JPS5893725A - 歯垢防止用スルホン化ポリアミノ酸 - Google Patents
歯垢防止用スルホン化ポリアミノ酸Info
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- JPS5893725A JPS5893725A JP56189392A JP18939281A JPS5893725A JP S5893725 A JPS5893725 A JP S5893725A JP 56189392 A JP56189392 A JP 56189392A JP 18939281 A JP18939281 A JP 18939281A JP S5893725 A JPS5893725 A JP S5893725A
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- A61K8/88—Polyamides
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- A—HUMAN NECESSITIES
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ある種のスルホン化ポリアミノ酸に関し、こ
れら化合物を含む口腔衛生組成物に関し。
れら化合物を含む口腔衛生組成物に関し。
さらに歯に細菌が付着するのを防止するためＫこのよう
な組成物を使用する方法に関する。さらに詳１〜〈は２
本発明は２口腔の歯垢（ｐｌａｑｕｅ）の歯への膠着を
防止するのに有用であることが見出された。ある種のス
ルホン化ポリアミノ酸及び選択された薬学的に許容され
るその塩に関する。
な組成物を使用する方法に関する。さらに詳１〜〈は２
本発明は２口腔の歯垢（ｐｌａｑｕｅ）の歯への膠着を
防止するのに有用であることが見出された。ある種のス
ルホン化ポリアミノ酸及び選択された薬学的に許容され
るその塩に関する。
歯垢の歯への堆積を防止することが２強く望まｈている
。カリエス誘発性細菌が歯の表面上のコロニーに集まっ
て、そとに頑固に堆積すると、歯垢が生ずる。歯に歯垢
が存在することは、歯肉炎。
。カリエス誘発性細菌が歯の表面上のコロニーに集まっ
て、そとに頑固に堆積すると、歯垢が生ずる。歯に歯垢
が存在することは、歯肉炎。
う蝕症及び歯機構の疾病の前兆であると信じられている
。
。
カリエス誘発性細菌及びそれらが生む歯垢の影響を抑制
するために９例えばフッ素、デンタルフロスの使用、ブ
ラシこすり９等の処置による多くの試みが行われたが、
これらは一般に歯や歯肉上の歯垢の副次的影響をなくす
。すなわち、歯や周囲の組織にすでに形成され固着して
いる歯垢の除去を目的とする。しかし、このような処置
は完全には成功しておらず、歯科医忙よる定期的な治療
で補わなければ々らない。今日まで、歯垢の形成又はそ
の歯への固着を防止する。家庭で実施可能な商業的処置
方法はない。
するために９例えばフッ素、デンタルフロスの使用、ブ
ラシこすり９等の処置による多くの試みが行われたが、
これらは一般に歯や歯肉上の歯垢の副次的影響をなくす
。すなわち、歯や周囲の組織にすでに形成され固着して
いる歯垢の除去を目的とする。しかし、このような処置
は完全には成功しておらず、歯科医忙よる定期的な治療
で補わなければ々らない。今日まで、歯垢の形成又はそ
の歯への固着を防止する。家庭で実施可能な商業的処置
方法はない。
ある種の芳香族ポリアミノ酸の親水性スルホン酸及びス
ルホン酸塩誘導体が数多く合成され、歯これらの親水性
芳香族ポリアミノ酸スルホネートは良好な膜形成性を有
し、そのため種々の歯磨配合物２口すすぎ剤（リンス）
、又は口腔衛生手段により歯に施される。本発明のスル
ホン化ポリマーは、事実アニオン性で、水又は水／有機
溶媒ビヒクルに実質的に溶解する。その主たる理由は。
ルホン酸塩誘導体が数多く合成され、歯これらの親水性
芳香族ポリアミノ酸スルホネートは良好な膜形成性を有
し、そのため種々の歯磨配合物２口すすぎ剤（リンス）
、又は口腔衛生手段により歯に施される。本発明のスル
ホン化ポリマーは、事実アニオン性で、水又は水／有機
溶媒ビヒクルに実質的に溶解する。その主たる理由は。
これらの誘導体の製造中に比較的高度のスルホン化が達
成されるからである。歯垢の堆積を妨げる親水性のポリ
マー性膜の挙動機構は絶対的確実性ではわかっていない
が、歯の上に堆積したアニオン性に荷電したポリマーの
膜が、負に荷電したポリマーと歯垢生成の原因となる口
腔内液体に含まれる負に荷電した微生物との間に、相互
反発をもたらすためのものと推測される。本発明のスル
ホン化ポリアミノ酸ポリマーは、歯磨及びその他の口腔
衛生調合物の成分として、歯垢の歯への堆積を減らすの
に％に有効である。
成されるからである。歯垢の堆積を妨げる親水性のポリ
マー性膜の挙動機構は絶対的確実性ではわかっていない
が、歯の上に堆積したアニオン性に荷電したポリマーの
膜が、負に荷電したポリマーと歯垢生成の原因となる口
腔内液体に含まれる負に荷電した微生物との間に、相互
反発をもたらすためのものと推測される。本発明のスル
ホン化ポリアミノ酸ポリマーは、歯磨及びその他の口腔
衛生調合物の成分として、歯垢の歯への堆積を減らすの
に％に有効である。
本発明によって歯垢を抑制するのに有用な、好ましい親
水怪の芳香族ポリアミノ酸スルホネートＫＦｉ、フェニ
ルアラニンとチロシンのスルホン化。
水怪の芳香族ポリアミノ酸スルホネートＫＦｉ、フェニ
ルアラニンとチロシンのスルホン化。
ホモポリマーが含まれる。これらのポリマーは。
ポリフェニルアラニン及びポリチロシンの直接的芳香族
スルホン化により製造で専る。これら′ポリアミノ酸の
スルホン酸誘導体は、ある種のＩＡ族アルカリ金属、Ｈ
Ａ、ＩＩＢ、及びＩＩＩ Ａ族の多価金属の金属塩、又
はアンモニウムもしくはアミン塩に転換することによっ
て、よ抄一層親水性で水溶性にされる。
スルホン化により製造で専る。これら′ポリアミノ酸の
スルホン酸誘導体は、ある種のＩＡ族アルカリ金属、Ｈ
Ａ、ＩＩＢ、及びＩＩＩ Ａ族の多価金属の金属塩、又
はアンモニウムもしくはアミン塩に転換することによっ
て、よ抄一層親水性で水溶性にされる。
従って９本発明の好ましい親水性の、芳香族ポリアミノ
酸スルホネートは、構造式（Ａ）の繰り返し巣位からな
る群から選ばれた繰り返し単位を含むものである。
酸スルホネートは、構造式（Ａ）の繰り返し巣位からな
る群から選ばれた繰り返し単位を含むものである。
１
−（ＮＨ−ＣＨ−Ｃ−３
（ここで、Ｒは水素及びヒドロキシル基から表る群から
選ばれ；１個のフェニル環当りのスルホネート革の平均
数を表す添字Ｃは、約０．５〜約１．０の範囲の値であ
り；Ｍはリチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム
、マグネシウム。
選ばれ；１個のフェニル環当りのスルホネート革の平均
数を表す添字Ｃは、約０．５〜約１．０の範囲の値であ
り；Ｍはリチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム
、マグネシウム。
亜鉛、アルミニウム、水素、並びにアンモニア及び薬学
的に許容される有機アミンから誘導されるアン１モニウ
ム塩からなる群から選ばれるイオンである。） スルホン化によシ本発明の歯垢防止剤（ｐｌａｑｕｅｂ
ａｒｒｉｅｒ ａｇｅｎｔ）を製造することができるポ
リフェニルアラニンとポリチロシンは、化学品゛販売商
社から一般に入手することができる。あるいは。
的に許容される有機アミンから誘導されるアン１モニウ
ム塩からなる群から選ばれるイオンである。） スルホン化によシ本発明の歯垢防止剤（ｐｌａｑｕｅｂ
ａｒｒｉｅｒ ａｇｅｎｔ）を製造することができるポ
リフェニルアラニンとポリチロシンは、化学品゛販売商
社から一般に入手することができる。あるいは。
当業者に周知である一般の有機反応方法で合成できる。
シグマ・ケミカル・カンバー（８ｉｇｍａＣｈｅｍｉｃ
ａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ、米国ミズーリ州セントルイス）
から販売され２本発明の親水性のポリマー性スルホネー
トへ転換できる。入手可能なポリアミノ酸の例には次の
ものが含まれる： （畠）ポリーＬ−フェニルア２二ン （ｉ） タイプＩ−Ａ（分子量２，０００〜ｓ、ｏｏ
ｏ ）（１１１タイプ■ （分子量５，０００〜１ｏ
、ｏｏｏ）（ｂ） ポリーＤＬ−フェニルアラニン（
分子量１ｏ、ｏｏｏ〜５０，０００）（Ｃ） ポリー
Ｄ−チロシン タイプＩ−Ｃ（分子量４０．０００〜１００，０００）
（ｄ） ポリーＤＬ−チロシン （ｅ） ポリ−シーチロシン タイプＴ−Ｂ（分子量４０，０００〜１０’０．０００
）本発明のスルホン化ポリマーの前述した前駆体に関し
て理解されるように、ポリフェニルアラニンは構造式（
Ａ）（このときＲは水素で、添字Ｃは零である（非スル
ホン化のため））の繰り返し単位を含有する構造式であ
り、一方ポリチロシンはＲがＯＨであることを除いてポ
リフェニルアラニンと同じ一般構造式である。
ａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ、米国ミズーリ州セントルイス）
から販売され２本発明の親水性のポリマー性スルホネー
トへ転換できる。入手可能なポリアミノ酸の例には次の
ものが含まれる： （畠）ポリーＬ−フェニルア２二ン （ｉ） タイプＩ−Ａ（分子量２，０００〜ｓ、ｏｏ
ｏ ）（１１１タイプ■ （分子量５，０００〜１ｏ
、ｏｏｏ）（ｂ） ポリーＤＬ−フェニルアラニン（
分子量１ｏ、ｏｏｏ〜５０，０００）（Ｃ） ポリー
Ｄ−チロシン タイプＩ−Ｃ（分子量４０．０００〜１００，０００）
（ｄ） ポリーＤＬ−チロシン （ｅ） ポリ−シーチロシン タイプＴ−Ｂ（分子量４０，０００〜１０’０．０００
）本発明のスルホン化ポリマーの前述した前駆体に関し
て理解されるように、ポリフェニルアラニンは構造式（
Ａ）（このときＲは水素で、添字Ｃは零である（非スル
ホン化のため））の繰り返し単位を含有する構造式であ
り、一方ポリチロシンはＲがＯＨであることを除いてポ
リフェニルアラニンと同じ一般構造式である。
本発明のスルホン化ポリマー性歯垢防止剤を製造するの
に適するスルホン化剤には、無水三酸化イオウ、三酸化
イオウのトリエチルホスフェート（ＴＥＰ）錯体、及び
クロロスルホン酸が含まれる。
に適するスルホン化剤には、無水三酸化イオウ、三酸化
イオウのトリエチルホスフェート（ＴＥＰ）錯体、及び
クロロスルホン酸が含まれる。
三酸化イオウの高い反応性及び強力な脱水性のために、
三酸化イオウを用いるスルホン化反応は。
三酸化イオウを用いるスルホン化反応は。
ポリマー制量で起ってスルホンを生成する架橋によって
不溶性が高いポリマーの分散を生成することがある。こ
のような場合、トリエチルホスフェ−）（ＴＥＰ）との
三酸化イオウ錯体を利用１〜で。
不溶性が高いポリマーの分散を生成することがある。こ
のような場合、トリエチルホスフェ−）（ＴＥＰ）との
三酸化イオウ錯体を利用１〜で。
スルホン化の反応性を緩和することが好ましい。
こうすると架橋副生成物の生成が最小になるか。
あるいは本質的に避けられる。
スルホン化は、メチレンクロリド、１．２−ジクロロエ
タン、及びクロロホルムのような溶媒中で行われる。三
酸化イオウやそのＴＥＰとの錯体を用いるスルホン化反
応の温度制御には余り制限はない。許容できる結果は一
２０℃〜＋４０℃の範囲にわたって得られる。スルホン
化は一般に常温にある室温で行われる。というのはスル
ホン化の発熱は非常に暖やかだからである。
タン、及びクロロホルムのような溶媒中で行われる。三
酸化イオウやそのＴＥＰとの錯体を用いるスルホン化反
応の温度制御には余り制限はない。許容できる結果は一
２０℃〜＋４０℃の範囲にわたって得られる。スルホン
化は一般に常温にある室温で行われる。というのはスル
ホン化の発熱は非常に暖やかだからである。
本発明の遊離のスルホン酸誘導体は生体外（ｉｎｖｉｔ
ｒｏ ）実験では歯垢の堆積を減らすのに効果的である
が、これらのスルホン酸ボＩＪ ｗ−は酸性度が高過ぎ
るため適当に緩衝化しなければ口腔内でけ使用で舞々い
。これらのポリマー性スルホン酸の塩のいくつかけ、水
性媒体への高い溶解性と低い酸度のために好ましい。こ
れらの塩は生体外実験でけ１好な歯垢防止効果を示す。
ｒｏ ）実験では歯垢の堆積を減らすのに効果的である
が、これらのスルホン酸ボＩＪ ｗ−は酸性度が高過ぎ
るため適当に緩衝化しなければ口腔内でけ使用で舞々い
。これらのポリマー性スルホン酸の塩のいくつかけ、水
性媒体への高い溶解性と低い酸度のために好ましい。こ
れらの塩は生体外実験でけ１好な歯垢防止効果を示す。
本発明者らが使用した生体外実験の方法は、しよ糖を補
なった殺菌トリブチカーゼ（ｔｒｙｐｔｉｅａｓｅ）培
地を入れた小さなびん内で歯垢を成長させることから始
オる。典型的にけ、１０個のびんに１０人の被検者から
新たに集められた（貯蔵しておいたものでなく）ヒトの
歯垢０．５ｍ／を個別に植えつける。コントロール（対
照）では、予め殺菌したスライドガラス又は抜歯された
ヒトの歯をびん内へ挿入する。試験対象では、歯又はス
ライドガラスを試験化合物（水又は他のビヒクルに溶か
さねている）の１１ｓ溶液で前処理し２表面に化合物の
薄層を堆積させ２次にスライドガラス又は歯を培地内に
置く。このびんを嫌気性条件下６７℃で２日間培養させ
る。歯又はスライドガラスを除き、空気乾燥し、蓄積し
た歯垢を顕現させるために０．１５％ＦＤ＆Ｃ＃３赤色
染料溶液で着色する。歯又はスライドガラスの歯垢密変
を０〜５の段階で評価する。
なった殺菌トリブチカーゼ（ｔｒｙｐｔｉｅａｓｅ）培
地を入れた小さなびん内で歯垢を成長させることから始
オる。典型的にけ、１０個のびんに１０人の被検者から
新たに集められた（貯蔵しておいたものでなく）ヒトの
歯垢０．５ｍ／を個別に植えつける。コントロール（対
照）では、予め殺菌したスライドガラス又は抜歯された
ヒトの歯をびん内へ挿入する。試験対象では、歯又はス
ライドガラスを試験化合物（水又は他のビヒクルに溶か
さねている）の１１ｓ溶液で前処理し２表面に化合物の
薄層を堆積させ２次にスライドガラス又は歯を培地内に
置く。このびんを嫌気性条件下６７℃で２日間培養させ
る。歯又はスライドガラスを除き、空気乾燥し、蓄積し
た歯垢を顕現させるために０．１５％ＦＤ＆Ｃ＃３赤色
染料溶液で着色する。歯又はスライドガラスの歯垢密変
を０〜５の段階で評価する。
歯垢防止活性を、１０人の被検者につき、適当なコント
ロール（対照）と比較して平均歯垢減少率チとして報告
する。
ロール（対照）と比較して平均歯垢減少率チとして報告
する。
本発明のスルホン化ポリアミノ酸のスルホン化度（Ｄ、
８． ｄｅｇｒｅ＠ｏｆ ５ｕｌｆｏｎａｔｉｏｎ）
Ｆｉ、歯垢の堆積の減少に重要な影響をもつ。満足で
きる歯垢防止活性を作り出すには、一定の最小り、Ｓ、
が必要である。ここで構造式（Ａ）のポリマー内の芳香
環１個当りの２ルホネート又にスルホン酸の平均数とし
て定義されるり、−８，ｉｊ、スルホン化反応の条件例
えばポリマーに対するスルホン化剤のモル比を調整する
ことにエリ変えられる。スルホン酸及びスルホン酸塩基
の芳香環上における正確な位置は確実ににわからないこ
とが多いが、このことに本発明を実施するのに重要でな
いと考えられる。
８． ｄｅｇｒｅ＠ｏｆ ５ｕｌｆｏｎａｔｉｏｎ）
Ｆｉ、歯垢の堆積の減少に重要な影響をもつ。満足で
きる歯垢防止活性を作り出すには、一定の最小り、Ｓ、
が必要である。ここで構造式（Ａ）のポリマー内の芳香
環１個当りの２ルホネート又にスルホン酸の平均数とし
て定義されるり、−８，ｉｊ、スルホン化反応の条件例
えばポリマーに対するスルホン化剤のモル比を調整する
ことにエリ変えられる。スルホン酸及びスルホン酸塩基
の芳香環上における正確な位置は確実ににわからないこ
とが多いが、このことに本発明を実施するのに重要でな
いと考えられる。
ポリアミノ酸のスルホン化度（Ｄ、８．）ｔ’！いくつ
かの方法： （ａ）Ｎ Ｍ Ｒ分析、（ｂ）イオウ／炭
素比についての元素分析、又ｎ＜ｃ＞水酸化ナトリ゛ウ
ムの標準を用いるスルホン酸の直接滴定、のいずれによ
っても測定することができる。ＮＭＲ法は１例えば酸滴
定分析や元素分析におけるような他の不純物による妨害
が起りにくいので、多分一層正確な方法である。
かの方法： （ａ）Ｎ Ｍ Ｒ分析、（ｂ）イオウ／炭
素比についての元素分析、又ｎ＜ｃ＞水酸化ナトリ゛ウ
ムの標準を用いるスルホン酸の直接滴定、のいずれによ
っても測定することができる。ＮＭＲ法は１例えば酸滴
定分析や元素分析におけるような他の不純物による妨害
が起りにくいので、多分一層正確な方法である。
Ｄ、 ８．測定の酸部定法には、正確に計量された２Ｉ
Ｃ±α１ダ）のスルホン酸ポリマー試料であって約１０
倍容量の水、アルコール又は他の溶媒に溶解したものを
、標準化した水酸化ナト１１ウムで電位差計の終点（ｅ
ｎｄｐａｉｎｔ ）まで滴定する操作が含まれている。
Ｃ±α１ダ）のスルホン酸ポリマー試料であって約１０
倍容量の水、アルコール又は他の溶媒に溶解したものを
、標準化した水酸化ナト１１ウムで電位差計の終点（ｅ
ｎｄｐａｉｎｔ ）まで滴定する操作が含まれている。
試料の酸度、Ａ、ｎｉ＋＋当量／ 、！ｉ’ （ｍｅｇ
／ｊ！ ）で表現される。酸度Ａと、ボ１Ｊマー中の
非スルホン化繰り返し単位の式量Ｒを使用すると、 Ｄ
、 Ｓ、 １１次式から計算される。
／ｊ！ ）で表現される。酸度Ａと、ボ１Ｊマー中の
非スルホン化繰り返し単位の式量Ｒを使用すると、 Ｄ
、 Ｓ、 １１次式から計算される。
スルホン化ポリマーのアルカリ金属塩は、ポリマー性ス
ルホン酸誘導体の水又はアルコール溶液を、電位差計の
終点に至るオでアルカリ金属水酸化物溶液で中和すると
都合よく製造される。塩に。
ルホン酸誘導体の水又はアルコール溶液を、電位差計の
終点に至るオでアルカリ金属水酸化物溶液で中和すると
都合よく製造される。塩に。
使用された溶媒の種類及び塩が溶媒から直接析出するか
どうかに応じて、濾過、溶媒ストリ゛ソビング、又は凍
結乾燥によって回収される。別法として、スルホン酸塩
に、少なくとも化学量論量のアルカリ金属の酸化物、炭
酸塩、酢酸塩、塩化物。
どうかに応じて、濾過、溶媒ストリ゛ソビング、又は凍
結乾燥によって回収される。別法として、スルホン酸塩
に、少なくとも化学量論量のアルカリ金属の酸化物、炭
酸塩、酢酸塩、塩化物。
硝酸基又に硫醗塩を、スルホン酸誘導体に加えることに
工り製造することができる。塩は直接析出するか、又に
溶媒ストリッピングに１って単離される。透析によるス
ルホン酸塩の精製に、一層高い水溶性塩には好ましい方
法である。
工り製造することができる。塩は直接析出するか、又に
溶媒ストリッピングに１って単離される。透析によるス
ルホン酸塩の精製に、一層高い水溶性塩には好ましい方
法である。
スルホン化ポリマーの多価金属塩１例えばカルンウム、
マグネシウム、亜鉛及びアルミニラＡの塩は、上述の諸
方法に類似した方法で製造できる。
マグネシウム、亜鉛及びアルミニラＡの塩は、上述の諸
方法に類似した方法で製造できる。
別の方法では、多価金属塩は多価イオンと、ポリマーの
遊離スルホン酸もしくはアルカリ金属スルホネート誘導
体との間のイオン交換反応によって製造できる。上述し
た。中和反応及び他の塩生成反応に９本質的［ｉイオン
交換反応である。スルホン酸ポリマーのアンモニウム塩
に、アンモニア。
遊離スルホン酸もしくはアルカリ金属スルホネート誘導
体との間のイオン交換反応によって製造できる。上述し
た。中和反応及び他の塩生成反応に９本質的［ｉイオン
交換反応である。スルホン酸ポリマーのアンモニウム塩
に、アンモニア。
又に第１．第２もしくに第３有機アミンの直接の添加に
よって製造できる。
よって製造できる。
例、ｔケ、 Ｄ、 ８．０．８のポリ（Ｌ−フェニルア
ラニン）スルホン酸ナトリウムＪｒｉ、６５％の歯垢防
止活性を示した。一般に、良好な歯垢防止活性は。
ラニン）スルホン酸ナトリウムＪｒｉ、６５％の歯垢防
止活性を示した。一般に、良好な歯垢防止活性は。
本発明のポリマー中の芳香基１個当りのスルホネート基
の平均数が少なくとも約０５である時に得られる。それ
に、約０５〜約ｔｏの範囲にあることが好ましい。対照
的に、非スルホン化ポリマー性前駆体に水に不溶性で、
歯垢防止性を全く示さない。効果的な歯垢防止活性に、
スルホン酸又にスルホン酸塩の官能基を導入することに
工りポリマーの親水性が増した時にのみ見られる。
の平均数が少なくとも約０５である時に得られる。それ
に、約０５〜約ｔｏの範囲にあることが好ましい。対照
的に、非スルホン化ポリマー性前駆体に水に不溶性で、
歯垢防止性を全く示さない。効果的な歯垢防止活性に、
スルホン酸又にスルホン酸塩の官能基を導入することに
工りポリマーの親水性が増した時にのみ見られる。
本発明のポリマーの分子量に１重要な要素でにないと考
えられるが、一般に約ｉ、ｏ ｏ ｏ〜約２００，００
０の広い範囲内に重量平均分子量を有する。好ましい分
子量の範囲げ約２．００’ Ｏ〜約５０，０００である
。
えられるが、一般に約ｉ、ｏ ｏ ｏ〜約２００，００
０の広い範囲内に重量平均分子量を有する。好ましい分
子量の範囲げ約２．００’ Ｏ〜約５０，０００である
。
実施例１
リウム
１６ｗＬｌのメチレンクロリドに１０１５．４ミリモル
）のトリエチルホスフェートを溶かしり溶液に、１．３
，１１６．５ミリモル）の液体三酸化イオウを加えて、
スルホン化剤を製造した。次に、このスルホン化剤を、
１０−のメチレンクロリド中に０．８９ （５，４ミリ
モル）のポリ（Ｌ−フェニルアラニン）−分子量約２，
４００−に含む攪拌されている懸濁液へ、７分間にわた
って一１℃〜＋７℃の範囲の温度で滴々加えた。さらに
１５分間攪拌後、黄色の固形物ｔｒ通し、メチレンクロ
リドとエーテルで洗浄し、そして乾燥して１．０ｇのポ
リフェニルアラニンスルホン酸を得た。
）のトリエチルホスフェートを溶かしり溶液に、１．３
，１１６．５ミリモル）の液体三酸化イオウを加えて、
スルホン化剤を製造した。次に、このスルホン化剤を、
１０−のメチレンクロリド中に０．８９ （５，４ミリ
モル）のポリ（Ｌ−フェニルアラニン）−分子量約２，
４００−に含む攪拌されている懸濁液へ、７分間にわた
って一１℃〜＋７℃の範囲の温度で滴々加えた。さらに
１５分間攪拌後、黄色の固形物ｔｒ通し、メチレンクロ
リドとエーテルで洗浄し、そして乾燥して１．０ｇのポ
リフェニルアラニンスルホン酸を得た。
このようにして製造したポリフェニルアラニンスルホン
酸０．８２８２！？のメタノール１６ＩＩ／中の溶液を
、５．８ｍの０．５５６ Ｎ水酸化ナトリウムメタノー
ル溶液で、最初の見掛けｐＨ０，２から−８０へ中和し
た。中和した溶液から溶媒を除去すると。
酸０．８２８２！？のメタノール１６ＩＩ／中の溶液を
、５．８ｍの０．５５６ Ｎ水酸化ナトリウムメタノー
ル溶液で、最初の見掛けｐＨ０，２から−８０へ中和し
た。中和した溶液から溶媒を除去すると。
０、７３９のポリフェニルアラニンスルホン酸ナトリウ
ム０．７３ ｇを得た。Ｄ、 Ｓ、 ｌＩ′ｊ、中和工
程でのアルカリ消費量に基いてＱ、８であった。
ム０．７３ ｇを得た。Ｄ、 Ｓ、 ｌＩ′ｊ、中和工
程でのアルカリ消費量に基いてＱ、８であった。
実施例２
ポリ（Ｌ−チロシン）スルホン酸ナトリウム実施例１に
記載の方法にしたがって、ボＩＩ （Ｌ−チロシン）ス
ルホン酸ナトリウムを１分子量約４７、 ＯＯＯで重合
度２８０のポリ（Ｌ−チロシン）から製造した。
記載の方法にしたがって、ボＩＩ （Ｌ−チロシン）ス
ルホン酸ナトリウムを１分子量約４７、 ＯＯＯで重合
度２８０のポリ（Ｌ−チロシン）から製造した。
実施例３
実施例１で製造し大ポリ（Ｌ−フェニルアラニン）スル
ホン酸ナトリウムの水溶液に、少なくとも化学量論量の
塩化亜鉛を加えた。生じた溶液を。
ホン酸ナトリウムの水溶液に、少なくとも化学量論量の
塩化亜鉛を加えた。生じた溶液を。
分子量締切り（ｃｕｔｏｆｆ ）約１．０００の透析横
管で透析した。透析したポリマー溶液を凍結乾燥すると
、ｄｌ（Ｌ−フェニルアラニン）スルホン酸亜鉛が乾燥
した固体として得られた。
管で透析した。透析したポリマー溶液を凍結乾燥すると
、ｄｌ（Ｌ−フェニルアラニン）スルホン酸亜鉛が乾燥
した固体として得られた。
実施例４
ポリ（ＤＬ−フェニルアラニン）スルホン酸ナノ
トリウム
実施例１に記載した方法において、ボＩＪ （Ｌ −フ
ェニルアラニン）をポリ（ＤＬ−フェニルアラニン）に
代えて、ポリ（ＤＬ−フェニルアラニン）スルホン酸ナ
トリウムを製造した。
ェニルアラニン）をポリ（ＤＬ−フェニルアラニン）に
代えて、ポリ（ＤＬ−フェニルアラニン）スルホン酸ナ
トリウムを製造した。
本発明の歯垢防止口腔甲組成物に９本明細書で特定され
た歯垢防止剤を有効量含む（かつこの剤と調和する）通
常の薬学的に許容される口腔衛生配合物のいずれから構
成されていてもよい。このような配合物［ｔｊ、例えば
１口内洗剤（ｒｎｏｕｔｈｖａｉｈ）すすぎ液（ｒｉｎ
ｓｅ ） ｅ潅注溶液（ｉｒｒｉｇａｔｉｎｇｓｏｌｕ
ｔｉｏｎ ）＊非研磨性ゲル菌磨き剤（ｎｏｎａｂｒａ
ｓｉｖｅ ｇｅｌ ｄｅｎｔｉｆｒｉｃｅ） 、義歯ク
レンザ−１被覆デンタルフロス（ｃｏａｔｅｄ ｄｅｎ
ｔａｌｆｌｏｓｓ Ｌ歯間乳頭刺激マーティング（ｉｎ
ｔｅｒｄｅｎｔａｌｓｔｊｍｕｌａｔｏｒ ｃｏａｔｉ
ｎｇ ）、チェウィンガム。薬用ドロップ（ｌｏｚｅｎ
ｇｅ ） ＊清涼飲料水（ｂｒ＠ａｔｈｆｒｅａｈｅｎ
ｅｒ ） ＊ フオーム（ｆｏａｍ）及びスプレー（５
ｐｒａｙ ）が含まれる。
た歯垢防止剤を有効量含む（かつこの剤と調和する）通
常の薬学的に許容される口腔衛生配合物のいずれから構
成されていてもよい。このような配合物［ｔｊ、例えば
１口内洗剤（ｒｎｏｕｔｈｖａｉｈ）すすぎ液（ｒｉｎ
ｓｅ ） ｅ潅注溶液（ｉｒｒｉｇａｔｉｎｇｓｏｌｕ
ｔｉｏｎ ）＊非研磨性ゲル菌磨き剤（ｎｏｎａｂｒａ
ｓｉｖｅ ｇｅｌ ｄｅｎｔｉｆｒｉｃｅ） 、義歯ク
レンザ−１被覆デンタルフロス（ｃｏａｔｅｄ ｄｅｎ
ｔａｌｆｌｏｓｓ Ｌ歯間乳頭刺激マーティング（ｉｎ
ｔｅｒｄｅｎｔａｌｓｔｊｍｕｌａｔｏｒ ｃｏａｔｉ
ｎｇ ）、チェウィンガム。薬用ドロップ（ｌｏｚｅｎ
ｇｅ ） ＊清涼飲料水（ｂｒ＠ａｔｈｆｒｅａｈｅｎ
ｅｒ ） ＊ フオーム（ｆｏａｍ）及びスプレー（５
ｐｒａｙ ）が含まれる。
これらの配合物中［ｉｊ、＠垢防止剤は有２効量即ち一
般に約００５重量％から３０重量％まであるいにビヒク
ルとの調和の限界までの範囲内で含まれる。しかし、約
２０重量％を超える濃度からは何らの利点も得られない
であろう。本発明の配合物における歯垢防止剤の好まし
い濃度範囲は約０５〜約１０重量％である。より好まし
い範囲は約２−約８重量％で、約５チが非研磨性ゲルビ
ヒクル中では現在鍾も好ましい濃度である。
般に約００５重量％から３０重量％まであるいにビヒク
ルとの調和の限界までの範囲内で含まれる。しかし、約
２０重量％を超える濃度からは何らの利点も得られない
であろう。本発明の配合物における歯垢防止剤の好まし
い濃度範囲は約０５〜約１０重量％である。より好まし
い範囲は約２−約８重量％で、約５チが非研磨性ゲルビ
ヒクル中では現在鍾も好ましい濃度である。
これらの歯垢防止調合物のｐｉ（＄１．ｐ）１５．０と
１０．０の間にあるべきで、好ましくは…５．０と８，
００間。
１０．０の間にあるべきで、好ましくは…５．０と８，
００間。
さらに好ましくは約ジ１６０と７５の間である。…が５
．０未満でに、エナメル質の脱塩化（ｄｅｍｉｎｅｒａ
ｌｉｚａｔｉｏｎ ）が起るおそれがあるため望ましく
ない。
．０未満でに、エナメル質の脱塩化（ｄｅｍｉｎｅｒａ
ｌｉｚａｔｉｏｎ ）が起るおそれがあるため望ましく
ない。
本発明の防止組成物を製造するのに歯垢防止剤とともに
使用することができる１通常の薬学的に許容されるビヒ
クルの好適なものにに、水、エタノール；ポリプロピレ
ングリコール、グリセロール及ヒソルビトールの工うな
保湿剤：セルロース誘導体例えばメツセル（Ｍｅｔｈｏ
ｅｅｌ ） 、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ７
ＭＦ）及びり＆−セルＨＦ （Ｋｌｕｃｅｌ ＨＦ ）
−、ポリオキシプロピレン／ポリオキシエチレン・ブロ
ックコポリマー例★ｉ、プルロニック（Ｐｌｕｒｏｎｉ
ｅ ） Ｆ−１２７゜プルロニックＦ−１０８，プルロ
ニックＰ−１０３゜プルロニックＰ−１０４，プルロニ
ックＰ−１０５゜及びプルロニックＰ−１２３−、ビー
カム（ｖｅｅｇｕｍ）の工うなコロイド状アルミノケイ
酸マグネシウム複合体−、カルボボール９３４ （Ｃａ
ｒｂｏｐｏｌ ９３４）の工うなムコ蛋白質粘稠化剤−
のようなゲル化剤−二酸化ケイ素（例えばＣａｂ−０−
８ｉ １ ）及びポリビニルピロリドンの工つなゲル安
定剤；サッカリンナトリウムのような甘味料；クエン酸
、安息香酸ナトリウム、セチルビリジウムクロリド、ソ
ルビン酸カリウム、メチル及びエチルノξうはン（ｐａ
ｒａｂｅｎｓ ）のような防腐剤；ラウリル硫酸ナトリ
ウム、フコモノグリセリドスルホン酸ナトリウム（ｍｅ
ｄｉｕｍｅｏｃｏｍｏｎｏｇｌｙｅｅｙ％ｄ＠１ｕｌｆ
ｏｎａｔｅ ）ｔ ラウリルサルコシン酸ナトリウム
（ｓｏｄｉｕｍ ｌａｕｒｙｌｓｍｒｅｏａｉｎａｔｅ
）及びポリオキシエチレンイソヘキサデシルエーテル
（Ａｒ１ａｓｏｌｖｅ ２００ ）のような洗浄剤、
並びに改良ｊｆ１ｆｔ着色剤や調味料が含まれる。
使用することができる１通常の薬学的に許容されるビヒ
クルの好適なものにに、水、エタノール；ポリプロピレ
ングリコール、グリセロール及ヒソルビトールの工うな
保湿剤：セルロース誘導体例えばメツセル（Ｍｅｔｈｏ
ｅｅｌ ） 、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ７
ＭＦ）及びり＆−セルＨＦ （Ｋｌｕｃｅｌ ＨＦ ）
−、ポリオキシプロピレン／ポリオキシエチレン・ブロ
ックコポリマー例★ｉ、プルロニック（Ｐｌｕｒｏｎｉ
ｅ ） Ｆ−１２７゜プルロニックＦ−１０８，プルロ
ニックＰ−１０３゜プルロニックＰ−１０４，プルロニ
ックＰ−１０５゜及びプルロニックＰ−１２３−、ビー
カム（ｖｅｅｇｕｍ）の工うなコロイド状アルミノケイ
酸マグネシウム複合体−、カルボボール９３４ （Ｃａ
ｒｂｏｐｏｌ ９３４）の工うなムコ蛋白質粘稠化剤−
のようなゲル化剤−二酸化ケイ素（例えばＣａｂ−０−
８ｉ １ ）及びポリビニルピロリドンの工つなゲル安
定剤；サッカリンナトリウムのような甘味料；クエン酸
、安息香酸ナトリウム、セチルビリジウムクロリド、ソ
ルビン酸カリウム、メチル及びエチルノξうはン（ｐａ
ｒａｂｅｎｓ ）のような防腐剤；ラウリル硫酸ナトリ
ウム、フコモノグリセリドスルホン酸ナトリウム（ｍｅ
ｄｉｕｍｅｏｃｏｍｏｎｏｇｌｙｅｅｙ％ｄ＠１ｕｌｆ
ｏｎａｔｅ ）ｔ ラウリルサルコシン酸ナトリウム
（ｓｏｄｉｕｍ ｌａｕｒｙｌｓｍｒｅｏａｉｎａｔｅ
）及びポリオキシエチレンイソヘキサデシルエーテル
（Ａｒ１ａｓｏｌｖｅ ２００ ）のような洗浄剤、
並びに改良ｊｆ１ｆｔ着色剤や調味料が含まれる。
次の具体的な実施例に１本発明の歯垢防止組成物を説明
するのにζらに役立つ。
するのにζらに役立つ。
実施例Ａ−ロ内洗剤溶液
防止剤 ０．５〜２０チ％グリセ
ロール（保湿剤）＆０ プルロニック（Ｐｌｕｒｏｎｉｃ）？−１０８１，ＣＩ
サッカリンナトリウム（甘味料）０．３脱イオン水
十分量調味料
１・０・０００ 実施例Ｂ−ロ内洗剤溶液 歯垢防止剤 ０．５〜３０チ２エタノ
ール（米国薬局方） １５．０グリセロー
ル（保湿剤） １０．０ソルビトール（保
湿剤）１０．０ 脱イオン水−十分量 調味料 ０・２０００ 実施例Ｃ−研磨用歯磨き剤ゲル 歯垢防止剤 ２０〜１０．０％％煙霧質
シリカ（研磨剤）５５．０ グリセロール（保湿剤’） １０．０カルボ
キシメチルセルロース ２．０（ゲル化剤ｒ） サッカリンナトリウム（甘味料１ ［１２ソル
ビトール（保湿剤） １０．０調味料
１．［］脱イオン水
十分量防腐剤 α
ｏ５０００ 実施例Ｄ−チュウインガム 歯垢防止剤 １０〜１１．ｏチＸガム基
材 ２１，３糖
４８．５〜５８．５コーン・シロップ
（Ｂａｕｍ ４５） １８．２調味料
１．０１００．０ 歯垢防止剤 ０．０５〜３０．０ ％％
ツルビスタート（５ｏｒｂｉｓｔａｔ） ０．
１５（防腐剤） 脱イオン水 十分量二酸化ケイ素
（ケ゛ル安定剤）１゜ プルロニックＦ−１２７２０，０ （ゲル化剤） サッカリンナトリウム ０．２調味料
１５１００．０ 実施例Ｆ 次の配合に１本発明によって防止剤を含む、現在好まし
ｈ非研磨性ゲル組成物を例示する。
ロール（保湿剤）＆０ プルロニック（Ｐｌｕｒｏｎｉｃ）？−１０８１，ＣＩ
サッカリンナトリウム（甘味料）０．３脱イオン水
十分量調味料
１・０・０００ 実施例Ｂ−ロ内洗剤溶液 歯垢防止剤 ０．５〜３０チ２エタノ
ール（米国薬局方） １５．０グリセロー
ル（保湿剤） １０．０ソルビトール（保
湿剤）１０．０ 脱イオン水−十分量 調味料 ０・２０００ 実施例Ｃ−研磨用歯磨き剤ゲル 歯垢防止剤 ２０〜１０．０％％煙霧質
シリカ（研磨剤）５５．０ グリセロール（保湿剤’） １０．０カルボ
キシメチルセルロース ２．０（ゲル化剤ｒ） サッカリンナトリウム（甘味料１ ［１２ソル
ビトール（保湿剤） １０．０調味料
１．［］脱イオン水
十分量防腐剤 α
ｏ５０００ 実施例Ｄ−チュウインガム 歯垢防止剤 １０〜１１．ｏチＸガム基
材 ２１，３糖
４８．５〜５８．５コーン・シロップ
（Ｂａｕｍ ４５） １８．２調味料
１．０１００．０ 歯垢防止剤 ０．０５〜３０．０ ％％
ツルビスタート（５ｏｒｂｉｓｔａｔ） ０．
１５（防腐剤） 脱イオン水 十分量二酸化ケイ素
（ケ゛ル安定剤）１゜ プルロニックＦ−１２７２０，０ （ゲル化剤） サッカリンナトリウム ０．２調味料
１５１００．０ 実施例Ｆ 次の配合に１本発明によって防止剤を含む、現在好まし
ｈ非研磨性ゲル組成物を例示する。
成分 チ％脱イオン
水 十分量サッカリンナトリウム
（甘味料） ０．２０安息香酸ナト１）ラム（
Ｅ［剤） ０．３０ＦＤ＆Ｃブ”−＃１（（
１１％水溶液） ０．２７Ｄ＆Ｃイｘｏ−＃１０
（０，５チ水溶液） ０．５゜ゲル化剤
１８．００グリセロール（保湿剤）
２０．００Ｃａｂ−０−８１１Ｍ５ （二酸化ケ
イ素’） １．００歯垢防止剤 （
乾燥基準）５００調味料 ０
．８００００ 上記諸配合物すべての製造法の詳細は、当業者の知識の
範囲に十分大るものであるが、この実施例のゲル配合物
の製造方法を示して記述を完全なものとしよう。
水 十分量サッカリンナトリウム
（甘味料） ０．２０安息香酸ナト１）ラム（
Ｅ［剤） ０．３０ＦＤ＆Ｃブ”−＃１（（
１１％水溶液） ０．２７Ｄ＆Ｃイｘｏ−＃１０
（０，５チ水溶液） ０．５゜ゲル化剤
１８．００グリセロール（保湿剤）
２０．００Ｃａｂ−０−８１１Ｍ５ （二酸化ケ
イ素’） １．００歯垢防止剤 （
乾燥基準）５００調味料 ０
．８００００ 上記諸配合物すべての製造法の詳細は、当業者の知識の
範囲に十分大るものであるが、この実施例のゲル配合物
の製造方法を示して記述を完全なものとしよう。
第１の容器内で水、サッカリンナトリウム、安息香酸す
） ＩＩウム及び染料を混合する。次にこの容器を水浴
内へ入れる。温度が６℃に達したら。
） ＩＩウム及び染料を混合する。次にこの容器を水浴
内へ入れる。温度が６℃に達したら。
ゲル化剤を加え、ゲル化剤が溶けるまで内容物をゆっく
り混合する。次に溶液を７０℃に加熱する。
り混合する。次に溶液を７０℃に加熱する。
第２の容器の中にグリセリンを加える。次いで。
Ｃａｂ−０−ａｉｌ Ｍ５を混合しながら着き入れる。
次いで歯垢防止剤を加え、滑らかなは−ストになるまで
混合し続ける。次いでに一ストを・水浴中で混ぜながら
７０℃の温度まで加熱する。
混合し続ける。次いでに一ストを・水浴中で混ぜながら
７０℃の温度まで加熱する。
第１の容器の内容物を第２の容器へ加え、そのバッチが
均質になるまで一緒に混合し、その間７０℃の温度に維
持する。次に調味料を加え、混合をすべてやめ、そして
配合物を約１時間放置する。
均質になるまで一緒に混合し、その間７０℃の温度に維
持する。次に調味料を加え、混合をすべてやめ、そして
配合物を約１時間放置する。
気泡を除く必要があれば、−要冷却してもよい。
歯垢が歯に付着するのを防止するため［ｔｌ、８警の口
内衛生作業において、これらの組成物を１日に１〜３回
使用することが好ｆ １．い。
内衛生作業において、これらの組成物を１日に１〜３回
使用することが好ｆ １．い。
勿論１本発明の概念即ち範囲を逸脱することなく、変形
を行うことにできる。
を行うことにできる。
特許出願人 ジョンソン・エンド・ジョンソン・プロダ
クツ・インコーボレーテツド
クツ・インコーボレーテツド
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 構造式（Ａ）の繰抄返し単位から々る群から選げ
れる繰り返し単位を有するポリアミノ酸スルホネート： １ −（７ＮＨ−Ｃ）（−Ｃ＋ （ここで、Ｒは水素及びヒドロキシル基からなる群から
選ばれ；１個のフェニル環当りのスルホネート基の平均
数を表す添字Ｃは、約０５〜約１．０の範囲の値であり
；Ｍはリチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、
マグネシウム。 亜鉛、アルミニウム、水素、並びにアンモニア及び薬学
的に許容される有機アミンから誘導されるアンモニウム
塩からなる群から選ばれるイオンである。）。 ２、構造式（Ａ）の繰り返し単位からなる群から選げれ
る繰り返し単位を有するポリアミノ酸スルホネートを、
該ポリマーと調和する薬学的に許容さねる口腔衛生用ビ
ヒクル中に、歯垢の歯への付着を防止するのに有効な量
含むことを特徴とする口腔衛生組成物： １ −（−Ｎ）Ｉ−ＣＨ−Ｃ＋− （ここで、Ｒは水素及びヒドロキシル基からなる群から
選ばれ；１個のフェニル項当抄のスルホネート基の平均
数を表す添字Ｃは、約０．５〜約１．０の範囲の値であ
り；Ｍはリチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム
、マグネシウム。 亜鉛、アルミニウム、水素、並びにアンモニア及び薬学
的に許容される有機アミンから誘導されるアンモニウム
塩からなる群も１ら選ばれるイオンである。）。 ３．１％許請求の範囲第２項の組成物であって１Ｍがカ
リウム、リチウム、ナトリウム、カルシウム。 マグネシウム、亜鉛及びアルミニウムからなる群から選
ばれた会議であるもの。パ ４、構造式（Ａ＞ １ 一←ＮＨ−ＣＨ−Ｃう− （ことで、Ｒは水素及びヒドロキシル基からなる群から
選ばれ；１個のフェニル項当しのスルホネート基の平均
数を表す添字Ｃけ、約０５〜約１０の範囲の値であり；
Ｍはリチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マ
グネシウム。 亜鉛、アルミニウム、水素、並びにアンモニア及び薬学
的に許容される有機アミンから誘導されるアンモニウム
塩からなる群から選ばれるイオンである。） の繰抄返し単位当ら・なる群から選ばれる繰り返し単位
を有するポリアミノ酸スルホネートを、該ポリマーと調
和する薬学的に許容される口腔衛生用ビヒクル中に、歯
垢の歯への付着を防止するのに有効な量含む口腔衛生組
成物を、歯に定期的に施すことを特徴とする。歯垢の歯
への付着を防止する方法。 ５ 特許請求の範囲第４項の方法であって、前記組成物
を１日につき約１〜約３回施す方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/172,353 US4314991A (en) | 1980-07-25 | 1980-07-25 | Sulfonated polyamino acids as dental plaque barriers |
| EP81305367A EP0079406A1 (en) | 1980-07-25 | 1981-11-12 | Sulfonated polyamino acids as dental plaque barriers |
| CA000389866A CA1176795A (en) | 1980-07-25 | 1981-11-12 | Sulfonated polyamino acids as dental plaque barriers |
| JP56189392A JPS5893725A (ja) | 1980-07-25 | 1981-11-27 | 歯垢防止用スルホン化ポリアミノ酸 |
| AU79058/81A AU7905881A (en) | 1980-07-25 | 1981-12-30 | Sulfonated amino acids |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/172,353 US4314991A (en) | 1980-07-25 | 1980-07-25 | Sulfonated polyamino acids as dental plaque barriers |
| EP81305367A EP0079406A1 (en) | 1980-07-25 | 1981-11-12 | Sulfonated polyamino acids as dental plaque barriers |
| CA000389866A CA1176795A (en) | 1980-07-25 | 1981-11-12 | Sulfonated polyamino acids as dental plaque barriers |
| JP56189392A JPS5893725A (ja) | 1980-07-25 | 1981-11-27 | 歯垢防止用スルホン化ポリアミノ酸 |
| AU79058/81A AU7905881A (en) | 1980-07-25 | 1981-12-30 | Sulfonated amino acids |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5893725A true JPS5893725A (ja) | 1983-06-03 |
Family
ID=34397199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56189392A Pending JPS5893725A (ja) | 1980-07-25 | 1981-11-27 | 歯垢防止用スルホン化ポリアミノ酸 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4314991A (ja) |
| EP (1) | EP0079406A1 (ja) |
| JP (1) | JPS5893725A (ja) |
| AU (1) | AU7905881A (ja) |
| CA (1) | CA1176795A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020512175A (ja) * | 2017-03-29 | 2020-04-23 | アルトス ゲーエムベーハー | 骨代替材料用のキャリアー組成物 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4459281A (en) * | 1982-11-18 | 1984-07-10 | Johnson & Johnson Products Inc. | Anticaries compositions |
| US4473547A (en) * | 1982-11-18 | 1984-09-25 | Johnson & Johnson Products Inc. | Anticaries compositions |
| US4460564A (en) * | 1982-11-18 | 1984-07-17 | Johnson & Johnson Products Inc. | Anticaries compositions |
| GB8313232D0 (en) * | 1983-05-13 | 1983-06-22 | Causton B E | Prevention of undesired adsorption on surfaces |
| US5013542A (en) * | 1988-02-08 | 1991-05-07 | Forsyth Dental Infirmary For Children | Method to inhibit adhesion of disease-causing microorganisms to teeth |
| EP0461206B1 (en) * | 1989-09-09 | 1994-03-02 | Sandoz-Patent-Gmbh | Synthetic polyamides and their salts |
| US5286480A (en) * | 1992-06-29 | 1994-02-15 | The Procter & Gamble Company | Use of N-acetylated amino acid complexes in oral care compositions |
| DK176196B1 (da) | 1997-10-07 | 2007-01-08 | Ejvind Jersie Pedersen | Mundhygejnepræparat til behandling af halitosis samt anvendelse af et chelat omfattende en metaliondel og en aminosyredel som en komponent i præparatet |
| ES2422261T5 (es) * | 2008-02-21 | 2017-05-12 | S.C. Johnson & Son, Inc. | Composición para limpieza que tiene alta autoadhesión y que proporciona beneficios residuales |
| US8993502B2 (en) | 2008-02-21 | 2015-03-31 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Cleaning composition having high self-adhesion to a vertical hard surface and providing residual benefits |
| US8980813B2 (en) | 2008-02-21 | 2015-03-17 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Cleaning composition having high self-adhesion on a vertical hard surface and providing residual benefits |
| US9410111B2 (en) | 2008-02-21 | 2016-08-09 | S.C. Johnson & Son, Inc. | Cleaning composition that provides residual benefits |
| AU2009215860C1 (en) * | 2008-02-21 | 2017-08-24 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Cleaning composition that provides residual benefits |
| US8143206B2 (en) * | 2008-02-21 | 2012-03-27 | S.C. Johnson & Son, Inc. | Cleaning composition having high self-adhesion and providing residual benefits |
| US9481854B2 (en) | 2008-02-21 | 2016-11-01 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Cleaning composition that provides residual benefits |
Family Cites Families (5)
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