JPS5888817A - 複合薄膜磁気ヘツド - Google Patents
複合薄膜磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS5888817A JPS5888817A JP18811281A JP18811281A JPS5888817A JP S5888817 A JPS5888817 A JP S5888817A JP 18811281 A JP18811281 A JP 18811281A JP 18811281 A JP18811281 A JP 18811281A JP S5888817 A JPS5888817 A JP S5888817A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetic
- groove
- nonmagnetic
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録再生に用いられる磁気ヘッドに関し、
さらに詳しく拡マグネット・ワイヤ及び環状薄膜磁性体
から成る複合薄膜磁気ヘッドに係わる。
さらに詳しく拡マグネット・ワイヤ及び環状薄膜磁性体
から成る複合薄膜磁気ヘッドに係わる。
近年磁気記憶装置は小型化、大容量化が要請され、Ｗ１
気記録密度の高密度化が計られている。
気記録密度の高密度化が計られている。
薄膜磁気ヘッドは高密度記録に適するものとして、この
ような！！請に応えるものとし商用化が進んできている
。薄膜磁気ヘッドには薄膜環状磁性体に薄膜コイルを巻
きつけたインダクティプ薄膜ヘッド（以下塾に薄膜ヘッ
ドという）と、磁気抵抗素子を用いるＭＲヘッドとがあ
るが、Ｓｔｔ者は琳独で書き込み、ＴＩＩｆ、み出しが
できるため書き変え可能な記憶装置には特に好ましいヘ
ッドと言える。
ような！！請に応えるものとし商用化が進んできている
。薄膜磁気ヘッドには薄膜環状磁性体に薄膜コイルを巻
きつけたインダクティプ薄膜ヘッド（以下塾に薄膜ヘッ
ドという）と、磁気抵抗素子を用いるＭＲヘッドとがあ
るが、Ｓｔｔ者は琳独で書き込み、ＴＩＩｆ、み出しが
できるため書き変え可能な記憶装置には特に好ましいヘ
ッドと言える。
薄膜磁気ヘッドは記録再生のギャップの長さ。
ギャップを構成する磁極の媒体対向面のうち媒体走行方
向の長さくポール・サーフェス）を短かくすることがで
色る点や、磁性体全体を小型にで色るためインダクタン
スを小さくできることが二つの大きな特長であシ、この
ため周波数特性が改善され容易に高記録密度が実現でき
る。１＋、その製造方法は半導体集積回路の製造に用い
られる薄膜プロセスによるとζろが大きいため高精度の
真空パタニング技術を要することが大匙な特色となって
いる。このような薄膜ヘッドの製造過程において従来特
に問題となっているものの一つにコイルの形成がある。
向の長さくポール・サーフェス）を短かくすることがで
色る点や、磁性体全体を小型にで色るためインダクタン
スを小さくできることが二つの大きな特長であシ、この
ため周波数特性が改善され容易に高記録密度が実現でき
る。１＋、その製造方法は半導体集積回路の製造に用い
られる薄膜プロセスによるとζろが大きいため高精度の
真空パタニング技術を要することが大匙な特色となって
いる。このような薄膜ヘッドの製造過程において従来特
に問題となっているものの一つにコイルの形成がある。
コイルは出力を大きく得るためには数多く巻く必要があ
るが、それはコイル形成プロセス上極めて困難である。
るが、それはコイル形成プロセス上極めて困難である。
一方コイルの巻き数が少ない場合は起磁力の低下を防ぐ
九めにかなシの大電流を流す必要があ夛、そのため電光
容量に耐えるだけの形状の均一なコイル断面の形成が必
要となってくる。
九めにかなシの大電流を流す必要があ夛、そのため電光
容量に耐えるだけの形状の均一なコイル断面の形成が必
要となってくる。
さらに本う一つの問題として薄膜ヘッドでは磁気回路の
書龜込み読み出しの＠率をあげるために磁束のギャップ
以外での漏洩を少なくする必要がある。このため環状磁
路の磁気抵抗を下げ九ｐ環状磁路のギャップ以外の部品
が必要以上に近接しないような構造をとらなければなら
ない。
書龜込み読み出しの＠率をあげるために磁束のギャップ
以外での漏洩を少なくする必要がある。このため環状磁
路の磁気抵抗を下げ九ｐ環状磁路のギャップ以外の部品
が必要以上に近接しないような構造をとらなければなら
ない。
従来の１気ヘツドはこのような二つの問題を鑑み、性能
上及び製造技術上置も効率な設計点を求め、これに基づ
いて実現されている４、０の、やは９コイル形成の工程
は製造上の多大の困難を伜な吟、かつ歩留りの低下をも
たらしていた。すなわち従来の磁気ヘッドは第１図に示
すように基板１上に形成され次子部磁性体２をコイル３
が磁性体２をまたぐように形成されている。磁性体２と
基板１との角部にはコイル３が磁性体２の縁部で滑らか
に連なるように段差解消のための充填剤（図示せず）が
付着されておシ、同様にコイル３の上部に４上部磁性体
４がなめらかに形成されるように、充填剤が付着されて
いる。このように従来の磁気ヘッドではコイルのパタニ
ングはもちろんコイルに係わる段差解消はきわめて煩雑
なプロセスとなっている・、これは最終的に歩留りの低
下、コストの増大、信頼性の低下となシ薄膜ヘッドの優
位性を損う大きな原因となることがあった。
上及び製造技術上置も効率な設計点を求め、これに基づ
いて実現されている４、０の、やは９コイル形成の工程
は製造上の多大の困難を伜な吟、かつ歩留りの低下をも
たらしていた。すなわち従来の磁気ヘッドは第１図に示
すように基板１上に形成され次子部磁性体２をコイル３
が磁性体２をまたぐように形成されている。磁性体２と
基板１との角部にはコイル３が磁性体２の縁部で滑らか
に連なるように段差解消のための充填剤（図示せず）が
付着されておシ、同様にコイル３の上部に４上部磁性体
４がなめらかに形成されるように、充填剤が付着されて
いる。このように従来の磁気ヘッドではコイルのパタニ
ングはもちろんコイルに係わる段差解消はきわめて煩雑
なプロセスとなっている・、これは最終的に歩留りの低
下、コストの増大、信頼性の低下となシ薄膜ヘッドの優
位性を損う大きな原因となることがあった。
本発明は従来の磁気ヘッドのかかる不都合を除色、製造
が間第でかつ薄膜ヘッドの特長を生かした高記録密度用
磁気ヘッドを提供するものである。
が間第でかつ薄膜ヘッドの特長を生かした高記録密度用
磁気ヘッドを提供するものである。
本発明によれば非磁性基板上に溝を設け、該基板上の溝
及び溝部近傍に第一の非磁性表面平滑層を付着せしめ、
核表面平滑層の上に下部磁性体を形成し１次に該溝部に
第二の非磁性層を充填し該非磁性基板を平坦な面となし
、そのｖｋ％記録再生ギャップ層、上部磁性体層、保線
膜層を順次付着せしめ環状磁性体となし、次に前記第二
の非磁性層に穴を貫通せしめ鉄人にマグネット・ワイヤ
を巻くことによってヘッド−を製造する方法によって達
成で龜る複合薄膜磁気ヘッドが得られる。
及び溝部近傍に第一の非磁性表面平滑層を付着せしめ、
核表面平滑層の上に下部磁性体を形成し１次に該溝部に
第二の非磁性層を充填し該非磁性基板を平坦な面となし
、そのｖｋ％記録再生ギャップ層、上部磁性体層、保線
膜層を順次付着せしめ環状磁性体となし、次に前記第二
の非磁性層に穴を貫通せしめ鉄人にマグネット・ワイヤ
を巻くことによってヘッド−を製造する方法によって達
成で龜る複合薄膜磁気ヘッドが得られる。
次に図面全参照して本発明の一実施ガについて説明する
。
。
第２図は本発明の実施例である磁気ヘッドを示す、＠２
図において薄膜ヘッドの下部磁性体１は同時に浮上へラ
ドスライダを兼ねておプ壌状磁気回路２はスライダの媒
体走行方向の後縁部に配置されている。Ｉｓ状磁気回路
２は二つのスライダ１＋ 、 ｌｒ′あるい社センター
レール１１°ｌのどちらかにまたは両方にあってもよく
、またそのうちの一つのみまたは二つと４使用可能とす
ることもで龜る。
図において薄膜ヘッドの下部磁性体１は同時に浮上へラ
ドスライダを兼ねておプ壌状磁気回路２はスライダの媒
体走行方向の後縁部に配置されている。Ｉｓ状磁気回路
２は二つのスライダ１＋ 、 ｌｒ′あるい社センター
レール１１°ｌのどちらかにまたは両方にあってもよく
、またそのうちの一つのみまたは二つと４使用可能とす
ることもで龜る。
第３図は第２図のヘッドの磁気ヘッド部の製造工程を示
すものである。まず第３図（ｊＩ）に示すように基板１
に溝３が形成される。形成の際は溝部の表面粗さはでき
るだけ細かくなるよう配慮するのが好ましい、しかしな
がら非磁性材料である基板の溝部３にそのまま薄膜を付
着せしめることは磁気特性の劣化につながるため、第３
図（ｂｌに示すごとく非磁性材料、たとえばガラス、有
機材料を付着せしめ滑らかな表面層４を得ることが必要
である０次に第３図（Ｃ）に示すように表面層４Ｋｉｌ
性体の下地層を付着せしめた後に下部磁性層５を形成し
、さらに溝部２に充填層６を塗布形成する。この様子は
第３図ｔａ）に示すとうシであシ充填層６の材料社、後
工程で穴をあける必要があるのでガラス、セライック類
よりも硬質樹脂が好ましい。
すものである。まず第３図（ｊＩ）に示すように基板１
に溝３が形成される。形成の際は溝部の表面粗さはでき
るだけ細かくなるよう配慮するのが好ましい、しかしな
がら非磁性材料である基板の溝部３にそのまま薄膜を付
着せしめることは磁気特性の劣化につながるため、第３
図（ｂｌに示すごとく非磁性材料、たとえばガラス、有
機材料を付着せしめ滑らかな表面層４を得ることが必要
である０次に第３図（Ｃ）に示すように表面層４Ｋｉｌ
性体の下地層を付着せしめた後に下部磁性層５を形成し
、さらに溝部２に充填層６を塗布形成する。この様子は
第３図ｔａ）に示すとうシであシ充填層６の材料社、後
工程で穴をあける必要があるのでガラス、セライック類
よりも硬質樹脂が好ましい。
次に第３図（６）の如く而７を鏡面にラップまたはドラ
イプロセスにより平面を得た後、ギャップ８及び上部磁
性体層９を形成する。上部磁性層９の形成の際は下地層
を付着せしめておくのはもちろん好ましいことである。
イプロセスにより平面を得た後、ギャップ８及び上部磁
性体層９を形成する。上部磁性層９の形成の際は下地層
を付着せしめておくのはもちろん好ましいことである。
上記行程において磁性層５．９は電気メッギ、スパッタ
あるいは真空蒸着のいずれでもよい、このようにして形
成された磁気回路上に保鰻膜層１０を形成した後、基板
はスライダを切ヤ出すべく個片に切断される。切断され
九個片から第３図（ｇ）に示すようなスライダを製作す
るのは従来から行なわれてきたフェライトヘッドの加工
と同じである。そしてこの加工のプロセスにおいては巻
線部の有機充填剤に穴１１が貫通してあけられる。穴の
あけられた部品にマグネット・ワイヤを巻きつけれ、磁
気ヘッドは環状磁気回路を有するものとなる０以上述べ
九ような磁気ヘッドの製造プロセスにおいてはコイルの
形成を不要とし、コイル形成にかかわる各種パターン工
事から解放されるのはいうまでもなく、ｓｔｒ紀述べた
段差解消プロセスも不要であシ歩留）は著しく向上しコ
ストの大巾な低下を集塊で睡る。
あるいは真空蒸着のいずれでもよい、このようにして形
成された磁気回路上に保鰻膜層１０を形成した後、基板
はスライダを切ヤ出すべく個片に切断される。切断され
九個片から第３図（ｇ）に示すようなスライダを製作す
るのは従来から行なわれてきたフェライトヘッドの加工
と同じである。そしてこの加工のプロセスにおいては巻
線部の有機充填剤に穴１１が貫通してあけられる。穴の
あけられた部品にマグネット・ワイヤを巻きつけれ、磁
気ヘッドは環状磁気回路を有するものとなる０以上述べ
九ような磁気ヘッドの製造プロセスにおいてはコイルの
形成を不要とし、コイル形成にかかわる各種パターン工
事から解放されるのはいうまでもなく、ｓｔｒ紀述べた
段差解消プロセスも不要であシ歩留）は著しく向上しコ
ストの大巾な低下を集塊で睡る。
さらに本発明によれば上部磁性体と下部磁性体の間には
マグネット・ワイヤを通すための十分に入電な磁気的絶
１部がありこれにより十分な磁気回路効率が得られる。
マグネット・ワイヤを通すための十分に入電な磁気的絶
１部がありこれにより十分な磁気回路効率が得られる。
以上述べ九ような環状薄膜磁性体とマグネット・ワイヤ
の組合わせによって成る複合磁気ヘッドによれば、きわ
めて簡単な製造プロセスによって安価、高性能な磁気ヘ
ッドを提供できる。
の組合わせによって成る複合磁気ヘッドによれば、きわ
めて簡単な製造プロセスによって安価、高性能な磁気ヘ
ッドを提供できる。
第１図は従来の薄膜ヘッドを示す斜視図、第２図は本発
明の一実施例を示す平面及び断面図、第３図は本発明の
一実施例における複合薄膜磁気ヘッドの製造工程を示す
図である。 ｌ・・・・・・基板、２・・・・・・磁気回路、３・・
・・・・溝、４・・・・・・表面平滑層、５，９・・・
・・・磁性層。 ）１田 峯３勿
明の一実施例を示す平面及び断面図、第３図は本発明の
一実施例における複合薄膜磁気ヘッドの製造工程を示す
図である。 ｌ・・・・・・基板、２・・・・・・磁気回路、３・・
・・・・溝、４・・・・・・表面平滑層、５，９・・・
・・・磁性層。 ）１田 峯３勿
Claims (1)
- 非磁性基板上に溝を設け、該基板上の溝部及び蚊溝部近
傍に第一の非磁性表面平滑層を付着せしめ、該表面平滑
層の上に下部磁性体を形成し、続いて骸溝部に第二の非
磁性層を充填し、該非磁性基板を平坦な面となしその後
記録再生ギャップ層、上部ｌｌ性体層、保護膜階を順次
付着せしめ環状磁性体となし％次に繭記第二の非磁性層
に穴を貫通せしめ、該穴にマグネット・ワイヤを巻回し
たことを特徴とする複合薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18811281A JPS5888817A (ja) | 1981-11-24 | 1981-11-24 | 複合薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18811281A JPS5888817A (ja) | 1981-11-24 | 1981-11-24 | 複合薄膜磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5888817A true JPS5888817A (ja) | 1983-05-27 |
Family
ID=16217906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18811281A Pending JPS5888817A (ja) | 1981-11-24 | 1981-11-24 | 複合薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5888817A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62125516A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-06 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS6376105A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-06 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
-
1981
- 1981-11-24 JP JP18811281A patent/JPS5888817A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62125516A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-06 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS6376105A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-06 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
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