞれの堰6において
横流を発生させることができる。す/グ28によって、
加熱管は、それぞれの堰6の堰壁22および底20に対
して所定の間1操を置いて設けられている。このように
することによって、各加熱v8は、その全周の少くとも
一部分か溶液4によって囲まれ、これによって各項6に
おいて縦方向の流れが生じる。この横方向および縦方向
のXfiすれは、塩6内における溶液4が層をなすこと
を防止するのに寄与している。
第3図に示す別の実施例におめでは、エキスペラ2の底
20および各項6の堰壁22は形板からつぐられている
。この形板は、塩6内の右および左の底20の上に加熱
管8が設けられ、しがも′加熱管8と底20との間1(
充分なスペースカミ存在し。
従って加熱管8はその全周の少くとも一部分が溶1・夜
4によって囲まれるように形成されてbる。なお、この
実施例でも堰壁22に小さな孔3oが設けられている。
【図面の簡単な説明】
第1図1d本発明の一実施例の側面図、第2図、第3図
は本発明に用いる堰の内部構成の異なる例の縦1所面図
である。 2−エキスペラ、4・溶液、6・堰、8・、1111]
 712管、10 加熱媒体流入口、12・・加熱−媒
体流出口、14 溶、液流入口、]6 ・溶液流出口、
18・蒸発冷媒排出口、2o 底、22 ・堰壁、24
・・スペーサ、28・・リング、30・・孔。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)直列に連結された段に分割された溶液誘導系と、溶
    液の流れ方向に見て最後の段力初ロ熱媒体流入口に設け
    られた加熱管系とを備え、溶液中に溶解した媒質を分離
    するためのエキスペラにおいて、#液誘導系は直列に配
    設された複数の堰を備え、この堰の中には、それぞれ〃
    l熱管系の少くとも一つの7J[]熱管が配置され、こ
    の如8IA管はその全周の少くとも一部が溶液によって
    囲まれていることを特徴とするエキスペラ。 2)〃旧鴇看はスペーサを備えていることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載のエキスペラ。 3)それぞれの堰のノ用熱管と底との間、゛および加熱
    管と堰壁との間にスペーサが設けられていることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項または第2項記載のエキス
    ペラ。 4)堰の加熱管は、それぞれ少占2個のリングを備えて
    いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のエキ
    スペラ。 5)エキスペラの底およびそれぞれの堰の堰壁は波形板
    からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    エキスペラ。 6)エキスペラの底およびそれぞれの堰の堰壁は杉板か
    らなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のエ
    キスペラ。 7)流れ方向に見てそれぞれ次の段の堰は、その前の段
    の堰より低い位置に設けられていることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載のエキスペラ。 8)堰の堰壁は、底近くにそれぞれ少くとも1つの開口
    部が設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項ないし第7項のいずれかに記載のエキスペラ。 9)開口部として小さな孔が設けられていることを特徴
    とする特許請求の範囲第8項記載のエキスペラ。 1.0)孔が、溶液の流れ方向において堰から堰へそれ
    ぞれ交互に側方にずらして設けられてbることを特徴と
    する特許請求の範囲第9項記載のエキスペラ。 1、1 )溶、g、の間接的な加熱が行われることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載のエキスペラ。 12)加熱管系は少くとも1つの加熱蛇管からなること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のエキスペラ。 13)追カ出された蒸気と溶液とが対向流を形成するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のエキスペラ
JP21931783A 1982-11-22 1983-11-21 エキスペラ Pending JPS59107166A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19823243070 DE3243070A1 (de) 1982-11-22 1982-11-22 Austreiber
DE32430701 1982-11-22

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS59107166A true JPS59107166A (ja) 1984-06-21

Family

ID=6178663

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JP21931783A Pending JPS59107166A (ja) 1982-11-22 1983-11-21 エキスペラ

Country Status (3)

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EP (1) EP0109603A1 (ja)
JP (1) JPS59107166A (ja)
DE (1) DE3243070A1 (ja)

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DE3243070A1 (de) 1984-05-24
EP0109603A1 (de) 1984-05-30

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